JP2001200236A - 砒素汚染物の砒素不溶化処理剤及びその製造方法 - Google Patents
砒素汚染物の砒素不溶化処理剤及びその製造方法Info
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Abstract
な反応により、不溶化された砒素がpHの変化によって
溶出することがなく、しかも低コストで砒素の不溶化を
実現可能とする。 【解決手段】 セリウム、ランタン等の希土類金属の酸
化物を含む使用済みの廃研磨剤を、酸で溶解し、これを
アルカリ薬剤で水和酸化物とすることによって、セリウ
ム、ランタン等の希土類金属の水和酸化物を主剤とする
砒素不溶化処理剤を得る。この処理剤は、土壌、石膏ボ
ード、あるいは各種廃棄物等に含まれる可溶性の砒素
を、広いpH領域において効率的に不溶化することがで
き、したがって、いったん不溶化した砒素が、その後の
pHの低下等によって可溶化するのを有効に防止するこ
とができる。
Description
ボード及び各種廃棄物等の固形物中に含まれる有害な砒
素を不溶化することによって、生活環境を保護するため
の砒素不溶化処理技術に関するものである。
処理する技術としては、従来から、キレート剤による土
壌処理法、カルシウム化合物や鉄化合物等による土壌処
理法、電気泳動による土壌修復技術、ガラス固化法、及
び洗浄法等が知られている。
来技術においては、それぞれ、次のような問題が指摘さ
れる。すなわち、例えばキレート剤による土壌処理法
は、コストが高く、しかも土壌機能を低下させる。
理後の土壌が酸性雨等の影響によって、土壌のpHが低
下すると、カルシウム化合物によっていったん固定され
た砒素が再び溶出されてしまう可能性が高い。また、鉄
化合物(例えば硫酸第二鉄)の混合による土壌処理法に
おいても、土壌のpHの低下や、土壌酸化還元電位の低
下に伴い、いったん固定された砒素が再び溶出されてし
まう可能性が高い。
設した電極間での電気泳動を行うものであるため、大き
な電力を必要とし、しかも長大な時間がかかり、コスト
が著しく高くなる。
高電圧をかけて通電し、溶融固化することによって、砒
素を固化物に封じ込めるものであるが、大きな電力を必
要とするためコストが高く、しかも前記固化物を埋め立
てるといった処理が必要になる。
あるが、大量の水を必要とし、しかも水洗の結果、砒素
を含む大量の廃水処理が必要になるため、処理コストが
高くなる。
れたもので、その技術的課題とするところは、希土類金
属の水和酸化物と砒素との不可逆的な反応により、不溶
化された砒素がpHの変化によって溶出することがな
く、しかも低コストで砒素の不溶化を実現可能とするこ
とにある。
本発明によって有効に解決することができる。すなわち
本発明に係る砒素汚染物の砒素不溶化処理剤は、セリウ
ム、ランタン等の希土類金属の水和酸化物を主剤とする
ものである。
酸化物を主剤とする砒素不溶化処理剤は、土壌、石膏ボ
ード、あるいは各種廃棄物等に含まれる可溶性の砒素
を、広いpH領域において効率的に不溶化することがで
き、したがって、いったん不溶化した砒素が、その後の
pHの低下等によって可溶化するのを有効に防止するこ
とができる。
タン等の希土類金属の酸化物を含む材料を、酸で溶解
し、これをアルカリ薬剤で水和酸化物とすることによっ
て製造することができる。また、この製造方法におい
て、セリウム、ランタン等の希土類金属の酸化物を含む
材料としては、光学レンズの研磨に使用された使用済み
の廃研磨剤を有効に利用することができる。
形態として、セリウム、ランタン等の酸化物を含有する
使用済みの廃研磨剤(例えばレンズ研磨用)から、砒素
不溶化処理剤を製造する方法を示すものである。
セリウム及びランタンの酸化物CeO2,La2O3を
含有する廃研磨剤0.1gあたり5モルの塩酸HClを
5ml、純水を25mlの割合で添加し、130℃前後
で1.5時間加熱する。この処理においては、廃研磨剤
中に含有されるセリウム及びランタンの酸化物を、塩酸
等の酸による次式(1)(2)のような反応によって、
セリウムイオン及びランタンイオンにするものである。 CeO2+4HCl→Ce44++4Cl−+2H2O ・・・・・・(1) La2O3+6HCl→2La3++6Cl−+3H2O ・・・・・・(2 )
濁液に、水酸化ナトリウムNaOHを添加することによ
って、pH6〜7に中和させる。この処理においては、
前記懸濁液におけるセリウムイオン及びランタンイオン
を、前記水酸化ナトリウム等のアルカリ薬剤による次式
(3)(4)のような反応によって、セリウム及びラン
タンの水和酸化物Ce(OH)4・nH2O、La(H)3
・nH2Oとするものである。そして、これにより得ら
れた液を遠心分離装置にかけ、上澄み液を捨てて沈殿物
を取り出し、この沈殿物を砒素不溶化処理剤の主剤とす
る。 CeCl4+4NaOH+nH2O→Ce(OH)4・nH2O+4NaCl ・・・・・・・・・・・(3) LaCl3+3NaOH+nH2O→La(OH)3・nH2O+3NaCl ・・・・・・・・・・・(4)
2Oや、ランタンの水和酸化物La(OH)3・nH2O
による砒素Asの不溶化原理は、発明者の研究において
は完全には解明されていないが、イオン交換吸着と不可
逆的な特異吸着が主に起こっているものと考えられる。
次式(5)はイオン交換吸着を示す例である。なお、式
中のLnは、セリウムCeあるいはランタンLaを表
す。また、砒酸イオン種はpHによって変化するが、式
では砒酸二水素イオンH2AsO4−を例にした。 Ln・OH2 ++H2AsO4 −=Ln・OH2 +・・・ H2AsO4 − ・・・・・ (5)
溶化処理剤は、それ自体に有害物質が含まれていると、
使用することができない場合も考えられるので、好まし
くは、水あるいは酸性溶液による砒素不溶化処理剤から
の有害物質の溶出試験を行い、その溶出の有無及び溶出
量の確認を行う。
ば0.1gの廃研磨剤から得られた砒素不溶化処理剤
に、50mlの蒸留水を加えて6時間振とう撹拌し、液
中の主な溶出物質の濃度を求める。また、酸性溶液によ
る有害物質の溶出試験は、例えば0.1gの廃研磨剤か
ら得られた砒素不溶化処理剤に、50mlの蒸留水を加
え、更に硫酸の添加によってpH4に固定しながら6時
間振とう撹拌し、液中の主な溶出物質の濃度を求める。
溶化処理剤を用いての、砒素汚染土壌等に対する砒素不
溶化処理においては、目標とする砒素溶出濃度を満足す
るために、必要とする処理剤の添加量を予備試験によっ
て算出する。この試験によって求められた割合で処理剤
の添加を行うことによって、土壌等における可溶性砒素
を目標濃度まで不溶化することができる。
に、例えばまず5gの土壌試料及び石膏ボード等の廃棄
物試料を用意し、これに、0.1gの廃研磨剤から得ら
れた砒素不溶化処理剤と、2mlの蒸留水を添加し、振
とう撹拌により混合して15時間以上放置し、処理済試
料とする。
の確認方法としては、図3に示すように、まず5gの上
記処理済試料に、50mlの蒸留水を添加し、これを6
時間振とう撹拌する。この振とう撹拌溶出過程では、処
理済試料中のアルカリ成分の溶出によるpHの変化を、
硫酸の添加により抑え、pH4に固定する。そして、こ
の振とう撹拌により得られた溶出液を、土壌試料の場合
は環境庁告示46号に従って0.45μmメンブランフ
ィルタで濾過し、廃棄物試料の場合は環境庁告示13号
に従って1μmガラスフィルタで濾過し、その濾液中に
含まれる砒素(As)の濃度を通常の方法(例えば水素
化物発生−ICP発光分析法)によって測定する。
いて説明するように、砒素に汚染された土壌や石膏ボー
ドあるいは各種廃棄物等を、比較的短時間で効率的に砒
素不溶化処理することができ、しかも酸性雨等による酸
性条件下においても、砒素の再溶出を有効に防止するこ
とができる。また、レンズの製造工場では、ガラス製の
光学レンズを研磨するのにセリウム、ランタン等の酸化
物を含有するガラス研磨剤を使用しており、このため使
用済みの廃研磨剤が大量に発生するが、上記実施形態に
よれば、このような廃研磨剤を有効に利用して砒素不溶
化処理剤を製造することができるため、低コストである
ばかりでなく、廃研磨剤の処分も同時に行なうことがで
きる。
用した廃研磨剤を用いて、本発明の方法により製造した
砒素不溶化処理剤自体からの有害物質の溶出の有無を確
認する試験を行った。この試験は、0.1gの廃研磨剤
から得られた砒素不溶化処理剤に、50mlの蒸留水を
加えて6時間振とう撹拌し、液中の主な溶出物質の濃度
を求めた。また、酸性の条件下での有害物質の溶出の有
無を確認するため、0.1gの廃研磨剤から得られた砒
素不溶化処理剤に、50mlの蒸留水を加え、更に硫酸
の添加によってpH4に固定しながら6時間振とう撹拌
し、液中の主な溶出物質の濃度を求めた。その結果は、
図4に示すとおりであった。
設定されたカドミウム(Cd)、鉛(Pb)、フッ素
(F)及びホウ素(B)が有害物質であるが、上記試験
の結果、これら有害物質の溶出濃度は、蒸留水による溶
出及びpH4固定条件による溶出のいずれにおいても、
環境基準値以下であり、砒素不溶化処理剤として有効に
使用可能であることが確認された。
砒素を吸着可能なpHの範囲を求めるための試験を行っ
た結果を示すものである。この試験においては、蒸留水
に三価の砒素As(III) を2000μg/L、五価の砒
素As(V)を2400μg/L添加した溶液100ml
に、0.1gの廃研磨剤から得られた砒素不溶化処理剤
を添加して、6時間振とう撹拌し、液中の初期砒素濃度
を測定したものである。
添加した砒素(As)は2000μg/L以上の高濃度
であるにも拘らず、三価砒素、五価砒素共、pH5〜p
H10の範囲においてほぼ99%以上の不溶化を実現す
ることができた。また、pH4の条件下では、三価砒素
に対する除去率の僅かな低下がみられるが、それでも9
6%以上の不溶化率が得られている。
土壌及び石膏ボードに対する砒素(As)の不溶化効果
を確認するための試験を行った結果を示すものである。
この試験においては、土壌1〜3及び石膏ボード各5g
に、0.1gの廃研磨剤から得られた砒素不溶化処理剤
を添加した。その結果、いずれの試料においても、処理
剤未添加時に比較して、溶出砒素(As)の濃度がほぼ
90%以上減少することが確認された。また、この試験
における各試料中、土壌2及び土壌3は過去の汚染事例
によく見られる砒素汚染レベルのものであるが、この土
壌2及び土壌3の溶出砒素(As)の濃度は、本発明の
砒素不溶化処理剤の添加によって、いずれも0.01m
g/Lの環境基準値以下になった。
不溶化処理をした土壌等の安定性を確認するための試験
を行った結果を示すものである。すなわち、この試験に
おいては、土壌1〜3及び石膏ボード各5gに、0.1
gの廃研磨剤から得られた砒素不溶化処理剤をpH4の
酸性条件で添加した。その結果、いずれの試料において
も、処理剤未添加時に比較して、溶出砒素(As)の濃
度がほぼ90%以上減少することが確認された。また、
この酸性条件下でも、過去の汚染事例によく見られる砒
素汚染レベルの土壌2及び土壌3からの溶出砒素濃度
は、本発明の砒素不溶化処理剤の添加によって、いずれ
も0.01mg/Lの環境基準値以下になった。
れた5gの土壌1を用い、廃研磨剤から得られた本発明
による砒素不溶化処理剤の添加量と砒素不溶化効果との
関係を確認するため、環境庁告示46号に従った溶出試
験及びpH4の酸性条件下での溶出試験を行った結果を
示すものである。この結果、いずれの試験においても、
処理剤添加量の増加と共に、土壌1からの砒素(As)
の溶出濃度が減少することが確認された。したがって、
実際の砒素汚染土壌等に対する不溶化を行うには、汚染
のレベル、土壌の種類等を考慮して、環境基準をクリア
するのに必要な添加量の割合を予め試験で求め、現場で
適用すれば良い。
見られる砒素汚染レベルの5gの土壌2を用い、0.1
gの廃研磨剤から得られた本発明による砒素不溶化処理
剤を添加した後の時間による砒素不溶化効果の推移を示
したものである。この結果から明らかなように、添加後
15時間の短時間でも最大レベルの不溶化効果を発揮す
ることが確認された。したがって現場への応用に有効で
あることがわかる。
定されるものではなく、例えば、セリウム及びランタン
の酸化物のうち、いずれか一方のみを含有する材料や、
あるいは他の希土類金属の酸化物を含む材料からも、同
様に砒素不溶化処理剤を得ることができる。
等を有効に利用して得られた砒素不溶化処理剤を使用す
るため、砒素に汚染された土壌や石膏ボードあるいは各
種廃棄物等を、効率的に、かつ低コストで砒素不溶化処
理することができ、酸性雨等による酸性条件下において
も、砒素の再溶出を有効に防止することができ、信頼性
の高い砒素不溶化技術を提供することができ、しかも使
用済み研磨剤等の処分も同時に行なうことができるとい
った、優れた効果が実現される。
から、砒素不溶化処理剤を製造する方法を示す説明図で
ある。
ための予備試験の方法を示す説明図である。
を示す説明図である。
自体からの有害物質の溶出の有無を確認する試験を行な
った結果を示す説明図である。
能なpHの範囲を求めるための試験を行った結果を示す
説明図である。
ボードに対する砒素の不溶化効果を確認するための試験
を行った結果を示す説明図である。
化処理剤により砒素不溶化処理をした土壌等の安定性を
確認するための試験を行った結果を示す
化効果との関係を確認するための溶出試験を行った結果
を示す説明図である。
時間による不溶化効果の推移を示す説明図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 セリウム、ランタン等の希土類金属の水
和酸化物を主剤とすることを特徴とする砒素汚染物の砒
素不溶化処理剤。 - 【請求項2】 セリウム、ランタン等の希土類金属の酸
化物を含む材料を、酸によって溶解し、これをアルカリ
薬剤によって水和酸化物とすることを特徴とする請求項
1に記載の砒素不溶化処理剤の製造方法。 - 【請求項3】 セリウム、ランタン等の希土類金属の酸
化物を含む材料が、廃研磨剤であることを特徴とする請
求項2に記載の砒素不溶化処理剤の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000012500A JP3536003B2 (ja) | 2000-01-21 | 2000-01-21 | 砒素汚染固形物の砒素不溶化処理剤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000012500A JP3536003B2 (ja) | 2000-01-21 | 2000-01-21 | 砒素汚染固形物の砒素不溶化処理剤の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001200236A true JP2001200236A (ja) | 2001-07-24 |
JP3536003B2 JP3536003B2 (ja) | 2004-06-07 |
Family
ID=18540207
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3536003B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US9975787B2 (en) | 2014-03-07 | 2018-05-22 | Secure Natural Resources Llc | Removal of arsenic from aqueous streams with cerium (IV) oxide compositions |
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US9975787B2 (en) | 2014-03-07 | 2018-05-22 | Secure Natural Resources Llc | Removal of arsenic from aqueous streams with cerium (IV) oxide compositions |
US10577259B2 (en) | 2014-03-07 | 2020-03-03 | Secure Natural Resources Llc | Removal of arsenic from aqueous streams with cerium (IV) oxide compositions |
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---|---|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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