JP2001187441A - Gravure printing plate making method - Google Patents
Gravure printing plate making methodInfo
- Publication number
- JP2001187441A JP2001187441A JP2000000324A JP2000000324A JP2001187441A JP 2001187441 A JP2001187441 A JP 2001187441A JP 2000000324 A JP2000000324 A JP 2000000324A JP 2000000324 A JP2000000324 A JP 2000000324A JP 2001187441 A JP2001187441 A JP 2001187441A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- polishing
- plate making
- formation
- cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本願発明は、ロールデータの
抽出と不適正ロールの除外が行えて、落版研磨から鏡面
研磨まで全自動で精密な研磨が行えるとともに、食刻法
によりセルを形成するときの優れた部分と彫刻法により
セルを形成するときの優れた部分をミックスした高精細
な版が得られ、又、ロール製作後初めて使用するロール
であって研磨が必要でなく直ぐにセルの形成工程から入
れる被製版ロールと、脱クロム処理し落版研磨して鏡面
研磨までの処理工程が必要であるリサイクルロールのい
ずれにも全自動製版が適用できる，グラビア製版方法に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is capable of extracting roll data and eliminating improper rolls, performing fully automatic and precise polishing from plate drop polishing to mirror polishing, and forming cells by an etching method. A high-definition plate can be obtained by mixing the excellent part when forming the cell with the excellent part when engraving, and the roll is used for the first time after the roll is manufactured, and the cell is formed immediately without the need for polishing. The present invention relates to a gravure plate making method in which fully automatic plate making can be applied to both a plate making roll to be introduced from a process and a recycle roll requiring a process of dechroming, plate drop polishing, and mirror polishing.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、グラビア製版装置は、セルの形成
を食刻により行う装置メーカー（本願出願人）と彫刻に
より行う装置メーカー（他企業）とで全く別々のコンセ
プトで開発を行ってきており、ディテクトスタンダード
が存在しない。このため、製版を行っている印刷会社及
び製版会社の殆どが、複数の企業の種々の装置をバラバ
ラに備えて、多くの工程がライン化されていない。理由
は、電子彫刻機のメーカーは、メッキ装置や研磨装置の
メーカーではないし、反対に、メッキ装置や研磨装置の
メーカーは電子彫刻機のメーカーでなかったからであ
る。製版工程には、脱クロム処理を行ってから研磨を行
い、セルを形成してからメッキを行って再び研磨を行
い、次いでクロムメッキを行うという複雑な工程が入る
訳であるが、本願出願人のトータルライン装置を除く
と、トータルライン装置を提供している他のメーカーが
存在しなかった。2. Description of the Related Art Conventionally, a gravure plate making apparatus has been developed with completely different concepts by an apparatus manufacturer (the applicant of the present application) that forms cells by etching and an apparatus manufacturer (another company) that performs engraving. , There is no detect standard. For this reason, most of the printing companies and plate making companies that perform plate making have various devices of a plurality of companies, and many processes are not lined up. The reason is that the manufacturer of the electronic engraving machine is not a manufacturer of the plating apparatus and the polishing apparatus, and conversely, the manufacturer of the plating apparatus and the polishing apparatus is not the manufacturer of the electronic engraving machine. The plate making process involves a complicated process of performing chromium removal treatment, polishing, forming cells, plating, polishing again, and then performing chromium plating. Except for the total line equipment, no other manufacturer provided the total line equipment.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】製版を行っている印刷
会社及び製版会社の多くは、夕方に２０本ないし４０本
の被製版ロールを次々に計測して製版の方法とコンテン
ツをコントローラにデータ入力し製版室内にストックし
ておいて、夜間に無人で全自動製版を行うことができる
トータルライン装置の提供を望んでいる。ここでの問題
点は以下の通りである。 （１）感光膜コートしレーザ露光し現像してレジスト画
像を形成し食刻してセルを形成する製版方法と、セルの
形成を電子彫刻機による彫刻により行う製版方法は一長
一短があるので、いずれでも自由に選択できるトータル
ライン装置の提供を望んでいる。特に、既に設備してあ
る電子彫刻機やメッキ装置を加えたトータルライン装置
の提供を望んでいる。感光膜コートしレーザ露光し現像
してレジスト画像を形成し食刻してセルを形成する製版
方法は、スクリン線の交点を切ることができるフリーフ
ローセルが実現できること、及び文字輪郭部をインキが
流れない連続する溝に形成できることから、ベタ画像と
文字だけの版については、セルの形成を彫刻により行う
製版方法よりもセルの形成を食刻により行う製版方法の
方が優れている。又、ハイライト部分のグラデージョン
の表現は、セルの形成を食刻により行う場合にはセルの
面積でグラデージョンを表現し、又、セルの形成を彫刻
により行う場合には菱形錐のセルでグラデージョンを表
現する相違があり、ハイライト部分のグラデージョンの
表現の精密度は、油性インキを使用する場合にはセルの
形成を彫刻により行う方が優れている。上記のようなト
ータルライン装置が提供されると、版のコンテンツによ
って、セルの形成を食刻により行う場合と、セルの形成
を彫刻により行う場合とに分けて対応することができ
る。 （２）ロール製作後初めて使用するロールであって鏡面
研磨が完了していて研磨が全く必要でなく直ぐにセルの
形成工程から入れる被製版ロールと、リサイクルロール
であり脱クロム処理から処理工程を開始し落版研磨して
鏡面研磨までの処理工程が必要である被製版ロールのい
ずれにも全自動製版が適用できるようにして欲しいとの
要望がある。そして、その場合にも、セルの形成を食刻
と彫刻のいずれにも適用できるようにして欲しいとの要
望がある。 （３）研磨工程が大幅に短縮できてしかも今までよりも
円筒精度が高く、バフ研磨に依らない鏡面研磨を実現し
て欲しいとの要望がある。従来の脱クロム処理の後の研
磨は、例えば、#320の研磨砥石による補正研磨−#320の
研磨砥石による落版−#500の研磨砥石による円筒研磨−
#800の研磨砥石による円筒研磨が行われていた。又は、
従来の銅メッキの後の研磨は、例えば、#800,#1000,#12
00,#1500,#1800,#2000,#2500,#3000 の各研磨砥石によ
る円筒研磨が行われ、最後にバフによる鏡面研磨が行わ
れていた。 （４）近年の銅メッキ処理においては、光沢剤や硬質化
剤に含まれる硫黄系化合物がニッケルメッキと銅メッキ
の境界膜を形成して銅メッキの付着強度が弱小化してい
るので、ニッケルメッキの上に付ける銅メッキの付着強
度を強力に確保しなければならない問題点がある。従来
の被製版ロールの製作は、鉄製のロール母材に例えば、
#320の研磨砥石で円筒研磨しさらに脱脂処理を行なって
から厚さ２〜３μｍとなるようにニッケルメッキを付け
るか、又は、アルミニウム製のロール母材に例えば、#3
20の研磨砥石で円筒研磨してから厚さ２〜３μｍとなる
ようにニッケルメッキを付けていた。続いて、例えば厚
さ１００μｍとなるように銅メッキを付けていた。従来
の銅メッキ方法は、ニッケルメッキを付けた被製版ロー
ルを回転可能に両端チャックしてメッキ浴槽に位置させ
た後、銅メッキ液をメッキ浴槽に充満していき約１分か
かって被製版ロールを浸漬し、そして回転を与えてから
約１５Ｖの電圧がかかるようにメッキ電流を流して銅メ
ッキしていた。本願発明者は、時間短縮のために、対向
する二つの#320の研磨砥石で被製版ロールを挟んで研磨
圧力を従来よりも大きく加えて研磨する方法で、落版研
磨を開始したところ、銅メッキがあたかもバラードメッ
キであるかのようにニッケルメッキ面より剥がれ落ちて
しまった。原因を究明したところ、ニッケルメッキと銅
メッキとの間に剥離性境界膜が形成していることが分か
った。詳述すると、近年、加工性を向上するために、銅
メッキ液の中に光沢剤や硬質化剤を入れてメッキするよ
うになり、上記のように、被製版ロールを銅メッキ液を
浸漬し約１分が経過してから回転を与えてメッキ電流を
流すと、ニッケルメッキ面に対して銅メッキが行なわれ
る前に、ニッケルメッキ面に対して光沢剤や硬質化剤に
含まれる硫黄系化合物（例えば、ビス．エス．プロピ
ル．サルフォネイト．ナトリウム〔Bis.S.Propyl.Sulfo
nate.Na 〕や二メルカプト．一メチル．イミダゾール
〔２Mercapto１Methyl Imidazole〕）が剥離性境界膜を
形成することになることが判明した。Many printing companies and plate making companies that perform plate making often input 20 to 40 plate making rolls one after another in the evening and input the plate making method and contents to a controller. It is desired to provide a total line device that can be fully automated in the nighttime and can be fully automated in the evening. The problems here are as follows. (1) A plate making method of forming a cell by forming a resist image by forming a resist image by coating with a photosensitive film, laser exposure and developing to form a resist image, and a plate making method of forming a cell by engraving with an electronic engraving machine have advantages and disadvantages. However, we want to provide a total line device that can be freely selected. In particular, it is desired to provide a total line device including an already-equipped electronic engraving machine and a plating device. The plate making method of forming a cell by forming a resist image by forming a resist image by coating with a photosensitive film, laser exposure and development, can realize a free flow cell that can cut the intersection of the screen lines, and ink flows through the character outline. Since a plate having only solid images and characters can be formed in a continuous groove, a plate making method in which cells are formed by etching is superior to a plate making method in which cells are formed by engraving. The gradation of the highlight portion is expressed by the area of the cell when the cell is formed by etching, and is expressed by a diamond-shaped cone when the cell is formed by engraving. There is a difference in expressing the gradation, and the precision of expressing the gradation in the highlight portion is more excellent when engraving the cells when using oil-based ink. When the total line device as described above is provided, it is possible to separately cope with the case where the cell is formed by etching and the case where the cell is formed by engraving, depending on the contents of the plate. (2) A roll to be used for the first time after the roll is manufactured, the mirror polishing has been completed, and no polishing is required. There is a demand that fully automatic plate making be applied to any plate-making roll that requires a processing step from plate drop polishing to mirror surface polishing. Also in this case, there is a demand that the cell formation be applied to both etching and engraving. (3) There is a demand that the polishing process can be greatly shortened, the cylindrical accuracy is higher than before, and mirror polishing that does not rely on buff polishing is realized. Polishing after the conventional dechroming treatment is, for example, correction polishing with a # 320 polishing wheel-plate removal with a # 320 polishing wheel-cylindrical polishing with a # 500 polishing wheel-
Cylindrical polishing with a # 800 grinding wheel was performed. Or
Polishing after conventional copper plating, for example, # 800, # 1000, # 12
Cylindrical polishing was performed by each of the grinding wheels of 00, # 1500, # 1800, # 2000, # 2500, and # 3000, and finally, mirror polishing by a buff was performed. (4) In recent copper plating treatments, sulfur-based compounds contained in brighteners and hardeners form a boundary film between nickel plating and copper plating and the adhesion strength of copper plating is weakened. There is a problem that it is necessary to strongly secure the adhesion strength of the copper plating applied on the substrate. Conventional plate-making roll production, for example, on an iron roll base material,
After cylindrical polishing with a # 320 grinding wheel and further degreasing, nickel plating is applied to a thickness of 2 to 3 μm, or an aluminum roll base material, for example, # 3
After being cylindrically polished with 20 polishing wheels, nickel plating was applied to a thickness of 2 to 3 μm. Subsequently, copper plating was applied to a thickness of, for example, 100 μm. In the conventional copper plating method, a plate-making roll with nickel plating is rotatably chucked at both ends and positioned in a plating bath, and then a copper plating solution is filled in the plating bath and it takes about one minute to make the plate-making roll. Was immersed, and after applying rotation, a plating current was passed so that a voltage of about 15 V was applied, and copper plating was performed. In order to reduce the time, the inventor of the present application started the plate drop polishing by a method in which two opposite # 320 polishing grindstones were used to polish the plate-making roll with a polishing pressure larger than before by sandwiching the plate-making roll. The plating peeled off from the nickel-plated surface as if it were ballad plating. After investigating the cause, it was found that a peelable boundary film was formed between the nickel plating and the copper plating. More specifically, in recent years, in order to improve workability, a brightening agent or a hardening agent has been put into a copper plating solution and plating has been performed. As described above, a plate-making roll is immersed in a copper plating solution. After about one minute has passed, when the plating current is applied by rotating, the sulfur-based compound contained in the brightener or hardener is applied to the nickel-plated surface before copper plating is performed on the nickel-plated surface. (For example, bis.S.propyl.sulfonate.sodium [Bis.S.Propyl.Sulfo.
nate.Na] and two mercapto. Monomethyl. It was found that imidazole [2Mercapto1Methyl Imidazole]) would form a detachable boundary membrane.
【０００４】本願発明は、上述した点に鑑み案出したも
ので、ロールデータの抽出と不適正ロールの除外が行え
て、落版研磨から鏡面研磨まで全自動で精密な研磨が行
えるとともに、食刻法によりセルを形成するときの優れ
た部分と彫刻法によりセルを形成するときの優れた部分
をミックスした高精細な版が得られ、又、ロール製作後
初めて使用するロールであって研磨が必要でなく直ぐに
セルの形成工程から入れる被製版ロールと、脱クロム処
理し落版研磨して鏡面研磨までの処理工程が必要である
リサイクルロールのいずれにも全自動製版が適用でき
る，グラビア製版方法を提供することを目的としてい
る。The present invention has been devised in view of the above points, and it is possible to extract roll data and exclude improper rolls, perform fully automatic and precise polishing from plate drop polishing to mirror polishing, and perform etching. A high-definition plate that mixes the excellent part when forming the cell by the engraving method and the excellent part when forming the cell by the engraving method is obtained. A gravure plate making method that can apply fully automatic plate making to both plate making rolls that are not necessary and immediately start from the cell forming process, and recycled rolls that require processing steps from dechroming, plate drop polishing, and mirror polishing. It is intended to provide.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本願第一の発明は、搬入
−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による補正
研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石による表
面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッキ−
銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−精
密仕上げ砥石による鏡面研磨−電子彫刻機による画像彫
刻・セルの形成−洗浄−感光膜塗布−レーザ露光・潜像
形成−現像・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成
−レジスト画像除去−クロムメッキ−搬出からなる製版
工程であるグラビア製版方法であって、前記の電子彫刻
機による画像彫刻・セルの形成は、グラデーションの画
像部分に対するドット状のセルを形成するものであり、
前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法を提供することにある。Means for Solving the Problems The first invention of the present application is carried-in, roll measurement, dechroming treatment, correction polishing with a rough finishing wheel, plate removal by rough finishing wheel, surface roughness miniaturization polishing with a rough finishing wheel, Surface activation treatment-nickel plating-
Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing whetstone-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Image engraving and cell formation with electronic engraving machine-Cleaning-Photosensitive film coating-Laser exposure and latent image formation-Development and resist image formation -Formation of cells by corrosion-removal of resist image-chromium plating-a gravure plate making method which is a plate making step of carrying out, wherein the image engraving and cell formation by the electronic engraving machine are performed in a dot-like manner with respect to a gradation image portion. Forming a cell,
The formation of cells due to the corrosion is caused by the intersection of a character constituted by a cell having a character outline portion formed of continuous cells and a portion surrounded by the character outline portion formed by a dot-shaped cell, and a shadow portion corresponding to a solid printed portion. It is another object of the present invention to provide a gravure plate making method characterized by forming a free flow type cell in which a part is intermittent.
【０００６】本願第二の発明は、搬入−ロール計測−脱
クロム処理−粗仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研
磨による落版−粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−表面活性化処理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上
げ砥石による表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石によ
る鏡面研磨−感光膜塗布−レーザ露光・潜像形成−現像
・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成−レジスト
画像除去−電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗
浄−クロムメッキ−搬出からなる製版工程であるグラビ
ア製版方法であって、前記の電子彫刻機による画像彫刻
・セルの形成は、グラデーションの画像部分に対するド
ット状のセルを形成するものであり、前記の腐食による
セルの形成は、文字輪郭部が連続状のセルで構成され文
字輪郭部で囲まれる部分がドット状のセルで構成される
文字、及びベタ印刷部分に対応する最シャドウ部の交差
部分が断続しているフリーフロー形のセルを形成するも
のであることを特徴とするグラビア製版方法を提供する
ことにある。[0006] The second invention of the present application is carried-in, roll measurement, dechroming treatment, correction polishing with a rough finishing wheel, plate removal by rough finishing grinding, surface roughness reduction polishing with a rough finishing wheel, surface activation treatment, nickel Plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing whetstone-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Coating of photosensitive film-Laser exposure and latent image formation-Development and resist image formation-Cell formation by corrosion-Resist image removal- An image engraving / cell formation by an electronic engraving machine is a gravure plate making method which is a plate making process including washing, chrome plating, and unloading. The cell is formed by the above-mentioned corrosion, and the character outline is formed of continuous cells and is surrounded by the character outline. A gravure plate-making method, characterized in that the gravure plate-making method is to form a free-flow type cell in which a portion composed of a dot-shaped cell and an intersecting portion of a shadow portion corresponding to a solid printing portion are intermittent. To provide.
【０００７】本願第三の発明は、搬入−ロール計測−電
子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−感光膜塗
布−レーザ露光・潜像形成−現像・レジスト画像形成−
腐食によるセルの形成−レジスト画像除去−クロムメッ
キ−搬出からなる製版工程であるグラビア製版方法であ
って、前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成
は、グラデーションの画像部分に対するドット状のセル
を形成するものであり、前記の腐食によるセルの形成
は、文字輪郭部が連続状のセルで構成され文字輪郭部で
囲まれる部分がドット状のセルで構成される文字、及び
ベタ印刷部分に対応する最シャドウ部の交差部分が断続
しているフリーフロー形のセルを形成するものであるこ
とを特徴とするグラビア製版方法を提供することにあ
る。[0007] The third invention of the present application is a loading-roll measurement-image engraving / cell formation by an electronic engraving machine-cleaning-photosensitive film coating-laser exposure / latent image formation-development / resist image formation-
A gravure plate making method, which is a plate making process including formation of a cell by corrosion, removal of a resist image, chromium plating, and unloading, wherein the image engraving and cell formation by the electronic engraving machine are performed by forming a dot-shaped cell for a gradation image portion. The formation of cells due to the corrosion, the character contour portion is composed of continuous cells, and the portion surrounded by the character contour portion is a character composed of dot cells, and solid printing portions It is another object of the present invention to provide a gravure plate-making method characterized by forming a free-flow type cell in which an intersecting portion of a corresponding outermost shadow portion is intermittent.
【０００８】本願第四の発明は、搬入−ロール計測−感
光膜塗布−レーザ露光・潜像形成−現像・レジスト画像
形成−腐食によるセルの形成電子彫刻機による画像彫刻
・セルの形成−洗浄−クロムメッキ−搬出からなる製版
工程であるグラビア製版方法であって、前記の電子彫刻
機による画像彫刻・セルの形成は、グラデーションの画
像部分に対するドット状のセルを形成するものであり、
前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法を提供することにある。[0008] The fourth invention of the present application is to carry in, roll measurement, photosensitive film coating, laser exposure, latent image formation, development, resist image formation, cell formation by corrosion, image engraving with an electronic engraving machine, cell formation, cleaning. Chromium plating-a gravure plate making method that is a plate making step consisting of unloading, wherein the image engraving / cell formation by the electronic engraving machine is to form dot-shaped cells for a gradation image portion,
The formation of cells due to the corrosion is caused by the intersection of a character constituted by a cell having a character outline portion formed of continuous cells and a portion surrounded by the character outline portion formed by a dot-shaped cell, and a shadow portion corresponding to a solid printed portion. It is another object of the present invention to provide a gravure plate making method characterized by forming a free flow type cell in which a part is intermittent.
【０００９】本願第五の発明は、システム全体を制御す
るコントローラに、搬入−ロール計測−脱クロム処理−
粗仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版
−粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化
処理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による
表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−
感光膜塗布−レーザ露光・潜像形成−現像・レジスト画
像形成−腐食によるセルの形成−レジスト画像除去−ク
ロムメッキ−搬出からなる製版工程（Ａ）と、搬入−ロ
ール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による補正研磨
−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石による表面粗
さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッキ−銅メ
ッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−精密仕
上げ砥石による鏡面研磨−電子彫刻機による画像彫刻・
セルの形成−洗浄−クロムメッキ搬出からなる製版工程
（Ｂ）と、搬入−ロール計測−感光膜塗布−レーザ露光
・潜像形成−現像・レジスト画像形成−腐食によるセル
の形成−レジスト画像除去−クロムメッキ−搬出からな
る製版工程（Ｃ）と、搬入−ロール計測−電子彫刻機に
よる画像彫刻・セルの形成−洗浄−クロムメッキ搬出か
らなる製版工程（Ｄ）、搬入−ロール計測−脱クロム処
理−粗仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による
落版−粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活
性化処理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石に
よる表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研
磨−電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−感
光膜塗布−レーザ露光・潜像形成−現像・レジスト画像
形成−腐食によるセルの形成−レジスト画像除去−クロ
ムメッキ−搬出からなる製版工程（Ｅ）、搬入−ロール
計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による補正研磨−粗
仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石による表面粗さ微
少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッキ−銅メッキ
−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ
砥石による鏡面研磨−感光膜塗布−レーザ露光・潜像形
成−現像・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成−
レジスト画像除去−電子彫刻機による画像彫刻・セルの
形成−洗浄−クロムメッキ−搬出からなる製版工程
（Ｆ）、搬入−ロール計測−電子彫刻機による画像彫刻
・セルの形成−洗浄−感光膜塗布−レーザ露光・潜像形
成−現像・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成−
レジスト画像除去−クロムメッキ−搬出からなる製版工
程（Ｇ）、搬入−ロール計測−感光膜塗布−レーザ露光
・潜像形成−現像・レジスト画像形成−腐食によるセル
の形成電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−
クロムメッキ−搬出からなる製版工程（Ｈ）、の八種類
の製版工程のプログラムを格納しておき、最初に、製版
室へ搬入する被製版ロールをロール計測器に取り付けて
ロール計測を行なうように構成され、コントローラへ製
版工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）、
（Ｆ）、（Ｇ）、又は（Ｈ）の種類別を入力し、製版工
程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｅ）、（Ｆ）のときは、被製版ロ
ールの全長、外径、孔径、ロール端から一定ピッチ離れ
る毎の外径等のロールデータを抽出してコントローラに
データ入力するとともに、不適正データのロールを除外
し、製版工程（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｇ）、（Ｈ）のとき
は、被製版ロールの全長、外径、孔径のロールデータを
抽出してコントローラにデータ入力し、製版工程
（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）、（Ｈ）のときは、前記の電子
彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラデーション
の画像部分に対するドット状のセルを形成するものであ
り、前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続
状のセルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット
状のセルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応す
る最シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー
形のセルを形成するものであることを特徴とするグラビ
ア製版方法を提供することにある。[0009] The fifth invention of the present application provides a controller for controlling the entire system, which includes loading, roll measurement, dechrome processing,
Correction polishing with rough finishing wheel-Plate drop by rough finishing polishing-Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing wheel-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing wheel-Precision finishing wheel Mirror polishing by
Photosensitive film coating-Laser exposure, latent image formation-Development, resist image formation-Cell formation by corrosion-Resist image removal-Chromium plating-Plate making process (A) consisting of unloading and loading-Roll measurement-Dechroming process-Rough Correction polishing by finishing whetstone-Plate drop by rough finishing polishing-Surface roughness miniaturization polishing by rough finishing whetstone-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing by medium finishing whetstone-Precision finishing whetstone Mirror polishing-image engraving with an electronic engraving machine
Cell making-washing-plate making process (B) consisting of unloading chrome plating and loading-roll measurement-photosensitive film coating-laser exposure / latent image formation-development / resist image formation-cell formation by corrosion-resist image removal- Plate making process (C) consisting of chrome plating and unloading, and loading-roll measurement-Image engraving / cell formation by electronic engraving machine-washing-plate making process (D) consisting of unloading chrome plating, loading-roll measurement-dechroming -Correction polishing with rough finishing stones-Plate removal by rough finishing grinding-Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing stones-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing whetstones-Precision finishing Mirror polishing with a grindstone-Image engraving and cell formation with an electronic engraving machine-Cleaning-Photosensitive film coating-Laser exposure and latent image formation-Development and resist image formation-Corrosion Plate formation process-resist image removal-chrome plating-plate making process (E) consisting of carry-out-roll measurement-chromium removal treatment-correction polishing by rough finish grindstone-plate removal by rough finish grind-surface roughness by rough finish grindstone Miniaturization polishing-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing whetstone-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Coating of photosensitive film-Laser exposure, latent image formation-Development, resist image formation- Cell formation due to corrosion
Removal of resist image-Image engraving and cell formation by electronic engraving machine-Cleaning-chrome plating-Plate making process consisting of unloading (F), loading-Roll measurement-Image engraving and cell formation by electronic engraving machine-Cleaning-Coating of photosensitive film -Laser exposure / latent image formation-Development / resist image formation-Cell formation by corrosion-
Plate making process (G) consisting of resist image removal-chromium plating-unloading, loading-roll measurement-photosensitive film coating-laser exposure and latent image formation-development and resist image formation-cell formation by corrosion Image engraving with an electronic engraving machine Cell formation-washing-
A program for eight types of plate making processes of chrome plating and unloading (H) is stored. First, a plate making roll to be carried into the plate making room is attached to a roll measuring device to perform roll measurement. The plate making processes (A), (B), (C), (D), (E),
(F), (G) or (H) is input by type, and in the plate making steps (A), (B), (E) and (F), the total length, outer diameter and hole diameter of the plate making roll In addition to extracting roll data such as the outer diameter at every fixed pitch from the roll end and inputting the data to the controller, the roll of improper data is excluded and the plate making steps (C), (D), (G), ( In the case of H), roll data of the total length, outer diameter and hole diameter of the plate making roll are extracted and input to the controller, and in the plate making steps (E), (F), (G) and (H), The image engraving / cell formation by the electronic engraving machine is to form a dot-shaped cell for a gradation image portion, and the formation of the cell by the corrosion is constituted by a cell in which a character contour portion is continuous. Characters that are surrounded by dot outline cells And to provide a gravure plate making method, wherein the intersection of the top shadow portion corresponding to the solid printing portion and forms a free-flow type of the cell that intermittently.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】本願発明の実施の形態のグラビア
製版方法を図面を参照して説明する。図1に示すよう
に、製版室をＨ１とＨ２の二つに分けて、製版室Ｈ１を
走行型の産業ロボット１のハンドリングエリアとし、製
版室をＨ２をスタッカクレーン２の搬送エリアとする。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A gravure plate making method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the plate making room is divided into two, H1 and H2, and the plate making room H1 is a handling area of the traveling industrial robot 1, and the plate making room is a transfer area of the stacker crane 2 as H2.
【００１１】走行型の産業ロボット１は、軌道上を走行
し３６０度の範囲で往復旋回可能かつ上下方向に揺動か
つアーム軸の周りにひねり回転可能なロボットアーム１
aを有し、該ロボットアーム１aに備えたロボットハンド
１b（例えば特許第２１３６６９７号のロボットハン
ド）が被製版ロールＲの両端面を挟持するか又は両端の
軸部を支持して他の装置との間で被製版ロールＲの受渡
しを行なうハンドリング機能を有している。A traveling type industrial robot 1 is a robot arm 1 that travels on a track, can reciprocate in a range of 360 degrees, swings up and down, and twists around an arm axis.
a, and a robot hand 1b (for example, a robot hand disclosed in Japanese Patent No. 2136697) provided on the robot arm 1a sandwiches both end surfaces of the plate making roll R or supports the shaft portions at both ends to connect with other devices. And a handling function of transferring the plate-making roll R between the rollers.
【００１２】スタッカクレーン２は、ロール脱着回転装
置３（例えば特許第１２７８５４４号の装置）を吊り上
げて搬送し得るように構成されている。ロール脱着回転
装置３は、スリーブ形の被製版ロールＲの両端面の軸孔
を対向一対の円錐チャックコーンにより嵌合挟持しかつ
円錐チャックコーンの外側を防水キャップで密封する
か、又は軸付きの被製版ロールＲの両端の軸部を対向一
対のスリーブチャックに受け入れて端面を挟持しかつス
リーブチャックの外側を防水キャップで密封することが
できて、メッキ装置本体等への装着時に被製版ロールＲ
を回転し得えかつ必要に応じてメッキ電流を流せるよう
に構成されている。The stacker crane 2 is configured to be able to lift and transport a roll detachable rotating device 3 (for example, the device disclosed in Japanese Patent No. 1278544). The roll attaching / detaching rotary device 3 fits and holds the shaft holes at both end surfaces of the sleeve-shaped plate making roll R with a pair of opposed conical chuck cones and seals the outside of the conical chuck cone with a waterproof cap, or has a shaft. The shaft portions at both ends of the plate-making roll R are received by a pair of opposed sleeve chucks, and the end faces thereof can be clamped, and the outside of the sleeve chuck can be sealed with a waterproof cap.
And a plating current can be supplied as needed.
【００１３】製版室Ｈ１の産業ロボット１と、製版室Ｈ
２のスタッカクレーン２（例えば特許第２５３９３１０
号のスタッカクレーン）に吊り上げられて搬送されるロ
ール脱着回転装置３とは、隔壁に設けた開口を通して被
製版ロールＲを直接授受できるように構成されている。The industrial robot 1 in the plate making room H1 and the plate making room H
2 stacker cranes 2 (for example, Japanese Patent No. 2539310).
The roll removing / rotating device 3 which is lifted and conveyed by a stacker crane (No. 3) is configured to be able to directly transfer a plate-making roll R through an opening provided in a partition wall.
【００１４】製版室Ｈ１の産業ロボット１のハンドリン
グエリアに、ロール搬入口に位置するロール計測装置４
と、ロール搬出口に位置するロール搬出装置５と、感光
膜塗布装置６と、レーザ露光潜像形成装置７と、ダイヤ
モンドの針で画像データに応じて深浅を付けて彫り込む
電子彫刻機８（ヘリオクリッショグラフ、又はバルカ
ス）、#320の粗仕上げ研磨砥石９a、９bを対向一対に備
えるとともに、#1000の中仕上げ研磨砥石９cと#6000の
精密研磨砥石９dを対向一対に備え、粗仕上げ研磨９a、
９bによる落版研磨と補正研磨と表面粗さ微小化研磨を
行うことができ、又、中仕上げ研磨９cによる表面粗さ
微小化研磨を行うことができ、さらに鏡面研磨９dによ
る表面粗さ微小化研磨と鏡面研磨を行うことができる四
ヘッド型の研磨機９と、ロールストック装置１０を備え
ている。ロールストック装置１０は、感光膜塗布装置６
とアブレーション用レーザ装置７の上に設けられる。な
お、#320の粗仕上げ研磨砥石９a、９bを対向一対に備え
る二ヘッド型の研磨機と、#1000の中仕上げ研磨砥石９c
と#6000の精密研磨砥石９dを対向一対に備える二ヘッド
型の研磨機の二台を備えても良い。産業ロボット１は、
被製版ロールＲの端面を挟持でき、又、これらの装置５
〜９は、スリーブ形の被製版ロールＲの両端面の軸孔を
対向一対の円錐チャックコーンにより嵌合挟持できる
か、又は、軸付きの被製版ロールＲの両端の軸部を対向
一対のスリーブチャックに受け入れて端面を挟持でき
て、産業ロボット１は、これらの装置５〜９との間で被
製版ロールＲを授受するように構成されている。ロール
計測装置４は、被製版ロールの全長、外径、孔径、ロー
ルの一端から他端まで一定ピッチ毎に直径を計測する直
径計測を行なう。ロール搬出装置５は、例えば特開平１
０−２９１２８９号の装置であり、製版を完了した被製
版ロールＲの取り出し時に産業ロボット１が数個ないし
十数個備えたパレットに被製版ロールＲを載置と、これ
らパレットを７０〜８０度位に傾斜させて、人手により
被製版ロールＲを斜めに立てて転がして移動できるよう
に構成されている。感光膜塗布装置６は、アルカリ可溶
性であり露光硬化により耐弱アルカリ性となり塩化第二
銅の水溶液に対して非反応性であるポリマー混合液を２
〜４μｍｍの薄膜となるように塗布形成する装置であ
り、スキャンコート方式の装置とディッピング方式の装
置のいずれでも良い。レーザ露光潜像形成装置７は、ア
ルゴンネオンイオンレーザ又は半導体レーザのレーザ光
を感光膜の非画線部に対応する部分に照射してそこの被
膜を露光硬化する。すなわち、画線部に対応するように
未露光にしてアルカリ現像したときに画線部に対応する
部分の膜を溶解してそこに銅金属面を露出する。研磨機
９は、以下の研磨作業を行う。脱クロム処理の後に粗仕
上げ研磨砥石９a、９bにより落版研磨−補正研磨−表面
粗さ微小化研磨を行う。粗仕上げ研磨砥石９a、９bは、
砥石の回転軸の延長線と被製版ロールの回転軸線の両方
を平面方向より見たときの交差角が９０度であって、砥
石の端面の研磨時接触線が、砥石の端面の中心孔の中心
を通る直径線乃至中心孔を外れない限度の直径線に平行
する弦線の範囲内にあって研磨圧力を一定に保ち研磨を
行う得るように構成されている。そして、直径計測値に
基づいて直径の偏差を小さくする補正研磨を行い、次い
で被製版ロールの一端から他端までの移動を繰り返して
被製版ロールの刻設されているセルを無くす落版研磨を
行い、次いで砥石と被製版ロールの回転方向が一致する
側を、砥石の被製版ロールの面長方向に対する移動方向
後方側にして研磨する表面粗さ微少化研磨を行う。又、
銅メッキの後に#1000の中仕上げ研磨砥石９cにより表面
粗さ微小化研磨を行う。中仕上げ研磨砥石９cも、砥石
の回転軸の延長線と被製版ロールの回転軸線の両方を平
面方向より見たときの交差角が９０度であって、砥石の
端面の研磨時接触線が、砥石の端面の中心孔の中心を通
る直径線乃至中心孔を外れない限度の直径線に平行する
弦線の範囲内にあって研磨圧力を一定に保ち研磨を行う
得るように構成されている。そして、砥石と被製版ロー
ルの回転方向が一致する側を、砥石の被製版ロールの面
長方向に対する移動方向後方側にして研磨する表面粗さ
微少化研磨を行う。続いて、#6000の精密研磨砥石９dに
より表面粗さ微小化研磨と鏡面研磨を行う。精密研磨砥
石９dは、砥石の回転軸の延長線と被製版ロールの回転
軸線の両方を平面方向より見たときの交差角が９０度で
なく微小角度傾いていて、砥石の端面の研磨時接触線
が、砥石の端面の中心孔の中心を通る直径線乃至中心孔
を外れない限度の直径線に平行する弦線の範囲内にあっ
て研磨圧力を一定に保って被製版ロールの周速と砥石の
接触線上の一点における回転速度とを略一致させて該砥
石を被製版ロールの面長方向に移動しつつ研磨する。製
版室Ｈ１の産業ロボット１のハンドリングエリアでは、
一の装置が稼働中の時は、その一の装置に処理される工
程まで進んだ被製版ロールＲは、ロールストック装置１
０にストックされる。In the handling area of the industrial robot 1 in the plate making room H1, a roll measuring device 4 located at the roll entrance is provided.
A roll unloading device 5 located at a roll unloading outlet, a photosensitive film coating device 6, a laser exposure latent image forming device 7, and an electronic engraving machine 8 ( Heliocrissograph, or Barcus), # 320 rough finish grinding wheels 9a, 9b are provided in opposing pairs, and # 1000 medium finish grinding wheels 9c and # 6000 precision polishing wheels 9d are provided in opposing pairs. Polishing 9a,
9b can perform plate drop polishing, correction polishing, and surface roughness miniaturization polishing, can also perform semi-finishing polishing 9c, can perform surface roughness miniaturization polishing, and can also perform mirror surface polishing 9d, minimizing surface roughness. A four-head type polishing machine 9 capable of performing polishing and mirror polishing and a roll stock device 10 are provided. The roll stock device 10 includes the photosensitive film coating device 6
And ablation laser device 7. In addition, a two-head type polishing machine provided with a pair of opposing rough finish polishing wheels 9a and 9b of # 320, and a medium finish polishing wheel 9c of # 1000
And a two-head type polishing machine provided with a pair of opposed precision grinding wheels 9d of # 6000 and # 6000. The industrial robot 1
The end face of the plate-making roll R can be clamped.
No. 9 to 9 can fit and hold the shaft holes at both end surfaces of the sleeve-shaped plate making roll R with a pair of opposed conical chuck cones, or form the shaft portions at both ends of the shaft-shaped plate making roll R with a pair of opposed sleeves. The industrial robot 1 can receive the chuck and hold the end face, and is configured to transfer the plate making roll R between these devices 5 to 9. The roll measuring device 4 measures the total length, outer diameter, hole diameter, and diameter of the plate making roll from one end to the other end of the roll at regular intervals. The roll unloading device 5 is, for example,
No. 0-291289, wherein the plate making roll R is placed on a pallet provided with several to several tens of industrial robots 1 at the time of taking out the plate making roll R having completed plate making, and these pallets are set at 70 to 80 degrees. The plate-making roll R is tilted up and down and can be rolled up and moved manually. The photosensitive film coating device 6 contains a polymer mixture which is soluble in alkali and becomes weakly alkali-resistant by exposure and curing and is non-reactive with an aqueous solution of cupric chloride.
This is a device for applying and forming a thin film having a thickness of 4 μm, and may be either a scan coat type device or a dipping type device. The laser exposure latent image forming device 7 irradiates a laser beam of an argon neon ion laser or a semiconductor laser to a portion corresponding to a non-image portion of the photosensitive film to expose and harden the film there. That is, when the film is unexposed and subjected to alkali development so as to correspond to the image portion, the film corresponding to the image portion is dissolved and the copper metal surface is exposed there. The polishing machine 9 performs the following polishing operation. After the chromium removal treatment, plate finish polishing-correction polishing-surface roughness miniaturization polishing is performed by the rough finish polishing grindstones 9a and 9b. The rough polishing stones 9a and 9b are
The crossing angle when both the extension line of the rotation axis of the grindstone and the rotation axis of the plate making roll are viewed from the plane direction is 90 degrees, and the contact line at the time of polishing the end face of the grindstone is the center hole of the end face of the grindstone. Polishing can be performed while maintaining a constant polishing pressure within a range of a chordal line parallel to the diameter line passing through the center or the diameter line which does not deviate from the center hole. Then, correction polishing is performed to reduce the deviation of the diameter based on the diameter measurement value, and then movement from one end of the plate-making roll to the other end is repeated to remove the plate engraved on the plate-making roll. Then, the surface roughness miniaturization polishing is performed in such a manner that the side where the rotation direction of the grindstone and the plate making roll coincide with each other is the rear side in the moving direction with respect to the surface length direction of the plate making roll. or,
After the copper plating, the surface roughness is polished with a # 1000 semi-finishing polishing stone 9c. The intermediate finish polishing grindstone 9c also has an intersection angle of 90 degrees when both the extension line of the rotation axis of the grindstone and the rotation axis of the plate making roll are viewed from a plane direction, and the contact line at the time of polishing the end face of the grindstone is The polishing is performed while maintaining a constant polishing pressure within a range of a diameter line passing through the center of the center hole of the end face of the whetstone or a chord line parallel to the diameter line to the extent that the center hole is not deviated. Then, the surface roughness miniaturization polishing is performed such that the side where the rotation direction of the grindstone and the rotation of the plate making roll coincide with each other is the rear side in the moving direction with respect to the surface length direction of the plate making roll. Subsequently, the surface roughness is reduced and the mirror surface is polished by a # 6000 precision polishing grindstone 9d. The precision polishing whetstone 9d has a crossing angle of 90 ° when viewed both from the plane of the extension line of the rotation axis of the whetstone and the rotation axis of the plate-making roll rather than 90 °. The line is within the range of the diameter line passing through the center of the center hole of the end face of the grinding wheel or the chord line parallel to the diameter line of the limit which does not deviate from the center hole, the polishing pressure is kept constant, and the peripheral speed of the plate making roll and The grinding wheel is polished while moving in the direction of the surface length of the plate making roll while making the rotation speed at one point on the contact line of the grinding wheel substantially coincide with each other. In the handling area of the industrial robot 1 in the plate making room H1,
When one device is in operation, the plate making roll R, which has progressed to the step of being processed by the one device, is the roll stock device 1
Stocked at 0.
【００１５】製版室Ｈ２のスタッカクレーン２のロール
搬送エリアに、脱クロム装置１１と、表面活性化装置１
２と、ニッケルメッキ装置１３と、銅メッキ装置１４
と、クロムメッキ装置１５と、現像装置１６と、腐食装
置１７と、レジスト画像除去装置１８と、ロール脱着回
転装置３をストックするストック装置１９を一列に備え
ている。脱クロム装置１１は、図示しない対向一対のチ
ャック装置を備えていて、産業ロボット１のロボットハ
ンド１bとの間で被製版ロールＲを授受できる。脱クロ
ム装置１１は、被製版ロールＲを塩酸に浸漬してクロム
を溶解する。脱クロム装置１１はロール脱着回転装置３
を載置することができて、脱クロム装置１１に載置され
るロール脱着回転装置３は、産業ロボット１のロボット
ハンド１bとの間で被製版ロールＲの授受できる。この
とき、脱クロム装置１１に備える上記の図示しない対向
一対のチャック装置は側方に揺動して待機するように構
成されている。被製版ロールＲをチャックしたロール脱
着回転装置３は、スタッカクレーン２により吊り上げら
れて搬送される。表面活性化装置１２は、アルカリ液に
浸漬して脱脂し次いで酸性液のシャワーにより酸洗いし
次いで水シャワーにより水洗する。ニッケルメッキ装置
１３は、例えば、厚さ２〜３μｍとなるようにニッケル
メッキを付ける。被製版ロールをメッキ浴槽に位置させ
た後、ニッケルメッキ液をメッキ浴槽に入れて該メッキ
液で被製版ロールを浸漬してから回転を与え１５Ｖの電
圧を加えてメッキする。なお、アルミニウム製のロール
母材にニッケルメッキを付けるには、前処理として例え
ば、ジンケート処理を行なって密着性を向上するインタ
ーフェース薄膜を形成するが、リサイクルロールの落版
研磨においてニッケルメッキが露出しないように研磨を
行うものであり、インターフェース薄膜の形成工程はオ
フラインとして設備する。銅メッキ装置１４は、例え
ば、厚さ１００μｍとなるようにニッケルメッキを付け
る。被製版ロールＲを両端チャックしてメッキ浴槽内に
位置させた後、電気焼けが起こらない低電圧（例えば１
Ｖ〜５Ｖ）をかけて回転する。そして、メッキ浴槽の銅
メッキ液の液面をゆっくり上げていき、被製版ロールＲ
に銅メッキ液の液面レベルを接触させて全周面に銅メッ
キを付ける。被製版ロールＲに銅メッキ液が接触する瞬
間にメッキ電流が流れるので、銅メッキの付着が瞬間に
行なわれ、光沢剤や硬質化剤に含まれる硫黄系化合物が
付着する反応速度が遅いので該硫黄系化合物がニッケル
メッキと銅メッキの境界膜を形成することはない。又、
低電圧なので銅メッキが電気焼けしない。その後、銅メ
ッキ液の液面レベルを上昇していくとともに、電圧を漸
次に上げていき、ロールが完全に浸漬した状態になると
きにメッキ電圧が１５Ｖになるようにして、銅メッキを
行なう。この場合、硫黄系化合物は、銅メッキの中に組
み込まれていくが、銅メッキに剥離性を与えることはな
い。クロムメッキ装置１５は、例えば、厚さ８μｍとな
るようにクロムメッキを付ける。現像装置１６は、被製
版ロールＲを弱アルカリ液中に浸漬して回転し弱アルカ
リ液で感光膜の未露光で硬化していない箇所を溶解して
レジスト画像を形成する。腐食装置１７は、被製版ロー
ルＲを塩化第二銅の水溶液中に浸漬して回転し被製版ロ
ールＲのレジスト画像で覆われていない銅露出面を腐食
してセルを形成する。なお、塩化第二鉄の水溶液で腐食
しても良いが、使用済みの水溶液のクローズドな再生処
理ができないので好ましくない。レジスト画像除去装置
１８は、被製版ロールＲを強アルカリ液中に浸漬して回
転し強アルカリ液で感光膜が露光硬化したレジスト画像
を溶解し被製版ロールＲから解離させる。製版室Ｈ２の
スタッカクレーン２のロール搬送エリアでは、一の装置
が稼働中の時は、その一の装置に処理される工程まで進
んだ被製版ロールＲは、ロール脱着回転装置３にチャッ
クされたままでストック装置１９にストックされる。A dechroming device 11 and a surface activating device 1 are provided in the roll transport area of the stacker crane 2 in the plate making room H2.
2, a nickel plating device 13, and a copper plating device 14
, A chromium plating device 15, a developing device 16, a corrosion device 17, a resist image removing device 18, and a stock device 19 for stocking the roll attaching / detaching rotary device 3 in a line. The dechroming device 11 includes a pair of opposed chuck devices (not shown), and can transfer the plate making roll R with the robot hand 1b of the industrial robot 1. The chromium removing device 11 dissolves the chromium by immersing the plate making roll R in hydrochloric acid. The dechroming device 11 is a roll removing / rotating device 3
Can be mounted, and the roll removing / rotating device 3 mounted on the dechroming device 11 can transfer the plate making roll R with the robot hand 1b of the industrial robot 1. At this time, the pair of chuck devices (not shown) provided in the dechroming device 11 are configured to swing sideways and wait. The roll attaching / detaching rotary device 3 having chucked the plate making roll R is lifted by the stacker crane 2 and transported. The surface activating device 12 is immersed in an alkaline solution to degrease, then pickled by a shower of an acidic solution, and then washed by a water shower. The nickel plating apparatus 13 performs nickel plating so as to have a thickness of, for example, 2 to 3 μm. After the plate making roll is positioned in the plating bath, a nickel plating solution is put into the plating bath, and the plate making roll is immersed in the plating solution, and then rotated to apply a voltage of 15 V to perform plating. In addition, in order to apply nickel plating to the aluminum roll base material, for example, a zincate treatment is performed as a pretreatment to form an interface thin film that improves adhesion, but the nickel plating is not exposed in the plate drop polishing of the recycling roll. The polishing is performed as described above, and the interface thin film forming process is set off-line. The copper plating apparatus 14 performs, for example, nickel plating so as to have a thickness of 100 μm. After the plate making roll R is chucked at both ends and positioned in the plating bath, a low voltage (for example, 1.
V to 5 V). Then, the level of the copper plating solution in the plating bath is slowly raised, and
The surface of the copper plating solution is brought into contact with the substrate to apply copper plating to the entire peripheral surface. Since the plating current flows at the moment when the copper plating solution comes into contact with the plate making roll R, the deposition of copper plating is performed instantaneously, and the reaction speed of the sulfur-based compound contained in the brightener and the hardening agent is low. The sulfur compound does not form a boundary film between nickel plating and copper plating. or,
Copper plating does not burn due to low voltage. Thereafter, while the level of the copper plating solution is being increased, the voltage is gradually increased so that the plating voltage is 15 V when the roll is completely immersed, and copper plating is performed. In this case, the sulfur compound is incorporated into the copper plating, but does not give the copper plating releasability. The chromium plating device 15 performs, for example, chrome plating so as to have a thickness of 8 μm. The developing device 16 immerses the plate making roll R in a weak alkaline solution and rotates to melt the unexposed and uncured portions of the photosensitive film with the weak alkaline solution to form a resist image. The erosion device 17 immerses the plate-making roll R in an aqueous solution of cupric chloride and rotates to corrode the exposed copper surface of the plate-making roll R that is not covered with the resist image, thereby forming cells. In addition, it may be corroded by an aqueous solution of ferric chloride, but it is not preferable because a closed regeneration treatment of a used aqueous solution cannot be performed. The resist image removing device 18 immerses the plate making roll R in a strong alkaline solution and rotates to dissolve the resist image having the photosensitive film exposed and cured with the strong alkaline solution and dissociate the resist image from the plate making roll R. In the roll transfer area of the stacker crane 2 in the plate making room H2, when one device is in operation, the plate making roll R, which has progressed to the step of being processed by the one device, is chucked by the roll detaching / rotating device 3. Up to the stock device 19.
【００１６】システム全体を制御するコントローラ２０
に、八種類の製版工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、
（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）、及び（Ｈ）のプログ
ラムが格納されている。Controller 20 for controlling the entire system
And eight types of plate making processes (A), (B), (C),
The programs (D), (E), (F), (G), and (H) are stored.
【００１７】四種類の製版工程（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）、（Ｄ）について、図２を参照して説明する。製
版工程（Ａ）は、搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗
仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−
粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処
理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表
面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−感
光膜塗布−レーザ露光・潜像形成−現像・レジスト画像
形成−腐食−クロムメッキ−搬出となる 製版工程（Ｂ）は、搬入−ロール計測−脱クロム処理−
粗仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版
−粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化
処理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による
表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨電
子彫刻機による画像彫刻・セルの形成クロムメッキ−搬
出となる。製版工程（Ｃ）は、搬入−ロール計測−感光
膜塗布−レーザ露光・潜像形成−現像・レジスト画像形
成−腐食−クロムメッキ−搬出となる。製版工程（Ｄ）
は、搬入−ロール計測−電子彫刻機による画像彫刻・セ
ルの形成クロムメッキ−搬出となる。The four types of plate making processes (A), (B),
(C) and (D) will be described with reference to FIG. The plate making process (A) is carried-in, roll measurement, chromium removal treatment, correction polishing with a rough finish whetstone, plate removal by rough finish polishing,
Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing stone-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing whetstone-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Photosensitive film coating-Laser exposure and latent image formation -Development / resist image formation-Corrosion-Chromium plating-Unloading In the plate making process (B), import-roll measurement-dechrome removal processing-
Correction polishing with rough finishing wheel-Plate drop by rough finishing polishing-Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing wheel-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing wheel-Precision finishing wheel Mirror plating by image engraving and cell formation by electronic engraving machine Chrome plating-unloading. The plate making process (C) is carried-in, roll measurement, photosensitive film coating, laser exposure, latent image formation, development, resist image formation, corrosion, chrome plating, and unloading. Plate making process (D)
The process is as follows: carry-in, roll measurement, image engraving by an electronic engraving machine, cell formation, chrome plating, and carry-out.
【００１８】四種類の製版工程（Ｅ）、（Ｆ）、
（Ｇ）、（Ｈ）について、図３を参照して説明する。製
版工程（Ｅ）は、搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗
仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−
粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処
理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表
面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−電
子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−感光膜塗
布−レーザ露光・潜像形成−現像・レジスト画像形成−
腐食によるセルの形成−レジスト画像除去−クロムメッ
キ−搬出となる。製版工程（Ｆ）は、搬入−ロール計測
−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上
げ研磨による落版−粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化
研磨−表面活性化処理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中
仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石
による鏡面研磨−感光膜塗布−レーザ露光・潜像形成−
現像・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成−レジ
スト画像除去−電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成
−洗浄−クロムメッキ−搬出となる。製版工程（Ｇ）
は、搬入−ロール計測−電子彫刻機による画像彫刻・セ
ルの形成−洗浄−感光膜塗布−レーザ露光・潜像形成−
現像・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成−レジ
スト画像除去−クロムメッキ−搬出となる。製版工程
（Ｈ）は、搬入−ロール計測−感光膜塗布−レーザ露光
・潜像形成−現像・レジスト画像形成−腐食によるセル
の形成電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−
クロムメッキ−搬出となる。Four types of plate making processes (E), (F),
(G) and (H) will be described with reference to FIG. The plate making process (E) is carried-in, roll measurement, chromium removal treatment, correction polishing with a rough finish whetstone, plate removal by rough finish polishing,
Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing stone-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing whetstone-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Image engraving and cell formation by electronic engraving machine -Cleaning-Coating of photosensitive film-Laser exposure / latent image formation-Development / resist image formation-
Cell formation due to corrosion-resist image removal-chrome plating-carry out. The plate making process (F) is carried-in, roll measurement, chromium removal treatment, correction polishing with a rough finish grinding wheel, plate dropping with a rough finish grinding wheel, surface roughness reduction polishing with a rough finish grinding wheel, surface activation treatment, nickel plating, and copper. Plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing whetstone-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Photosensitive film coating-Laser exposure and latent image formation-
Development / resist image formation-cell formation by corrosion-resist image removal-image engraving / cell formation by electronic engraving machine-washing-chrome plating-carry-out. Plate making process (G)
Is carried in-Roll measurement-Image engraving and cell formation by electronic engraving machine-Cleaning-Photosensitive film coating-Laser exposure and latent image formation-
Development / resist image formation-cell formation by corrosion-resist image removal-chrome plating-carry-out. The plate making process (H) is carried-in, roll measurement, photosensitive film coating, laser exposure, latent image formation, development, resist image formation, cell formation by corrosion, image engraving with an electronic engraving machine, cell formation, washing,
Chromium plating-unloading.
【００１９】製版工程（Ａ）は、被製版ロールＲが脱ク
ロム処理し落版研磨して鏡面研磨までの処理工程が必要
であるリサイクルロールであって、セルの形成を食刻に
よる場合にコントローラ２０へ入力指定する。製版工程
（Ｂ）は、被製版ロールＲが脱クロム処理し落版研磨し
て鏡面研磨までの処理工程が必要であるリサイクルロー
ルであって、セルの形成を彫刻による場合にコントロー
ラ２０へ入力指定する。製版工程（Ｃ）は、被製版ロー
ルＲがリサイクルロールではなくロール製作後初めて使
用するロールであり研磨が必要でなく直ぐにセルの形成
工程から入れる被製版ロールであって、セルの形成を食
刻による場合にコントローラ２０へ入力指定する。製版
工程（Ｄ）は、被製版ロールＲがリサイクルロールでは
なくロール製作後初めて使用するロールであり研磨が必
要でなく直ぐにセルの形成工程から入れる被製版ロール
であって、セルの形成を彫刻による場合にコントローラ
２０へ入力指定する。製版工程（Ｅ）は、被製版ロール
Ｒが脱クロム処理し落版研磨して鏡面研磨までの処理工
程が必要であるリサイクルロールであって、セルの形成
を食刻による場合にコントローラ２０へ入力指定する。
製版工程（Ｆ）は、被製版ロールＲが脱クロム処理し落
版研磨して鏡面研磨までの処理工程が必要であるリサイ
クルロールであって、セルの形成を彫刻による場合にコ
ントローラ２０へ入力指定する。製版工程（Ｇ）は、被
製版ロールＲがリサイクルロールではなくロール製作後
初めて使用するロールであり研磨が必要でなく直ぐにセ
ルの形成工程から入れる被製版ロールであって、セルの
形成を食刻による場合にコントローラ２０へ入力指定す
る。製版工程（Ｈ）は、被製版ロールＲがリサイクルロ
ールではなくロール製作後初めて使用するロールであり
研磨が必要でなく直ぐにセルの形成工程から入れる被製
版ロールであって、セルの形成を彫刻による場合にコン
トローラ２０へ入力指定する。The plate-making process (A) is a recycle roll in which the plate-making roll R requires a process of dechroming, plate-drop polishing and mirror-surface polishing. Input designation to 20. The plate-making process (B) is a recycle roll in which the plate-making roll R needs a processing step from dechroming, plate-drop polishing, and mirror polishing, and when the cell formation is performed by engraving, an input designation to the controller 20 is performed. I do. In the plate making step (C), the plate making roll R is not a recycle roll but a roll to be used for the first time after the roll production, and is a plate making roll that requires no polishing and is immediately inserted from the cell forming step. Is input and designated to the controller 20. The plate-making process (D) is a plate-making roll in which the plate-making roll R is not a recycle roll but a roll used for the first time after the roll is manufactured and polishing is not required, and is immediately started from the cell forming step. In this case, the input is designated to the controller 20. The plate making step (E) is a recycle roll in which the plate making roll R needs a processing step from dechroming, plate drop polishing, and mirror polishing, and the cell formation is input to the controller 20 when etching is performed. specify.
The plate making process (F) is a recycle roll in which the plate making roll R needs a processing step from dechroming, plate drop polishing, and mirror polishing, and when a cell is formed by engraving, an input designation to the controller 20 is performed. I do. In the plate making process (G), the plate making roll R is not a recycle roll but a roll used for the first time after the roll is manufactured, and is a plate making roll which is not required to be polished and is immediately inserted from the cell forming step. Is input and designated to the controller 20. In the plate making step (H), the plate making roll R is not a recycle roll but a roll to be used for the first time after the roll is manufactured, and is a plate making roll that requires no polishing and immediately enters from the cell forming step. In this case, the input is designated to the controller 20.
【００２０】製版工程（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）、（Ｈ）
における電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グ
ラデーションの画像部分に対するドット状のセルを形成
するものであり、又、腐食によるセルの形成は、文字輪
郭部が連続状のセルで構成され文字輪郭部で囲まれる部
分がドット状のセルで構成される文字、及びベタ印刷部
分に対応する最シャドウ部の交差部分が断続しているフ
リーフロー形のセルを形成するものである。コントロー
ラ２０へ入力する画像データには、電子彫刻機による画
像彫刻・セルを形成する部分と腐食によるセルを形成す
る部分が指定される。製版工程（Ｂ）、（Ｄ）における
電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、文字及び全
ての画像についてドット状のセルを形成するものであ
る。製版工程（Ａ）、（Ｃ）における腐食によるセルの
形成は、文字及び全ての画像についてドット状のセルを
形成するもので良いが、好ましくは、文字及びグラデー
ションを含んでいないベタ印刷の画像部分については、
文字輪郭部が連続状のセルで構成され文字輪郭部で囲ま
れる部分がドット状のセルで構成される文字、及びベタ
印刷部分に対応する最シャドウ部の交差部分が断続して
いるフリーフロー形のセルで形成し、その他の部分をド
ット状のセルを形成するのが良い。Plate making steps (E), (F), (G), (H)
The image engraving / cell formation by the electronic engraving machine in the above is to form a dot-shaped cell for the gradation image portion, and the formation of the cell by corrosion means that the character outline is composed of a continuous cell and the character is formed. It forms a character in which a portion surrounded by a contour portion is formed of a dot-shaped cell, and a free-flow type cell in which an intersecting portion of a shadow portion corresponding to a solid printing portion is intermittent. In the image data input to the controller 20, a portion for forming an image engraving / cell by the electronic engraving machine and a portion for forming a cell due to corrosion are specified. The image engraving / cell formation by the electronic engraving machine in the plate making steps (B) and (D) is to form dot-shaped cells for characters and all images. The formation of cells due to corrosion in the plate making steps (A) and (C) may be such that dot-shaped cells are formed for characters and all images, but preferably for solid printing image portions that do not contain characters and gradation. about,
A free-flow type in which the character outline is composed of continuous cells and the portion surrounded by the character outline is composed of dot cells, and the intersection of the shadow portion corresponding to the solid printing part is intermittent. It is better to form the cells in the form of dots and the other parts in the form of dots.
【００２１】製版室へ搬入する被製版ロールは、ハンド
リング装置２１の載置板に載せて引き戸を開けて送り込
みロール計測器４に人為的に取り付けてロール計測を行
なう。上記のように、コントローラ２０へ製版工程
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｅ）、又は（Ｆ）の種類別を入力す
るときは、被製版ロールの全長、外径、孔径、及びロー
ル端から一定ピッチ離れる毎の外径等のロールデータを
抽出し、該抽出ロールデータをコントローラに入力す
る。ロール端から一定ピッチ離れる毎の外径等のロール
データを抽出した結果、不適正データのロールであると
きは、人為的に除外する。又、コントローラ２０へ製版
工程（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｇ）、又は（Ｈ）を入力すると
きは、被製版ロールの全長、外径、孔径のロールデータ
を抽出し、該抽出ロールデータをコントローラに入力す
る。製版工程（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｇ）、又は（Ｈ）を入
力するときは、被製版ロールＲがリサイクルロールでは
なくロール製作後初めて使用するロールであり研磨が必
要でなく直ぐにセルの形成工程から入れる被製版ロール
であるので、不適正データのロールがないという前提に
なっている。The plate roll to be carried into the plate making room is placed on the mounting plate of the handling device 21, the sliding door is opened, and the roll is sent to the roll measuring device 4 to perform the roll measurement. As described above, when the type of the plate making process (A), (B), (E), or (F) is input to the controller 20, the length, the outer diameter, the hole diameter, and the roll end of the plate making roll should be calculated. The roll data such as the outer diameter at every predetermined pitch is extracted, and the extracted roll data is input to the controller. As a result of extracting the roll data such as the outer diameter at every predetermined pitch from the roll end, if the roll is incorrect data roll, it is artificially excluded. When the plate making process (C), (D), (G), or (H) is input to the controller 20, roll data of the total length, outer diameter, and hole diameter of the plate making roll is extracted, and the extracted roll data is extracted. Is input to the controller. When the plate making process (C), (D), (G), or (H) is input, the plate making roll R is not a recycle roll but a roll used for the first time after roll production, and polishing is not required. Since it is a plate-making roll to be inserted from the forming step, it is assumed that there is no roll of improper data.
【００２２】製版室へ被製版ロールＲを搬入してロール
計測器４に人為的に取り付ける場合、コントローラ２０
に製版工程の種別を入力する場合、不適正データの被製
版ロールＲをロール計測器４から取り除く場合、及び製
版工程を全て完了して被製版ロールＲをロール搬出装置
５から取り除く場合以外は人為的な作業はない。When the plate making roll R is loaded into the plate making room and is artificially attached to the roll measuring device 4, the controller 20
Except for the case where the type of the plate making process is input to the machine, the case where the plate making roll R of inappropriate data is removed from the roll measuring device 4 and the case where the plate making process R is completed and the plate making roll R is removed from the roll unloading device 5. There is no typical work.
【００２３】[0023]
【発明の効果】本願第一乃至第四発明のグラビア製版方
法は、食刻法によりセルを形成するときの優れた部分と
彫刻法によりセルを形成するときの優れた部分をミック
スした高精細な版が得られる。リサイクルロールのとき
は、被製版ロールのロールデータを抽出してコントロー
ラにデータ入力できて、ロール端から一定ピッチ離れる
毎の外径についてロールデータを抽出した結果、不適正
データのロールであれば人為的に除外でき、落版研磨か
ら鏡面研磨まで全自動で精密な研磨を行うことができ
る。又、リサイクルロールではなくて、ロール製作後初
めて使用するロールであり研磨が必要でなく直ぐにセル
の形成工程から入れる被製版ロールのときは、被製版ロ
ールのロールデータを抽出してコントローラにデータ入
力できる。そして、文字及びグラデーションを含んでい
ないベタ印刷部分を除外した残りの画像部分について彫
刻によりセルの形成を行って精巧な濃淡階調度のドット
状のセルが得られ、次いで文字及びグラデーションを含
んでいないベタ印刷部分について食刻によりセルの形成
を行って、文字輪郭部が連続状のセルで構成され文字輪
郭部で囲まれる部分がドット状のセルで構成される文
字、及びベタ印刷部分に対応する最シャドウ部の交差部
分が断続しているフリーフロー形のセルが得られる。
又、前記とは逆に、食刻によるセルの形成を彫刻による
セルの形成よりも先に行っても良い。もって、食刻法に
よりセルを形成するときの優れた部分と彫刻法によりセ
ルを形成するときの優れた部分をミックスした高精細な
版が得られる。The gravure plate making method of the first to fourth inventions of the present application is a high-definition method in which an excellent portion when forming cells by etching and an excellent portion when forming cells by engraving are mixed. A plate is obtained. In the case of a recycle roll, the roll data of the plate-making roll can be extracted and input to the controller, and the roll data is extracted for the outer diameter at every fixed pitch from the end of the roll. It is possible to perform precise polishing in a fully automatic manner from plate drop polishing to mirror polishing. If the roll is not a recycle roll but a roll to be used for the first time after roll production and requires no polishing, and is to be immediately put into the cell forming process, the roll data of the roll to be made is extracted and input to the controller. it can. Then, cells are formed by engraving with respect to the remaining image portion excluding the solid printing portion that does not include characters and gradation, and a dot-shaped cell with a fine gradation gradation is obtained, and then does not include characters and gradation. A cell is formed by engraving the solid printed portion, and the character outline portion is composed of continuous cells, and the portion surrounded by the character outline portion corresponds to a character composed of dot cells and a solid printed portion. A free-flow type cell in which the intersection of the highest shadow portion is intermittent is obtained.
On the contrary, the formation of the cell by etching may be performed before the formation of the cell by engraving. As a result, a high-definition plate can be obtained in which an excellent portion when forming cells by etching and an excellent portion when forming cells by engraving are mixed.
【００２４】本願第五発明のグラビア製版方法は、以下
の効果を有する。 （１）リサイクルロールであって、セルの形成を食刻に
よる場合は製版工程（Ａ）を、又は彫刻による場合は製
版工程（Ｂ）をそれぞれコントローラ２０へ入力する
と、ロール計測の工程において被製版ロールの全長、外
径、孔径、ロール端から一定ピッチ離れる毎の外径等の
ロールデータを抽出してコントローラにデータ入力でき
て、ロール端から一定ピッチ離れる毎の外径についてロ
ールデータを抽出した結果、不適正データのロールであ
れば人為的に除外でき、落版研磨から鏡面研磨まで全自
動で精密な研磨を行った後に、食刻又は彫刻によりセル
の形成を行ってクロムメッキできる。又、リサイクルロ
ールではなくて、ロール製作後初めて使用するロールで
あり研磨が必要でなく直ぐにセルの形成工程から入れる
被製版ロールであって、セルの形成を食刻による場合は
製版工程（Ｃ）を、又は彫刻による場合は製版工程
（Ｄ）をそれぞれコントローラ２０へ入力すると、ロー
ル計測の工程において被製版ロールの全長、外径、孔径
をコントローラ２０にデータ入力できて、研磨を行なわ
ないで食刻又は彫刻によりセルの形成を行ってクロムメ
ッキできる。リサイクルロールについて、製版工程
（Ｅ）又は（Ｆ）をコントローラ２０へ入力すると、ロ
ール計測の工程において被製版ロールの全長、外径、孔
径、ロール端から一定ピッチ離れる毎の外径を抽出して
コントローラにデータ入力できて、ロール端から一定ピ
ッチ離れる毎の外径について不適正データであればその
被製版ロールを人為的に除外でき、落版研磨から鏡面研
磨まで全自動で精密な研磨を行うことができる。又、リ
サイクルロールではなくて、ロール製作後初めて使用す
るロールであり研磨が必要でなく直ぐにセルの形成工程
から入れる被製版ロールについて、製版工程（Ｇ）又は
（Ｈ）をコントローラ２０へ入力すると、ロール計測の
工程において被製版ロールの全長、外径、孔径を抽出し
てコントローラにデータ入力できて、ロール端から一定
ピッチ離れる毎の外径について不適正データであればそ
の被製版ロールを人為的に除外でき、落版研磨から鏡面
研磨まで全自動で精密な研磨を行うことができる。そし
て、製版工程（Ｅ）、（Ｇ）の場合は、文字及びグラデ
ーションを含んでいないベタ印刷部分を除外した残りの
画像部分について、彫刻によりセルの形成を行って精巧
な濃淡階調度のドット状のセルが得られ、次いで文字及
びグラデーションを含んでいないベタ印刷部分につい
て、食刻によりセルの形成を行って、文字輪郭部が連続
状のセルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット
状のセルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応す
る最シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー
形のセルが得られる。又、製版工程（Ｆ）、（Ｈ）の場
合は前記とは逆に、食刻によるセルの形成が彫刻による
セルの形成より先になる。もって、食刻法によりセルを
形成するときの優れた部分と彫刻法によりセルを形成す
るときの優れた部分をミックスした高精細な版が得られ
る。 （２）夕方に２０本ないし４０本の被製版ロールを次々
に計測して製版の方法とコンテンツをコントローラにデ
ータ入力して製版室内にストックしておいて、夜間に無
人で全自動製版を行うことができる。セルの形成を食刻
により行う製版方法と、セルの形成を彫刻により行う製
版方法のいずれでも自由に選択できるトータルライン装
置を提供できる。 （３）研磨工程が大幅に短縮できてしかも今までよりも
円筒精度が高く、バフ研磨に依らない鏡面研磨を実現で
きる。例えば、#320と#1000と#6000の三種類の研磨砥石
により、補正研磨−落版−表面粗さ微小化研磨―表面粗
さ微小化中仕上げ研磨−鏡面研磨ができる。 （４）なお、実施の形態は、ニッケルメッキの上に付け
る銅メッキの付着強度を強力に確保できる。The gravure printing method of the fifth invention has the following effects. (1) When a recycle roll is used, the plate making step (A) is input to the controller 20 when the cell is formed by etching, or the plate making step (B) is input to the controller 20 when the cell is formed by engraving. Roll data such as the overall length, outer diameter, hole diameter, and outer diameter of each roll at a constant pitch from the roll end can be extracted and input to the controller, and roll data is extracted for the outer diameter of each roll at a constant pitch from the roll end. As a result, if the roll has improper data, it can be artificially excluded, and after performing full precision polishing from plate drop polishing to mirror polishing, cells can be formed by etching or engraving to perform chromium plating. Also, it is not a recycle roll, but a roll used for the first time after the roll is manufactured. It is a plate making roll that does not require polishing and is inserted immediately from the cell forming step. If the cell formation is performed by etching, the plate making step (C) Or, in the case of engraving, the plate making step (D) is input to the controller 20, and the length, outer diameter and hole diameter of the plate making roll can be input to the controller 20 in the roll measuring step, and the polishing can be performed without polishing. Chromium plating can be performed by forming cells by engraving or engraving. When the plate making process (E) or (F) is input to the controller 20 for the recycle roll, the total length, outer diameter, hole diameter, and outer diameter of the roll to be made every time a predetermined pitch from the roll end are extracted in the roll measurement process. If the data can be input to the controller and the improper data on the outer diameter at every fixed pitch from the roll end, the plate-making roll can be excluded artificially, and the precision polishing from plate drop polishing to mirror polishing can be performed fully automatically. be able to. Also, if a plate making process (G) or (H) is input to the controller 20 for a plate making roll which is not a recycle roll but a roll which is used for the first time after the roll is manufactured and which does not require polishing and is immediately put into the cell forming process, In the roll measurement process, the total length, outer diameter, and hole diameter of the plate making roll can be extracted and input to the controller, and if the data is inappropriate for the outside diameter at every fixed pitch from the roll end, the plate making roll is artificially And precise polishing can be performed automatically from plate drop polishing to mirror polishing. In the case of the plate making processes (E) and (G), the remaining image portion excluding the solid printing portion that does not include characters and gradation is formed by engraving to form a cell by engraving to form a dot having a fine gradation gradation. Cells are obtained, and then, for solid printing portions that do not include characters and gradations, cells are formed by etching, and the portion where the character outline is formed of continuous cells and the portion surrounded by the character outline is dot-shaped Is obtained, and a free-flow type cell in which the intersection of the shadow portion corresponding to the solid printed portion is intermittent is obtained. In the case of the plate making steps (F) and (H), on the contrary, the formation of cells by etching precedes the formation of cells by engraving. As a result, a high-definition plate can be obtained in which an excellent portion when forming cells by etching and an excellent portion when forming cells by engraving are mixed. (2) 20 to 40 plate making rolls are measured one after another in the evening, and the method and contents of the plate making are input into the controller and stocked in the plate making room, and then fully automatic plate making is carried out unattended at night. be able to. It is possible to provide a total line device that can freely select either a plate making method in which cells are formed by etching or a plate making method in which cells are formed by engraving. (3) The polishing process can be greatly shortened, the cylindrical accuracy is higher than before, and mirror polishing that does not depend on buff polishing can be realized. For example, with three types of grinding wheels # 320, # 1000 and # 6000, it is possible to perform correction polishing, plate dropping, surface roughness miniaturization polishing, surface roughness miniaturization finishing polishing, and mirror polishing. (4) In the embodiment, the adhesion strength of the copper plating applied on the nickel plating can be secured strongly.
【図１】グラビア製版方法を実施するためのグラビア製
版装置の概略平面図FIG. 1 is a schematic plan view of a gravure plate making apparatus for performing a gravure plate making method.
【図２】グラビア製版方法の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、
（Ｄ）の製版工程図FIG. 2 shows gravure plate making methods (A), (B), (C),
(D) Plate making process diagram
【図３】グラビア製版方法の（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）、
（Ｈ）の製版工程図FIG. 3 shows gravure plate making methods (E), (F), (G),
(H) Plate making process diagram
【符号の説明】 Ｈ１・・・製版室、Ｈ２・・・製版室、１・・・産業ロ
ボット、１a・・・ロボットアーム、１b・・・ロボット
ハンド、２・・・スタッカクレーン、Ｒ・・・被製版ロ
ール、３・・・ロール脱着回転装置、４・・・ロール計
測装置、５・・・ロール搬出装置、６・・・感光膜塗布
装置、７・・・アブレーション用レーザ装置、８・・・
彫刻機、９・・・研磨機、９a、９b・・・粗仕上げ研磨
砥石、９c・・・中仕上げ研磨砥石、９d・・・精密研磨
砥石、１０・・・ロールストック装置、１１・・・脱ク
ロム装置、１２・・・表面活性化装置、１３・・・ニッ
ケルメッキ装置、１４・・・銅メッキ装置、１５・・・
クロムメッキ装置、１６・・・現像装置、１７・・・腐
食装置、１８・・・レジスト画像除去装置、１９・・・
ストック装置、２０・・・システム全体を制御するコン
トローラ、２１・・・ハンドリング装置、[Description of Signs] H1: Plate making room, H2: Plate making room, 1 ... Industrial robot, 1a ... Robot arm, 1b ... Robot hand, 2 ... Stacker crane, R ...・ Plate making roll, 3 ・ ・ ・ Roll detaching / rotating device, 4 ・ ・ ・ Roll measuring device, 5 ・ ・ ・ Roll unloading device, 6 ・ ・ ・ Photosensitive film coating device, 7 ・ ・ ・ Laser device for ablation, 8 ・・ ・
Engraving machine, 9: Polishing machine, 9a, 9b: Rough polishing wheel, 9c: Medium polishing wheel, 9d: Precision polishing wheel, 10: Roll stock device, 11 ... Chromium removal device, 12: Surface activation device, 13: Nickel plating device, 14: Copper plating device, 15:
Chromium plating device, 16: developing device, 17: corrosion device, 18: resist image removing device, 19:
Stock device, 20: controller for controlling the entire system, 21: handling device,
Claims (5)
上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗
仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理
−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面
粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−電子
彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−感光膜塗布
−レーザ露光・潜像形成−現像・レジスト画像形成−腐
食によるセルの形成−レジスト画像除去−クロムメッキ
−搬出からなる製版工程であるグラビア製版方法であっ
て、 前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラ
デーションの画像部分に対するドット状のセルを形成す
るものであり、 前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法。1. Roll-in-Roll measurement-Dechrome treatment-Correction polishing with rough finishing stone-Plate drop by rough finishing grinding-Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing stone-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating- Surface finish miniaturized polishing with semi-finishing wheel-Mirror polishing with precision finishing wheel-Image engraving and cell formation with electronic engraving machine-Cleaning-Photosensitive film coating-Laser exposure and latent image formation-Development and resist image formation-Corrosion A gravure plate-making method, which is a plate-making process including cell formation, resist image removal, chrome plating, and unloading, wherein the image engraving and cell formation by the electronic engraving machine form dot-shaped cells for a gradation image portion. In the formation of the cells by the corrosion, the character outline is composed of continuous cells, and the portion surrounded by the character outline is dot-shaped. Gravure plate making method, wherein the character composed of cells, and the intersection of the outermost shadow portion corresponding to the solid printing portion and forms a free-flow type of the cell that intermittently.
上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗
仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理
−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面
粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−感光
膜塗布−レーザ露光・潜像形成−現像・レジスト画像形
成−腐食によるセルの形成−レジスト画像除去−電子彫
刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−クロムメッキ
−搬出からなる製版工程であるグラビア製版方法であっ
て、 前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラ
デーションの画像部分に対するドット状のセルを形成す
るものであり、 前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法。2. Loading-Roll measurement-Dechrome treatment-Correction polishing by rough finishing stone-Plate drop by rough finishing grinding-Surface roughness reduction polishing by rough finishing stone-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating- Surface finish polishing with medium finishing whetstone-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Photosensitive film coating-Laser exposure and latent image formation-Development and resist image formation-Cell formation by corrosion-Resist image removal-Image by electronic engraving machine A gravure plate making method, which is a plate making process including engraving and cell formation, washing, chrome plating, and carrying out, wherein the electronic engraving machine forms an image engraving cell by forming a dot-shaped cell for a gradation image portion. In the formation of the cells by the corrosion, the character outline is composed of continuous cells, and the portion surrounded by the character outline is dot-shaped. Gravure plate making method, wherein the character composed of cells, and the intersection of the outermost shadow portion corresponding to the solid printing portion and forms a free-flow type of the cell that intermittently.
像彫刻・セルの形成−洗浄−感光膜塗布−レーザ露光・
潜像形成−現像・レジスト画像形成−腐食によるセルの
形成−レジスト画像除去−クロムメッキ−搬出からなる
製版工程であるグラビア製版方法であって、 前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラ
デーションの画像部分に対するドット状のセルを形成す
るものであり、 前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法。3. Carry-in, roll measurement, image engraving with an electronic engraving machine, cell formation, cleaning, photosensitive film coating, laser exposure,
A gravure plate making method, which is a plate making process including latent image formation, development, resist image formation, cell formation by corrosion, resist image removal, chromium plating, and unloading. Forming a dot-shaped cell with respect to the gradation image portion, wherein the formation of the cell by the corrosion is such that the character outline is composed of continuous cells and the portion surrounded by the character outline is a dot-shaped cell. A gravure plate-making method characterized by forming free-flow cells in which intersecting portions of the constituted characters and the shadow portion corresponding to the solid printing portion are intermittent.
露光・潜像形成−現像・レジスト画像形成−腐食による
セルの形成電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗
浄−クロムメッキ−搬出からなる製版工程であるグラビ
ア製版方法であって、 前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラ
デーションの画像部分に対するドット状のセルを形成す
るものであり、 前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法。4. Loading-roll measurement-photosensitive film coating-laser exposure / latent image formation-development / resist image formation-corrosion formation of cells Image engraving by an electronic engraving machine-cell formation-cleaning-chrome plating-exporting In the gravure plate making method, which is a plate making process, the image engraving / cell formation by the electronic engraving machine is to form a dot-shaped cell for a gradation image portion, and the cell formation by the corrosion is Free flow in which the character outline is composed of continuous cells and the portion surrounded by the character outline is composed of dot cells, and the intersection of the shadow portion corresponding to the solid print part is intermittent. A gravure plate-making method characterized by forming a shaped cell.
に、 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による
補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石によ
る表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッ
キ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−感光膜塗布−レーザ
露光・潜像形成−現像・レジスト画像形成−腐食による
セルの形成−レジスト画像除去−クロムメッキ−搬出か
らなる製版工程（Ａ）と、 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による
補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石によ
る表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッ
キ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−電子彫刻機による画
像彫刻・セルの形成−洗浄−クロムメッキ搬出からなる
製版工程（Ｂ）と、 搬入−ロール計測−感光膜塗布−レーザ露光・潜像形成
−現像・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成−レ
ジスト画像除去−クロムメッキ−搬出からなる製版工程
（Ｃ）と、 搬入−ロール計測−電子彫刻機による画像彫刻・セルの
形成−洗浄−クロムメッキ搬出からなる製版工程
（Ｄ）、 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による
補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石によ
る表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッ
キ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−電子彫刻機による画
像彫刻・セルの形成−洗浄−感光膜塗布−レーザ露光・
潜像形成−現像・レジスト画像形成−腐食によるセルの
形成−レジスト画像除去−クロムメッキ−搬出からなる
製版工程（Ｅ）、 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による
補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石によ
る表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッ
キ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−感光膜塗布−レーザ
露光・潜像形成−現像・レジスト画像形成−腐食による
セルの形成−レジスト画像除去−電子彫刻機による画像
彫刻・セルの形成−洗浄−クロムメッキ−搬出からなる
製版工程（Ｆ）、 搬入−ロール計測−電子彫刻機による画像彫刻・セルの
形成−洗浄−感光膜塗布−レーザ露光・潜像形成−現像
・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成−レジスト
画像除去−クロムメッキ−搬出からなる製版工程
（Ｇ）、 搬入−ロール計測−感光膜塗布−レーザ露光・潜像形成
−現像・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成電子
彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−クロムメッ
キ−搬出からなる製版工程（Ｈ）、 の八種類の製版工程のプログラムを格納しておき、 最初に、製版室へ搬入する被製版ロールをロール計測器
に取り付けてロール計測を行なうように構成され、コン
トローラへ製版工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、
（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）、又は（Ｈ）の種類別を入力
し、製版工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｅ）、（Ｆ）のとき
は、被製版ロールの全長、外径、孔径、ロール端から一
定ピッチ離れる毎の外径等のロールデータを抽出してコ
ントローラにデータ入力するとともに、不適正データの
ロールを除外し、製版工程（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｇ）、
（Ｈ）のときは、被製版ロールの全長、外径、孔径のロ
ールデータを抽出してコントローラにデータ入力し、 製版工程（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）、（Ｈ）のときは、 前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラ
デーションの画像部分に対するドット状のセルを形成す
るものであり、 前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法。5. A controller for controlling the entire system, including: loading, roll measurement, dechroming, correction polishing with a rough finishing wheel, plate removal by rough finishing grinding, surface roughness reduction polishing with a rough finishing wheel, surface activation. Processing-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing whetstone-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Coating of photosensitive film-Laser exposure and latent image formation-Development and resist image formation-Cell formation by corrosion-Resist Plate making process (A) consisting of image removal-chrome plating-unloading, and loading-roll measurement-chromium removal treatment-correction polishing with rough finishing whetstone-plate removal by rough finishing grinding-surface roughness miniaturization polishing with rough finishing whetstone- Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing whetstone-Mirror polishing with precision finishing whetstone-Electronic engraving Engraving and cell formation by lithography-Plate making process (B) consisting of cleaning-chrome plating unloading, and loading-roll measurement-photosensitive film coating-laser exposure and latent image formation-development and resist image formation-cell formation by corrosion- Plate making process (C) consisting of removal of resist image-chrome plating-unloading, loading-roll measurement-image engraving and cell formation by electronic engraving machine-cleaning-plate making process consisting of unloading of chrome plating (D), loading-roll measurement -Dechrome treatment-Correction polishing with rough finishing stone-Plate drop by rough finishing grinding-Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing wheel-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface finishing miniaturization with semi-finishing wheel Polishing-Mirror polishing with a precision finishing whetstone-Image engraving with an electronic engraving machine-Cell formation-Cleaning-Photosensitive coating-Laser exposure
Latent image formation-development / resist image formation-cell formation by corrosion-resist image removal-chrome plating-plate making process (E) consisting of unloading, loading-roll measurement-dechroming treatment-correction polishing with rough grinding wheel-rough finishing Plate removal by polishing-Surface roughness miniaturization polishing with rough finishing stone-Surface activation treatment-Nickel plating-Copper plating-Surface roughness miniaturization polishing with medium finishing stone-Mirror polishing with precision finishing stone-Photosensitive film coating-Laser Exposure / latent image formation-development / resist image formation-cell formation by corrosion-resist image removal-image engraving / cell formation by electronic engraving machine-washing-chrome plating-plate making process (F), carry-in-roll Measurement-Engraving of images with an electronic engraving machine-Cell formation-Cleaning-Coating of photosensitive film-Laser exposure, latent image formation-Development, resist image formation-Corrosion by cell Forming of resist-removal of resist image-chrome plating-plate making process (G) consisting of unloading, loading-roll measurement-coating of photosensitive film-laser exposure, latent image formation-development, formation of resist image-formation of cells by corrosion Using an electronic engraving machine Image engraving / cell formation-washing-chrome plating-plate making process (H) consisting of eight types of plate making processes, which are stored in advance. First, the plate making roll to be carried into the plate making room is measured by a roll measuring device. To perform roll measurement, and send a plate making process (A), (B), (C), (D),
(E), (F), (G), or (H) is inputted. In the plate making steps (A), (B), (E), and (F), the total length of the plate making roll, Roll data such as outer diameter, hole diameter, and outer diameter at every constant pitch from the roll end are extracted and input to the controller, and rolls with improper data are excluded, and the plate making process (C), (D), ( G),
In the case of (H), the roll data of the total length, outer diameter, and hole diameter of the plate making roll is extracted and input to the controller, and in the case of the plate making steps (E), (F), (G), and (H), The image engraving / cell formation by the electronic engraving machine is to form a dot-shaped cell for a gradation image portion, and the formation of the cell by the corrosion is constituted by a cell having a character outline portion in a continuous shape. And that the part surrounded by the character outline part is a character composed of dot-shaped cells, and that the intersection part of the most shadow part corresponding to the solid print part forms a free-flow type cell in which the intersection part is intermittent. Gravure plate making method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000000324A JP2001187441A (en) | 2000-01-05 | 2000-01-05 | Gravure printing plate making method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000000324A JP2001187441A (en) | 2000-01-05 | 2000-01-05 | Gravure printing plate making method |
Related Child Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000078740A Division JP2001191476A (en) | 2000-03-21 | 2000-03-21 | Gravure printing plate making method |
| JP2002350268A Division JP4530393B2 (en) | 2002-12-02 | 2002-12-02 | Gravure plate making factory |
| JP2002353059A Division JP4530394B2 (en) | 2002-12-04 | 2002-12-04 | Gravure plate making factory |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001187441A true JP2001187441A (en) | 2001-07-10 |
Family
ID=18529691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000000324A Pending JP2001187441A (en) | 2000-01-05 | 2000-01-05 | Gravure printing plate making method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001187441A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003200549A (en) * | 2002-12-02 | 2003-07-15 | Think Laboratory Co Ltd | Gravure printing plate manufacturing mill |
| JP2003237017A (en) * | 2002-12-04 | 2003-08-26 | Think Laboratory Co Ltd | Gravure platemaking factory |
| CN107175944A (en) * | 2017-04-24 | 2017-09-19 | 太仓丽盛制版有限公司 | The processing method that a kind of electronic engraving gravure roll eliminates band |
| CN107479342A (en) * | 2017-09-23 | 2017-12-15 | 武汉华星光电技术有限公司 | A kind of developing apparatus and developing method |
| CN113510244A (en) * | 2021-04-28 | 2021-10-19 | 湖南新威凌金属新材料科技股份有限公司 | Method and device for producing flaky metal pigment |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02147284A (en) * | 1988-11-29 | 1990-06-06 | Toppan Printing Co Ltd | Gravure printing method |
| JPH09277144A (en) * | 1996-04-11 | 1997-10-28 | Think Lab Kk | Method of printing roll polishing |
| JPH10100371A (en) * | 1996-09-26 | 1998-04-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Cylindrical intaglio and its maintenance method |
| JPH11114800A (en) * | 1997-10-20 | 1999-04-27 | Think Lab Kk | Method for specular-polishing cylindrical body |
| WO1999033660A1 (en) * | 1997-12-24 | 1999-07-08 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | Engraving system and method comprising different engraving devices |
-
2000
- 2000-01-05 JP JP2000000324A patent/JP2001187441A/en active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02147284A (en) * | 1988-11-29 | 1990-06-06 | Toppan Printing Co Ltd | Gravure printing method |
| JPH09277144A (en) * | 1996-04-11 | 1997-10-28 | Think Lab Kk | Method of printing roll polishing |
| JPH10100371A (en) * | 1996-09-26 | 1998-04-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Cylindrical intaglio and its maintenance method |
| JPH11114800A (en) * | 1997-10-20 | 1999-04-27 | Think Lab Kk | Method for specular-polishing cylindrical body |
| WO1999033660A1 (en) * | 1997-12-24 | 1999-07-08 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | Engraving system and method comprising different engraving devices |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003200549A (en) * | 2002-12-02 | 2003-07-15 | Think Laboratory Co Ltd | Gravure printing plate manufacturing mill |
| JP4530393B2 (en) * | 2002-12-02 | 2010-08-25 | 株式会社シンク・ラボラトリー | Gravure plate making factory |
| JP2003237017A (en) * | 2002-12-04 | 2003-08-26 | Think Laboratory Co Ltd | Gravure platemaking factory |
| JP4530394B2 (en) * | 2002-12-04 | 2010-08-25 | 株式会社シンク・ラボラトリー | Gravure plate making factory |
| CN107175944A (en) * | 2017-04-24 | 2017-09-19 | 太仓丽盛制版有限公司 | The processing method that a kind of electronic engraving gravure roll eliminates band |
| CN107479342A (en) * | 2017-09-23 | 2017-12-15 | 武汉华星光电技术有限公司 | A kind of developing apparatus and developing method |
| CN107479342B (en) * | 2017-09-23 | 2020-11-06 | 武汉华星光电技术有限公司 | Developing device and developing method |
| CN113510244A (en) * | 2021-04-28 | 2021-10-19 | 湖南新威凌金属新材料科技股份有限公司 | Method and device for producing flaky metal pigment |
| CN113510244B (en) * | 2021-04-28 | 2022-06-28 | 湖南新威凌金属新材料科技股份有限公司 | Method and device for producing flaky metal pigment |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2556960B1 (en) | Processing system for full-automatic gravure plate making | |
| JP5992429B2 (en) | Remote control method for plate making consumables | |
| JP2001187441A (en) | Gravure printing plate making method | |
| JP4376394B2 (en) | Gravure plate making equipment | |
| JP2001187440A (en) | Gravure printing plate making method | |
| JP2001191475A (en) | Gravure printing plate making method | |
| JP4530393B2 (en) | Gravure plate making factory | |
| JP4530394B2 (en) | Gravure plate making factory | |
| JP4530395B2 (en) | Gravure plate making factory | |
| JP4376395B2 (en) | Gravure plate making equipment | |
| JP2001191476A (en) | Gravure printing plate making method | |
| JP4530396B2 (en) | Gravure plate making factory | |
| JP4029051B2 (en) | Plate factory for gravure printing plate roll and gravure plate factory | |
| JP3940084B2 (en) | Plate factory for printing rolls for gravure printing | |
| JP4587560B2 (en) | Multi-use production, recycling and engraving of rolls for gravure printing | |
| KR20110003084A (en) | The gravure plate for offset printing and the method of manufacturing the same | |
| JP4606602B2 (en) | Processing method of plate roll for gravure printing | |
| JP2005029876A (en) | Copper sulfate plating method | |
| JP2001232747A (en) | Combination factory for making gravure printing plate/ flexographic printing plate | |
| JP4716579B2 (en) | A method of multi-production, recycling processing, and plate making of rolls for gravure printing | |
| JP3953655B2 (en) | Gravure plate making method | |
| JP3953656B2 (en) | Gravure plate making method | |
| JP2002187249A (en) | Method for integrating manufacturing, recycling and plate-making of roll to be set up for gravure printing | |
| JP2002200729A (en) | Method for treating handling of roll to be platemade for gravure print | |
| JP4060603B2 (en) | Direct plate making method of plate roll for gravure printing |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20041015 |
|
| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20041125 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061215 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091204 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100402 |