JP2001202797A - 半導体記憶装置および半導体テスト方法 - Google Patents

半導体記憶装置および半導体テスト方法

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JP2001202797A
JP2001202797A JP2000011501A JP2000011501A JP2001202797A JP 2001202797 A JP2001202797 A JP 2001202797A JP 2000011501 A JP2000011501 A JP 2000011501A JP 2000011501 A JP2000011501 A JP 2000011501A JP 2001202797 A JP2001202797 A JP 2001202797A
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Masaaki Tanimura
政明 谷村
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    • G11C29/18Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
    • G11C29/26Accessing multiple arrays

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アクセス速度が速い半導体記憶装置を提供す
る。 【解決手段】 DRAM1において、セレクタ34は、
メモリ部33から読出された4ビットのデータのうちの
1ビットのデータを選択し、そのデータDOをデータ出
力バッファ41に与える。データ出力バッファ41は、
判定信号JDOなどから生成される出力許可信号ZO
E′によって制御され、上記4ビットのデータが互いに
一致している場合はセレクタ34からのデータDOをデ
ータ入出力端子T0に与え、一致していない場合はデー
タ入出力端子T0をハイインピーダンス状態にする。読
出データDOと判定信号JDOのうちのいずれか一方を
選択するセレクタ40が不要となるので、読出データD
Oのセレクタ40による遅延をなくすことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体記憶装置お
よび半導体テスト方法に関し、特に、テストモードを有
する半導体記憶装置およびそれを用いた半導体テスト方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】図9は、従来のダイナミックランダムア
クセスメモリ(以下、DRAMと称す)30の構成を示
す回路ブロック図である。このようなDRAM30は、
たとえば特開平6−295599号公報に開示されてい
る。
【0003】図9において、このDRAM30は、アド
レスバッファ回路31、制御信号発生回路32、メモリ
部33、セレクタ34,40、データ入力バッファ3
5、比較データレジスタ36、判定回路37、ゲート回
路38、判定結果レジスタ39、およびデータ出力バッ
ファ41を備える。
【0004】アドレスバッファ回路31は、外部アドレ
ス信号A0〜An(ただし、nは0以上の整数である)
に基づいて行アドレス信号RA0〜RAn、列アドレス
信号CA0〜CAn、およびブロック選択信号B0,B
1を生成する。アドレス信号RA0〜RAn,CA0〜
CAnはメモリ部33に与えられ、ブロック選択信号B
0,B1はセレクタ34に与えられる。制御信号発生回
路32は、外部クロック信号CLKに同期して動作し、
外部制御信号/RAS,/CAS,/WE,/OE,/
CSに従って種々の内部制御信号を生成し、DRAM3
0全体を制御する。
【0005】メモリ部33は、4つのメモリブロック3
3a〜33dを含み、書込動作時はセレクタ34からの
1ビットまたは4ビットのデータを記憶し、読出動作時
は4ビットのデータを読出してセレクタ34および判定
回路37に与える。
【0006】メモリブロック33aは、図10に示すよ
うに、メモリアレイ42、センスアンプ+入出力制御回
路43、行デコーダ47および列デコーダ48を含む。
メモリアレイ42は、行列状に配列された複数のメモリ
セルMCと、各行に対応して設けられたワード線WL
と、各列に対応して設けられたビット線対BL,/BL
とを含む。各メモリセルMCは、アクセス用のNチャネ
ルMOSトランジスタと情報記憶用のキャパシタとを含
む周知のものである。
【0007】センスアンプ+入出力制御回路43は、デ
ータ入出力線対IO,/IOと、各列に対応して設けら
れた列選択線CSL、列選択ゲート44、センスアンプ
45およびイコライザ46とを含む。列選択ゲート44
は、ビット線対BL,/BLとデータ入出力線対IO,
/IOとの間に接続された1対のNチャネルMOSトラ
ンジスタを含む。各NチャネルMOSトランジスタのゲ
ートは、列選択線CSLを介して列デコーダ48に接続
される。列デコーダ48によって列選択線CSLが選択
レベルの「H」レベルに立上げられると、1対のNチャ
ネルMOSトランジスタが導通し、ビット線対BL,/
BLとデータ入出力線対IO,/IOとが結合される。
【0008】センスアンプ45は、センスアンプ活性化
信号SON,ZSOPがそれぞれ「H」レベルおよび
「L」レベルになったことに応じて、ビット線対BL,
/BL間の微少電位差を電源電圧VCCに増幅する。イ
コライザ46は、ビット線イコライズ信号BLEQが活
性化レベルの「H」レベルになったことに応じて、ビッ
ト線対BLと/BLの電位をビット線電位VBL(=V
CC/2)にイコライズする。
【0009】次に、図10で示したメモリブロック33
aの動作について説明する。書込動作時においては、列
デコーダ48によって列アドレス信号CA0〜CAnに
応じた列の列選択線CSLが選択レベルの「H」レベル
に立上げられ、その列選択線CSLに対応する列選択ゲ
ート44が導通する。
【0010】これにより、セレクタ34からの書込デー
タがデータ入出力線対IO,/IOを介して選択された
列のビット線対BL,/BLに与えられる。書込データ
はビット線BL,/BL間の電位差として与えられる。
次いで、行デコーダ47によって行アドレス信号RA0
〜RAnに応じた行のワード線WLが選択レベルの
「H」レベルに立上げられ、その行のメモリセルMCの
NチャネルMOSトランジスタが導通する。選択された
メモリセルMCのキャパシタには、ビット線BLまたは
/BLの電位に応じた量の電荷が蓄えられる。
【0011】読出動作時においては、まずビット線イコ
ライズ信号BLEQが「L」レベルに立下げられてビッ
ト線BL,/BLのイコライズが停止される。次いで、
行デコーダ47によって行アドレス信号RA0〜RAn
に対応する行のワード線WLが選択レベルの「H」レベ
ルに立上げられる。ビット線BL,/BLの電位は、活
性化されたメモリセルMCのキャパシタの電荷量に応じ
て微少量だけ変化する。
【0012】次いで、センスアンプ活性化信号SON,
ZSOPがそれぞれ「H」レベルおよび「L」レベルと
なり、センスアンプ45が活性化される。ビット線BL
の電位がビット線/BLの電位よりも微少量だけ高いと
きは、ビット線BLの電位が「H」レベルまで引上げら
れ、ビット線/BLの電位が「L」レベルまで引下げら
れる。逆に、ビット線/BLの電位がビット線BLの電
位よりも微少量だけ高いときは、ビット線/BLの電位
が「H」レベルにまで引上げられ、ビット線BLの電位
が「L」レベルまで引下げられる。
【0013】次いで、列デコーダ48によって列アドレ
ス信号CA0〜CAnに対応する列の列選択線CSLが
選択レベルの「H」レベルに立上げられ、その列の列選
択ゲート44が導通する。選択された列のビット線対B
L,/BLのデータは、列選択ゲート44およびデータ
入出力線対IO,/IOを介してセレクタ34に与えら
れる。他のメモリブロック33b〜33dは、メモリブ
ロック33aと同じである。
【0014】図9に戻って、セレクタ34は、テスト信
号TE10が活性化レベルの「H」レベルの場合は書込
データDIを4つのメモリブロック33a〜33dの各
々に与え、テスト信号DE10が非活性化レベルの
「L」レベルの場合はブロック選択信号B0,B1に従
って4つのメモリブロック33a〜33dのうちのいず
れかのメモリブロックを選択し、読出動作時はそのメモ
リブロックの読出データDOをセレクタ40に与え、書
込動作時はそのメモリブロックに書込データDIを与え
る。テスト信号TE10は、テスト時は活性化レベルの
「H」レベルになり、通常動作時は非活性化レベルの
「L」レベルになる。データ入力バッファ35は、書込
許可信号ZWEが活性化レベルの「L」レベルになった
ことに応じて、外部からデータ入出力端子T0を介して
与えられた書込データDIをセレクタ34に伝達させ
る。
【0015】比較データレジスタ36は、ラッチ信号L
DCが活性化レベルの「H」レベルにされたことに応じ
て、外部からデータ入出力端子T0を介して与えられた
比較データDCをラッチし、その比較データDCを判定
回路37に与える。判定回路37は、メモリ部33から
読出された4ビットのデータと比較データDCとのすべ
てが一致した場合は判定信号JDを「H」レベルにし、
一致していない場合は判定信号JDを「L」レベルにす
る。
【0016】ゲート回路38は、ゲート信号GTが活性
化レベルの「H」レベルになったことに応じて、判定回
路37で生成された判定信号JDを反転させて判定結果
レジスタ39のセット端子Sに与える。ゲート信号GT
が活性化レベルの「H」レベルの場合は、判定回路37
およびゲート回路38は、図11に示すように、1つの
5入力EX−ORゲート49で示される。
【0017】判定結果レジスタ39は、リセット信号R
STが活性化レベルの「H」レベルになったことに応じ
て判定信号JDOを「L」レベルにし、ゲート回路38
の出力信号が「H」レベルになったことに応じて判定信
号JDOを「H」レベルにする。判定結果レジスタ39
は、図11に示すように、2つのゲート回路39a,3
9bを含むフリップフロップで構成されている。
【0018】セレクタ40は、図12に示すように、ゲ
ート回路50、ANDゲート51およびORゲート52
を含む。テスト信号TE10が活性化レベルの「H」レ
ベルの場合はレジスタ39の出力信号JDOがANDゲ
ート51およびORゲート52を通過し、テスト信号T
E10が非活性化レベルの「L」レベルの場合はセレク
タ34からの読出データDOがゲート回路50およびO
Rゲート52を通過する。データ出力バッファ41は、
出力許可信号ZOEが活性化レベルの「L」レベルにな
ったことに応じて、セレクタ40からのデータ信号DO
およびJDOをデータ入出力端子T0を介して外部に伝
達させる。なお、図9で示したDRAM30のうちのア
ドレスバッファ回路31および制御信号発生回路32以
外の部分(点線で囲まれた部分)は、複数組(たとえば
4組)設けられる。
【0019】次に、図9〜図12で示したDRAM30
の動作について説明する。通常の書込動作時は、外部か
ら与えられた書込データDIがデータ入力バッファ35
を介してセレクタ34に与えられる。セレクタ34によ
って4つのメモリブロック33a〜33dのうちのいず
れかのメモリブロックが選択され、行デコーダ47およ
び列デコーダ48によってそのメモリブロックに属する
複数のメモリセルMCのうちのいずれかのメモリセルM
Cが選択され、そのメモリセルMCに書込データDIが
書込まれる。
【0020】通常の読出動作時は、4つのメモリブロッ
ク33a〜33dの各々において、行デコーダ47およ
び列デコーダ48によってそのメモリブロックに属する
複数のメモリセルMCのうちのいずれかのメモリセルM
Cが選択され、そのメモリセルMCのデータが読出され
る。セレクタ34によって4ビットの読出データのうち
のいずれかのデータが選択され、選択された読出データ
DOはセレクタ40およびデータ出力バッファ41を介
して外部に出力される。
【0021】テスト時は図13に示すように、複数(図
では12)のDRAM30が1枚のバーインテストボー
ド55上に複数行(図では3行)、複数列(図では4
列)に配列される。3行のDRAM30に対応して制御
信号/CS0〜/CS2入力用のドライバ61a〜61
cがそれぞれ設けられ、4列のDRAM30に対応して
書込データDI0〜DI3入力用のドライバ62a〜6
2dおよび判定信号JDO0〜JDO3出力用のドライ
バ63a〜63dがそれぞれ設けられる。これらのドラ
イバ61a〜61c,62a〜62d,63a〜63d
は、テスタ(図示せず)内に設けられている。実際には
アドレス信号A0〜An入力用のドライバおよび制御信
号/RAS,/CAS,/WE,/OE入力用のドライ
バおよびクロック信号CLK入力用のドライバがボード
55上の全DRAM30に共通に設けられているが、図
面の簡単化のため図示は省略されている。
【0022】テストにおける書込動作時は、信号/CS
0〜/CS2がともに活性化レベルの「L」レベルにさ
れてボード55上の全DRAM30が活性化されるとと
もに、信号TE10が活性化レベルの「H」レベルにさ
れる。各DRAM30において、テスタからの書込デー
タDIは、データ入力バッファ35およびセレクタ34
を介して4つのメモリブロック33a〜33dに与えら
れる。各メモリブロックにおいて、セレクタ34からの
書込データDIがアドレス信号A0〜Anによって指定
されたアドレスのメモリセルMCに書込まれる。したが
って、4つのメモリセルMCに同一のデータが同時に書
込まれる。所定の周期で各DRAM30の全アドレスが
順次指定され、各アドレスに所定の論理レベルのデータ
DIが書込まれる。
【0023】テストにおける読出動作時は、信号/CS
0〜/CS2がともに活性化レベルの「L」レベルにさ
れてボード55上の全DRAM30が活性化される。ま
ずラッチ信号LDCが活性化レベルの「H」レベルにさ
れるとともに外部から比較データDCが与えられ、比較
データDCが比較データレジスタ36にラッチされる。
この比較データDCは、次に読出を行なうアドレスのメ
モリセルMCから読出されるべきデータ、すなわちその
メモリセルMCに書込んだデータと同じ論理レベルを有
する。また、リセット信号RSTがパルス的に「H」レ
ベルにされて判定結果レジスタ39がリセットされ信号
JDOが「L」レベルにされる。また、テスト信号TE
10が活性化レベルの「H」レベルにされる。
【0024】次に、アドレス信号A0〜Anによって読
出を行なうべきアドレスが指定され、各DRAM30に
おいてメモリ部33から4ビットのデータが読出され、
それらの4ビットのデータおよび比較データDCの論理
レベルが一致した場合は信号JDが「H」レベルにな
り、一致しない場合は信号JDが「L」レベルになる。
次いで信号GTが活性化レベルの「H」レベルになり、
信号JDが反転されて判定結果レジスタ39のセット端
子Sに与えられる。レジスタ39の出力信号JDOは、
上記5ビットのデータが一致した場合は「L」レベルに
なり、一致しない場合は「H」レベルになる。なお、比
較データDCを導入したのは、メモリ部33から読出し
た4ビットのデータがすべて書込データの反転データに
なっている場合でも、4つのメモリセルMCが正常であ
ると判定されるのを防止するためである。次いで、信号
/CS0〜/CS2が一旦非活性化レベルの「L」レベ
ルにされ、ボード55上の全DRAM30はスタンバイ
状態にされる。
【0025】次いで、まず信号/CS0が活性化レベル
の「L」レベルにされて第1行目の4つのDRAM30
が活性化され、出力許可信号ZOEが活性化レベルの
「L」レベルにされ、第1行目の4つのDRAM30の
各々において判定信号JDOがデータ出力バッファ41
を介してテスタに出力される。このとき、信号JDOが
「H」レベルであるDRAM30のメモリセルMCは不
良であると判定される。以下、信号/CS1,/CS2
が順次活性化レベルの「L」レベルにされて各行のDR
AM30の判定信号JDOがテスタに与えられ、各DR
AM30のメモリセルMCが正常か否かが判定される。
このようにして、各DRAM30のすべてのメモリセル
MCが4つ単位で正常か否か判定され、不良なメモリセ
ルMCは、スペアのメモリセル(図示せず)と置換され
る。
【0026】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のDRA
M30では、セレクタ40が設けられていたので、読出
データDOがセレクタ40によって遅延され、アクセス
速度が遅くなるという問題があった。
【0027】また、比較データレジスタ36が設けられ
ていたので、データ入出力端子T0の負荷容量が大きく
なり、これもアクセス速度の遅延を招いていた。
【0028】また、従来のテスト方法では、1枚のテス
トボード55上に複数のDRAM30を搭載し、全DR
AM30のデータの書込/読出を同時に行なっていた
が、DRAM30の数が多すぎる場合は、テストボード
55の温度が許容値以上に上昇したり、テスト時の消費
電流がテスタの許容値以上に大きくなり、正確なテスト
を行なうことができないという問題があった。
【0029】それゆえに、この発明の1つの目的は、ア
クセス速度が速い半導体記憶装置を提供することであ
る。
【0030】また、この発明の他の目的は、1枚のテス
トボード上に多数の半導体記憶装置を搭載してテストす
る場合でも正確にテストすることが可能な半導体記憶装
置およびそれを用いた半導体テスト方法を提供すること
である。
【0031】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
選択されたN個(ただし、Nは2以上の整数である)の
メモリセルに同一データを同時に書込み、N個のメモリ
セルから同時に読出したNビットのデータの論理が互い
に一致した場合はN個のメモリセルは正常であると判定
するテストモードを有する半導体記憶装置であって、そ
れぞれが複数のメモリセルを含むN組のメモリアレイ
と、各メモリアレイに対応して設けられ、アドレス信号
に従って対応のメモリアレイに属する複数のメモリセル
のうちのいずれかのメモリセルを選択し、そのメモリセ
ルのデータの書込/読出を行なう書込/読出回路と、ブ
ロック選択信号に従ってN組のメモリアレイのうちのい
ずれかのメモリアレイを選択する選択回路と、出力許可
信号が入力されている期間は、選択回路によって選択さ
れたメモリアレイから書込/読出回路によって読出され
たデータの論理に応じたレベルの信号をデータ入出力端
子に出力し、出力許可信号が入力されていない期間は、
データ入出力端子をハイインピーダンス状態にするデー
タ出力バッファと、N組のメモリアレイからN組の書込
/読出回路によって読出されたNビットのデータの論理
が互いに一致しているか否かを判定し、一致している場
合は第1のレベルの信号を出力し、一致していない場合
は第2のレベルの信号を出力する判定回路と、判定回路
の出力信号を保持する第1の保持回路と、外部制御信号
に従って出力許可信号を出力する信号発生回路と、信号
発生回路とデータ出力バッファの間に設けられ、テスト
モード時において第1の保持回路によって第1のレベル
の信号が保持されている場合および通常動作時は、信号
発生回路から出力された出力許可信号をデータ出力バッ
ファに入力させ、テストモード時において第1の保持回
路によって第2のレベルの信号が保持されている場合
は、信号発生回路から出力された出力許可信号のデータ
出力バッファへの入力を禁止するゲート回路を備えたも
のである。
【0032】請求項2に係る発明では、請求項1に係る
発明の選択回路は、通常動作時およびテストモードにお
ける読出動作時はブロック選択信号に従ってN組のメモ
リアレイのうちのいずれかのメモリアレイを選択し、テ
ストモードにおける書込動作時はN組のメモリアレイの
各々を選択する。また、書込許可信号に応答して、選択
回路によって選択されたメモリアレイに外部データを伝
達させるデータ入力バッファがさらに設けられる。
【0033】請求項3に係る発明では、請求項1または
2に係る発明の半導体記憶装置は、さらに、不良なメモ
リセルを指定するアドレス信号を出力する不良アドレス
出力モードを有し、さらに、判定回路から第2のレベル
の信号が出力されたことに応じて、アドレス信号に含ま
れる複数のデータ信号を保持する第2の保持回路と、不
良アドレス出力モード時において第2の保持回路に保持
された複数のデータ信号を1つずつ順次読出す読出回路
とを備える。ゲート回路は、さらに、読出回路によって
読出されたデータ信号が第1の論理を有する場合は、信
号発生回路から出力された出力許可信号をデータ出力バ
ッファに入力させ、読出回路によって読出されたデータ
信号が第2の論理を有する場合は、信号発生回路から出
力された出力許可信号のデータ出力バッファへの入力を
禁止する。
【0034】請求項4に係る発明は、テストモードを有
する半導体記憶装置であって、外部から与えられた半導
体記憶装置を識別するための複数桁のデータ信号を有す
る第1の識別コードを保持する第1の保持回路と、テス
トモード時に、外部から与えられた第2の識別コードに
含まれる複数桁のデータ信号と、第1の保持回路に保持
された第1の識別コードに含まれる複数桁のデータ信号
とが一致しているか否かを判定し、一致している場合は
半導体記憶装置を活性化させる判定回路とを備えたもの
である。
【0035】請求項5に係る発明では、請求項4に係る
発明に、外部から与えられ、第2の識別コードの有効桁
を指定するための複数桁のデータ信号を有する有効桁信
号を保持する第2の保持回路がさらに設けられる。判定
回路は、第2の識別コードに含まれる複数桁のデータ信
号のうちの第2の保持回路に保持された有効桁信号によ
って指定された有効桁のデータ信号と、第1の保持回路
に保持された第1の識別コードに含まれる複数桁のデー
タ信号のうちの有効桁に対応する桁のデータ信号とが一
致しているか否かを判定し、一致している場合は半導体
記憶装置を活性化させる。
【0036】請求項6に係る発明では、請求項5に係る
発明に、複数のデータ信号の入出力を行なうための複数
のデータ入出力端子がさらに設けられる。第1の保持回
路は、第1の信号に応答して、外部から複数のデータ入
出力端子を介して与えられた第1の識別コードを保持す
る。第2の保持回路は、第2の信号に応答して、外部か
ら複数のデータ入出力端子を介して与えられた有効桁信
号を保持する。判定回路は、第3の信号に応答して、外
部から複数のデータ入出力端子を介して与えられた第2
の識別コードと、第1の保持回路に保持された第1の識
別コードと、第2の保持回路に保持された有効桁信号と
に基づいて判定する。
【0037】請求項7に係る発明は、1枚のテストボー
ド上に複数の半導体記憶装置を搭載して各半導体記憶装
置をテストする半導体テスト方法であって、各半導体記
憶装置に、外部から与えられた半導体記憶装置を識別す
るための複数桁のデータ信号を有する第1の識別コード
を保持する保持回路と、テストモード時に、外部から入
力された第2の識別コードに含まれる複数桁のデータ信
号と、第1の保持回路に保持された第1の識別コードに
含まれる複数桁のデータ信号とが一致しているか否かを
判定し、一致している場合は半導体記憶装置を活性化さ
せる判定回路とを設ける。そして、各半導体記憶装置の
保持回路に固有の第1の識別コードを与え、複数の半導
体記憶装置のうちのいずれかの半導体記憶装置を選択
し、その半導体記憶装置の保持回路に保持された第1の
識別コードに等しい第2の識別コードをその半導体記憶
装置の判定回路に与え、その半導体記憶装置をテストす
る。
【0038】請求項8に係る発明は、1枚のテストボー
ド上に複数の半導体記憶装置を搭載して各半導体記憶装
置をテストする半導体テスト方法であって、各半導体記
憶装置に、外部から与えられた半導体記憶装置を識別す
るための複数桁のデータ信号を有する第1の識別コード
を保持する第1の保持回路と、外部から与えられ、第2
の識別コードの有効桁を指定するための複数桁のデータ
信号を有する有効桁信号を保持する第2の保持回路と、
テストモード時に、外部から与えられた第2の識別コー
ドに含まれる複数桁のデータ信号のうちの第2の保持回
路に保持された有効桁信号によって指定された有効桁の
データ信号と、第1の保持回路に保持された第1の識別
コードに含まれる複数桁のデータ信号のうちの有効桁に
対応する桁のデータ信号とが一致しているか否かを判定
し、一致している場合は半導体記憶装置を活性化させる
判定回路とを設ける。そして、各半導体記憶装置の第1
の保持回路に固有の第1の識別コードを与え、複数の半
導体記憶装置のうちの1または2以上の半導体記憶装置
を選択し、それらの半導体記憶装置を活性化させるため
に必要な有効桁信号および第2の識別コードを選択し、
選択した有効桁信号を各半導体記憶装置の第2の保持回
路に与えるとともに選択した第2の識別コードを各半導
体記憶装置の判定回路に与え、それらの半導体記憶装置
をテストする。
【0039】
【発明の実施の形態】[実施の形態1]図1は、この発
明の実施の形態1によるDRAMの構成を示す回路ブロ
ック図であって、図9と対比される図である。図1にお
いて、このDRAM1が図9のDRAM30と異なる点
は、比較データレジスタ36およびセレクタ40が削除
され、判定回路37が判定回路37′で置換され、AN
Dゲート2およびORゲート3が追加され、テスト信号
TE10の代わりにテスト信号TE0,TE1が導入さ
れている点である。
【0040】セレクタ34は、テスト信号TE0が活性
化レベルの「H」レベルの場合は書込データDIを4つ
のメモリブロック33a〜33dの各々に与え、テスト
信号TE0が非活性化レベルの「L」レベルの場合はブ
ロック選択信号B0,B1に従って4つのメモリブロッ
ク33a〜33dのうちのいずれかのメモリブロックを
選択し、読出動作時はそのメモリブロックの読出データ
DOをデータ出力バッファ41に与え、書込動作時はそ
のメモリブロックに書込データDIを与える。テスト信
号DE0は、通常動作時およびテストにおける読出動作
時は非活性レベルの「L」レベルになり、テストにおけ
る書込動作時は活性化レベルの「H」レベルになる。
【0041】判定回路37′は、メモリ部33から読出
される4ビットのデータが一致した場合は判定信号JD
を「H」レベルにし、一致しない場合は判定信号JDを
「L」レベルにする。ゲート信号GTが活性化レベルの
「H」レベルの場合は、判定回路37′およびゲート回
路38は、図2に示すように、4入力のEX−ORゲー
ト49′で示される。
【0042】ANDゲート2は、判定信号JDOとテス
ト信号TE1を受ける。テスト信号TE1は、通常動作
時およびテストにおける書込動作時は非活性化レベルの
「L」レベルになり、テストにおける読出動作時は活性
化レベルの「H」レベルになる。ORゲート3は、AN
Dゲート2の出力信号φ2と出力許可信号ZOEとを受
け、その出力信号ZOE′はデータ出力バッファ41に
与えられる。
【0043】次に、図1および図2に示したDRAM1
の動作について説明する。通常動作時は、テスト信号T
E0,TE1はともに非活性化レベルの「L」レベルに
される。ANDゲート2の出力信号φ2は「L」レベル
に固定され、出力許可信号ZOEはORゲート3を通過
してそのままデータ出力バッファ41に入力される。し
たがって、通常動作時は、DRAM1は図9のDRAM
30と同様に動作する。
【0044】すなわち、通常の書込動作時は、4つのメ
モリブロック33a〜33dのうちのいずれかのメモリ
ブロックが選択され、外部から与えられた書込データD
Iがデータ入力バッファ35およびセレクタ34を介し
てそのメモリブロックに与えられ、そのメモリブロック
のうちのアドレス信号A0〜Anで指定されたアドレス
のメモリセルMCに書込まれる。また、通常の読出動作
時は、4つのメモリブロック33a〜33dの各々にお
いてアドレス信号A0〜Anで指定されたアドレスのメ
モリセルMCからデータが読出されるとともに、4つの
メモリブロック33a〜33dのうちのいずれかのメモ
リブロックが選択され、そのメモリブロックの読出デー
タDOがセレクタ34およびデータ出力バッファ41を
介して外部に出力される。
【0045】テストにおける書込動作時は、テスト信号
TE0,TE1がそれぞれ「H」レベルおよび「L」レ
ベルにされる。外部から与えられた書込データDIは、
データ入力バッファ35およびセレクタ34を介して4
つのメモリブロック33a〜33dの各々に与えられ、
各メモリブロックのうちのアドレス信号A0〜Anで指
定されたアドレスのメモリセルMCに書込まれる。した
がって、4つのメモリセルMCに同一のデータが同時に
書込まれる。また、ANDゲート2の出力信号φ2は、
「L」レベルに固定される。
【0046】テストにおける読出動作時は、テスト信号
TE0,TE1がそれぞれ「L」レベルおよび「H」レ
ベルにされる。また、リセット信号RSTがパルス的に
「H」レベルにされて、判定結果レジスタ39がリセッ
トされ、信号JDOが「L」レベルにされる。
【0047】まず4つのメモリブロック33a〜33d
の各々において、アドレス信号A0〜Anによって指定
されたアドレスのメモリセルMCからデータが読出され
る。4つのメモリブロック33a〜33dから読出され
た4ビットのデータのうちのいずれかのデータがセレク
タ34によって選択され、選択された読出データDOが
セレクタ34を介してデータ出力バッファ41に与えら
れる。
【0048】一方、4つのメモリブロック33a〜33
dから読出された4ビットのデータは判定回路37′に
与えられる。4ビットのデータの論理レベルが一致した
場合は判定信号JDが「H」レベルになり、一致しない
場合は「L」レベルになる。次いで、信号GTが活性化
レベルの「H」レベルになり、信号JDが反転されて判
定結果レジスタ39のセット端子Sに与えられる。レジ
スタ39の出力信号JDOおよびAND2の出力信号φ
2は、上記4ビットのデータが一致した場合は「L」レ
ベルになり、一致しない場合は「H」レベルになる。
【0049】次に、出力許可信号ZOEが活性化レベル
の「L」レベルになる。ORゲート3の出力信号ZO
E′は4ビットのデータが一致している場合は活性化レ
ベルの「L」レベルになり、一致していない場合は
「H」レベルのまま変化しない。したがって、データの
読出が行なわれた4つのメモリセルMCが正常な場合
は、予め書込んだデータと同じ論理レベルのデータがデ
ータ出力バッファ41およびデータ入出力端子T0を介
して外部(テスタ)に出力される。
【0050】しかし、データの読出が行なわれた4つの
メモリセルMCのうちの少なくとも1つのメモリセルM
Cが不良であり、4つのメモリセルMCが読出した4ビ
ットのデータの論理レベルが一致しない場合は、出力許
可信号ZOE′が「H」レベルのまま変化しないので、
データ入出力端子T0はハイインピーダンス状態のまま
変化しない。
【0051】また、4つのメモリセルMCがともに不良
であり、4つのメモリセルMCの各々から書込データの
論理レベルの反転レベルのデータが読出された場合は、
書込データの論理レベルの反転レベルのデータがデータ
出力バッファ41およびデータ入出力端子T0を介して
外部(テスタ)に出力される。
【0052】したがって、テスタは、DRAM1のデー
タ入出力端子T0の状態を検出することにより、4つの
メモリセルMCが正常か否かを判定することができる。
【0053】この実施の形態1では、セレクタ40を削
除したので、セレクタ40によって読出データDOが遅
延されることを防止することができ、アクセス速度の高
速化を図ることができる。また、比較データレジスタ3
6を削除したので、データ入出力端子T0の負荷容量を
小さくすることができ、アクセス速度の高速化を図るこ
とができる。
【0054】[実施の形態2]図3は、この発明の実施
の形態2によるDRAMの要部を示す回路ブロック図で
あって、図2と対比される図である。図3において、こ
のDRAMが図1および図2で示したDRAMと異なる
点は、ラッチ回路4、パラレル−シリアル変換回路5お
よびANDゲート6が追加され、2入力のORゲート3
が3入力のORゲート3′と置換され、テスト信号TE
2が導入されている点である。
【0055】ラッチ回路4は、テストにおける読出動作
時において、4つのメモリブロック33a〜33dから
読出された4ビットのデータが一致せずEX−ORゲー
ト49′の出力信号が「H」レベルになったことに応じ
て、アドレスバッファ回路31の出力アドレス信号A0
〜Anをラッチする。
【0056】パラレル−シリアル変換回路5は、テスト
信号TE2が活性化レベルの「H」レベルになったこと
に応じて、ラッチ回路4にラッチされたアドレス信号A
0〜Anを直列信号に変換して所定周期で順次出力す
る。テスト信号TE2は、不良なメモリセルMCのアド
レスを示すアドレス信号A0〜Anを読出す場合に活性
化レベルの「H」レベルにされ、それ以外の場合は非活
性化レベルの「L」レベルにされる。
【0057】ANDゲート6は、テスト信号TE2とパ
ラレル−シリアル変換回路5の出力信号とを受ける。O
Rゲート3′は、ANDゲート6の出力信号φ6と、図
2で示したANDゲート2の出力信号φ2と、出力許可
信号ZOEとを受け、その出力信号ZOE′はデータ出
力バッファ41に与えられる。
【0058】通常の読出動作時は、テスト信号TE1,
TE2は非活性化レベルの「L」レベルにされ、信号φ
2,φ6が「L」レベルに固定されている。したがっ
て、出力許可信号ZOEは、OR3′を通過してそのま
まデータ出力バッファ41に入力される。
【0059】テスト中またはテスト後において不良なメ
モリセルMCのアドレスを示すアドレス信号A0〜An
を読出す場合は、テスト信号TE0,TE1が非活性化
レベルの「L」レベルにされ、テスト信号TE2が活性
化レベルの「H」レベルにされるとともに、任意のアド
レス信号A0〜Anが入力される。
【0060】パラレル−シリアル変換回路5の出力アド
レス信号が「H」レベル(1)の場合は、信号φ6,Z
OE′が「H」レベルになってデータ入出力端子T0は
ハイインピーダンス状態になる。
【0061】また、パラレル−シリアル変換回路5の出
力アドレス信号が「L」レベル(0)の場合は、信号φ
6が「L」レベルになり、出力許可信号ZOEがORゲ
ート3′を通過してデータ出力バッファ41に入力さ
れ、セレクタ34からの読出データDOがデータ出力バ
ッファ41を介して外部に出力される。
【0062】したがって、データ入出力端子D0の状態
を検出することにより、不良なメモリセルMCのアドレ
スを示すアドレス信号A0〜Anを読出すことができ
る。
【0063】[実施の形態3]図4は、この発明の実施
の形態3によるDRAMの要部を示す回路ブロック図で
ある。図4を参照して、このDRAMが図9〜図13に
示した従来のDRAM30と異なる点は、ラッチ回路
7、一致検出回路8、NANDゲート9およびANDゲ
ート10が追加され、テスト信号TE3〜TE5が導入
されている点である。このDRAMでは、図9の点線で
囲まれた部分が4組設けられており、4ビットのデータ
を同時に入出力できるものとする。通常の書込動作時は
外部から4ビットの書込データDI0〜DI3が与えら
れ、同時にテストするDRAMの数を設定する場合は書
込データDI0〜DI3の代わりにID番号データID
0〜ID3,ID0′〜ID3′および有効ビットデー
タVB0〜VB3が与えられる。
【0064】ラッチ回路7は、テスト信号TE3が活性
化レベルの「H」レベルになったことに応じて、ID番
号データID0〜ID3をラッチする。このID番号デ
ータID0〜ID3は、このDRAMに予め割当てられ
ているものである。
【0065】また、ラッチ回路7は、テスト信号TE4
が活性化レベルの「H」レベルになったことに応じて、
有効ビットデータVB0〜VB3をラッチする。有効ビ
ットデータVB0〜VB3は、それぞれID番号データ
ID0′〜ID3′が有効な場合は「H」レベル(1)
となり、無効の場合は「L」レベル(0)になる。ラッ
チ回路7にラッチされたID番号データID0〜ID3
および有効ビットデータVB0〜VB3は、一致検出回
路8に与えられる。
【0066】一致検出回路8は、図5に示すように、E
X−ORゲート11a〜11d、NANDゲート12a
〜12d,13、インバータ14およびラッチ回路15
を含む。ラッチ回路7でラッチされたID番号データI
D0〜ID3は、それぞれEX−ORゲート11a〜1
1dの一方入力ノードに入力される。外部から与えられ
るID番号データID0′〜ID3′は、それぞれEX
−ORゲート11a〜11dの他方入力ノードに入力さ
れる。EX−ORゲート11a〜11dの出力信号は、
それぞれNANDゲート12a〜12dの一方入力ノー
ドに入力される。ラッチ回路7にラッチされた有効ビッ
トデータVB0〜VB3は、それぞれNANDゲート1
2a〜12dの他方入力ノードに入力される。
【0067】NANDゲート13は、NANDゲート1
2a〜12dの出力信号を受け、その出力信号はインバ
ータ14を介してラッチ回路15に与えられる。ラッチ
回路15は、テスト信号TE5が活性化レベルの「H」
レベルになったことに応じて、インバータ14の出力信
号をラッチする。ラッチ回路15でラッチされた信号
が、一致検出回路8の出力信号φ8となる。
【0068】NANDゲート9は、一致検出回路8の出
力信号φ8とテスト信号TE5とを受ける。ANDゲー
ト10は、NANDゲート9の出力信号と外部制御信号
/CSとを受け、その出力信号は制御信号発生回路31
に与えられる。
【0069】次に、このDRAMの動作について説明す
る。通常動作時は、テスト信号TE3〜TE5がともに
「L」レベルになり、NANDゲート9の出力信号が
「H」レベルに固定され、外部制御信号/CSはそのま
ま制御信号発生回路31に入力される。したがって、通
常動作時は従来のDRAM30と同様に動作する。
【0070】テスト時は図6に示すように、1枚のバー
インテストボード20上に複数のDRAM21が複数行
(図では14行)、複数列(図では10列)に搭載され
る。図13で説明したように、各行に対応して制御信号
/CS入力用のドライバが設けられ、全DRAM21に
共通にアドレス信号入力用のドライバ、制御信号/RA
S,/CAS,/WE,/OE入力用のドライバおよび
クロック信号CLK入力用のドライバが設けられている
が、図面の簡単化のため図示は省略されている。
【0071】初期状態では、テスト信号TE3〜TE5
は非活性化レベルの「L」レベルにされている。まず第
1行目のDRAM21が活性化され、ID番号データI
D3〜ID0=0000が入力されるとともにテスト信
号TE3が「H」レベルに立上げられ、第1行目のDR
AM21の各々のラッチ回路7にID番号データ000
0がラッチされる。同様にして、第2〜第14行のDR
AM21のラッチ回路7にそれぞれID番号データ00
01〜1110がラッチされる。
【0072】次に、テストボード20上の全DRAM2
1が活性化され、有効ビットデータVB3〜VB0(た
とえば0001)が入力されるとともにテスト信号TE
4が「H」レベルに立上げられ、全DRAM21のラッ
チ回路7に有効ビットデータVB3〜VB0=0001
がラッチされる。
【0073】次に、テストボード20上の全DRAM2
1が活性化され、ID番号データID3′〜ID0′
(たとえば1011)が入力されるとともにテスト信号
TE5が「H」レベルに立上げられ、インバータ14の
出力信号がラッチ回路15にラッチされる。なお、有効
ビットデータVB0〜VB3およびID番号データID
3′〜ID0′は、図7に示すように、クロック信号C
LKに同期して入力され、クロック信号CLKの立上が
りエッジに応答してラッチされる。
【0074】ラッチ回路15の出力信号φ8は、有効ビ
ットデータVB3〜VB0で指定されたビットのID番
号データID0′がID番号データID0と同じ場合は
「H」レベルになり、異なる場合は「L」レベルにな
る。信号φ8が「H」レベルになるとNANDゲート9
の出力信号が「L」レベルになり、DRAM21は外部
制御信号/CSに関係なく活性化される。信号φ8が
「L」レベルになるとNANDゲート9の出力信号が
「H」レベルになり、DRAM21は外部制御信号/C
Sによって活性化/非活性化される。したがって、この
場合は、偶数番の行のDRAM21(斜線が施されたD
RAM21)が活性化され、活性化されたDRAM21
のみにおいてデータの書込/読出が行なわれる。
【0075】また、有効ビットデータVB3〜VB0=
1010、ID番号データID3′〜ID0′=010
0とした場合は、図8に示すように、ID番号データI
D3,ID1がともに「0」の行のDRAM21(斜線
が施された行のDRAM21)が活性化され、活性化さ
れたDRAM21においてのみデータの書込/読出が行
なわれる。
【0076】この実施の形態3では、テストボード20
上に搭載した複数のDRAM21のうちの一部のDRA
M21のみを選択してデータの書込/読出を行なうこと
ができるので、同時にデータの書込/読出を行なうDR
AM21の数が多すぎてテストボード20の温度が許容
値以上に上昇したり、テスト時の消費電流がテスタの電
源電流値以上に大きくなることを防止することができ、
テストを正確に行なうことができる。
【0077】なお、テストボード20上の各DRAM2
1に固有のID番号データを割当てれば(たとえばテス
トボード20上に16個のDRAM21を4行4列に設
け、16個のDRAM21にそれぞれ0000〜111
1を割当てれば)、テストボード20上の1個のDRA
M21のみを活性化させることができる。この場合は、
たとえばテストボード20上の各DRAM21の動作電
流を個別に測定することができる。
【0078】なお、今回開示された実施の形態はすべて
の点で例示であって制限的なものではないと考えられる
べきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特
許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の
意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意
図される。
【0079】
【発明の効果】以上のように、請求項1に係る発明で
は、それぞれが複数のメモリセルを含むN組のメモリア
レイと、各メモリアレイに対応して設けられ、アドレス
信号によって指定されたメモリセルのデータの書込/読
出を行なう書込/読出回路と、ブロック選択信号に従っ
て1つのメモリアレイを選択する選択回路と、出力許可
信号の入力期間は選択回路によって選択されたメモリア
レイから読出されたデータに応じたレベルの信号をデー
タ入出力端子に出力し、それ以外の期間はデータ入出力
端子をハイインピーダンス状態にするデータ出力バッフ
ァと、N組のメモリアレイから読出されたNビットのデ
ータが一致している場合は第1のレベルの信号を出力
し、一致していない場合は第2のレベルの信号を出力す
る判定回路と、判定回路の出力信号を保持する第1の保
持回路と、外部制御信号に従って出力許可信号を出力す
る信号発生回路と、テストモード時において第1の保持
回路によって第1のレベルの信号が保持されている場合
および通常動作時は、信号発生回路から出力された出力
許可信号をデータ出力バッファに入力させ、テストモー
ド時において第1の保持回路によって第2のレベルの信
号が保持されている場合は、信号発生回路から出力され
た出力許可信号のデータ出力バッファへの入力を禁止す
るゲート回路とが設けられる。あるアドレスのN個のメ
モリセルをテストする場合は、それらのメモリセルの各
々に同一データを書込んだ後、それらのメモリセルのう
ちのいずれか1つのメモリセルのデータを読出す。読出
したデータが書込データと同じ論理を有する場合はそれ
らのメモリセルは正常であり、データ入出力端子がハイ
インピーダンス状態になってデータを読出せない場合は
それらのメモリセルのうちの少なくとも1つは不良であ
る。したがって、読出データと判定信号のうちの一方を
選択するためのセレクタおよび書込データを保持するた
めの比較データレジスタが不要になるので、アクセス速
度の高速化を図ることができる。
【0080】請求項2に係る発明では、請求項1に係る
発明の選択回路は、通常動作時およびテストモードにお
ける読出動作時はブロック選択信号に従ってN組のメモ
リアレイのうちのいずれかのメモリアレイを選択し、テ
ストモード時における書込動作時はN組のメモリアレイ
の各々を選択する。また、書込許可信号に応答して、選
択回路によって選択されたメモリアレイに外部データを
伝達させるデータ入力バッファがさらに設けられる。こ
の場合は、テストモード時にN個のメモリセルに同一デ
ータを同時に書込むことができる。
【0081】請求項3に係る発明では、請求項1または
2に係る発明の半導体記憶装置は、さらに、不良なメモ
リセルを指定するアドレス信号を出力する不良アドレス
出力モードを有し、判定回路から第2のレベルの信号が
出力されたことに応じてアドレス信号に含まれる複数の
データ信号を保持する第2の保持回路と、不良アドレス
出力モード時において第2の保持回路に保持された複数
のデータ信号を1つずつ順次読出す読出回路を備える。
ゲート回路は、さらに、読出回路によって読出されたデ
ータ信号が第1の論理を有する場合は信号発生回路から
出力された出力許可信号をデータ出力バッファに入力さ
せ、読出回路によって読出されたデータ信号が第2の論
理を有する場合は信号発生回路から出力された出力許可
信号のデータ出力バッファへの入力を禁止する。この場
合は、不良なメモリセルを指定するアドレス信号をテス
ト中またはテスト後に読出すことができる。
【0082】請求項4に係る発明では、外部から与えら
れた第2の識別コードを保持する第1の保持回路と、テ
ストモード時に、外部から与えられた第2の識別コード
に含まれる複数桁のデータ信号と、第1の保持回路に保
持された第1の識別コードに含まれる複数桁のデータ信
号とが一致しているか否かを判定し、一致している場合
は半導体記憶装置を活性化させる判定回路とが設けられ
る。したがって、1枚のテストボードに多数の半導体記
憶装置を搭載してテストする場合でも、各半導体記憶装
置の第1の保持回路に固有の第1の識別コードを保持さ
せておき、所望の半導体記憶装置の判定回路にその半導
体記憶装置に与えた第1の識別コードに等しい第2の識
別コードを与えることにより、所望の半導体記憶装置の
みを活性化させてテストすることができる。したがっ
て、同時に活性化させる半導体記憶装置の数が多すぎて
テストボードの温度が許容値以上に上昇したり、テスト
時の消費電流がテスタの許容電源電流値を超えることを
防止することができ、テストを正確に行なうことができ
る。
【0083】請求項5に係る発明では、請求項4に係る
発明に、外部から与えられ、第2の識別コードの有効桁
を指定するための複数桁のデータ信号を有する有効桁信
号を保持する第2の保持回路がさらに設けられる。判定
回路は、第2の識別コードに含まれる複数桁のデータ信
号のうちの第2の保持回路に保持された有効桁信号によ
って指定された有効桁のデータ信号と、第1の保持回路
に保持された第1の識別コードに含まれる複数桁のデー
タ信号のうちの有効桁に対応する桁のデータ信号とが一
致しているか否かを判定し、一致している場合は半導体
記憶装置を活性化させる。この場合は、第2の識別コー
ドおよび有効桁信号を選択することにより、複数の半導
体記憶装置のうちの所望の1または2以上の半導体記憶
装置のみを活性化させてテストすることができる。
【0084】請求項6に係る発明では、請求項5に係る
発明に、複数のデータ信号の入出力を行なうための複数
のデータ入出力端子がさらに設けられる。第1の保持回
路は、第1の信号に応答して、外部から複数のデータ入
出力端子を介して与えられた第1の識別コードを保持す
る。第2の保持回路は、第2の信号に応答して、外部か
ら複数のデータ入出力端子を介して与えられた有効桁信
号を保持する。判定回路は、第3の信号に応答して、外
部から複数のデータ入出力端子を介して与えられた第2
の識別コードと、第1の保持回路に保持された第1の識
別コードと、第2の保持回路に保持された有効桁信号と
に基づいて判定する。この場合は、第1の識別コード、
第2の識別コードおよび有効桁信号の各々を複数のデー
タ入出力端子を介して入力するので、それらの信号を入
力するための信号入力端子を別途設ける必要はなく、構
成の簡単化を図ることができる。
【0085】請求項7に係る発明では、1枚のテストボ
ード上に複数の半導体記憶装置を搭載し、各半導体記憶
装置に、外部から与えられた第1の識別コードを保持す
る保持回路と、テストモード時に、外部から与えられた
第2の識別コードに含まれる複数桁のデータ信号と、第
1の保持回路に保持された第1の識別コードに含まれる
複数桁のデータ信号とが一致しているか否かを判定し、
一致している場合は半導体記憶装置を活性化させる判定
回路を設ける。そして、各半導体記憶装置の保持回路に
固有の第1の識別コードを与え、複数の半導体記憶装置
のうちのいずれかの半導体記憶装置を選択し、その半導
体記憶装置の保持回路に保持された第1の識別コードに
等しい第2の識別コードをその半導体記憶装置の判定回
路に与え、その半導体記憶装置をテストする。したがっ
て、複数の半導体記憶装置のうちの所望の半導体記憶装
置のみを活性化させてテストすることができるので、テ
ストボードの過度の温度上昇などを防止することがで
き、テストを正確に行なうことができる。
【0086】請求項8に係る発明では、1枚のテストボ
ード上に複数の半導体記憶装置を搭載し、各半導体記憶
装置に、外部から与えられた第1の識別コードを保持す
る第1の保持回路と、外部から与えられた有効桁信号を
保持する第2の保持回路と、テストモード時に、外部か
ら与えられた第2の識別コードに含まれる複数桁のデー
タ信号のうちの第2の保持回路に保持された有効桁信号
によって指定された有効桁のデータ信号と、第1の保持
回路に保持された第1の識別コードに含まれる複数桁の
データ信号のうちの有効桁に対応する桁のデータ信号と
が一致しているか否かを判定し、一致している場合は半
導体記憶装置を活性化させる判定回路とを設ける。そし
て、各半導体記憶装置の第1の保持回路に固有の第1の
識別コードを与え、所望の1または2以上の半導体記憶
装置を活性化させるため必要な有効桁信号および第2の
識別コードを選択し、選択した有効桁信号を各半導体記
憶装置の第2の保持回路に与えるとともに選択した第2
の識別コードを各半導体記憶装置の判定回路に与え、そ
れらの半導体記憶装置をテストする。したがって、複数
の半導体記憶装置のうちの所望の1または2以上の半導
体記憶装置のみを活性化させることができるので、テス
トボードの過度の温度上昇などを防止することができ、
テストを正確に行なうことができる。また、テスタの1
つの出力電源を複数の半導体記憶装置に供給するような
テストボードを使用する場合でも、所望の半導体記憶装
置のみを活性化させることにより、その半導体記憶装置
の動作電流を測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1によるDRAMの構
成を示す回路ブロック図である。
【図2】 図1に示したDRAMの要部を示す回路ブロ
ック図である。
【図3】 この発明の実施の形態2によるDRAMの要
部を示す回路ブロック図である。
【図4】 この発明の実施の形態3によるDRAMの要
部を示す回路ブロック図である。
【図5】 図4に示した一致検出回路の構成を示す回路
ブロック図である。
【図6】 図4に示したDRAMのテスト方法を説明す
るための図である。
【図7】 図4で示したDRAMのテスト方法を説明す
るためのタイムチャートである。
【図8】 図4で示したDRAMのテスト方法を説明す
るための他の図である。
【図9】 従来のDRAMの構成を示す回路ブロック図
である。
【図10】 図9に示したメモリ部に含まれるメモリブ
ロックの構成を示す回路ブロック図である。
【図11】 図9に示したDRAMの要部を示す回路ブ
ロック図である。
【図12】 図9に示したセレクタ40の構成を示す回
路図である。
【図13】 図9に示したDRAMのテスト方法を説明
するためのブロック図である。
【符号の説明】
1,21,30 DRAM、2,6,10,51 AN
Dゲート、3,3′,52 ORゲート、4,7,15
ラッチ回路、5 パラレル−シリアル変換回路、8
一致検出回路、9,12a〜12d,13 NANDゲ
ート、11a〜11d,49,49′ EX−ORゲー
ト、14 インバータ、20,55 バーインテストボ
ード、31 アドレスバッファ回路、32 制御信号発
生回路、33 メモリ部、33a〜33d メモリブロ
ック、34,40 セレクタ、35 データ入力バッフ
ァ、36 比較データレジスタ、37,37′ 判定回
路、38,39a,39b,50 ゲート回路、39
判定結果レジスタ、41データ出力バッファ、T0 デ
ータ入出力端子、42 メモリアレイ、MC メモリセ
ル、43 センスアンプ+入出力制御回路、44 列選
択ゲート、45センスアンプ、46 イコライザ、47
行デコーダ、48 列デコーダ、61a〜61c,6
2a〜62d,63a〜63d ドライバ。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 選択されたN個(ただし、Nは2以上の
    整数である)のメモリセルに同一データを同時に書込
    み、前記N個のメモリセルから同時に読出したNビット
    のデータの論理が互いに一致した場合は前記N個のメモ
    リセルは正常であると判定するテストモードを有する半
    導体記憶装置であって、 それぞれが複数のメモリセルを含むN組のメモリアレ
    イ、 各メモリアレイに対応して設けられ、アドレス信号に従
    って対応のメモリアレイに属する複数のメモリセルのう
    ちのいずれかのメモリセルを選択し、そのメモリセルの
    データの書込/読出を行なう書込/読出回路、 ブロック選択信号に従って前記N組のメモリアレイのう
    ちのいずれかのメモリアレイを選択する選択回路、 出力許可信号が入力されている期間は、前記選択回路に
    よって選択されたメモリアレイから前記書込/読出回路
    によって読出されたデータの論理に応じたレベルの信号
    をデータ入出力端子に出力し、出力許可信号が入力され
    ていない期間は、前記データ入出力端子をハイインピー
    ダンス状態にするデータ出力バッファ、 前記N組のメモリアレイからN組の前記書込/読出回路
    によって読出されたNビットのデータの論理が互いに一
    致しているか否かを判定し、一致している場合は第1の
    レベルの信号を出力し、一致していない場合は第2のレ
    ベルの信号を出力する判定回路、 前記判定回路の出力信号を保持する第1の保持回路、 外部制御信号に従って出力許可信号を出力する信号発生
    回路、および前記信号発生回路と前記データ出力バッフ
    ァの間に設けられ、前記テストモード時において前記第
    1の保持回路によって第1のレベルの信号が保持されて
    いる場合および通常動作時は、前記信号発生回路から出
    力された出力許可信号を前記データ出力バッファに入力
    させ、前記テストモード時において前記第1の保持回路
    によって第2のレベルの信号が保持されている場合は、
    前記信号発生回路から出力された出力許可信号の前記デ
    ータ出力バッファへの入力を禁止するゲート回路を備え
    る、半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記選択回路は、前記通常動作時および
    前記テストモードにおける読出動作時は前記ブロック選
    択信号に従って前記N組のメモリアレイのうちのいずれ
    かのメモリアレイを選択し、前記テストモードにおける
    書込動作時は前記N組のメモリアレイの各々を選択し、 さらに、書込許可信号に応答して、前記選択回路によっ
    て選択されたメモリアレイに外部データを伝達させるデ
    ータ入力バッファを備える、請求項1に記載の半導体記
    憶装置。
  3. 【請求項3】 前記半導体記憶装置は、さらに、不良な
    メモリセルを指定するアドレス信号を出力する不良アド
    レス出力モードを有し、 さらに、前記判定回路から第2のレベルの信号が出力さ
    れたことに応じて、前記アドレス信号に含まれる複数の
    データ信号を保持する第2の保持回路、および前記不良
    アドレス出力モード時において前記第2の保持回路に保
    持された複数のデータ信号を1つずつ順次読出す読出回
    路を備え、 前記ゲート回路は、さらに、前記読出回路によって読出
    されたデータ信号が第1の論理を有する場合は、前記信
    号発生回路から出力された出力許可信号を前記データ出
    力バッファに入力させ、前記読出回路によって読出され
    たデータ信号が第2の論理を有する場合は、前記信号発
    生回路から出力された出力許可信号の前記データ出力バ
    ッファへの入力を禁止する、請求項1または請求項2に
    記載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 テストモードを有する半導体記憶装置で
    あって、 外部から与えられた前記半導体記憶装置を識別するため
    の複数桁のデータ信号を有する第1の識別コードを保持
    する第1の保持回路、および前記テストモード時に、外
    部から与えられた第2の識別コードに含まれる複数桁の
    データ信号と、前記第1の保持回路に保持された第1の
    識別コードに含まれる複数桁のデータ信号とが一致して
    いるか否かを判定し、一致している場合は前記半導体記
    憶装置を活性化させる判定回路を備える、半導体記憶装
    置。
  5. 【請求項5】 さらに、外部から与えられ、前記第2の
    識別コードの有効桁を指定するための複数桁のデータ信
    号を有する有効桁信号を保持する第2の保持回路を備
    え、 前記判定回路は、前記第2の識別コードに含まれる複数
    桁のデータ信号のうちの前記第2の保持回路に保持され
    た有効桁信号によって指定された有効桁のデータ信号
    と、前記第1の保持回路に保持された第1の識別コード
    に含まれる複数桁のデータ信号のうちの有効桁に対応す
    る桁のデータ信号とが一致しているか否かを判定し、一
    致している場合は前記半導体記憶装置を活性化させる、
    請求項4に記載の半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 さらに、複数のデータ信号の入出力を行
    なうための複数のデータ入出力端子を備え、 前記第1の保持回路は、第1の信号に応答して、外部か
    ら前記複数のデータ入出力端子を介して与えられた第1
    の識別コードを保持し、 前記第2の保持回路は、第2の信号に応答して、外部か
    ら前記複数のデータ入出力端子を介して与えられた有効
    桁信号を保持し、 前記判定回路は、第3の信号に応答して、外部から前記
    複数のデータ入出力端子を介して与えられた第2の識別
    コードと、前記第1の保持回路に保持された第1の識別
    コードと、前記第2の保持回路に保持された有効桁信号
    とに基づいて判定する、請求項5に記載の半導体記憶装
    置。
  7. 【請求項7】 1枚のテストボード上に複数の半導体記
    憶装置を搭載して各半導体記憶装置をテストする半導体
    テスト方法であって、 各半導体記憶装置に、 外部から与えられた前記半導体記憶装置を識別するため
    の複数桁のデータ信号を有する第1の識別コードを保持
    する保持回路、およびテストモード時に、外部から入力
    された第2の識別コードに含まれる複数桁のデータ信号
    と、前記第1の保持回路に保持された第1の識別コード
    に含まれる複数桁のデータ信号とが一致しているか否か
    を判定し、一致している場合は前記半導体記憶装置を活
    性化させる判定回路を設け、 各半導体記憶装置の保持回路に固有の第1の識別コード
    を与え、 前記複数の半導体記憶装置のうちのいずれかの半導体記
    憶装置を選択し、その半導体記憶装置の保持回路に保持
    された第1の識別コードに等しい第2の識別コードをそ
    の半導体記憶装置の判定回路に与え、その半導体記憶装
    置をテストする、半導体テスト方法。
  8. 【請求項8】 1枚のテストボード上に複数の半導体記
    憶装置を搭載して各半導体記憶装置をテストする半導体
    テスト方法であって、 各半導体記憶装置に、 外部から与えられた前記半導体記憶装置を識別するため
    の複数桁のデータ信号を有する第1の識別コードを保持
    する第1の保持回路、 外部から与えられ、第2の識別コードの有効桁を指定す
    るための複数桁のデータ信号を有する有効桁信号を保持
    する第2の保持回路、およびテストモード時に、外部か
    ら与えられた第2の識別コードに含まれる複数桁のデー
    タ信号のうちの前記第2の保持回路に保持された有効桁
    信号によって指定された有効桁のデータ信号と、前記第
    1の保持回路に保持された第1の識別コードに含まれる
    複数桁のデータ信号のうちの有効桁に対応する桁のデー
    タ信号とが一致しているか否かを判定し、一致している
    場合は前記半導体記憶装置を活性化させる判定回路を設
    け、 各半導体記憶装置の第1の保持回路に固有の第1の識別
    コードを与え、 前記複数の半導体記憶装置のうちの1または2以上の半
    導体記憶装置を選択し、それらの半導体記憶装置を活性
    化させるために必要な有効桁信号および第2の識別コー
    ドを選択し、選択した有効桁信号を各半導体記憶装置の
    第2の保持回路に与えるとともに選択した第2の識別コ
    ードを各半導体記憶装置の判定回路に与え、それらの半
    導体記憶装置をテストする、半導体テスト方法。
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US7339841B2 (en) * 2005-09-16 2008-03-04 Infineon Technologies Ag Test mode method and apparatus for internal memory timing signals
KR20090012499A (ko) 2007-07-30 2009-02-04 삼성전자주식회사 실장테스트회로를 구비하는 반도체 메모리 장치 및실장테스트방법
KR20100042072A (ko) * 2008-10-15 2010-04-23 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치
JP2010198715A (ja) * 2009-02-27 2010-09-09 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置
KR20120119532A (ko) * 2011-04-21 2012-10-31 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치 및 그의 테스트 방법
KR20160034698A (ko) * 2014-09-22 2016-03-30 에스케이하이닉스 주식회사 반도체장치 및 이를 포함하는 반도체시스템

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62170094A (ja) * 1986-01-21 1987-07-27 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶回路
JPH04119600A (ja) * 1990-09-10 1992-04-21 Mitsubishi Electric Corp テストモード機能内蔵ダイナミックランダムアクセスメモリ装置
JPH06295599A (ja) * 1993-04-09 1994-10-21 Nec Corp 半導体記憶装置

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