JP2001216914A - カラー陰極線管 - Google Patents

カラー陰極線管

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JP2001216914A
JP2001216914A JP2000401861A JP2000401861A JP2001216914A JP 2001216914 A JP2001216914 A JP 2001216914A JP 2000401861 A JP2000401861 A JP 2000401861A JP 2000401861 A JP2000401861 A JP 2000401861A JP 2001216914 A JP2001216914 A JP 2001216914A
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ray tube
electron
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cathode ray
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Seifun Chi
性 ▲ふん▼ 池
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Samsung SDI Co Ltd
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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
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    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • H01J29/073Mounting arrangements associated with shadow masks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/07Shadow masks
    • H01J2229/0727Aperture plate
    • H01J2229/0788Parameterised dimensions of aperture plate, e.g. relationships, polynomial expressions

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 既存の陰極線管と同一解像度を具現しな
がら、陰極線管の製造収率と品質とを向上させるべくQ
値を整数倍拡大したカラー陰極線管を提供する。 【解決手段】 パネルの内表面に多数の第1、第2、第
3蛍光膜ストライプを反復形成する蛍光膜スクリーン
と、蛍光膜スクリーンに向かって第1、第2、第3電子
ビームを放出する電子銃と、蛍光膜スクリーンの前面に
配置されて電子ビームを分離する多数のビーム通過用ア
パーチャを形成するシャドーマスクを含み、シャドーマ
スクがQ1=nQ(n≧4)及び3S×Q=Mp×Lを満
足するようパネル内部に装着してある。尚、Q1はシャ
ドーマスクと蛍光膜スクリーンとの間隔、nは4以上で
3の倍数を除いた自然数、Qは1ケ所のビーム通過用ア
パーチャを通過した三本の電子ビームが、並んで配置し
た一組の第1、第2、第3蛍光膜ストライプにランディ
ングする時のシャドーマスクと蛍光膜スクリーンとの間
隔。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はカラー陰極線管に関
し、より詳しくはシャドーマスクと蛍光膜スクリーンの
間の間隔、つまり、Q値を整数倍拡大して、既存カラー
陰極線管と同一解像度を具現しながら蛍光膜スクリーン
の製造時にシャドーマスクの着脱作業を容易にするカラ
ー陰極線管に関する。
【0002】
【従来の技術】一般にカラー陰極線管は電子銃から放出
された電子ビームで多数個の緑G、青B、赤R蛍光膜が
塗布された蛍光膜スクリーンを発光させて所定の画像を
具現する表示装置であり、他の表示装置に比べて安価で
画質が優れていて家庭用テレビとコンピュータのモニタ
ーに主に用いられている。
【0003】ここで、電子銃と対向する蛍光膜スクリー
ンの前方に数十万個のビーム通過用アパーチャが形成さ
れたシャドーマスクが配置されるが、電子銃から放出さ
れた三本電子ビームはシャドーマスクのビーム通過用ア
パーチャで一致した後、これを通過しながら蛍光膜スク
リーン内の該当R、G、B蛍光膜に分離ランディングし
て正確な色を具現する。
【0004】図4は、従来技術による陰極線管における
電子ビームの経路を示した概略図であって、電子銃1は
インライン(in-line)タイプで水平軸上に並ん
で三本電子ビーム3R、3G、3Bを放出し、電子ビー
ムの提供を受ける蛍光膜スクリーン5は多数個のR、
G、B蛍光膜ストライプを反復形成し、前記電子銃1と
蛍光膜スクリーン5との間に配置されるシャドーマスク
7はR、G、B蛍光膜一組に対応してビーム通過用アパ
ーチャ7aを形成している。
【0005】前記電子銃1から放出された三本電子ビー
ム3は一ケ所のビーム通過用アパーチャ7aでフォーカ
スされた後、ビーム通過用アパーチャ7aを通過しなが
らサイドR電子ビーム3RとB電子ビーム3Bが中央の
G電子ビーム3Gを中心に交差して各々蛍光膜スクリー
ン5の該当B、G、R蛍光膜にランディングする。この
ようにシャドーマスク7と蛍光膜スクリーン5との間の
間隔が既存のQ値に維持される場合、1ケ所のビーム通
過用アパーチャ7aを通過した三本電子ビームは互いに
隣接したB、G、R蛍光膜を発光させる。
【0006】このような構成の陰極線管において、シャ
ドーマスク7と蛍光膜スクリーン5の間の間隔、つま
り、Q値は電子銃1及び蛍光膜スクリーン5との幾何学
的な組み合わせで設計されるが、前記シャドーマスク7
と電子銃1及び蛍光膜スクリーン5との関係を見てみれ
ば下記の通りである。
【0007】図4のように、三角形ABCと三角形AD
Eが相似形であるので、次の数式1が成立し、数式1は
次の数式2で示される。
【0008】
【数1】(L-Q):Mp=L:Sp
【0009】
【数2】(L-Q)×Sp=Mp×L
【0010】ここで、Lは電子銃1から蛍光膜スクリー
ン5の間の距離、特に電子銃1の最終電極に形成された
G電子ビーム通過孔から蛍光膜スクリーン5の中央点ま
での距離を示し、Qはシャドーマスク7と蛍光膜スクリ
ーン5の間の間隔を示し、M pはシャドーマスク7の水
平ピッチ(水平方向に隣接したビーム通過用アパーチャ
7aの中心間距離)を、Spは蛍光膜スクリーン5のス
クリーンピッチ(水平方向に隣接したG蛍光膜の中心間
距離)を示す。
【0011】また、前記図面において、三角形AFCと
三角形CEHが相似形であるので、次の数式3が成立
し、数式3は次の数式4で示される。
【0012】
【数3】(L-Q):S=Q:1/3Sp
【0013】
【数4】(L-Q)×Sp=3S×Q
【0014】ここで、Sはメーンフォーカスレンズで中
央G電子ビームとサイドRまたはB電子ビームの間の間
隔であって、これを電子銃1のS値という。そして、前
記数式2と数式4を結合すると、次の数式5が成立す
る。
【0015】
【数5】3S×Q=Mp×L
【0016】
【発明が解決しようとする課題】このように陰極線管の
Q値は電子銃1のS値とシャドーマスク7の水平ピッチ
p及びL値によって決定されるが、ここで電子銃のS
値はその値が大きくなればなるほど電子レンズの球面収
差を減らしてフォーカス特性を向上させることができる
が、その値が大きくなるほどネック部直径を拡大させ、
ネック部直径が大きくなると電子ビームの偏向にかかる
電力消費が増加しコンバーゼンス特性を低下させる短所
がある。
【0017】従って、前記要因を考慮して、実験的に決
定された適正なネック部直径は大略29.1mmであ
り、電子銃のS値は大略5〜6.5mm程度で設計され
ている。
【0018】そして、前記L値は画面サイズに比例して
電子ビームの偏向角に反比例する値であって、前記画面
サイズと電子ビームの偏向角を考慮してQ値を設定する
と共に適正な値に決定される。
【0019】したがって、電子ビームS値とL値が適正
に決定された状態で、Q値はシャドーマスク7の水平ピ
ッチに比例するが、高解像度の陰極線管を具現するため
には蛍光膜スクリーン5のスクリーンピッチ(Sp)と
ともにシャドーマスク7の水平ピッチ(Mp)を小さく
設計しなければならず、高精細化したシャドーマスク7
の水平ピッチに比例して陰極線管のQ値も小さくなる。
【0020】しかし、蛍光膜スクリーン製造工程の時、
露光作業のためにシャドーマスクとマスクフレームとで
構成されたマスクアセンブリーをパネルに着脱する工程
が基本的に4回以上発生するが、通常のストライプタイ
プやグリルタイプのシャドーマスクにおいて、蛍光膜ス
クリーンのスクリーンピッチが大略0.4mm程度であ
ると、前記Q値は大略5〜6mm程度ときわめて微小で
あり、マスクアセンブリーの着脱作業を難しくする原因
となる。
【0021】つまり、前記のようにQ値が微小な場合に
はマスクアセンブリーの再装着過程で、全体画面にかけ
て最初に設計されたQ値通りにマスクアセンブリーを正
確に再装着するのが難しく、画面の一部分でもQ値が外
れるようになると蛍光膜スクリーンの不良を招くだけで
なく、陰極線管作動時の電子ビームの正確なランディン
グを妨害して画質を低下させる問題を誘発する。
【0022】一方、本発明者は陰極線管のモアレ現象を
防止するために91年'シャドウマスク型カラー陰極線
管'(韓国特許公告番号第94-5493号)を出願した
ことがある。ここで本発明者は1ケ所のビーム通過用ア
パーチャを通過した周辺のR及びB電子ビームが蛍光膜
にランディングする前、他のB及びR電子ビームと再交
差した後、蛍光膜に到達するようにQ値を設定し、前記
Q値は大略既存の陰極線管に設定されたQ値の2倍にな
る。
【0023】したがって、前記発明は使用者が画面上で
モアレを認識することができないようにしながら、Q値
を拡大してマスクアセンブリーの組立作業を容易にする
のに便利である。しかし、前記発明はQ値を単に2倍に
拡大することによってマスクアセンブリーの組立作業性
を改善するが、それほど大きい効果が期待できない限界
がある。
【0024】したがって、本発明は前記問題点を解消す
るために考案されたものであって、本発明の目的は、既
存の陰極線管と同一解像度を具現しながら、蛍光膜スク
リーン製造時にマスクアセンブリーの着脱作業をより容
易にして、陰極線管の製造収率と品質を向上させること
ができるようにQ値を整数倍拡大したカラー陰極線管を
提供することにある。
【0025】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明に係る陰極線管は、パネルの内表面に形成さ
れて多数の第1、第2、第3蛍光膜ストライプを反復形
成する蛍光膜スクリーンと、前記蛍光膜スクリーンに向
かって第1、第2及び第3電子ビームを放出する電子銃
と、前記蛍光膜スクリーンの前面に配置されて電子ビー
ム分離のための多数のビーム通過用アパーチャを形成す
るシャドーマスクを含み、前記シャドーマスクを下記の
数式を満足するようにパネル内部に装着して構成するこ
とができる。 Q1=nQ(n≧4) ここで、Q1はシャドーマスクと蛍光膜スクリーンとの
間の間隔であり、nは4以上で3の倍数を除いた自然数
であり、Qは1ケ所のビーム通過用アパーチャを通過し
た第1、第2及び第3電子ビームが蛍光膜スクリーンで
並んで配置された第1、第2及び第3蛍光膜ストライプ
一組にランディングする時のシャドーマスクと蛍光膜ス
クリーンとの間の間隔である。
【0026】前記のようにQ値が整数倍拡大された場合
にも蛍光膜スクリーンに到達する電子ビームのコンバー
ゼンス特性には変化がないので、本発明による陰極線管
は既存の陰極線管と同一な解像度を具現しながら拡大さ
れたQ値によって蛍光膜スクリーン製造の時、マスクア
センブリーの着脱作業をより容易にすることができる長
所を有する。
【0027】また、本発明に係る陰極線管は、前記第1
及び第3電子ビームが外郭に配置されて第2電子ビーム
が中央に配置され、前記第1及び第3電子ビームが第2
電子ビームと共に一ケ所のビーム通過用アパーチャで一
致した後、第2電子ビームが到達した中央の第2蛍光膜
ストライプを中心に(n−1)個を過ぎた該当第1及び
第3蛍光膜ストライプに到達するするよう構成すること
ができる。
【0028】さらに、本発明に係る陰極線管は、前記第
1、第2及び第3蛍光膜ストライプがそれぞれR、G、
B蛍光膜ストライプに対応し、前記第1、第2及び第3
電子ビームがそれぞれR、G、B蛍光膜ストライプに対
応して該当蛍光膜ストライプを発光させるための電子ビ
ームからなるように構成することもできる。
【0029】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参考にして
本発明の好ましい一実施例をより詳細に説明する。
【0030】図1は、本発明による陰極線管の断面図で
あり、図2と図3は電子ビームの経路を拡大図示した陰
極線管の概略図である。
【0031】図示するように、陰極線管は内面に蛍光膜
スクリーン2を形成するパネル4と、内周面に電子銃6
を装着するネック部8と、前記パネル4とネック部8を
連結するファンネル10と、前記パネル4の内部に装着
されて電子ビーム分離のための多数個のビーム通過用ア
パーチャ12aを形成するシャドーマスク12と、前記
ファンネル10の外周面に付着されて偏向磁界を発生さ
せる偏向ヨーク14を含む。
【0032】前記蛍光膜スクリーン2は、垂直なストラ
イプパターンからなって規則的に反復形成される多数個
のR、G、B蛍光膜2aと、それぞれの蛍光膜2aを区
分して画面のコントラストを向上させるブラックマトリ
ックス膜2bからなる。
【0033】このような構成によって、電子銃6から画
面信号によって電流密度が制御される三本電子ビームを
放出すると、放出された電子ビーム16はシャドーマス
ク12に形成された1ケ所のビーム通過用アパーチャ1
2aで一致した後、これを通過しながら該当R、G、B
蛍光膜2aに分離到達する。
【0034】これと同時に、前記電子ビーム16は偏向
ヨーク14が発生する水平及び垂直磁界によって偏向さ
れ、蛍光膜スクリーン2上にラスターを形成、全体画像
を表現する。
【0035】この時、本実施例による陰極線管は、1ケ
所のビーム通過用アパーチャ12aで集中した三本電子
ビーム16が蛍光膜スクリーン2上に並んで配置された
R、G、B蛍光膜一組に到達する代わりに、三つの蛍光
膜ストライプを隔てて位置するそれぞれのR、G、B蛍
光膜に到達するが、このような電子ビーム16の経路を
図2と図3に示した。
【0036】図示するように、電子銃6から放出された
三本電子ビームの中の外郭のR及びB電子ビーム16
R、16Bは1ケ所のビーム通過用アパーチャ12aで
中央のG電子ビーム16Gを中心に交差した後、G電子
ビーム16Gが到達したG蛍光膜で三つの蛍光膜ストラ
イプの反対側に位置する該当R蛍光膜とB蛍光膜に各々
到達する。
【0037】ここで、外郭のR及びB電子ビーム16
R、16Bはシャドーマスク12と蛍光膜スクリーン2
の間で中央のG電子ビーム16Gと他の外郭のB及びR
電子ビーム16B、16Rと三回交差した後、蛍光膜ス
クリーン2に到達する。例えば、図3において、シャド
ーマスク12の中央を通過するR電子ビーム16Rは、
シャドーマスク12と蛍光膜スクリーン2との間におい
て、B電子ビーム16Bと2回、G電子ビーム16Gと
1回交差する。
【0038】このように三本電子ビーム16が蛍光膜ス
クリーン2上に並んで配置されたR、G、B蛍光膜一組
を発光させる代わりに、三つの蛍光膜ストライプの反対
側に位置した当該蛍光膜を発光させても、蛍光膜スクリ
ーン2を基準に合わせる電子ビームのコンバーゼンス特
性には変化がないので、既存の陰極線管と同一な解像度
を具現することができる。
【0039】従って、電子ビーム経路が前記のようにな
される場合、三本電子ビーム16がフォーカスされる地
点であるビーム通過用アパーチャ12aの位置は、1ケ
所のビーム通過用アパーチャを通過した三本電子ビーム
が互いに隣接したR、G、B蛍光膜一組にランディング
する時のQ値、つまり、既存の陰極線管でのQ値より拡
大した所に位置するが、本実施例におけるQ値を見てみ
れば次の通りである。
【0040】図2で三角形IJKと三角形IMLとが相
似形であるので、次の数式6が成立し、数式6は下の数
式7で表現することができる。
【0041】
【数6】(L-Q1):Mp1=L:Sp
【0042】
【数7】(L-Q1)×Sp=Mp1×L
【0043】ここで、Q1は本実施例におけるシャドー
マスク12と蛍光膜スクリーン2の間の間隔、つまり、
Q値であり、Mp1はシャドーマスク12の水平ピッチで
あり、L及びSpは前記に定義した通りある。
【0044】また、三角形IKNと三角形LKOとが相
似形であるので、次の数式8が成立し、前記数式8は下
記の数式9で表現することができる。
【0045】
【数8】(L-Q1):S=Q1:(4/3)Sp
【0046】
【数9】(L-Q1)×Sp=(3/4)S×Q1
【0047】そして、前記数式7と数式9を結合する
と、次の数式10が得られる。
【0048】
【数10】(3/4)S×Q1=Mp1×L
【0049】前記数式10を従来技術による陰極線管か
ら得た数式5と比較すると、電子ビームS値とL値とは
二つの場合とも同一であり、L値はQとQ1値に比べて
大略100倍程度大きい値であるので、MpとMp1値を
同一であると仮定することができる。
【0050】したがって、数式5の左辺と数式10の左
辺を等式で表現することができ、結果的に本実施例にお
けるQ値は次の数式11で示される。
【0051】
【数11】Q1=4Q
【0052】このように本実施例による陰極線管は既存
の陰極線管におけるQ値と対比して4倍のQ値でシャド
ーマスク12を装着しても既存の陰極線管と同一な解像
度を具現し、拡大されたQ値によって蛍光膜スクリーン
2製造の時、マスクアセンブリーの着脱作業をより容易
にすることができる長所を有する。
【0053】上記例では、1ケ所のビーム通過用アパー
チャ12aで集中した三本電子ビーム16が蛍光膜スク
リーン2上に並んで配置されたR、G、B蛍光膜一組に
到達する代わりに、三つの蛍光膜ストライプを隔てて位
置するそれぞれのR、G、B蛍光膜に到達する場合を示
したが、さらに、その外側に位置するR、G、B蛍光膜
に三本電子ビーム16が到達する場合についても同様に
理解することができる。即ち、四つの蛍光膜ストライ
プ、或いは、六つの蛍光膜ストライプを隔てて位置する
それぞれのR、G、B蛍光膜に到達する場合も同様であ
り、この場合には、上記Q1値は、Q値の5倍、7倍・
・・という具合に設定することができる。尚、Q1値が
4倍、7倍、10倍となるのは、図3に示すごとく電子
銃6が配置された場合であり、Q1値が5倍、8倍、1
1倍となるのは、図3における電子銃6のRとBとを入
れ替えた場合である。
【0054】このように既存の陰極線管と同一解像度を
具現しながら、1ケ所のビーム通過用アパーチャでフォ
ーカスされた三本電子ビームが中央のG蛍光膜を中心に
いくつかの蛍光膜ストライプを過ぎた該当蛍光膜に到達
するかによってQ値を整数倍拡大させることができる
が、Q値の一般式を見てみれば次の通りである。
【0055】まず、サイドB及びR電子ビームが中央の
G蛍光膜を中心にn個目に位置する該当B及びR蛍光膜
に到達する場合、つまり、(n-1)個の蛍光膜ストラ
イプを過ぎた該当B及びR蛍光膜に到達する場合を仮定
すると、次の数式12〜数式16が成立する。
【0056】
【数12】(L-Q1):Mp1=L:Sp
【0057】
【数13】(L-Q1)×Sp=Mp1×L
【0058】
【数14】(L-Q1):S=Q':(n/3)×Sp
【0059】
【数15】(3/n)S×Q1=Sp×(L-Q1
【0060】
【数16】(3/n)S×Q1=Mp1×L
【0061】ここで、Q1は本発明による陰極線管での
Q値であり、Mp1はシャドーマスクの水平ピッチであ
る。前記数式16を数式5と比較すると、前記の実施例
で言及した過程と同様にMpとMp1値を同一であると仮
定することができる。
【0062】したがって、数式5の左辺と数式16の左
辺を等式で表現することができ、結果的に本発明おける
Q値は次の数式17で示される。
【0063】
【数17】Q1=nQ(n≧4)
【0064】ここで、前記nは4以上の自然数であり、
特に3の倍数を除いた自然数である。3の倍数を除いた
理由は、Q値が3の倍数に拡大される場合、サイドR及
びB電子ビームが中央のG蛍光膜を基準に5,8,1
1.....個の蛍光膜ストライプを過ぎた位置にある
他のG蛍光膜に到達するので、このようなことを防止す
るためである。
【0065】このように本発明による陰極線管は既存の
陰極線管におけるQ値対比整数倍にQ値を拡大させるこ
とができるので、既存の陰極線管と同一な解像度を具現
しながら、蛍光膜スクリーン製造時にマスクアセンブリ
ーの着脱作業をより容易にすることができる。
【0066】前記では本発明の好ましい実施例について
説明したが、本発明はこれに限定されるわけではなく特
許請求の範囲と発明の詳細な説明及び添付した図面の範
囲内で多様に変形して実施することが可能でり、これも
また本発明の範囲に属するのは当然のことである。
【0067】
【発明の効果】このように本発明による陰極線管は1ケ
所のビーム通過用アパーチャを通過した三本電子ビーム
が互いに隣接したR、G、B蛍光膜に到達する代わり
に、いくつかの蛍光膜ストライプを過ぎて位置した該当
R、G、B蛍光膜に到達するようにすることによってシ
ャドーマスクと蛍光膜スクリーンの間の間隔であるQ値
を既存の陰極線管対比整数倍拡大してシャドーマスクを
装着することができる。
【0068】したがって、蛍光膜スクリーン製造の時、
マスクアセンブリーの着脱作業をより容易にすることが
でき、何回もの反復着脱過程を経てもQ値をより正確に
維持することができるので陰極線管の製造収率と品質を
向上させることができる長所を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による陰極線管の断面図
【図2】電子ビームの経路を拡大図示した陰極線管の概
略図
【図3】電子ビームの経路を拡大図示した陰極線管の概
略図
【図4】従来の技術による陰極線管で電子ビーム経路を
示した概略図
【符号の説明】
2 蛍光膜スクリーン 2a 蛍光膜 2b ブラックマトリックス膜 4 パネル 6 電子銃 8 ネック部 10 ファンネル 12 シャドーマスク 12a ビーム通過用アパーチャ 14 偏向ヨーク 16 電子ビーム

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パネルの内表面に形成されて多数の第
    1、第2、第3蛍光膜ストライプを反復形成する蛍光膜
    スクリーンと;前記蛍光膜スクリーンに向かって第1、
    第2及び第3電子ビームを放出する電子銃と;前記蛍光
    膜スクリーンの前面に配置されて電子ビーム分離のため
    の多数のビーム通過用アパーチャを形成するシャドーマ
    スクを含み、 前記シャドーマスクが下記の数式を満足するようにパネ
    ル内部に装着されることを特徴とする陰極線管。 Q1=nQ(n≧4) 3S×Q=Mp×L ここで、Q1はシャドーマスクと蛍光膜スクリーンとの
    間の間隔であり、nは4以上で3の倍数を除いた自然数
    であり、Qは1ケ所のビーム通過用アパーチャを通過し
    た第1、第2及び第3電子ビームが蛍光膜スクリーンで
    並んで配置された第1、第2及び第3蛍光膜ストライプ
    一組にランディングする時のシャドーマスクと蛍光膜ス
    クリーンとの間の間隔である。また、Sは電子銃のメー
    ンフォーカスレンズにおける中央の第2電子ビームと外
    郭の第1または第3電子ビームの間の間隔であり、Mp
    はシャドーマスクの水平ピッチ、Lは電子銃と蛍光膜ス
    クリーンとの間の距離である。
  2. 【請求項2】 前記第1及び第3電子ビームが外郭に配
    置されて第2電子ビームが中央に配置され、前記第1及
    び第3電子ビームが第2電子ビームと共に一ケ所のビー
    ム通過用アパーチャで一致した後、第2電子ビームが到
    達した中央の第2蛍光膜ストライプを中心に(n−1)
    個を過ぎた該当第1及び第3蛍光膜ストライプに到達す
    る、請求項1に記載の陰極線管。
  3. 【請求項3】 前記第1、第2及び第3蛍光膜ストライ
    プがそれぞれR、G、B蛍光膜ストライプに対応し、前
    記第1、第2及び第3電子ビームがそれぞれR、G、B
    蛍光膜ストライプに対応して該当蛍光膜ストライプを発
    光させるための電子ビームからなる、請求項1に記載の
    陰極線管。
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