JP2001205209A - プラズマ洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 歩留まり率の向上を図ったプラズマ洗浄装置
を提供する。 【解決手段】 開閉可能なチャンバ２と、このチャンバ
２に対して基板を搬入・搬出する搬入・搬出機構６と、
チャンバ２内にプラズマを発生させ、このプラズマによ
りチャンバ２内の基板に対して洗浄処理を行う洗浄手段
４、５、２８、２９、３１と、洗浄処理に関するエラー
を検知するエラー検知手段とを備えたプラズマ洗浄装置
であって、エラー検知手段がエラーを検知した場合にチ
ャンバ２内の基板に対して洗浄手段に再度洗浄処理を行
わせる制御装置を備えたことを特徴とする。
を提供する。 【解決手段】 開閉可能なチャンバ２と、このチャンバ
２に対して基板を搬入・搬出する搬入・搬出機構６と、
チャンバ２内にプラズマを発生させ、このプラズマによ
りチャンバ２内の基板に対して洗浄処理を行う洗浄手段
４、５、２８、２９、３１と、洗浄処理に関するエラー
を検知するエラー検知手段とを備えたプラズマ洗浄装置
であって、エラー検知手段がエラーを検知した場合にチ
ャンバ２内の基板に対して洗浄手段に再度洗浄処理を行
わせる制御装置を備えたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばワイヤボン
ディング等の金属間接接合用のパッドを形成した基板
を、発生させたプラズマにより洗浄するプラズマ洗浄装
置に関するものである。
ディング等の金属間接接合用のパッドを形成した基板
を、発生させたプラズマにより洗浄するプラズマ洗浄装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種のプラズマ洗浄装置は、基本的に
は、開閉可能なチャンバと、このチャンバに対して基板
を搬入・搬出する搬入・搬出機構と、チャンバ内にプラ
ズマを発生させ、このプラズマによりチャンバ内の基板
に対して洗浄処理を行う洗浄手段と、洗浄処理に関する
エラーを検知するエラー検知手段とを備えており、従来
は、エラー検知手段がエラーを検知すると、自動運転が
停止し、オペレータがエラーリセット後に自動運転を再
起動すると、搬入・搬出機構がチャンバ内の処理ＮＧ基
板を搬出するようになっており、搬出された処理ＮＧ基
板は、オペレータが、制御装置の画面に表示された基板
の処理情報に基づいて取り除いていた。
は、開閉可能なチャンバと、このチャンバに対して基板
を搬入・搬出する搬入・搬出機構と、チャンバ内にプラ
ズマを発生させ、このプラズマによりチャンバ内の基板
に対して洗浄処理を行う洗浄手段と、洗浄処理に関する
エラーを検知するエラー検知手段とを備えており、従来
は、エラー検知手段がエラーを検知すると、自動運転が
停止し、オペレータがエラーリセット後に自動運転を再
起動すると、搬入・搬出機構がチャンバ内の処理ＮＧ基
板を搬出するようになっており、搬出された処理ＮＧ基
板は、オペレータが、制御装置の画面に表示された基板
の処理情報に基づいて取り除いていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術の場合、オペレータの過誤によって処理ＮＧ
基板が次工程に流れてしまうことがあり、これが歩留ま
り率を低下させる要因となっていた。
た従来技術の場合、オペレータの過誤によって処理ＮＧ
基板が次工程に流れてしまうことがあり、これが歩留ま
り率を低下させる要因となっていた。
【０００４】なお、本願出願人は、先に、チャンバを一
対備え、搬入・搬出機構が、一対のチャンバに対して基
板を交互に搬入・搬出するとともに、一対のチャンバで
それぞれ洗浄処理された基板を一つのマガジンに収納す
る搬入・搬出機構を備えたプラズマ洗浄装置を提案した
（特願平１０−３４１８４９号）が、この場合には、一
つのマガジン内に各チャンバで処理された基板が混在す
るため、オペレータが基板を取り違え易く、上述した問
題点が特に生じ易かった。
対備え、搬入・搬出機構が、一対のチャンバに対して基
板を交互に搬入・搬出するとともに、一対のチャンバで
それぞれ洗浄処理された基板を一つのマガジンに収納す
る搬入・搬出機構を備えたプラズマ洗浄装置を提案した
（特願平１０−３４１８４９号）が、この場合には、一
つのマガジン内に各チャンバで処理された基板が混在す
るため、オペレータが基板を取り違え易く、上述した問
題点が特に生じ易かった。
【０００５】本発明は上述した問題点に鑑みてなされた
ものであって、その目的は、歩留まり率の向上を図った
プラズマ洗浄装置を提供することにある。
ものであって、その目的は、歩留まり率の向上を図った
プラズマ洗浄装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために、本発明は、開閉可能なチャンバと、このチャン
バに対して基板を搬入・搬出する搬入・搬出機構と、前
記チャンバ内にプラズマを発生させ、このプラズマによ
り前記チャンバ内の基板に対して洗浄処理を行う洗浄手
段と、前記洗浄処理に関するエラーを検知するエラー検
知手段とを備えたプラズマ洗浄装置であって、前記エラ
ー検知手段がエラーを検知した場合に前記チャンバ内の
基板に対して前記洗浄手段に再度洗浄処理を行わせる制
御装置を備えたことを特徴とするものである。
ために、本発明は、開閉可能なチャンバと、このチャン
バに対して基板を搬入・搬出する搬入・搬出機構と、前
記チャンバ内にプラズマを発生させ、このプラズマによ
り前記チャンバ内の基板に対して洗浄処理を行う洗浄手
段と、前記洗浄処理に関するエラーを検知するエラー検
知手段とを備えたプラズマ洗浄装置であって、前記エラ
ー検知手段がエラーを検知した場合に前記チャンバ内の
基板に対して前記洗浄手段に再度洗浄処理を行わせる制
御装置を備えたことを特徴とするものである。
【０００７】なお、前記洗浄手段は、例えば、前記チャ
ンバ内に設けられた高周波電極と、この高周波電極に高
周波電圧を印加する高周波電源と、前記チャンバ内を真
空にする真空吸引装置と、前記チャンバ内にプラズマ反
応ガスを供給するガス供給装置とを含むものとすること
ができる。
ンバ内に設けられた高周波電極と、この高周波電極に高
周波電圧を印加する高周波電源と、前記チャンバ内を真
空にする真空吸引装置と、前記チャンバ内にプラズマ反
応ガスを供給するガス供給装置とを含むものとすること
ができる。
【０００８】そして、この場合、前記エラー検知手段
は、前記高周波電極から出力された電力値、前記真空吸
引装置から出力された圧力値、及び前記ガス供給装置か
ら出力されたガス流量値のうちのいずれか一つでも基準
値に達しない場合にエラーと判定するものとすることが
できる。
は、前記高周波電極から出力された電力値、前記真空吸
引装置から出力された圧力値、及び前記ガス供給装置か
ら出力されたガス流量値のうちのいずれか一つでも基準
値に達しない場合にエラーと判定するものとすることが
できる。
【０００９】また、前記制御装置を、前記エラー検知手
段がエラーを検知した場合に前記洗浄手段に再度洗浄処
理を行わせるか否かをオペレータが選択し得るように構
成すると、オペレータが再洗浄処理の回数を任意に設定
することができるので、基板に実装された素子の損傷を
防ぐことができる。
段がエラーを検知した場合に前記洗浄手段に再度洗浄処
理を行わせるか否かをオペレータが選択し得るように構
成すると、オペレータが再洗浄処理の回数を任意に設定
することができるので、基板に実装された素子の損傷を
防ぐことができる。
【００１０】この場合、再度の洗浄処理が選択されなか
った場合にオペレータが前記チャンバを開いて基板を取
り出すことができるように構成すると、オペレータの基
板の取り除きミスが低減するので、好ましい。
った場合にオペレータが前記チャンバを開いて基板を取
り出すことができるように構成すると、オペレータの基
板の取り除きミスが低減するので、好ましい。
【００１１】なお、本発明は、特に、前記チャンバを一
対備え、前記搬入・搬出機構が、前記一対のチャンバに
対して基板を交互に搬入・搬出するとともに、前記一対
のチャンバでそれぞれ洗浄処理された基板を一つのマガ
ジンに収納する搬入・搬出機構を備えたプラズマ洗浄装
置に適用した場合に有用である。
対備え、前記搬入・搬出機構が、前記一対のチャンバに
対して基板を交互に搬入・搬出するとともに、前記一対
のチャンバでそれぞれ洗浄処理された基板を一つのマガ
ジンに収納する搬入・搬出機構を備えたプラズマ洗浄装
置に適用した場合に有用である。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施形態
を図面を参照しながら説明する。図１及び図２は本実施
形態のプラズマ洗浄装置の全体構造を示した斜視図、図
３は本実施形態のプラズマ洗浄装置のチャンバの断面
図、図４は本実施形態のプラズマ洗浄装置の動作説明
図、図５及び図６は洗浄処理にエラーがあった場合の基
板の処理手順を示すフローチャートである。
を図面を参照しながら説明する。図１及び図２は本実施
形態のプラズマ洗浄装置の全体構造を示した斜視図、図
３は本実施形態のプラズマ洗浄装置のチャンバの断面
図、図４は本実施形態のプラズマ洗浄装置の動作説明
図、図５及び図６は洗浄処理にエラーがあった場合の基
板の処理手順を示すフローチャートである。
【００１３】このプラズマ洗浄装置は、例えばベアチッ
プを直接ワイヤボンディングする際に、ボンディングに
おけるボンディングパッドとボンディングワイヤとの接
合強度を向上させるため、基板のボンディングパッドを
乾式で洗浄するものである。すなわち、真空容器である
チャンバにアルゴン等のプラズマ反応ガスを充填し、こ
れに高周波電圧を印加することでプラズマを発生させ、
そのプラズマに帯電したイオンがマイナスに帯電したボ
ンディングパッドに向かって加速され、ボンディングパ
ッド表面の粒子（実施形態の場合には有機物、酸化物
等）を叩き出すことにより、これを洗浄する。
プを直接ワイヤボンディングする際に、ボンディングに
おけるボンディングパッドとボンディングワイヤとの接
合強度を向上させるため、基板のボンディングパッドを
乾式で洗浄するものである。すなわち、真空容器である
チャンバにアルゴン等のプラズマ反応ガスを充填し、こ
れに高周波電圧を印加することでプラズマを発生させ、
そのプラズマに帯電したイオンがマイナスに帯電したボ
ンディングパッドに向かって加速され、ボンディングパ
ッド表面の粒子（実施形態の場合には有機物、酸化物
等）を叩き出すことにより、これを洗浄する。
【００１４】図１及び図２に示すように、このプラズマ
洗浄装置１は、内部にプラズマが発生し、導入した基板
Ａを洗浄する一対のチャンバ２、２と、一対のチャンバ
２、２に交互に高周波電圧を印加する電源部３と、一対
のチャンバ２、２にプラズマ反応ガスであるアルゴンガ
ス及びリークのための窒素ガスを交互に供給するガス供
給装置４と、各チャンバ２内を真空状態にする一対の真
空吸引装置５、５と、一対のチャンバ２、２に対し基板
Ａを交互に搬入・搬出する搬入・搬出機構６と、搬入・
搬出機構６に供給側マガジン７ａを介して未処理基板Ａ
ａを供給するマガジン供給部８と、搬入・搬出機構６か
ら受け取った処理基板Ａｂを排出側マガジン７ｂを介し
て装置外に排出するマガジン排出部９とを備えている。
洗浄装置１は、内部にプラズマが発生し、導入した基板
Ａを洗浄する一対のチャンバ２、２と、一対のチャンバ
２、２に交互に高周波電圧を印加する電源部３と、一対
のチャンバ２、２にプラズマ反応ガスであるアルゴンガ
ス及びリークのための窒素ガスを交互に供給するガス供
給装置４と、各チャンバ２内を真空状態にする一対の真
空吸引装置５、５と、一対のチャンバ２、２に対し基板
Ａを交互に搬入・搬出する搬入・搬出機構６と、搬入・
搬出機構６に供給側マガジン７ａを介して未処理基板Ａ
ａを供給するマガジン供給部８と、搬入・搬出機構６か
ら受け取った処理基板Ａｂを排出側マガジン７ｂを介し
て装置外に排出するマガジン排出部９とを備えている。
【００１５】各チャンバ２は、真空容器である箱状のチ
ャンバ本体２１と、チャンバ本体２１の前面に設けられ
たフランジ状の蓋体２２とを有している。蓋体２２は、
両側に設けた蓋ガイド２３、２３によりチャンバ本体２
１に対して進退自在に構成され、且つチャンバ本体２１
の側面に設けたチャンバ開閉シリンダ（エアシリンダ）
２４のピストンロッド２５と連結板２６で連結されてい
る。また、蓋体２２の内側には、２枚の基板Ａ、Ａを載
置するトレイ２７が取り付けられており、トレイ２７は
蓋体２２とともに進退する。チャンバ開閉シリンダ２４
が駆動されて蓋体２２が前進すると、チャンバ本体２１
が開放されるとともに、基板Ａを載置したトレイ２７が
引き出され、蓋体２２が後退すると、トレイ２７が押し
込まれるとともにチャンバ本体２１が閉塞される。
ャンバ本体２１と、チャンバ本体２１の前面に設けられ
たフランジ状の蓋体２２とを有している。蓋体２２は、
両側に設けた蓋ガイド２３、２３によりチャンバ本体２
１に対して進退自在に構成され、且つチャンバ本体２１
の側面に設けたチャンバ開閉シリンダ（エアシリンダ）
２４のピストンロッド２５と連結板２６で連結されてい
る。また、蓋体２２の内側には、２枚の基板Ａ、Ａを載
置するトレイ２７が取り付けられており、トレイ２７は
蓋体２２とともに進退する。チャンバ開閉シリンダ２４
が駆動されて蓋体２２が前進すると、チャンバ本体２１
が開放されるとともに、基板Ａを載置したトレイ２７が
引き出され、蓋体２２が後退すると、トレイ２７が押し
込まれるとともにチャンバ本体２１が閉塞される。
【００１６】また、図３に示すように、各チャンバ２に
は、電源部３に接続された第１高周波電極２８と、アー
スされた第２高周波電極２９とが設けられている。この
場合、第１高周波電極２８は、上記のトレイ２７の下部
に配設される一方、第２高周波電極２９は、チャンバ本
体２１を構成するケーシングにより構成されている。な
お、チャンバ開閉シリンダ２４は、図示左側のチャンバ
２では、その左側面に取り付けられ、右側のチャンバ２
では、その右側面に取り付けられている。また、図示し
ないが、チャンバ本体２１と蓋２２の間には、チャンバ
２の気密性を保持すべく、Ｏリング等のシール部材が介
在している。
は、電源部３に接続された第１高周波電極２８と、アー
スされた第２高周波電極２９とが設けられている。この
場合、第１高周波電極２８は、上記のトレイ２７の下部
に配設される一方、第２高周波電極２９は、チャンバ本
体２１を構成するケーシングにより構成されている。な
お、チャンバ開閉シリンダ２４は、図示左側のチャンバ
２では、その左側面に取り付けられ、右側のチャンバ２
では、その右側面に取り付けられている。また、図示し
ないが、チャンバ本体２１と蓋２２の間には、チャンバ
２の気密性を保持すべく、Ｏリング等のシール部材が介
在している。
【００１７】電源部３は、高周波電源３１と、自動整合
器３２と、電源切替器３３とを有している。電源切替器
３３は、図示しない制御装置（パソコン）に接続され、
制御装置の切替指令により、一対のチャンバ２、２に対
し高周波電源３１を交互に切り替える。自動整合器３２
は、チャンバ２に印加した高周波の反射波による干渉を
防止するものであり、この場合には、一対のチャンバ
２、２に対し１台の自動整合器３２を対応させている
が、各チャンバ２に対しそれぞれ１台の自動整合器３２
を対応させるようにしてもよい。かかる場合には、高周
波電源３１、電源切替器３３、自動整合器３２の順で結
線される。
器３２と、電源切替器３３とを有している。電源切替器
３３は、図示しない制御装置（パソコン）に接続され、
制御装置の切替指令により、一対のチャンバ２、２に対
し高周波電源３１を交互に切り替える。自動整合器３２
は、チャンバ２に印加した高周波の反射波による干渉を
防止するものであり、この場合には、一対のチャンバ
２、２に対し１台の自動整合器３２を対応させている
が、各チャンバ２に対しそれぞれ１台の自動整合器３２
を対応させるようにしてもよい。かかる場合には、高周
波電源３１、電源切替器３３、自動整合器３２の順で結
線される。
【００１８】ガス供給装置４は、図外のアルゴンガスボ
ンベに連なるアルゴンガス供給管４１と、図外の窒素ガ
スボンベに連なる窒素ガス供給管４２と、各チャンバ２
に連なる一対のガス導入管４３、４３と、アルゴンガス
供給管４１及び窒素ガス供給管４２と一対のガス導入管
４３、４３とを接続するガス切替管４４とを有してい
る。アルゴンガス供給管４１及び窒素ガス供給管４２に
は、それぞれマニュアルで操作されるアルゴンガス供給
バルブ４５及び窒素ガス供給バルブ４６が設けられてい
る。また、アルゴンガス供給管４１にはマスフローコン
トローラ４７が介設され、また窒素ガス供給管４２には
パージ流量計４８が介設され、それぞれガス流量を制御
できるようになっている。
ンベに連なるアルゴンガス供給管４１と、図外の窒素ガ
スボンベに連なる窒素ガス供給管４２と、各チャンバ２
に連なる一対のガス導入管４３、４３と、アルゴンガス
供給管４１及び窒素ガス供給管４２と一対のガス導入管
４３、４３とを接続するガス切替管４４とを有してい
る。アルゴンガス供給管４１及び窒素ガス供給管４２に
は、それぞれマニュアルで操作されるアルゴンガス供給
バルブ４５及び窒素ガス供給バルブ４６が設けられてい
る。また、アルゴンガス供給管４１にはマスフローコン
トローラ４７が介設され、また窒素ガス供給管４２には
パージ流量計４８が介設され、それぞれガス流量を制御
できるようになっている。
【００１９】ガス切替管４４は、アルゴンガス供給管４
１に連なる２本のアルゴン側分岐管４４ａ、４４ａと、
窒素ガス供給管４２に連なる２本の窒素側分岐管４４
ｂ、４４ｂとを有し、各アルゴン側分岐管４４ａと各窒
素側分岐管４４ｂの合流部分に上記の各ガス導入管４３
が接続されている。両アルゴン側分岐管４４ａ、４４ａ
には、それぞれ電磁弁で構成されたアルゴン側切替バル
ブ４９、４９が介設され、また、両窒素側分岐管４４
ｂ、４４ｂには、それぞれ電磁弁で構成された窒素側切
替バルブ５０、５０が介設されている。一対のアルゴン
側切替バルブ４９、４９及び一対の窒素側切替バルブ５
０、５０は制御装置に接続され、制御装置の切替指令に
より、開閉する。この場合、アルゴンガスのガス量を精
度良く制御するため、上記のマスフローコントローラ４
７は、制御信号に基づいて、フィードバック制御され
る。
１に連なる２本のアルゴン側分岐管４４ａ、４４ａと、
窒素ガス供給管４２に連なる２本の窒素側分岐管４４
ｂ、４４ｂとを有し、各アルゴン側分岐管４４ａと各窒
素側分岐管４４ｂの合流部分に上記の各ガス導入管４３
が接続されている。両アルゴン側分岐管４４ａ、４４ａ
には、それぞれ電磁弁で構成されたアルゴン側切替バル
ブ４９、４９が介設され、また、両窒素側分岐管４４
ｂ、４４ｂには、それぞれ電磁弁で構成された窒素側切
替バルブ５０、５０が介設されている。一対のアルゴン
側切替バルブ４９、４９及び一対の窒素側切替バルブ５
０、５０は制御装置に接続され、制御装置の切替指令に
より、開閉する。この場合、アルゴンガスのガス量を精
度良く制御するため、上記のマスフローコントローラ４
７は、制御信号に基づいて、フィードバック制御され
る。
【００２０】アルゴンガス供給バルブ４５及び窒素ガス
供給バルブ４６は、それぞれ常時「開」となっており、
一対のチャンバ２、２に交互にアルゴンガスを導入する
場合には、両窒素側切替バルブ５０、５０が「閉」とな
り、両アルゴン側切替バルブ４９、４９の一方が
「開」、他方が「閉」となる。また、後述するリークの
為に窒素ガスを導入する場合には、両アルゴン側切替バ
ルブ４９、４９が「閉」となり、両窒素側切替バルブ５
０、５０の一方が「開」、他方が「閉」となる。なお、
図中の符号５１は、プラズマ反応ガスとして、アルゴン
ガスの他、酸素ガスを導入可能とする場合（仮想線にて
図示）に、開閉される開閉電磁弁である。
供給バルブ４６は、それぞれ常時「開」となっており、
一対のチャンバ２、２に交互にアルゴンガスを導入する
場合には、両窒素側切替バルブ５０、５０が「閉」とな
り、両アルゴン側切替バルブ４９、４９の一方が
「開」、他方が「閉」となる。また、後述するリークの
為に窒素ガスを導入する場合には、両アルゴン側切替バ
ルブ４９、４９が「閉」となり、両窒素側切替バルブ５
０、５０の一方が「開」、他方が「閉」となる。なお、
図中の符号５１は、プラズマ反応ガスとして、アルゴン
ガスの他、酸素ガスを導入可能とする場合（仮想線にて
図示）に、開閉される開閉電磁弁である。
【００２１】各真空吸引装置５は、真空ポンプ６１と、
真空ポンプ６１と各チャンバ２を接続する真空配管６２
とを有している。真空配管６２には、チャンバ２側から
真空計６３、圧力調整バルブ６４及びメインバルブ６５
が介設されている。メインバルブ６５は電磁弁で構成さ
れており、メインバルブ６５が「開」状態で、フレキシ
ブル管６７を介して真空配管６２と真空ポンプ６１とが
連通し、チャンバ２内の真空引きが行われる。
真空ポンプ６１と各チャンバ２を接続する真空配管６２
とを有している。真空配管６２には、チャンバ２側から
真空計６３、圧力調整バルブ６４及びメインバルブ６５
が介設されている。メインバルブ６５は電磁弁で構成さ
れており、メインバルブ６５が「開」状態で、フレキシ
ブル管６７を介して真空配管６２と真空ポンプ６１とが
連通し、チャンバ２内の真空引きが行われる。
【００２２】搬入・搬出機構６は、両チャンバ２、２
と、マガジン供給部８及びマガジン排出部９との間で、
基板Ａを搬送する基板搬送機構１２を有するとともに、
基板搬送機構１２と両チャンバ２、２との間で基板Ａを
移載するチャンバ側移載機構１３と、基板搬送機構１２
と供給側・排出側両マガジン７ａ、７ｂとの間で基板Ａ
を移載するマガジン側移載機構１４とを有している。
と、マガジン供給部８及びマガジン排出部９との間で、
基板Ａを搬送する基板搬送機構１２を有するとともに、
基板搬送機構１２と両チャンバ２、２との間で基板Ａを
移載するチャンバ側移載機構１３と、基板搬送機構１２
と供給側・排出側両マガジン７ａ、７ｂとの間で基板Ａ
を移載するマガジン側移載機構１４とを有している。
【００２３】供給側マガジン７ａに収容されている未処
理基板Ａａは、マガジン側移載機構１４により基板搬送
機構１２に移載され、基板搬送機構１２により下動位置
からチャンバ２近傍の上動位置まで搬入される。ここ
で、チャンバ側移載機構１３が駆動され、未処理基板Ａ
ａを基板搬送機構１２からチャンバ２のトレイ２７に移
載する。一方、処理基板Ａｂは、チャンバ側移載機構１
３によりトレイ２７から基板搬送機構１２に移載され、
基板搬送機構１２により上動位置から供給・排出側両マ
ガジン７ａ、７ｂ近傍の下動位置まで搬出される。ここ
で、マガジン側移載機構１４が駆動され、処理基板Ａｂ
を基板搬送機構１２から排出側マガジン７ｂに移載す
る。
理基板Ａａは、マガジン側移載機構１４により基板搬送
機構１２に移載され、基板搬送機構１２により下動位置
からチャンバ２近傍の上動位置まで搬入される。ここ
で、チャンバ側移載機構１３が駆動され、未処理基板Ａ
ａを基板搬送機構１２からチャンバ２のトレイ２７に移
載する。一方、処理基板Ａｂは、チャンバ側移載機構１
３によりトレイ２７から基板搬送機構１２に移載され、
基板搬送機構１２により上動位置から供給・排出側両マ
ガジン７ａ、７ｂ近傍の下動位置まで搬出される。ここ
で、マガジン側移載機構１４が駆動され、処理基板Ａｂ
を基板搬送機構１２から排出側マガジン７ｂに移載す
る。
【００２４】基板搬送機構１２は、図外の機台に取り付
けられた基板昇降装置７１と、基板昇降装置７１に取り
付けられた基板Ｙ動装置７２と、基板Ｙ動装置７２によ
り図示の前後方向に移動する基板載置ステージ７３とを
有している。
けられた基板昇降装置７１と、基板昇降装置７１に取り
付けられた基板Ｙ動装置７２と、基板Ｙ動装置７２によ
り図示の前後方向に移動する基板載置ステージ７３とを
有している。
【００２５】基板載置ステージ７３は、ベースプレート
７５上に、相互に平行に配設した３条の突条７６、７
６、７６により、上段及び下段にそれぞれ２枚の基板
Ａ、Ａを棚板状に載置できるようになっている。すなわ
ち、３条の突条７６、７６、７６には、それぞれ上下に
内向きの受け部（図示省略）が突出形成されており、こ
の受け部により上段に２枚の未処理基板Ａａを載置する
前後一対の第１載置部７７が、下段に２枚の処理基板Ａ
ｂを載置する前後一対の第２載置部７８が構成されてい
る。すなわち、供給側マガジン７ａから移載される未処
理基板Ａａは第１載置部７７に載置され、各チャンバ２
のトレイ２７から移載される処理基板Ａｂは第２載置部
７８に載置される。
７５上に、相互に平行に配設した３条の突条７６、７
６、７６により、上段及び下段にそれぞれ２枚の基板
Ａ、Ａを棚板状に載置できるようになっている。すなわ
ち、３条の突条７６、７６、７６には、それぞれ上下に
内向きの受け部（図示省略）が突出形成されており、こ
の受け部により上段に２枚の未処理基板Ａａを載置する
前後一対の第１載置部７７が、下段に２枚の処理基板Ａ
ｂを載置する前後一対の第２載置部７８が構成されてい
る。すなわち、供給側マガジン７ａから移載される未処
理基板Ａａは第１載置部７７に載置され、各チャンバ２
のトレイ２７から移載される処理基板Ａｂは第２載置部
７８に載置される。
【００２６】基板Ｙ動装置７２は、後述する基板昇降装
置７１の昇降ブロック８５に取り付けられており、減速
機付きの基板Ｙ動モータ８０と、基板Ｙ動モータ８０に
より回転するボールネジ８１を有している。図示では省
略されているが、基板載置ステージ７３は、基板昇降装
置７１の昇降ブロック８５との間で前後方向に進退自在
に構成（案内）されており、基板載置ステージ７３の一
部に螺合するボールネジ８１が、基板Ｙ動モータ８０に
より正逆回転することにより、基板載置ステージ７３が
昇降ブロック８５に対し、前後方向に進退する。
置７１の昇降ブロック８５に取り付けられており、減速
機付きの基板Ｙ動モータ８０と、基板Ｙ動モータ８０に
より回転するボールネジ８１を有している。図示では省
略されているが、基板載置ステージ７３は、基板昇降装
置７１の昇降ブロック８５との間で前後方向に進退自在
に構成（案内）されており、基板載置ステージ７３の一
部に螺合するボールネジ８１が、基板Ｙ動モータ８０に
より正逆回転することにより、基板載置ステージ７３が
昇降ブロック８５に対し、前後方向に進退する。
【００２７】基板昇降装置７１は、減速機付きの基板昇
降モータ８３と、基板昇降モータ８３により回転するボ
ールネジ８４と、ボールネジ８４に螺合する雌ネジ部
（図示省略）が形成された昇降ブロック８５とを有して
いる。上述のように、基板載置ステージ７３及び基板Ｙ
動装置７２は昇降ブロック８５に支持されており、昇降
ブロック８５は、基板昇降モータ８３を介して正逆回転
するボールネジ８４により、昇降する。なお、基板昇降
装置７１を基板Ｙ動装置７２に取り付け、基板昇降装置
７１で基板載置ステージ７３を昇降させ、基板Ｙ動装置
７２で基板昇降装置７１及び基板載置ステージ７３を前
後動させるようにしてもよい。
降モータ８３と、基板昇降モータ８３により回転するボ
ールネジ８４と、ボールネジ８４に螺合する雌ネジ部
（図示省略）が形成された昇降ブロック８５とを有して
いる。上述のように、基板載置ステージ７３及び基板Ｙ
動装置７２は昇降ブロック８５に支持されており、昇降
ブロック８５は、基板昇降モータ８３を介して正逆回転
するボールネジ８４により、昇降する。なお、基板昇降
装置７１を基板Ｙ動装置７２に取り付け、基板昇降装置
７１で基板載置ステージ７３を昇降させ、基板Ｙ動装置
７２で基板昇降装置７１及び基板載置ステージ７３を前
後動させるようにしてもよい。
【００２８】供給側マガジン７ａから未処理基板Ａａを
受け取る場合には、供給側マガジン７ａの該当する未処
理基板Ａａの位置に、基板載置ステージ７３の第１載置
部７７が合致するように、基板昇降装置７１及び基板Ｙ
動装置７２を駆動する。具体的には、基板載置ステージ
７３をホーム位置から後退及び上昇させ、先ず一方の第
１載置部７７を該当する未処理基板Ａａに位置合わせ
し、さらに基板載置ステージ７３の後退（前進）によ
り、他方の第１載置部７７を該当する次の未処理基板Ａ
ａに位置合わせする。なお、詳細は後述するが、供給側
マガジン７ａは昇降するようになっており、未処理基板
Ａａの移載高さ位置（レベル）は、特定の位置に設定さ
れている。
受け取る場合には、供給側マガジン７ａの該当する未処
理基板Ａａの位置に、基板載置ステージ７３の第１載置
部７７が合致するように、基板昇降装置７１及び基板Ｙ
動装置７２を駆動する。具体的には、基板載置ステージ
７３をホーム位置から後退及び上昇させ、先ず一方の第
１載置部７７を該当する未処理基板Ａａに位置合わせ
し、さらに基板載置ステージ７３の後退（前進）によ
り、他方の第１載置部７７を該当する次の未処理基板Ａ
ａに位置合わせする。なお、詳細は後述するが、供給側
マガジン７ａは昇降するようになっており、未処理基板
Ａａの移載高さ位置（レベル）は、特定の位置に設定さ
れている。
【００２９】また、処理基板Ａｂを排出側マガジン７ｂ
に受け渡す場合には、同様に第２載置部７８の２枚の処
理基板Ａｂ、Ａｂを、それぞれ排出側マガジン７ｂの該
当する収容位置に位置合わせする。この場合も、排出側
マガジン７ｂは昇降するようになっており、処理基板Ａ
ｂの移載高さ位置（上記の移載高さ位置とは異なるが）
は、特定の位置に設定されている。なお、基板載置ステ
ージ７３に対し供給側マガジン７ａ及び排出側マガジン
７ｂは、その左右両側に近接して配置されているため
（図示では離れているが）、基板Ａの移載に際し基板載
置ステージ７３を左右方向に移動させる必要はない。
に受け渡す場合には、同様に第２載置部７８の２枚の処
理基板Ａｂ、Ａｂを、それぞれ排出側マガジン７ｂの該
当する収容位置に位置合わせする。この場合も、排出側
マガジン７ｂは昇降するようになっており、処理基板Ａ
ｂの移載高さ位置（上記の移載高さ位置とは異なるが）
は、特定の位置に設定されている。なお、基板載置ステ
ージ７３に対し供給側マガジン７ａ及び排出側マガジン
７ｂは、その左右両側に近接して配置されているため
（図示では離れているが）、基板Ａの移載に際し基板載
置ステージ７３を左右方向に移動させる必要はない。
【００３０】一方、未処理基板Ａａ及び処理基板Ａｂを
チャンバ２との間でやりとりする場合には、先ず基板昇
降装置７１及び基板Ｙ動装置７２を駆動して、トレイ２
７上の処理基板Ａｂと第２載置部７８を位置合わせし、
２枚の処理基板Ａｂ、Ａｂを第２載置部７８に同時に受
け取る（詳細は後述する）。次に、基板載置ステージ７
３をわずかに下降させ、第１載置部７７の未処理基板Ａ
ａとトレイ２７（の上面）とを位置合わせし、２枚の未
処理基板Ａａ、Ａａをトレイ２７上に受け渡す。なお、
この場合も、基板載置ステージ７３に対し、両チャンバ
２、２は、その左右両側に近接して配置されているため
（図示では離れているが）、基板Ａの移載に際し基板載
置ステージ７３を左右方向に移動させる必要はない。
チャンバ２との間でやりとりする場合には、先ず基板昇
降装置７１及び基板Ｙ動装置７２を駆動して、トレイ２
７上の処理基板Ａｂと第２載置部７８を位置合わせし、
２枚の処理基板Ａｂ、Ａｂを第２載置部７８に同時に受
け取る（詳細は後述する）。次に、基板載置ステージ７
３をわずかに下降させ、第１載置部７７の未処理基板Ａ
ａとトレイ２７（の上面）とを位置合わせし、２枚の未
処理基板Ａａ、Ａａをトレイ２７上に受け渡す。なお、
この場合も、基板載置ステージ７３に対し、両チャンバ
２、２は、その左右両側に近接して配置されているため
（図示では離れているが）、基板Ａの移載に際し基板載
置ステージ７３を左右方向に移動させる必要はない。
【００３１】マガジン側移載機構１４は、未処理基板Ａ
ａを供給側マガジン７ａから基板搬送機構１２に送り出
す供給側シリンダ９１と、処理基板Ａｂを基板搬送機構
１２から排出側マガジン７ｂに送り込む排出側シリンダ
９２とを有している。供給側シリンダ９１は図外の機台
に取り付けられており、そのピストンロッド９４によ
り、該当する未処理基板Ａａの端を押して、これを供給
側マガジン７ａから基板搬送機構１２に送り出す。
ａを供給側マガジン７ａから基板搬送機構１２に送り出
す供給側シリンダ９１と、処理基板Ａｂを基板搬送機構
１２から排出側マガジン７ｂに送り込む排出側シリンダ
９２とを有している。供給側シリンダ９１は図外の機台
に取り付けられており、そのピストンロッド９４によ
り、該当する未処理基板Ａａの端を押して、これを供給
側マガジン７ａから基板搬送機構１２に送り出す。
【００３２】排出側シリンダ９２は、図外の機台に取り
付けられ、マガジン供給部８及びマガジン排出部９間に
亘って延在するシリンダ本体９５と、シリンダ本体９５
により左右方向に移動する送り爪装置９６とを有してい
る。送り爪装置９６は、ハウジング内にモータ等のアク
チュエータを収容するとともに、アクチュエータにより
上下動する送り爪９７を有している。アクチュエータに
より送り爪９７を所定の下動位置に移動させ、シリンダ
本体９５により送り爪装置９６を図示左方に移動させる
ことにより、送り爪９７が処理基板Ａｂの端を押して、
これを基板搬送機構１２から排出側マガジン７ｂに送り
込む。
付けられ、マガジン供給部８及びマガジン排出部９間に
亘って延在するシリンダ本体９５と、シリンダ本体９５
により左右方向に移動する送り爪装置９６とを有してい
る。送り爪装置９６は、ハウジング内にモータ等のアク
チュエータを収容するとともに、アクチュエータにより
上下動する送り爪９７を有している。アクチュエータに
より送り爪９７を所定の下動位置に移動させ、シリンダ
本体９５により送り爪装置９６を図示左方に移動させる
ことにより、送り爪９７が処理基板Ａｂの端を押して、
これを基板搬送機構１２から排出側マガジン７ｂに送り
込む。
【００３３】供給側シリンダ９１のピストンロッド９４
の高さ位置及び排出側シリンダ９２の送り爪９７の高さ
位置は、上記の移載高さ位置に設定され、且つ、ピスト
ンロッド９４側の移載高さ位置と送り爪９７の移載高さ
位置とは、基板載置ステージ７３の第１載置部７７と第
２載置部７８との間の段差分の差を有している。このた
め、基板載置ステージ７３の第１載置部７７と第２載置
部７８を、それぞれ両移載高さ位置に位置合わせしてお
いて、先ず排出側シリンダ９２を駆動することで、処理
基板Ａｂが第２載置部７８から排出側マガジン７ｂに送
り込まれ、次に供給側シリンダ９１を駆動すれば、未処
理基板Ａａが供給側マガジン７ａから第１載置部７７に
送り出される。もっとも、基板載置ステージ７３、供給
側マガジン７ａ及び排出側マガジン７ｂは昇降可能であ
り、かつ送り爪９７も上下動可能に構成されているた
め、必ずしも上記のように移載高さ位置を設定する必要
はない。
の高さ位置及び排出側シリンダ９２の送り爪９７の高さ
位置は、上記の移載高さ位置に設定され、且つ、ピスト
ンロッド９４側の移載高さ位置と送り爪９７の移載高さ
位置とは、基板載置ステージ７３の第１載置部７７と第
２載置部７８との間の段差分の差を有している。このた
め、基板載置ステージ７３の第１載置部７７と第２載置
部７８を、それぞれ両移載高さ位置に位置合わせしてお
いて、先ず排出側シリンダ９２を駆動することで、処理
基板Ａｂが第２載置部７８から排出側マガジン７ｂに送
り込まれ、次に供給側シリンダ９１を駆動すれば、未処
理基板Ａａが供給側マガジン７ａから第１載置部７７に
送り出される。もっとも、基板載置ステージ７３、供給
側マガジン７ａ及び排出側マガジン７ｂは昇降可能であ
り、かつ送り爪９７も上下動可能に構成されているた
め、必ずしも上記のように移載高さ位置を設定する必要
はない。
【００３４】なお、詳細は後述するが、供給側マガジン
７ａから送り出されるべき任意の１枚の未処理基板Ａａ
の選択、及び処理基板Ａｂが送り込まれるべき排出側マ
ガジン７ｂの任意の１つの収容位置（何段目か）の選択
は、マガジン供給部８において供給側マガジン７ａを昇
降させること、及びマガジン排出部９において排出側マ
ガジン７ｂを昇降することで行われる。
７ａから送り出されるべき任意の１枚の未処理基板Ａａ
の選択、及び処理基板Ａｂが送り込まれるべき排出側マ
ガジン７ｂの任意の１つの収容位置（何段目か）の選択
は、マガジン供給部８において供給側マガジン７ａを昇
降させること、及びマガジン排出部９において排出側マ
ガジン７ｂを昇降することで行われる。
【００３５】チャンバ側移載機構１３は、一対のチャン
バ２、２間に亘って左右方向に延在するガイドケース１
０１と、ガイドケース１０１の一方の端に取り付けられ
た減速機付きのＸ動モータ１０２と、Ｘ動モータ１０２
により回転するボールネジ１０３と、ボールネジ１０３
により左右方向に移動する移載爪装置１０４とを有して
いる。移載爪装置１０４は、ハウジング内にモータ等の
アクチュエータを収容するとともに、アクチュエータに
より上下動する移載爪１０５を有している。
バ２、２間に亘って左右方向に延在するガイドケース１
０１と、ガイドケース１０１の一方の端に取り付けられ
た減速機付きのＸ動モータ１０２と、Ｘ動モータ１０２
により回転するボールネジ１０３と、ボールネジ１０３
により左右方向に移動する移載爪装置１０４とを有して
いる。移載爪装置１０４は、ハウジング内にモータ等の
アクチュエータを収容するとともに、アクチュエータに
より上下動する移載爪１０５を有している。
【００３６】移載爪１０５の先端は二股に形成されてお
り、トレイ２７と基板搬送機構１２との間で、２枚の基
板Ａ、Ａを同時に移載可能に構成されている。移載爪装
置１０４は、ハウジングの部分でガイドケース１０１に
より左右方向の移動をガイドされており、Ｘ動モータ１
０２を介してボールネジ１０３が正逆回転することによ
り、移載爪装置１０４はガイドケース１０１に沿って左
右方向に移動する。また、アクチュエータの正逆駆動に
より、移載爪１０５が上下動する。
り、トレイ２７と基板搬送機構１２との間で、２枚の基
板Ａ、Ａを同時に移載可能に構成されている。移載爪装
置１０４は、ハウジングの部分でガイドケース１０１に
より左右方向の移動をガイドされており、Ｘ動モータ１
０２を介してボールネジ１０３が正逆回転することによ
り、移載爪装置１０４はガイドケース１０１に沿って左
右方向に移動する。また、アクチュエータの正逆駆動に
より、移載爪１０５が上下動する。
【００３７】基板搬送機構１２が第１載置部７７に未処
理基板Ａａを載置してチャンバ２に臨むと、Ｘ動モータ
１０２が駆動されて移載爪装置１０４をトレイ２７の端
位置に移動させ、続いて移載爪装置１０４が駆動されて
移載爪１０５をトレイ２７の上面位置まで下動させる。
次に、Ｘ動モータ１０２が駆動されて移載爪装置１０４
を基板搬送機構１２側に移動させる。これにより、移載
爪１０５がトレイ２７上の２枚の処理基板Ａｂを押すよ
うにして移動させ、処理基板Ａｂを基板搬送機構１２の
第２載置部７８に受け渡す。次に、移載爪１０５を未処
理基板Ａａに合わせてわずかに上動させた後、移載爪装
置１０４をトレイ２７側に移動させることにより、移載
爪１０５が２枚の未処理基板Ａａ、Ａａを第１載置部７
７からトレイ２７上に受け渡す。なお、移載爪１０５を
二股とせず、基板Ａを１枚ずつ移載させる構造であって
もよい。
理基板Ａａを載置してチャンバ２に臨むと、Ｘ動モータ
１０２が駆動されて移載爪装置１０４をトレイ２７の端
位置に移動させ、続いて移載爪装置１０４が駆動されて
移載爪１０５をトレイ２７の上面位置まで下動させる。
次に、Ｘ動モータ１０２が駆動されて移載爪装置１０４
を基板搬送機構１２側に移動させる。これにより、移載
爪１０５がトレイ２７上の２枚の処理基板Ａｂを押すよ
うにして移動させ、処理基板Ａｂを基板搬送機構１２の
第２載置部７８に受け渡す。次に、移載爪１０５を未処
理基板Ａａに合わせてわずかに上動させた後、移載爪装
置１０４をトレイ２７側に移動させることにより、移載
爪１０５が２枚の未処理基板Ａａ、Ａａを第１載置部７
７からトレイ２７上に受け渡す。なお、移載爪１０５を
二股とせず、基板Ａを１枚ずつ移載させる構造であって
もよい。
【００３８】マガジン供給部８は、複数個の供給側マガ
ジン７ａを載置可能な供給側マガジン載置台１１１と、
供給側マガジン載置台１１１から供給された供給側マガ
ジン７ａを昇降させる供給側昇降装置１１２と、供給側
マガジン７ａを供給側マガジン載置台１１１から供給側
昇降装置１１２に送り込む供給側マガジンシリンダ１１
３とを有している。一方、供給側マガジン７ａは、複数
段に亘って基板Ａを棚板状に収容できるように、両側壁
にそれぞれ複数の受け部が形成されている。そして、こ
のように構成された供給側マガジン７ａは、未処理基板
Ａａを収容した状態で、前面を基板搬送機構１２側に向
けて配設されている。なお、排出側マガジン７ｂは、こ
の供給側マガジン７ａと全く同一のものである。
ジン７ａを載置可能な供給側マガジン載置台１１１と、
供給側マガジン載置台１１１から供給された供給側マガ
ジン７ａを昇降させる供給側昇降装置１１２と、供給側
マガジン７ａを供給側マガジン載置台１１１から供給側
昇降装置１１２に送り込む供給側マガジンシリンダ１１
３とを有している。一方、供給側マガジン７ａは、複数
段に亘って基板Ａを棚板状に収容できるように、両側壁
にそれぞれ複数の受け部が形成されている。そして、こ
のように構成された供給側マガジン７ａは、未処理基板
Ａａを収容した状態で、前面を基板搬送機構１２側に向
けて配設されている。なお、排出側マガジン７ｂは、こ
の供給側マガジン７ａと全く同一のものである。
【００３９】供給側マガジンシリンダ１１３は、供給側
昇降装置１１２の供給側マガジン７ａが空になったとき
に、そのピストンロッド１１５により、供給側マガジン
載置台１１１に載置されている複数個の供給側マガジン
７ａを順に送り込んで、新たに供給側マガジン７ａを供
給側昇降装置１１２に供給する。なお、供給側マガジン
載置台１１１に新たに投入される供給側マガジン７ａ
は、ピストンロッド１１５が後退した状態で、供給側マ
ガジン載置台１１１のピストンロッド１１５側に投入さ
れる。
昇降装置１１２の供給側マガジン７ａが空になったとき
に、そのピストンロッド１１５により、供給側マガジン
載置台１１１に載置されている複数個の供給側マガジン
７ａを順に送り込んで、新たに供給側マガジン７ａを供
給側昇降装置１１２に供給する。なお、供給側マガジン
載置台１１１に新たに投入される供給側マガジン７ａ
は、ピストンロッド１１５が後退した状態で、供給側マ
ガジン載置台１１１のピストンロッド１１５側に投入さ
れる。
【００４０】供給側昇降装置１１２は、減速機付きのマ
ガジン昇降モータ１１６と、マガジン昇降モータ１１６
により回転するボールネジ１１７と、ボールネジ１１７
に螺合する雌ネジ部（図示省略）が形成された昇降ブロ
ック１１８とを有している。未処理基板Ａａを送り出す
供給側マガジン７ａは、昇降ブロック１１８に支持され
ており、昇降ブロック１１８は、マガジン昇降モータ１
１６を介して正逆回転するボールネジ１１７により、昇
降する。
ガジン昇降モータ１１６と、マガジン昇降モータ１１６
により回転するボールネジ１１７と、ボールネジ１１７
に螺合する雌ネジ部（図示省略）が形成された昇降ブロ
ック１１８とを有している。未処理基板Ａａを送り出す
供給側マガジン７ａは、昇降ブロック１１８に支持され
ており、昇降ブロック１１８は、マガジン昇降モータ１
１６を介して正逆回転するボールネジ１１７により、昇
降する。
【００４１】供給側昇降装置１１２に送り込まれた供給
側マガジン７ａは適宜昇降し、その際上記の供給側シリ
ンダ９１が、供給側マガジン７ａに収容した未処理基板
Ａａを１枚ずつ送り出してゆく。この場合、未処理基板
Ａａを、供給側マガジン７ａの最下段のものから順に送
り出してゆくことが、好ましい。すなわち、最初に最下
段の未処理基板Ａａを移載高さ位置に位置合わせしてこ
れを送り出し、次に下から２段目の未処理基板Ａａを移
載高さ位置に位置合わせ（下降）してこれを送り出す。
このようにして、最上段の未処理基板Ａａを送り出した
ところで、供給側マガジン７ａが空になるため、これを
さらに下降させてマガジン移送部１０に受け渡すように
している。
側マガジン７ａは適宜昇降し、その際上記の供給側シリ
ンダ９１が、供給側マガジン７ａに収容した未処理基板
Ａａを１枚ずつ送り出してゆく。この場合、未処理基板
Ａａを、供給側マガジン７ａの最下段のものから順に送
り出してゆくことが、好ましい。すなわち、最初に最下
段の未処理基板Ａａを移載高さ位置に位置合わせしてこ
れを送り出し、次に下から２段目の未処理基板Ａａを移
載高さ位置に位置合わせ（下降）してこれを送り出す。
このようにして、最上段の未処理基板Ａａを送り出した
ところで、供給側マガジン７ａが空になるため、これを
さらに下降させてマガジン移送部１０に受け渡すように
している。
【００４２】マガジン排出部９は、マガジン供給部８と
同様に、複数個の排出側マガジン７ｂを載置可能な排出
側マガジン載置台１２１と、排出側マガジン７ｂを昇降
させる排出側昇降装置１２２と、処理基板Ａｂで満杯に
なった排出側マガジン７ｂを排出側昇降装置１２２から
排出側マガジン載置台１２１に送り込む排出側マガジン
シリンダ１２３とを有している。排出側マガジンシリン
ダ１２３は、そのピストンロッド１２５により、満杯に
なった排出側マガジン７ｂを順次排出側マガジン載置台
１２１に送り込んでゆく。
同様に、複数個の排出側マガジン７ｂを載置可能な排出
側マガジン載置台１２１と、排出側マガジン７ｂを昇降
させる排出側昇降装置１２２と、処理基板Ａｂで満杯に
なった排出側マガジン７ｂを排出側昇降装置１２２から
排出側マガジン載置台１２１に送り込む排出側マガジン
シリンダ１２３とを有している。排出側マガジンシリン
ダ１２３は、そのピストンロッド１２５により、満杯に
なった排出側マガジン７ｂを順次排出側マガジン載置台
１２１に送り込んでゆく。
【００４３】排出側昇降装置１２２は、供給側昇降装置
１１２と同様に、マガジン昇降モータ１２６と、ボール
ネジ１２７と、昇降ブロック１２８とを有している。処
理基板Ａｂが送り込まれる排出側マガジン７ｂは、昇降
ブロック１２８に支持されており、昇降ブロック１２８
は、マガジン昇降モータ１２６を介して正逆回転するボ
ールネジ１２７により、昇降する。この場合、空の排出
側マガジン７ｂは、マガジン移送部１０を介して供給側
昇降装置１１２から供給される。
１１２と同様に、マガジン昇降モータ１２６と、ボール
ネジ１２７と、昇降ブロック１２８とを有している。処
理基板Ａｂが送り込まれる排出側マガジン７ｂは、昇降
ブロック１２８に支持されており、昇降ブロック１２８
は、マガジン昇降モータ１２６を介して正逆回転するボ
ールネジ１２７により、昇降する。この場合、空の排出
側マガジン７ｂは、マガジン移送部１０を介して供給側
昇降装置１１２から供給される。
【００４４】そして、この場合も、排出側昇降装置１２
２の排出側マガジン７ｂは適宜昇降し、その際上記の排
出側シリンダ９２が、排出側マガジン７ｂに処理基板Ａ
ｂを１枚ずつ送り込んでゆく。この場合には、排出側マ
ガジン７ｂを間欠上昇させながら、処理基板Ａｂを最上
段から順に収容してゆくことが好ましい。なお、供給側
昇降装置１１２及び排出側昇降装置１２２の各昇降ブロ
ック１１８、１２８は、各マガジン７ａ、７ｂを載置す
るプレート部位１１８ａ、１２８ａの中央が、広く
「コ」字状に切り欠かれており、後述するチャック装置
１３１が上下方向にすり抜け得るようになっている。
２の排出側マガジン７ｂは適宜昇降し、その際上記の排
出側シリンダ９２が、排出側マガジン７ｂに処理基板Ａ
ｂを１枚ずつ送り込んでゆく。この場合には、排出側マ
ガジン７ｂを間欠上昇させながら、処理基板Ａｂを最上
段から順に収容してゆくことが好ましい。なお、供給側
昇降装置１１２及び排出側昇降装置１２２の各昇降ブロ
ック１１８、１２８は、各マガジン７ａ、７ｂを載置す
るプレート部位１１８ａ、１２８ａの中央が、広く
「コ」字状に切り欠かれており、後述するチャック装置
１３１が上下方向にすり抜け得るようになっている。
【００４５】マガジン移送部１０は、空マガジン（空に
なった供給側マガジン７ａ）７ｃを受け取って把持する
チャック装置１３１と、先端部でチャック装置１３１を
支持する回転アーム１３２と、回転アーム１３２を基端
部を中心に回転させる減速機付きの回転モータ１３３と
を有している。回転モータ１３３は、図外の機台に固定
されており、回転アーム１３３を水平面内において角度
１８０度、往復回転（回動）させ、チャック装置１３１
に把持した空マガジン７ｃをマガジン供給部８からマガ
ジン排出部９に移送する。チャック装置１３１は、上面
に空マガジン７ｃが載置されるハウジング１３５と、ハ
ウジング１３５内に収容したシリンダ（図示省略）と、
ハウジング１３５の上面から突出しシリンダにより離接
方向に相互に移動する一対のチャック１３６、１３６と
を有している。
なった供給側マガジン７ａ）７ｃを受け取って把持する
チャック装置１３１と、先端部でチャック装置１３１を
支持する回転アーム１３２と、回転アーム１３２を基端
部を中心に回転させる減速機付きの回転モータ１３３と
を有している。回転モータ１３３は、図外の機台に固定
されており、回転アーム１３３を水平面内において角度
１８０度、往復回転（回動）させ、チャック装置１３１
に把持した空マガジン７ｃをマガジン供給部８からマガ
ジン排出部９に移送する。チャック装置１３１は、上面
に空マガジン７ｃが載置されるハウジング１３５と、ハ
ウジング１３５内に収容したシリンダ（図示省略）と、
ハウジング１３５の上面から突出しシリンダにより離接
方向に相互に移動する一対のチャック１３６、１３６と
を有している。
【００４６】一対のチャック１３６、１３６を離間する
方向に開いておいて、供給側昇降装置１１２に臨ませ、
この状態で、供給側昇降装置１１２に載置されている空
マガジン７ｃを下降させると、昇降ブロック１１８のプ
レート部位１１８ａがチャック１３６を上側から下側に
すり抜けたところで、空マガジン７ｃがハウジング１３
５の上面に載る。これにより、空マガジン７ｃが供給側
昇降装置１１２からマガジン移送部１０に受け渡され
る。ここで、一対のチャック１３６、１３６を閉じるよ
うにして、空マガジン７ｃを把持する。空マガジン７ｃ
がチャック装置１２１に不動に把持されたら、回転アー
ム１３２を回動させて空マガジン７ｃを排出側昇降装置
１２２に臨ませる。
方向に開いておいて、供給側昇降装置１１２に臨ませ、
この状態で、供給側昇降装置１１２に載置されている空
マガジン７ｃを下降させると、昇降ブロック１１８のプ
レート部位１１８ａがチャック１３６を上側から下側に
すり抜けたところで、空マガジン７ｃがハウジング１３
５の上面に載る。これにより、空マガジン７ｃが供給側
昇降装置１１２からマガジン移送部１０に受け渡され
る。ここで、一対のチャック１３６、１３６を閉じるよ
うにして、空マガジン７ｃを把持する。空マガジン７ｃ
がチャック装置１２１に不動に把持されたら、回転アー
ム１３２を回動させて空マガジン７ｃを排出側昇降装置
１２２に臨ませる。
【００４７】このとき、排出側昇降装置１２２の昇降ブ
ロック１２８には排出側マガジン７ｂは無く、また、昇
降ブロック１２８は下降位置にある。空マガジン７ｃが
排出側昇降装置１２２に臨んだら、チャック装置１３１
による把持状態を解除し、昇降ブロック１２８を上昇さ
せる。昇降ブロック１２８が上昇し、そのプレート部位
１２８ａがチャック１３６を下側から上側にすり抜ける
と、昇降ブロック１２８が空マガジン７ｃを自動的に受
け取ってそのまま上昇する。なお、マガジン移送部１０
により、マガジン供給部８からマガジン排出部９に移送
された空マガジン７ｃは、マガジン排出部９で排出側マ
ガジン７ｂとして利用されるが、空マガジン７ｃは回転
して移送されるため、その前部が搬入・搬出機構６側に
向いた姿勢で、マガジン排出部９に受け渡される。この
ため、移送の前後で別の装置により空マガジン７ｃの姿
勢を変える必要がない。
ロック１２８には排出側マガジン７ｂは無く、また、昇
降ブロック１２８は下降位置にある。空マガジン７ｃが
排出側昇降装置１２２に臨んだら、チャック装置１３１
による把持状態を解除し、昇降ブロック１２８を上昇さ
せる。昇降ブロック１２８が上昇し、そのプレート部位
１２８ａがチャック１３６を下側から上側にすり抜ける
と、昇降ブロック１２８が空マガジン７ｃを自動的に受
け取ってそのまま上昇する。なお、マガジン移送部１０
により、マガジン供給部８からマガジン排出部９に移送
された空マガジン７ｃは、マガジン排出部９で排出側マ
ガジン７ｂとして利用されるが、空マガジン７ｃは回転
して移送されるため、その前部が搬入・搬出機構６側に
向いた姿勢で、マガジン排出部９に受け渡される。この
ため、移送の前後で別の装置により空マガジン７ｃの姿
勢を変える必要がない。
【００４８】なお、搬入・搬出機構６、マガジン供給部
８、マガジン排出部９及びマガジン移送部１０における
モータやシリンダ等のアクチュエータは制御装置に接続
され、制御装置により総括的に制御される。ここで、図
４を参照して、各部の動作を順を追って説明する。
８、マガジン排出部９及びマガジン移送部１０における
モータやシリンダ等のアクチュエータは制御装置に接続
され、制御装置により総括的に制御される。ここで、図
４を参照して、各部の動作を順を追って説明する。
【００４９】同図において、左側のチャンバ２ａは基板
Ａの洗浄工程にあり、右側のチャンバ２ｂは基板Ａの搬
入・搬出工程にあるものとする。右側のチャンバ２ｂで
洗浄済みの基板（処理基板Ａｂ）Ａが外部に引き出され
る動きに合わせて、搬入・搬出機構６は、マガジン供給
部８から未処理基板Ａａを受け取って、右側のチャンバ
２ｂの近傍まで搬送する。ここで、搬入・搬出機構６
は、右側のチャンバ２ｂから処理基板Ａｂを受け取り、
続いて未処理基板Ａａを右側のチャンバ２ｂに受け渡
す。右側のチャンバ２ｂは、未処理基板Ａａを受け取る
と、これを内部に持ち込む。同時に、搬入・搬出機構６
は、処理基板Ａｂを搬送してマガジン排出部９に受け渡
す。
Ａの洗浄工程にあり、右側のチャンバ２ｂは基板Ａの搬
入・搬出工程にあるものとする。右側のチャンバ２ｂで
洗浄済みの基板（処理基板Ａｂ）Ａが外部に引き出され
る動きに合わせて、搬入・搬出機構６は、マガジン供給
部８から未処理基板Ａａを受け取って、右側のチャンバ
２ｂの近傍まで搬送する。ここで、搬入・搬出機構６
は、右側のチャンバ２ｂから処理基板Ａｂを受け取り、
続いて未処理基板Ａａを右側のチャンバ２ｂに受け渡
す。右側のチャンバ２ｂは、未処理基板Ａａを受け取る
と、これを内部に持ち込む。同時に、搬入・搬出機構６
は、処理基板Ａｂを搬送してマガジン排出部９に受け渡
す。
【００５０】右側のチャンバ２ｂは、未処理基板Ａａを
内部に持ち込むと、洗浄工程に移行する。これと同時
に、左側のチャンバ２ａは、窒素ガスによるリークを経
て搬入・搬出工程に移行する。そして今度は、左側のチ
ャンバ２ａで処理基板Ａｂが引き出される動きに合わせ
て、搬入・搬出機構６は、マガジン供給部８から未処理
基板Ａａを受け取って、左側のチャンバ２ａに搬入す
る。すなわち、左右のチャンバ２ａ、２ｂは交互に搬入
・搬出工程と洗浄工程とを繰り返し、これに合わせて搬
入・搬出機構６は左右のチャンバ２ａ、２ｂに対し、未
処理基板Ａａ及び処理基板Ａｂを交互に搬入・搬出す
る。
内部に持ち込むと、洗浄工程に移行する。これと同時
に、左側のチャンバ２ａは、窒素ガスによるリークを経
て搬入・搬出工程に移行する。そして今度は、左側のチ
ャンバ２ａで処理基板Ａｂが引き出される動きに合わせ
て、搬入・搬出機構６は、マガジン供給部８から未処理
基板Ａａを受け取って、左側のチャンバ２ａに搬入す
る。すなわち、左右のチャンバ２ａ、２ｂは交互に搬入
・搬出工程と洗浄工程とを繰り返し、これに合わせて搬
入・搬出機構６は左右のチャンバ２ａ、２ｂに対し、未
処理基板Ａａ及び処理基板Ａｂを交互に搬入・搬出す
る。
【００５１】また、プラズマ洗浄装置１は、不適切な洗
浄処理が行われた処理ＮＧ基板を除外するべく、洗浄処
理に関するエラーを検知するエラー検知手段を備えてい
る。このエラー検知手段は、制御装置に格納されたソフ
トウエアによって構成され、１回の洗浄処理毎に、真空
計６３から出力された圧力値と、マスフローコントロー
ラ４７から出力されたガス流量値と、電源部３から出力
された電力値とを、それぞれ予め入力された基準値と比
較し（電力値については進行波と反射波の両方について
行う）、いずれか一つでも基準値に達していない場合に
は、当該洗浄処理についてＮＧ（エラー）と判定する。
なお、このようなエラーの発生原因としては、例えば、
真空吸引装置５のフィルタが目詰まりしていた場合や、
ガスボンベが空になっていた場合や、チャンバ２の密閉
が不完全で真空引きが正常に行われなかった場合等が挙
げられる。
浄処理が行われた処理ＮＧ基板を除外するべく、洗浄処
理に関するエラーを検知するエラー検知手段を備えてい
る。このエラー検知手段は、制御装置に格納されたソフ
トウエアによって構成され、１回の洗浄処理毎に、真空
計６３から出力された圧力値と、マスフローコントロー
ラ４７から出力されたガス流量値と、電源部３から出力
された電力値とを、それぞれ予め入力された基準値と比
較し（電力値については進行波と反射波の両方について
行う）、いずれか一つでも基準値に達していない場合に
は、当該洗浄処理についてＮＧ（エラー）と判定する。
なお、このようなエラーの発生原因としては、例えば、
真空吸引装置５のフィルタが目詰まりしていた場合や、
ガスボンベが空になっていた場合や、チャンバ２の密閉
が不完全で真空引きが正常に行われなかった場合等が挙
げられる。
【００５２】洗浄処理にエラーがあった場合の基板の処
理手順を図５に基づいて説明する。制御装置がエラーの
発生を認識する（ステップ＃１０）と、自動運転が停止
するとともに、制御装置の画面に、エラーメッセージ
と、再洗浄を行うか否かを選択入力するよう要求するメ
ッセージとが表示される（ステップ＃２０）ので、オペ
レータが図外の入力装置を介して再洗浄を選択入力する
とともに再起動を行うと、チャンバ２内の処理ＮＧ基板
に対して再洗浄が行われる（ステップ＃３０）。このと
き、エラー検知手段により再洗浄処理についてもＯＫで
あるか否かが検知され（ステップ＃４０）、ＯＫの場合
には、基板情報（制御装置内部において記憶している基
板個別の情報）内の処理情報をＯＫとする（ステップ＃
５０）とともに、通常動作に復帰する。なお、ステップ
＃４０で再洗浄処理についてもＮＧの場合には、ステッ
プ＃１０に戻る。
理手順を図５に基づいて説明する。制御装置がエラーの
発生を認識する（ステップ＃１０）と、自動運転が停止
するとともに、制御装置の画面に、エラーメッセージ
と、再洗浄を行うか否かを選択入力するよう要求するメ
ッセージとが表示される（ステップ＃２０）ので、オペ
レータが図外の入力装置を介して再洗浄を選択入力する
とともに再起動を行うと、チャンバ２内の処理ＮＧ基板
に対して再洗浄が行われる（ステップ＃３０）。このと
き、エラー検知手段により再洗浄処理についてもＯＫで
あるか否かが検知され（ステップ＃４０）、ＯＫの場合
には、基板情報（制御装置内部において記憶している基
板個別の情報）内の処理情報をＯＫとする（ステップ＃
５０）とともに、通常動作に復帰する。なお、ステップ
＃４０で再洗浄処理についてもＮＧの場合には、ステッ
プ＃１０に戻る。
【００５３】このように、洗浄処理にエラーがあった場
合に、チャンバ内の基板を搬出せずに、再度洗浄処理を
行って良品とすることで、処理ＮＧ基板が排出側マガジ
ン７ｂに収納されないため、オペレータがマガジン７ｂ
から処理ＮＧ基板を取り除く必要が無くなり、オペレー
タの過誤により処理ＮＧ基板が次工程に流れることがな
い。したがって、歩留まり率が向上するものである。
合に、チャンバ内の基板を搬出せずに、再度洗浄処理を
行って良品とすることで、処理ＮＧ基板が排出側マガジ
ン７ｂに収納されないため、オペレータがマガジン７ｂ
から処理ＮＧ基板を取り除く必要が無くなり、オペレー
タの過誤により処理ＮＧ基板が次工程に流れることがな
い。したがって、歩留まり率が向上するものである。
【００５４】なお、上述したように、再度ＮＧとなった
基板には、さらに再洗浄処理が行われるが、再洗浄処理
を多く行うと基板上の素子が損傷する恐れが有るため、
本実施形態では、オペレータが任意に設定した所定回数
の再洗浄を行ってもＮＧと判定された場合には、従来と
同じ手順で処理ＮＧ基板を処理するようにしている。
基板には、さらに再洗浄処理が行われるが、再洗浄処理
を多く行うと基板上の素子が損傷する恐れが有るため、
本実施形態では、オペレータが任意に設定した所定回数
の再洗浄を行ってもＮＧと判定された場合には、従来と
同じ手順で処理ＮＧ基板を処理するようにしている。
【００５５】すなわち、所定回数の再洗浄を行った後
に、エラーメッセージと、再洗浄を行うか否かを選択入
力するよう要求するメッセージとが制御装置の画面に表
示されると、オペレータは、再洗浄の不実行を選択入力
する。これによって、制御装置において、洗浄処理がＮ
Ｇであるとの情報が記憶される（ステップ＃６０）。オ
ペレータが図外の起動スイッチを押すと、自動運転が再
開し、搬入・搬出機構６は、チャンバ２から処理ＮＧ基
板を受け取り、マガジン排出部９の排出側マガジン７ｂ
に収納する（ステップ＃７０）。そして、オペレータ
は、制御装置の画面に表示された基板情報ログ（各基板
に対して行われた洗浄処理の可否が基板識別情報に基づ
いて表示されている）に基づいてマガジン７ｂから処理
ＮＧ基板を取り除く。
に、エラーメッセージと、再洗浄を行うか否かを選択入
力するよう要求するメッセージとが制御装置の画面に表
示されると、オペレータは、再洗浄の不実行を選択入力
する。これによって、制御装置において、洗浄処理がＮ
Ｇであるとの情報が記憶される（ステップ＃６０）。オ
ペレータが図外の起動スイッチを押すと、自動運転が再
開し、搬入・搬出機構６は、チャンバ２から処理ＮＧ基
板を受け取り、マガジン排出部９の排出側マガジン７ｂ
に収納する（ステップ＃７０）。そして、オペレータ
は、制御装置の画面に表示された基板情報ログ（各基板
に対して行われた洗浄処理の可否が基板識別情報に基づ
いて表示されている）に基づいてマガジン７ｂから処理
ＮＧ基板を取り除く。
【００５６】なお、ステップ＃２０で再度の洗浄処理が
選択されなかった場合にオペレータがチャンバ２を開い
て基板を取り出すことができるように構成してもよい。
図６はそのような場合の一実施形態を示すフローチャー
トである。すなわち、ステップ＃２０で再洗浄の不実行
を選択入力すると、制御装置において、洗浄処理がＮＧ
であるとの情報が記憶される（ステップ＃６０）。オペ
レータは、基板搬送機構１２の基板載置ステージ７３を
ホーム位置に下降させ、エラーがあったチャンバ２のチ
ャンバ開閉シリンダ２４のピストンロッド２５を前進さ
せて蓋体２２を開方向に移動させ、トレイ２７上に載置
された処理ＮＧ基板を取り除く。
選択されなかった場合にオペレータがチャンバ２を開い
て基板を取り出すことができるように構成してもよい。
図６はそのような場合の一実施形態を示すフローチャー
トである。すなわち、ステップ＃２０で再洗浄の不実行
を選択入力すると、制御装置において、洗浄処理がＮＧ
であるとの情報が記憶される（ステップ＃６０）。オペ
レータは、基板搬送機構１２の基板載置ステージ７３を
ホーム位置に下降させ、エラーがあったチャンバ２のチ
ャンバ開閉シリンダ２４のピストンロッド２５を前進さ
せて蓋体２２を開方向に移動させ、トレイ２７上に載置
された処理ＮＧ基板を取り除く。
【００５７】そして、チャンバ開閉シリンダ２４のピス
トンロッド２５を後退させてチャンバ２を閉じた後、再
起動操作を行うと、自動運転が再開するが、チャンバ２
内には基板を検知するセンサを設けることができない
（センサ等の突起物がチャンバ内にあると正常なプラズ
マの発生が阻害されるため）ため、制御装置は、処理Ｎ
Ｇ基板が取り除かれたチャンバ２についても、基板が存
在するものとして扱い、搬出処理を行う。そのため、搬
出処理が行われても基板が搬出されないことになり、基
板載置ステージ７３に設けられたセンサ（不図示）が搬
出基板を検知しないため、制御装置の画面には、アンロ
ードエラーを表すメッセージと、その基板の処理情報を
クリアするか否かの選択入力を要求するメッセージとが
表示される（ステップ＃７０〜＃９０）。ここでオペレ
ータがクリアを選択すると、画面に表示された当該基板
の処理情報がクリアされ（ステップ＃１００）、通常運
転に復帰する。
トンロッド２５を後退させてチャンバ２を閉じた後、再
起動操作を行うと、自動運転が再開するが、チャンバ２
内には基板を検知するセンサを設けることができない
（センサ等の突起物がチャンバ内にあると正常なプラズ
マの発生が阻害されるため）ため、制御装置は、処理Ｎ
Ｇ基板が取り除かれたチャンバ２についても、基板が存
在するものとして扱い、搬出処理を行う。そのため、搬
出処理が行われても基板が搬出されないことになり、基
板載置ステージ７３に設けられたセンサ（不図示）が搬
出基板を検知しないため、制御装置の画面には、アンロ
ードエラーを表すメッセージと、その基板の処理情報を
クリアするか否かの選択入力を要求するメッセージとが
表示される（ステップ＃７０〜＃９０）。ここでオペレ
ータがクリアを選択すると、画面に表示された当該基板
の処理情報がクリアされ（ステップ＃１００）、通常運
転に復帰する。
【００５８】このように、オペレータが直接チャンバ２
から処理ＮＧ基板を取り除くようにすることで、オペレ
ータが処理ＮＧ基板を取り違えることが殆ど無くなり、
歩留まり率が向上する。なお、処理ＮＧ基板を従来と同
様の方法で処理する場合には、ステップ＃７０で基板を
取り除かず、エラーリセットのみを行う。これにより、
搬入・搬出機構６が処理ＮＧ基板を排出側マガジン７ｂ
に収納する（ステップ＃１１０）ので、オペレータは、
制御装置の画面に表示された基板情報ログ（各基板に対
して行われた洗浄処理の可否が基板識別情報に基づいて
表示されている）に基づいて排出側マガジン７ｂから処
理ＮＧ基板を取り除く。
から処理ＮＧ基板を取り除くようにすることで、オペレ
ータが処理ＮＧ基板を取り違えることが殆ど無くなり、
歩留まり率が向上する。なお、処理ＮＧ基板を従来と同
様の方法で処理する場合には、ステップ＃７０で基板を
取り除かず、エラーリセットのみを行う。これにより、
搬入・搬出機構６が処理ＮＧ基板を排出側マガジン７ｂ
に収納する（ステップ＃１１０）ので、オペレータは、
制御装置の画面に表示された基板情報ログ（各基板に対
して行われた洗浄処理の可否が基板識別情報に基づいて
表示されている）に基づいて排出側マガジン７ｂから処
理ＮＧ基板を取り除く。
【００５９】なお、本発明は、上述した実施形態に限定
されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で
種々の変形が可能である。
されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で
種々の変形が可能である。
【００６０】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、エ
ラー検知手段がエラーを検知した場合にチャンバ内の基
板に対して洗浄手段に再度洗浄処理を行わせるようにし
たことにより、チャンバ外に搬出される処理ＮＧ基板数
が減少するので、歩留まり率が向上する。
ラー検知手段がエラーを検知した場合にチャンバ内の基
板に対して洗浄手段に再度洗浄処理を行わせるようにし
たことにより、チャンバ外に搬出される処理ＮＧ基板数
が減少するので、歩留まり率が向上する。
【００６１】また、エラー検知手段がエラーを検知した
場合に洗浄手段に再度洗浄処理を行わせるか否かをオペ
レータが選択し得るように構成すると、オペレータが再
洗浄処理の回数を任意に設定することができるので、基
板に実装された素子の損傷を防ぐことができる。
場合に洗浄手段に再度洗浄処理を行わせるか否かをオペ
レータが選択し得るように構成すると、オペレータが再
洗浄処理の回数を任意に設定することができるので、基
板に実装された素子の損傷を防ぐことができる。
【００６２】なお、この場合、再度の洗浄処理が選択さ
れなかった場合にオペレータがチャンバを開いて基板を
取り出すことができるように構成すると、オペレータの
基板の取り除きミスが低減するので、歩留まり率がさら
に向上する。
れなかった場合にオペレータがチャンバを開いて基板を
取り出すことができるように構成すると、オペレータの
基板の取り除きミスが低減するので、歩留まり率がさら
に向上する。
【図１】 実施形態のプラズマ洗浄装置の全体構造（上
半部）を示した斜視図。
半部）を示した斜視図。
【図２】 実施形態のプラズマ洗浄装置の全体構造（下
半部）を示した斜視図。
半部）を示した斜視図。
【図３】 実施形態のプラズマ洗浄装置のチャンバの断
面図。
面図。
【図４】 実施形態のプラズマ洗浄装置の動作説明図。
【図５】 洗浄処理にエラーがあった場合の基板の処理
手順を示すフローチャート。
手順を示すフローチャート。
【図６】 洗浄処理にエラーがあった場合の基板の処理
手順を示すフローチャート。
手順を示すフローチャート。
２ チャンバ ４ ガス供給装置 ５ 真空吸引装置 ６ 搬入・搬出機構 ２８ 第１高周波電極 ２９ 第２高周波電極 ３１ 高周波電源
Claims (6)
- 【請求項１】 開閉可能なチャンバと、このチャンバに
対して基板を搬入・搬出する搬入・搬出機構と、前記チ
ャンバ内にプラズマを発生させ、このプラズマにより前
記チャンバ内の基板に対して洗浄処理を行う洗浄手段
と、前記洗浄処理に関するエラーを検知するエラー検知
手段とを備えたプラズマ洗浄装置であって、前記エラー
検知手段がエラーを検知した場合に前記チャンバ内の基
板に対して前記洗浄手段に再度洗浄処理を行わせる制御
装置を備えたことを特徴とするプラズマ洗浄装置。 - 【請求項２】 前記洗浄手段は、前記チャンバ内に設け
られた高周波電極と、この高周波電極に高周波電圧を印
加する高周波電源と、前記チャンバ内を真空にする真空
吸引装置と、前記チャンバ内にプラズマ反応ガスを供給
するガス供給装置とを含むものであることを特徴とする
請求項１に記載のプラズマ洗浄装置。 - 【請求項３】 前記エラー検知手段は、前記高周波電極
から出力された電力値、前記真空吸引装置から出力され
た圧力値、及び前記ガス供給装置から出力されたガス流
量値のうちのいずれか一つでも基準値に達しない場合に
エラーと判定するものであることを特徴とする請求項２
に記載のプラズマ洗浄装置。 - 【請求項４】 前記制御装置は、前記エラー検知手段が
エラーを検知した場合に前記洗浄手段に再度洗浄処理を
行わせるか否かをオペレータが選択し得るように構成さ
れたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の
プラズマ洗浄装置。 - 【請求項５】 再度の洗浄処理が選択されなかった場合
にオペレータが前記チャンバを開いて基板を取り出すこ
とができるように構成されたことを特徴とする請求項４
に記載のプラズマ洗浄装置。 - 【請求項６】 前記チャンバを一対備え、前記搬入・搬
出機構が、前記一対のチャンバに対して基板を交互に搬
入・搬出するとともに、前記一対のチャンバでそれぞれ
洗浄処理された基板を一つのマガジンに収納するもので
あることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の
プラズマ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000024722A JP2001205209A (ja) | 2000-01-28 | 2000-01-28 | プラズマ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000024722A JP2001205209A (ja) | 2000-01-28 | 2000-01-28 | プラズマ洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001205209A true JP2001205209A (ja) | 2001-07-31 |
Family
ID=18550663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000024722A Pending JP2001205209A (ja) | 2000-01-28 | 2000-01-28 | プラズマ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001205209A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112657990A (zh) * | 2020-12-04 | 2021-04-16 | 佛山市顺德区美的洗涤电器制造有限公司 | 水量控制装置及奶瓶清洗机 |
-
2000
- 2000-01-28 JP JP2000024722A patent/JP2001205209A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112657990A (zh) * | 2020-12-04 | 2021-04-16 | 佛山市顺德区美的洗涤电器制造有限公司 | 水量控制装置及奶瓶清洗机 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070125 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090403 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090409 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090608 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090630 |