JP2001213871A - 脂環式エポキシ化合物の製造法 - Google Patents

脂環式エポキシ化合物の製造法

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JP2001213871A
JP2001213871A JP2000019495A JP2000019495A JP2001213871A JP 2001213871 A JP2001213871 A JP 2001213871A JP 2000019495 A JP2000019495 A JP 2000019495A JP 2000019495 A JP2000019495 A JP 2000019495A JP 2001213871 A JP2001213871 A JP 2001213871A
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epoxy compound
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Toshihiro Yamase
利博 山瀬
Hideo Suzuki
秀雄 鈴木
Shinichiro Takigawa
進一朗 滝川
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は、反応後副生物のないク
リーンな酸化剤である過酸化水素を用いて、経済的に最
少量の触媒の存在下に高収率で目的の脂環式エポキシ化
合物を得る製造法を提供することにある。 【解決手段】 式(1)で表されるシクロペンテン化合
物(例えばトリシクロ[5.2.1.02,6]デセ−3
−エン)を、溶媒及び過酸化ヘテロポリ酸触媒の存在
下、過酸化水素によってエポキシ化することを特徴とす
る式(2)で表される脂環式エポキシ化合物の製造法に
関する。 【化1】 (式中、環は、ノルボルネン環及びノルボルナン環を表
し、R1、R2は、水素原子、カルボキシル基、炭素数1
〜10のアルコキルカルボニル基及びヒドロキシカルボ
ニル基を表す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、式(1)
【0002】
【化4】
【0003】(式中、環は、ノルボルネン環及びノルボ
ルナン環を表し、R1、R2は、水素原子、カルボキシル
基、炭素数1〜10のアルコキルカルボニル基及びヒド
ロキシカルボニル基を表す。)で表されるシクロペンテ
ン化合物を、溶媒及び過酸化ヘテロポリ酸触媒の存在
下、過酸化水素によってエポキシ化することを特徴とす
る式(2)
【0004】
【化5】
【0005】(式中、環、R1及びR2は、前記と同じ意
味を表す。)で表される脂環式エポキシ化合物の製造法
に関する。
【0006】本発明の化合物は、半導体製造プロセスに
おけるフォトリソグラフィー工程に関し、紫外線、遠紫
外線、電子線、イオンビーム及びX線などの活性光線を
用いたリソグラフィに好適なパターン形式材料分野のモ
ノマーの中間体に関する。
【0007】
【従来の技術】これまでトリシクロ[5.2.1.0
2,6]デセ−3−エン(DH−DCPDと略す)をエポ
キシ化した例は、過安息香酸を用いて、3,4−エポキ
シトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン(ETCD
と略す)を得た文献[H.ウィランド(H.Wieland)ら、
アンナーレン・シェム(Ann. Chem.),446巻,13〜
31頁(1926)]が見られる。しかし、過安息香酸は、
高価な酸化剤であり実用的ではない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、反応
後副生物のないクリーンな酸化剤である過酸化水素を用
いて、経済的に最少量の触媒の存在下に高収率で目的の
脂環式エポキシ化合物を得る製造法の提供にある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意研究を行なった結果、本発明を見
出した。即ち、本発明は、式(1)
【0010】
【化6】
【0011】(式中、環は、ノルボルネン環及びノルボ
ルナン環を表し、R1、R2は、水素原子、カルボキシル
基、炭素数1〜10のアルコキルカルボニル基及びヒド
ロキシカルボニル基を表す。)で表されるシクロペンテ
ン化合物を、溶媒及び過酸化ヘテロポリ酸触媒の存在
下、過酸化水素によってエポキシ化することを特徴とす
る式(2)
【0012】
【化7】
【0013】(式中、環、R1及びR2は、前記と同じ意
味を表す。)で表される脂環式エポキシ化合物の製造法
に関する。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明は下記の反応スキームで表
される。
【0015】
【化8】
【0016】(式中、環、R1及びR2は前記と同じ意味
を表す。) 即ち、シクロペンテン化合物を、過酸化ヘテロポリ酸触
媒存在下、過酸化水素によってエポキシ化して、目的と
する脂環式エポキシ化合物が得られる。
【0017】まず、原料のシクロペテン化合物は、具体
的には例えば下記の化合物が挙げられる。トリシクロ
[5.2.1.02,6]デセ−3−エン(DH−DCP
D)、ジメチルトリシクロ[5.2.1.02,6]デセ
−3−エン−8,9−ジカルボキシレート(TCDM
E)、トリシクロ[5.2.1.02,6]デセ−3−エ
ン−8,9−ジカルボン酸(TCDC)及び8,9−ビ
ス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.0
2,6]デセ−3−エン(DOL)。
【0018】
【化9】
【0019】酸化剤である過酸化水素は、市販の60%
品及び30%品のいずれも同様にそのまま用いることが
できる。
【0020】本発明に用いる過酸素化ヘテロポリ酸触媒
としては、式(3)で表される過酸素化ヘテロポリ酸が
好ましい。
【0021】
【化10】 A[PX210(O2238]・nH2O (3)
【0022】ここで、Aは、[PX210(O2
238]の陰イオンを電気的に中性に保つための陽イオ
ンであり、水素原子、ナトリウム、カリウム、アンモニ
ウム、炭素数1〜4のモノアルキルアンモニウム、ジア
ルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム、トリア
ルキルアンモニウム、テトラアルキルアンモニウム、芳
香族ジアゾニウム、グアニジニウムなどの無機及び有機
アンモニウム等からなる群より選ばれた1種叉は3種ま
で混合された陽イオンである。炭素数1〜4のアルキル
アンモニウムの具体例は、例えばメチルアンモニウム、
ジメチルアンモニウム、トリメチルアンモニウム、テト
ラメチルアンモニウム、エチルアンモニウム、ジエチル
アンモニウム、n−プロピルアンモニウム、ジn−プロ
ピルアンモニウム、i−プロピルアンモニウム、ジi−
プロピルアンモニウム、n−ブチルアンモニウム、ジn
−ブチルアンモニウム、トリn−ブチルアンモニウム、
及びテトラn−ブチルアンモニウム等を挙げることがで
きる。又、芳香族ジアゾニウムとしては、4−ジアゾジ
フェニルアミン、3−ジアゾジフェニルアミン、1−ジ
アゾジナフチルアミン、2−ジアゾジナフチルアミン、
3−ジアゾジピリジルアミン及び4−ジアゾジピリジル
アミン等が挙げられ、特には4−ジアゾジフェニルアミ
ンが好ましい。
【0023】一方、XはTi、Nb、V、Co及びNi
から選ばれた1種又は2種まで混合されたイオンであ
り、特にはTiが好ましい。nは0〜200であり、好
ましくは0〜50、より好ましくは0〜10である。
【0024】具体的な過酸化ヘテロポリ酸触媒として
は、[4−ジアゾジフェニルアミン] 4[i−PrN
3]H2[PTi210(O2238]・H2O、[n−
Bu4N] 43[PTi210(O2238]・H2O及
び[n−Bu2N]4[i−PrNH 32H[PTi2
10(O2238]・H2O等が挙げられ、これらの中で
特に好ましいものは、[n−Bu2N]4[i−PrNH
32H[PTi210(O2238]・H2Oである。
【0025】これらの過酸化ヘテロポリ酸触媒は、単独
でまたは一種以上を組み合わせて、更にH3[PW12
40]等の既存のヘテロポリ酸と共存させて使用すること
もできる。これらの使用量は、反応基質に対し好ましく
は0.01〜10モル%であり、より好ましくは0.0
5〜5モル%である。
【0026】本反応は溶媒が重要である。第1の方法
は、過酸化水素水と均一になる溶媒系の方法である。こ
の方法には、例えば、アセトニトリルやプロピオニトリ
ル等の低級ニトリル類、アセトンやメチルエチルケトン
等の低級ケトン類、メタノールやエタノール等の低級ア
ルコール類等が挙げられ、特にはアセトニトリルなどの
低級ニトリル類が好ましい溶媒である。
【0027】第2の方法は、過酸化水素水と不均一にな
る溶媒系の方法である。この方法には、例えば、クロロ
ホルムや1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水
素類、トルエンやキシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキ
サンやヘプタン等の脂肪族炭化水素類等が挙げられ、特
には1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類
が好ましい溶媒である。これらの使用量は、反応基質に
対し好ましくは1〜50重量倍であり、より好ましくは
2〜10重量である。
【0028】本発明では更に、反応促進させるために、
相間移動触媒の添加が有効である。中でも、四級アンモ
ニウム塩、ピリジニウム塩、ホスホニウム塩等が好まし
く、具体的には、テトラメチルアンモニウム塩、テトラ
プロピルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム
塩、トリメチルベンジルアンモニウム塩、トリオクチル
メチルアンモニウム、セチルピリジニウム塩、テトラブ
チルホスホニウム塩、硫酸水素テトラブチルアンモニウ
ム塩等を挙げることができる。これらの使用量は、反応
基質に対し好ましくは0.001〜5モル%であり、よ
り好ましくは0.005〜1モル%である。
【0029】反応温度は、0〜150℃で行なうことが
でき、好ましくは20〜100℃が高収率を与える。反
応時間は、1〜50時間で行なうことができ、通常2〜
24時間で行なうのが実用的ある。反応は常圧でも加圧
でも行なうことができる。又回分式でも連続式でも行な
うことができる。
【0030】反応終了後、溶媒を留去した後、蒸留又は
カラムクロマトグラフィーで精製し、目的物を得ること
ができる。以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0031】
【実施例】実施例1
【0032】
【化11】
【0033】50ml四つ口反応フラスコにトリシクロ
[5.2.1.02,6]デセ−3−エン(DH−DCP
D)0.804g(6mmol)、[Bu4N]4[i-P
rNH32H[PTi210(O2238]・H2O(Mw
t.=3715)0.111g(30μmol)(0.5
mol%)、60%過酸化水素1.59g(28mmo
l)、n−デカン0.5g(内標)及びアセトニトリル
30mmolを仕込み、69℃で30時間撹拌した。終
了後、反応液を濃縮し得られ油状物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶離液:ヘプタン/酢酸エチル=
1/0〜9/1)で精製した。
【0034】その結果室温でゼリー状物質0.729g
(4.86mmol;収率81.0%)が得られた。こ
の物質の分析結果を以下に示す。 MASS(EI,m/e(%)): 323(M+1,30),251(98),207(35),133(4
8),117(43),98(100).1H-NMR(CDCl3,δppm):1.53-1.54
(m,6H),1.70(s,1H),2.15(d,J=10.4Hz,1H),2.44(s,2H),
2.48(s,2H),2.95(dd,J1=9.78Hz,J2=15.9Hz,2H),4.20-4.
37(m,4H),5.86(d,J=11.6Hz,1H),6.15(dd,J1=17.2Hz,J2=
9.88Hz,1H),6.43(dd,J1=1.22Hz,J2=17.1Hz,1H),8.30(b
r.,1H).13 C-NMR(CDCl3,δppm):26.55,26.58,28.85,40.57,44.2
7,44.56,44.60,45.11,45.19,45.33,62.20,62.35,128.0
6,131.44,166.12,173.46,179.30. 以上の結果より本化合物は、3,4−エポキシトリシク
ロ[5.2.1.02, 6]デカン(ETCD)であるこ
とを確認した。
【0035】実施例2〜3及び比較例1〜2 実施例1に於て、触媒の種類、触媒量及び反応時間を変
え反応させて得た反応液をGC定量した結果を表1に示
す。
【0036】
【表1】 表1 ─────────────────────────────── 触媒量 TCDE ETCD 実施例 触媒 mg(μmol) 時間 転化率 ───────── h (%) 選択率(%) 収率(%) ─────────────────────────────── 1 A 111(30) 30 95.7 88.2 84.4 2 A 74(20) 30 91.7 74.2 68.1 3 A+B 26(7)+18(13) 30 91.8 66.7 61.2 比較例1 ─ ─ 26 0 0 0 比較例2 B 42(30) 30 33.5 33.0 11.1 ─────────────────────────────── A:[n-Bu2N]4[i-PrNH3]2H[PTi2W10(O2)2O38]・H2O(Mwt.=3715) B:H3[PW12O40]・30H2O(Mwt.=1398)
【0037】触媒なしでは反応が進行しない。H3[P
1240]・30H2O触媒は、反応を進行させるが転
化率が低く、ETCDの選択率が低い。[n−Bu
2N]4[i−PrNH32H[PTi210(O22
38]・H2Oは、TCDEの転化率及びETCDの選択
率が高い。
【0038】実施例4〜7 実施例1に於いて触媒量を変え反応させて得た反応液を
GC定量した結果を表2に示す。
【0039】
【表2】 表2 ────────────────────────── 触媒量 TCDE ETCD 実施例 mg(μmol) 転化率 ────────── (%) 選択率(%) 収率(%) ────────────────────────── 4 18(5) 75.7 63.4 48.0 5 37(10) 88.5 56.1 49.7 6 74(20) 91.7 74.2 68.1 7 148(40) 99.2 60.5 60.0 ──────────────────────────
【0040】触媒量30μmolで最も高い選択率及び
収率が得られている。[n−Bu2N]4[i−PrNH
32H[PTi210(O2238]・H2Oが多くなる
と、高TCDE転化率でETCDを与えた。
【0041】実施例8〜12 実施例4に於いて、H3[PW1240]・30H2Oと
[n−Bu2N]4[i−PrNH32H[PTi210
(O2238]・H2Oのモル比を変えて反応させた。 (H3[PW1240]・30H2O+[n−Bu2N]
4[i−PrNH32H[PTi210(O2238]・
2O=30mmol) 反応液をGC定量した結果を表3に示す。
【0042】
【表3】 A:[n-Bu2N]4[i-PrNH3]2H[PTi2W10(O2)2O38]・H2O(Mwt.=
3715) B:H3[PW12O40]・30H2O(Mwt.=1398)
【0043】H3[PW1240]・30H2Oに対し、
[n−Bu2N]4[i−PrNH32H[PTi210
(O2238]・H2Oが多くすると、TCDEの転化
率及びETCDの選択率が高くなる。
【0044】実施例13〜15 実施例1に於いて過酸化水素量を変え反応させて得た反
応液をGC定量した結果を表4に示す。
【0045】
【表4】 *反応時間:26時間
【0046】TCDE6mmolに対し、過酸化水素2
8mmolが、最も高い選択率及び収率でETCDが得
られている。 実施例16
【0047】
【化12】
【0048】実施例1に於て原料をジメチルトリシクロ
[5.2.1.02,6]デセ−3−エン(TCDME)
1.50g(6mmol)とした他は、同様に反応させ
た反応液をGC分析の結果、TCDMEの転化率75.
3%、ジメチル3,4−エポキシトリシクロ[5.2.
1.02,6]デカン(ETCDME)の選択率87.2
%、ETCDMEの収率61.9%であった。
【0049】この反応液を濃縮後シリカゲルカラムクロ
マトフィーで精製すると油状物質0.846g(3.1
8mol)(単離収率53%)が得られた。この物質の
分析結果を以下に示す。 MASS(EI,m/e(%)):267(M+1,14),185(40),149(48),102(4
1).1 H-NMR(CDCl3,δppm):1.52(d,J=10.39Hz,1H),1.70(d,J=
15.89,1H),1.94(dd,J1=8.55Hz,J2=11.20Hz,1H),2.21(d
d,J1=1.83Hz,J2=10.38Hz,1H),2.46(s,1H),2.48-2.57(m,
2H),2.70(d,J=4.28Hz,1H),2.96(dd,J1=9.78Hz,J2=31.18
Hz,2H),3.55(d,J=2.44Hz,1H),3.64(s,3H),3.65(s,3H).13 C-NMR(CDCl3,δppm):27.91,40.00,41.95,43.75,44.5
3,44.57,44.61,47.11,51.77(CH3二本分),59,46,60.82,1
73.27,13.48. 融点(℃):82〜83. 実施例17
【0050】
【化13】
【0051】実施例1に於て原料を8,9−ジカルボキ
シトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン(TCD
C)1.33g(6mmol)とした他は、同様に反応
させた反応液をGC分析の結果、TCDCの転化率7
3.8%、8,9−ジカルボキシ−3,4−エポキシト
リシクロ[5.2.1.02,6]デカン(ETCDC)
の選択率89.4%、ETCDCの収率66.0%であ
った。
【0052】この反応液を濃縮後シリカゲルカラムクロ
マトフィーで精製すると油状物質0.799g(3.3
6mol)(単離収率56%)が得られた。この物質の
分析結果を以下に示す。 IR(KBr,cm-1):3170,2930,1720〜1700,1220,920,835.13 C-NMR(CD3OH,δppm):174.2,174.0,60.4,58.8,46.9,4
4.3,44.1,43.8,43.3,41.6,37.4,27.5. MASS(ビス(トリメチルシリル)アセトアマイドでシリル
化 m/e(%)):367(M-15,53),261(40),147(100). 融点(℃):191〜193. 以上からこの結晶は、8,9−ジカルボキシ−3,4−
エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカンと判
明した。
【0053】
【発明の効果】従来用いられていた高価な酸化剤である
過安息香酸を用いないで、本発明は、反応後副生物のな
いクリーンな酸化剤である過酸化水素を用いて、経済的
に最少量の触媒の存在下に高収率で脂環式エポキシ化合
物を得る事ができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4C048 AA06 BB01 BC01 BC20 CC01 UU03 UU05 XX02 4G069 AA06 AA08 BA26A BA26B BA49 BB07A BB07B BC50A BC50B BC54A BC55A BC60A BC67A BC68A BD01A BD01B BD06A BD06B BD07A BE01A BE01B BE13A BE17A BE17B BE37A CB73 DA02 FA01

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(1) 【化1】 (式中、環は、ノルボルネン環及びノルボルナン環を表
    し、R1、R2は、水素原子、カルボキシル基、炭素数1
    〜10のアルコキルカルボニル基及びヒドロキシカルボ
    ニル基を表す。)で表されるシクロペンテン化合物を、
    溶媒及び過酸化ヘテロポリ酸触媒の存在下、過酸化水素
    によってエポキシ化することを特徴とする式(2) 【化2】 (式中、環、R1及びR2は、前記と同じ意味を表す。)
    で表される脂環式エポキシ化合物の製造法。
  2. 【請求項2】 過酸化ヘテロポリ酸触媒が、式(3) 【化3】 A[PX210(O2238]・nH2O (3) (式中、Aは、[PX210(O2238]の陰イオン
    を電気的に中性に保つための陽イオンであり、水素原
    子、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、炭素数1〜
    4のモノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニウ
    ム、ジアルキルアンモニウム、トリアルキルアンモニウ
    ム、テトラアルキルアンモニウム、芳香族ジアゾニウ
    ム、グアニジニウムの無機及び有機アンモニウムからな
    る群より選ばれた1種叉は3種まで混合された陽イオン
    であり、、XはTi、Nb、V、Co及びNiから選ば
    れた1種又は2種まで混合されたイオンであり、nは0
    〜200を表す。)である請求項1記載の脂環式エポキ
    シ化合物の製造法。
  3. 【請求項3】 シクロペンテン化合物が、トリシクロ
    [5.2.1.02,6]デセ−3−エンである請求項1
    又は2に記載の脂環式エポキシ化合物の製造法。
  4. 【請求項4】 反応溶媒が、炭素数2〜6の脂肪族ニト
    リル化合物である請求項1乃至3に記載の脂環式エポキ
    シ化合物の製造法。
  5. 【請求項5】 反応溶媒が、炭素数16のハロゲン化炭
    化水素化合物である請求項1乃至3記載の脂環式エポキ
    シ化合物の製造法。
  6. 【請求項6】 相関移動触媒として四級アンモニウム塩
    を添加する請求項1乃至5に記載の脂環式エポキシ化合
    物の製造法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002072257A2 (fr) * 2001-03-12 2002-09-19 Nippon Catalytic Chem Ind Catalyseur de production d'un compose epoxydique et procede de production d'un compose epoxydique avec celui-ci
US20100210765A1 (en) * 2007-10-01 2010-08-19 Nissan Chemical Industries, Ltd. Resist underlayer film-forming composition, production method of semiconductor device using the same, and additive for resist underlayer film-forming composition
JP2011084558A (ja) * 2009-09-16 2011-04-28 Nippon Kayaku Co Ltd エポキシ化合物の製造方法
US8334394B2 (en) 2007-01-31 2012-12-18 Osaka University Solid phase reaction system for oxidation

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT187900B (de) * 1953-11-12 1956-12-10 Heilmittelwerke Wien Ges Mit B Verfahren zur Herstellung von Oxidoverbindungen des α-Dicyclopentadiens und des Dihydro-α-dicyclopentadiens
JPH03240780A (ja) * 1990-02-14 1991-10-28 Tosoh Corp ジシクロペンタジエン誘導体のエポキシ化物の製造方法
JPH05177143A (ja) * 1982-11-10 1993-07-20 Montedison Spa オレフィンのエポキシ化用触媒及びその製造法
WO1998050376A1 (en) * 1997-05-05 1998-11-12 Arco Chemical Technology, L.P. Epoxidation process using a phosphate-stabilized peroxotungstate compound as catalyst

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT187900B (de) * 1953-11-12 1956-12-10 Heilmittelwerke Wien Ges Mit B Verfahren zur Herstellung von Oxidoverbindungen des α-Dicyclopentadiens und des Dihydro-α-dicyclopentadiens
JPH05177143A (ja) * 1982-11-10 1993-07-20 Montedison Spa オレフィンのエポキシ化用触媒及びその製造法
JPH03240780A (ja) * 1990-02-14 1991-10-28 Tosoh Corp ジシクロペンタジエン誘導体のエポキシ化物の製造方法
WO1998050376A1 (en) * 1997-05-05 1998-11-12 Arco Chemical Technology, L.P. Epoxidation process using a phosphate-stabilized peroxotungstate compound as catalyst

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002072257A2 (fr) * 2001-03-12 2002-09-19 Nippon Catalytic Chem Ind Catalyseur de production d'un compose epoxydique et procede de production d'un compose epoxydique avec celui-ci
WO2002072257A3 (fr) * 2001-03-12 2002-10-24 Nippon Catalytic Chem Ind Catalyseur de production d'un compose epoxydique et procede de production d'un compose epoxydique avec celui-ci
US6743748B2 (en) 2001-03-12 2004-06-01 Nippon Shokubai Co., Ltd. Catalyst for producing epoxy compounds and method of producing epoxy compounds using the same
US8334394B2 (en) 2007-01-31 2012-12-18 Osaka University Solid phase reaction system for oxidation
US20100210765A1 (en) * 2007-10-01 2010-08-19 Nissan Chemical Industries, Ltd. Resist underlayer film-forming composition, production method of semiconductor device using the same, and additive for resist underlayer film-forming composition
JP2011084558A (ja) * 2009-09-16 2011-04-28 Nippon Kayaku Co Ltd エポキシ化合物の製造方法

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