JP2001185398A

JP2001185398A - 常圧プラズマ処理装置及び処理方法

Info

Publication number: JP2001185398A
Application number: JP36737699A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Nakao; 整中尾; Masahisa Tosaka; 昌久登坂; Naoki Nishiguchi; 直樹西口
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 1999-12-24
Filing date: 1999-12-24
Publication date: 2001-07-06

Abstract

(57)【要約】【課題】１つの処理容器内で連続したプラズマ処理を複
数の原料ガス種に対し同時に行うことを可能とし、さら
に副反応物等の影響をさけながらプラズマ反応領域を広
げる。【解決手段】処理容器内に設置された１つの電極に対
し、複数の電極を対向配置して複数組の電極対を設け、
それら複数組の電極間に大気圧近傍下で電界を印加する
ことにより放電プラズマを発生させて、各電極間でプラ
ズマ処理を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、大気圧近傍の圧力
下で発生させた放電プラズマを利用して基材を処理する
常圧プラズマ処理装置及び処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、低圧条件下でグロー放電プラ
ズマを発生させて、プラスチック、ガラス、セラミック
または金属等の基材材料の表面に接触させることで接着
性や濡れ性を改善したり、薄膜を形成することで機械特
性・電子特性・光学特性等の機能を付与する表面改質処
理法が実用化されている。

【０００３】しかし、低圧条件下における処理は、真空
装置や処理容器等の設備が複雑かつ高価であり、また基
材材料が低圧下で存在できることが条件であるため、工
業的には不利であり、電子部品などの高価な処理品に対
してしか適用されていないのが現状である。

【０００４】一方、近年、大気圧近傍の圧力下でグロー
放電プラズマを発生させる方法が提案されている。例え
ばヘリウムガス雰囲気下で処理を行う方法が特公平２−
４８６２６号公報に開示されており、また、アルゴンガ
スとアセトンガス及び／またはヘリウムガスからなる雰
囲気下で処理を行う方法が特開平４−７４５２５号公報
に開示されている。

【０００５】しかし、これら公報に開示されている方法
は、いずれもヘリウムガスまたはケトン類を含有するガ
ス雰囲気中でプラズマを発生させるものであり、ガス雰
囲気が限定される。さらに、ヘリウムガスは高価である
ため工業的には不利であり、また、有機化合物を含有さ
せたい場合には、有機化合物自身が被処理体と反応する
場合が多く、目的とする表面改質処理ができないことが
ある。

【０００６】従来の大気圧近傍下のグロー放電プラズマ
処理によれば、例えば特願平９−２７８７１号に記載さ
れているように、対向電極として通常１対の電極のみを
使用しているため、異種原料ガスを用いて異なる表面処
理を原料ガス同士の混合をさけながら同時に行うことは
できない。また、異なる表面処理を同時に行うには別に
電極１組とそれを収容する真空チャンバのような処理容
器が必要になる。

【０００７】さらに、対向電極として１対の電極を使用
している場合、プラズマ反応領域を広げるために電極幅
を大きくすると、反応時間が長くなってしまい、原料ガ
ス種によっては目的としない副反応物がプラズマ空間内
で発生し、処理面に悪影響を及ぼすことがある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な実情に鑑みてなされたもので、処理の際のガス雰囲気
を問わず、大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラ
ズマを発生させることができ、さらに副反応物等の影響
をさけながらプラズマ反応領域を広げることができると
ともに、１つの処理容器内で連続したプラズマ処理を複
数の原料ガス種に対し同時に行うことが可能な常圧プラ
ズマ処理装置及び処理方法の提供を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の常圧プラズマ処
理装置は、処理容器内に設置された１つの電極に対し、
複数の電極を対向配置して複数組の電極対を設け、それ
ら複数組の電極間に大気圧近傍下で電界を印加すること
により放電プラズマを発生させて、各電極間でプラズマ
処理を行うように構成されていることによって特徴づけ
られる。

【００１０】本発明の常圧プラズマ処理装置において、
対向配置した複数組の電極間に原料ガスとキャリアガス
を供給・排気するガスノズルには、原料ガスとキャリア
ガスを略均一に供給・排気することができ、かつ電極間
内でのガスの滞留と異種原料ガスの混合が起こらないよ
うにガスを供給・排気することが可能な構造のガスノズ
ルを用いることが好ましい。

【００１１】本発明の常圧プラズマ処理装置において、
各電極間にパルス化された電界を印加すれば、ヘリウム
またはアセトン等のガスを含有する特定のガス雰囲気に
限られることなく、放電プラズマを安定して発生させる
ことができる。すなわち、大気圧近傍の圧力下では、プ
ラズマ放電状態からアーク放電状態に至る時間が長いガ
ス成分以外は、安定してプラズマ状態が保持されずに瞬
時にアーク放電状態に移行するが、パルス化された電界
を印加することにより、各電極間の放電をグロー放電か
らアーク放電に移行する前に停止させることができ、こ
のような周期的なパルス電界を対向電極間に形成するこ
とにより、微視的にパルス的なグロー放電が繰り返し発
生し、結果として安定したグロー放電状態で放電プラズ
マを長期に渡って発生させることが可能になる。

【００１２】本発明の常圧プラズマ処理方法は、上記し
た装置を用いてプラズマ処理を行うにあたり、複数組の
電極間に印加する電界の強度を各電極間ごとに変えるこ
と、また、同様にプラズマ処理を行うにあたり、複数組
の電極間に供給する原料ガスあるいはキャリアガスの種
類を各電極間ごとに変えることによって特徴づけられ
る。

【００１３】本発明の常圧プラズマ処理装置・方法にお
いて、大気圧近傍の圧力とは、１３３００〜１０６４０
０Ｐａの圧力を言い、中でも、圧力調整が容易で装置構
成が簡単となる９３１００〜１０３７４０Ｐａの圧力範
囲とすることが好ましい。

【００１４】本発明の常圧プラズマ処理装置・方法に用
いる電極の材質としては、例えば銅、アルミニウム等の
金属単体、ステンレス、真鍮等の合金あるいは金属化合
物を挙げることができる。また電極表面には誘電体を被
覆しておくことが好ましい。

【００１５】誘電体としては、例えば、ポリテトラフル
オロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラス
チック、ガラス（二酸化珪素）、酸化アルミニウム、二
酸化ジルコニウム、二酸化チタニウム等の金属酸化物、
チタン酸バリウム等の複酸化物等が挙げられる。誘電体
の被膜は均一にかつ強固に電極に密着させる必要があ
り、その被膜厚みは１０^-4〜１０^-6ｍが好ましい。

【００１６】電極の形状と構成は、１つの回転可能なロ
ール電極に対し、それに対向するように複数の曲面電極
を配置することが、連続主産性のうえで好ましい。

【００１７】各電極間に設置する原料供給用ガスノズル
と排気用ガスノズルの各構造及びその配置は、幅方向に
均一な原料ガスの供給・排気が可能で、電極間での原料
ガスの滞留及び電極間外への原料ガスの漏れがなく、ま
た、各電極間で異なる原料ガスを使用する場合は、異種
原料ガスの混ざりがないような構造であることが好まし
い。

【００１８】各電極間に印加する電界の強度は、処理に
用いる原料ガスあるいはキャリアガスに応じて変える必
要がある。また、各電極間で異なる処理を行う場合は、
それぞれ異なる強度の電界を印加して処理を行ってもよ
い。

【００１９】本発明の常圧プラズマ処理装置・方法にお
いて、幅方向に均一なガスの供給・排気を行うために
は、ガスの吹出口・吸引口はスリット状である必要があ
る。また、内部構造についても、スリット状の吹出口・
吸引口に対して平行に孔あき板（多孔板）を設置した
り、あるいは内部にも同様なスリットを設けるなどして
適度な圧力損失を与えるようにする。孔あき板の孔径や
孔のピッチ、あるいはガスノズル内部のスリット幅等の
条件は、原料ガスの種類やガスノズルの大きさ等により
変更する必要があるが、原料ガス供給量及び排気量が十
分確保できる場合、圧力損失が大きくなるように設定し
た方がよい。

【００２０】本発明の常圧プラズマ処理装置・方法にお
いて、各電極間に供給する原料ガス及びキャリアガスの
種類は、各電極間ごとに変えてもよいし、同種のガスと
してもよい。ただし、異種のガスを使用する場合は、ガ
スの混合を防ぐ必要がある場合がある。

【００２１】電極間での原料ガスの滞留を防ぐには、滞
留部分を排気できるようにしたり、あるいは反応性のな
い希ガスなどを滞留部分に供給する等の手段を講じて、
電極間には定常的なガス流れをつくる必要がある。

【００２２】電極間からのガス漏れを防止する場合、基
材供給方向と垂直方向の漏れに対しては、ロール電極と
曲面電極に接触するようにカバーをつけ、基材供給方向
と平行方向の漏れに対しては、スカート状カバーを設置
すればよい。この場合、スカート状カバーとロール電極
との間隔を、ロール電極と曲面電極との間の間隔よりも
十分狭くなるようにすることで、ガスの漏れる方向への
抵抗をつけて、ガス漏れを軽減すればよいが、さらに漏
れが生じる場合には、漏れ分を排気するなどの措置を講
ずればよい。

【００２３】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、以下、図
面に基づいて説明する。

【００２４】図１は本発明の実施の形態の全体構成を模
式的に示す図である。

【００２５】図１に示す常圧プラズマ処理装置は、主と
して、処理容器１０、高電圧パルス電源２０、３０、巻
き出しロール４１、巻き取りロール４２、真空ポンプ
（図示せず）などによって構成されている。

【００２６】処理容器１０の内部には、１つのロール電
極１と、これに隙間（例えば２×１０^-3ｍ）をあけて対
向する２つの曲面電極２、３が設置されている。ロール
電極１と２つの曲面電極２、３の各表面はそれぞれ誘電
体によって被覆されている。また、ロール電極１と２つ
の曲面電極２、３の各内部には、それぞれ温水の循環用
流路（図示せず）が形成されており、その各電極の表面
温度を、基材Ｆの成膜に適した温度（例えば７０℃）に
保持することができる。

【００２７】処理容器１０の内部には、ロール電極１と
一方の曲面電極２との間（放電空間）、及びロール電極
１と他方の曲面電極３との間（放電空間）にそれぞれ原
料ガスを供給する原料供給用ガスノズル４、５と、その
原料ガスを反応後に排気する排気用ガスノズル６、７と
が設置されている。また、原料供給用ガスノズル４、５
間に原料ガスが滞留すること防ぐために、それら原料供
給用ガスノズル４、５間にキャリアガスを供給するキャ
リアガス供給用ノズル８が設置されており、さらに電極
間外への原料ガスの漏れを防ぐためのスカート状カバー
９が、ロール電極１の前後（基材Ｆの走行方向における
前後）に設置されている。このスカート状カバー９は例
えば樹脂製の部材で、ロール電極１の外周面に対して、
電極間の隙間よりも狭い空隙を形成した状態で配置され
ている。なお、処理容器１０の前後には、それぞれ基材
Ｆの入口１１と出口１２が設けられている。

【００２８】原料供給用ガスノズル４、５は、図７の斜
視図（Ａ）及び断面図（Ｂ）に示すように、ガス流入口
１０１ａが設けられた第１室１０１と第２室１０２の２
室によって構成されており、これら第１室１０１と第２
室１０２とは多孔板１０３（図１０参照、孔：φ３×１
０^-3ｍ）によって仕切られている。第２室１０２には、
端部に一様な隙間を有する隙間板１０４が設けられてい
るとともに、縁部近傍にスリット状の吹出口１０５（ス
リット幅：２×１０^-3ｍ）が形成されており、ガス流入
口１０１ａを通じて第１室１０１に流入したガスが、多
孔板１０３を通過して第２室１０２に流入し、隙間板１
０４を回り込んでスリット状の吹出口１０５から層流と
なって放電空間内に吹き出す構造となっている。

【００２９】排気用ガスノズル６、７には、原料供給用
ガスノズル４、５と同じ構造のものが使用されている。

【００３０】キャリアガス供給用ノズル８は、図８の斜
視図（Ａ）及び断面図（Ｂ）に示すように、ガス流入口
２０１ａが設けられた第１室２０１と第２室２０２の２
室によって構成されており、これら第１室２０１と第２
室２０２とは多孔板２０３（図１０参照、孔：φ３ｍ
ｍ）によって仕切られている。第２室２０２は、先端中
央に向かうに従って空間が狭くなる形状（テーパ形状）
となっており、その先端中央部にスリット状の吹出口２
０５（スリット幅：２×１０^-3ｍ）が形成されている。
また、第２室２０２内には、両端部に一様な隙間を有す
る隙間板２０４が設けられており、ガス流入口２０１ａ
を通じて第１室２０１に流入したガスが、多孔板２０３
を通過して第２室２０２に流入し、隙間板２０４を回り
込んでスリット状の吹出口２０５から層流となって吹き
出す構造となっている。

【００３１】そして、以上の構造の常圧プラズマ処理装
置では、真空ポンプによって処理容器１０内を減圧して
略真空状態にした後、ロール電極１と曲面電極２との間
（放電空間）、及びロール電極１と曲面電極３との間
（放電空間）に、原料供給用ガスノズル４、５から原料
ガスを供給するとともに、キャリアガス供給用ノズル８
からキャリアガス（例えばアルゴンガス）を供給しなが
ら、排気用ガスノズル６、７から排気を行い、この状態
で、ロール電極１と曲面電極２との間、及びロール電極
１と曲面電極３との間に、それぞれ、高電圧パルス電源
２０、３０からのパルス電界を印加して放電プラズマを
発生させることができ、その発生プラズマによって、ロ
ール電極１に沿って走行する基材Ｓ上に薄膜を形成する
ことができる。

【００３２】図２は本発明の常圧プラズマ処理装置の他
の実施形態の構成を模式的に示す図である。この実施形
態では、図１に示した常圧プラズマ処理装置において、
原料供給用ガスノズル４、５及びキャリアガス供給用ガ
スノズル８に代えて、原料供給用ガスノズル５０を設置
したところに特徴がある。

【００３３】その原料供給用ガスノズル５０は、図９の
斜視図（Ａ）及び断面図（Ｂ）に示すように、ガス流入
口３０１ａが設けられた第１室３０１と第２室３０２の
２室によって構成されており、これら第１室３０１と第
２室３０２とは多孔板３０３（図１０参照、孔：φ３×
１０^-3ｍ）によって仕切られている。第２室３０２に
は、両端部に一様な隙間を有する隙間板３０４が設けら
れているとともに、先端中央部にスリット状の吹出口３
０５（スリット幅：２×１０^-3ｍ）が形成されており、
ガス流入口３０１ａを通じて第１室３０１に流入したガ
スが、多孔板３０３を通過して第２室３０２に流入し、
隙間板３０４を回り込んでスリット状の吹出口３０５か
ら層流となって放電空間内に吹き出す構造となってい
る。

【００３４】図３は本発明の常圧プラズマ処理装置の別
の実施形態の構成を模式的に示す図である。この実施形
態では、図１に示した常圧プラズマ処理装置において、
排気用ガスノズル６とスカート状カバー９との間、及び
排気用ガスノズル７とスカート状カバー９との間に、そ
れぞれ、排気用ガスノズル６、７と同じ構造のノズル６
０、７０を設置したところに特徴がある。

【００３５】図４は本発明の常圧プラズマ処理装置の更
に別の実施形態の構成を模式的に示す図である。この実
施形態では、排気用ガスノズル６とスカート状カバー９
との間に、排気用ガスノズル６と同じ構造のノズル６０
を設置したところに特徴がある。

【００３６】

【実施例】以下、本発明の実施例を比較例とともに説明
する。＜実施例１＞図１に示した常圧プラズマ処理装置におい
て、処理容器１０内に配置のロール電極１として、直
径：０．４００ｍ、幅：０．８１０ｍ、表面にＴｉＯ2
：２０重量％、Ａｌ2 Ｏ3 ：８０重量％からなる厚み
１×１０^-3ｍの誘電体が溶射法で被覆されているもの
を用いた。また、ロール電極１に対向して配置された２
つの曲面電極２、３として、曲率半径：０．２０２ｍ、
ロール電極１の軸方向幅：０．８１０ｍ、ロール電極１
の回転方向長さ：０．１００ｍ、表面にＴｉＯ2 ：２０
重量％、Ａｌ2 Ｏ3 ：８０重量％からなる厚み１×１０
^-3ｍの誘電体が溶射法で被覆されているものを用い、
これら２つの曲面電極２、３とロール電極１との間隔を
２×１０^-3ｍとした。

【００３７】ロール電極１と曲面電極２との間、及びロ
ール電極１と曲面電極３との間にそれぞれ原料ガスを供
給する原料供給用ガスノズル４、５と、その原料ガスを
反応後に排気する排気用ガスノズル６、７に、それぞ
れ、図７に示す構造・寸法のものを用い、また、原料供
給用ガスノズル４、５間に原料ガスが滞留するのを防ぐ
ためのキャリアガス供給用ノズル８として、図８に示す
構造・寸法のものを用いた。さらに、電極間外への原料
ガスの漏れを防ぐスカート状カバー９を設置し、フィル
ム状基材Ｆ（ＰＥＴフィルム、幅０．７１０ｍ、厚み
０．１８８×１０^-3ｍ）をロール電極１に密着配置し
た。

【００３８】そして、処理容器１０内を１００Ｐａにま
で真空ポンプで排気した後、アルゴンガスを導入して
１．０×１０⁵Ｐａとし、さらにアルゴンガスをアルゴ
ンガス供給口（図示せず）から供給して処理容器１０内
を微加圧しながら、フィルム状基材Ｆが走行する処理容
器１０の入口１１及び出口１２を開放した。

【００３９】次いで、巻き出しロール４１と巻き取りロ
ール４２との間に９８Ｎ／ｍ²の張力をかけながら、走
行速度８．３×１０^-3ｍ／ｓでフィルム状基材Ｆを走行
させるとともに、ロール電極１を、フィルム状基材Ｆの
走行方向にかつ基材走行速度に対応させて回転させた。
このとき、ロール電極１及び２つの曲面電極２、３に温
水を循環させて、各電極の表面温度を７０℃に保持し
た。

【００４０】次に、テトライソプロポキシチタネート
（以下、ＴＴＩＰという）を気化し、ＴＴＩＰの混合量
が０．１体積％となるようにアルゴンガスと混合したも
のを原料ガスとし、この原料ガスを、原料供給用ガスノ
ズル４、５からそれぞれ１．０×１０^-3ｍ³／ｓの流
量、またキャリアガス供給用ノズル８からアルゴンガス
を０．１７×１０^-3ｍ³／ｓの流量にて供給しながら、
排気用ガスノズル６、７からそれぞれ１．１７×１０^-3
ｍ³／ｓの流量で排気した。この状態で、ロール電極１
と曲面電極２との間、及びロール電極１と曲面電極３と
の間に、それぞれ、電圧Ｖp-p ＝４ｋＶ、周波数ｆ＝
３．５ｋＨｚのパルス電界を印加して放電プラズマを発
生させて、フィルム状基材Ｆの表面にプラズマ放電成膜
を行った。＜実施例２＞実施例１において、キャリア供給用ノズル
８から０．１７×１０^-3ｍ³／ｓの流量で排気したこと
以外は、実施例１と同じとしてプラズマ放電成膜を行っ
た。＜実施例３＞実施例１において、テトラメトキシシラン
（以下、ＴＭＯＳという）を気化し、ＴＭＯＳの混合量
が０．２体積％となるように窒素、酸素、アルゴンの混
合ガス（混合比＝窒素：酸素：アルゴン＝１７: ４:
４）と混合したものを原料ガスとし、原料供給用ガスノ
ズル５から原料ガスを０．８３×１０^-3ｍ³／ｓの流量
で供給し、排気用ガスノズル７から０．９２×１０^-3ｍ
³／ｓの流量で排気した状態で、ロール電極１と曲面電
極３との間に、電圧Ｖp-p ＝１２ｋＶ、周波数ｆ＝４ｋ
Ｈｚのパルス電界を印加して放電プラズマを発生させた
こと以外は、実施例１と同じとしてプラズマ放電成膜を
行った。＜実施例４＞実施例１において、原料供給用ガスノズル
４、５及びキャリアガス供給用ガスノズル８に代えて、
図９に示す構造の原料供給用ガスノズル５０を設置し
（図２）、原料供給用ガスノズルからＴＴＩＰを気化
し、ＴＴＩＰの混合量が０．２体積％となるようにアル
ゴンガスと混合した原料ガスを２．０×１０^-3ｍ³／ｓ
の流量で供給したこと以外は、実施例１と同じとしてプ
ラズマ放電成膜を行った。＜実施例５＞実施例１において、排気用ガスノズル６と
スカート状カバー９との間、及び排気用ガスノズル７と
スカート状カバー９との間に、それぞれ、排気用ガスノ
ズル６、７と同じ構造のノズル６０及び７０を設置し
（図３）、原料ガスを排気用ガスノズル６、７から１．
０×１０^-3ｍ³／ｓの流量で排気したこと以外は、実施
例１と同じとしてプラズマ放電成膜を行った。＜実施例６＞実施例１において、排気用ガスノズル６と
スカート状カバー９との間に、排気用ガスノズル６と同
じ構造のノズル６０を設置し（図４）、原料ガスを排気
用ガスノズル６及び原料供給用ガスノズル５からそれぞ
れ１．０×１０^-3ｍ³／ｓで供給し、原料供給用ガスノ
ズル４及び排気用ガスノズル７から１．１７×１０^-3ｍ
³／ｓ、ノズル６０から０．５×１０^-3ｍ³／ｓで排気
したこと以外は、実施例１と同じとしてプラズマ放電成
膜を行った。＜比較例１＞実施例１において、曲面電極２、原料供給
用ガスノズル４及びキャリアガス供給用ノズル８を取り
外し、図５に示すように、排気用ノズル６と原料供給用
ノズル５を密着配置し、原料供給用ガスノズル５から原
料ガスを１．０×１０^-3ｍ³／ｓで排気したこと以外
は、実施例１と同じとしてプラズマ放電成膜を行った。＜比較例２＞比較例１において、曲面電極３のロール電
極回転方向長さを０．２００ｍとしたこと以外は、比較
例１と同じとしてプラズマ放電成膜を行った（図６）。

【００４１】以上の実施例１〜６と比較例１、２の各例
で成膜したフィルムの膜厚及び外観を観察した。膜厚は
エリプソメーター（溝尻光学工業社製、型式ＢＶＡ−３
６ＶＷ）で測定した。その測定結果を表１に示す。

【００４２】

【表１】

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
処理容器内に設置された１つの電極に対し、複数の電極
を対向配置して複数組の電極対を設け、それら複数組の
電極間に大気圧近傍下で電界を印加することにより放電
プラズマを発生させて、各電極間でプラズマ処理を行う
ので、副反応物等の影響をさけながらプラズマ反応領域
を広げることができるとともに、１つの処理容器内で連
続したプラズマ処理を複数の原料ガス種に対して同時に
行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態の構成を模式的に示す図であ
る。

【図２】本発明の他の実施形態の構成を模式的に示す図
である。

【図３】本発明の別の実施形態の構成を模式的に示す図
である。

【図４】本発明の更に別の実施形態の構成を模式的に示
す図である。

【図５】比較例１で用いた常圧プラズマ処理装置の構成
を模式的に示す図である。

【図６】比較例２で用いた常圧プラズマ処理装置の構成
を模式的に示す図である。

【図７】原料供給用ガスノズル及び排気用ガスノズルの
構成を模式的に示す斜視図（Ａ）及び断面図（Ｂ）であ
る。

【図８】キャリアガス供給用ノズルの構成を模式的に示
す斜視図（Ａ）及び断面図（Ｂ）である。

【図９】原料供給用ガスノズルの他の例の構成を模式的
に示す斜視図（Ａ）及び断面図（Ｂ）である。

【図１０】図７〜図９に示すノズルに用いる多孔板の部
分正面図である。

【符号の説明】

１ロール電極２，３曲面電極４，５原料供給用ガスノズル５０原料供給用ガスノズル６，７排気用ガスノズル８キャリアガス供給用ノズル９スカート状カバー１０処理容器１１入口１２出口２０，３０高電圧パルス電源４１巻き出しロール５１巻き取りロール

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】処理容器内に設置された１つの電極に対
し、複数の電極を対向配置して複数組の電極対を設け、
それら複数組の電極間に大気圧近傍下で電界を印加する
ことにより放電プラズマを発生させて、各電極間でプラ
ズマ処理を行うように構成されていることを特徴とする
常圧プラズマ処理装置。
【請求項２】対向配置した複数組の電極間に原料ガス
とこれを搬送するキャリアガスとを略均一に供給・排気
することができ、かつ電極間内でのガスの滞留と異種原
料ガスの混合が起こらないようにガスを供給・排気する
ことが可能な構造のガスノズルを設置したことを特徴と
する請求項１記載の常圧プラズマ処理装置。
【請求項３】請求項１または２記載の常圧プラズマ処
理装置を用いてプラズマ処理を行うにあたり、複数組の
電極間に印加する電界の強度を、各電極間ごとに変える
ことを特徴とする常圧プラズマ処理方法。
【請求項４】請求項１または２記載の常圧プラズマ処
理装置を用いてプラズマ処理を行うにあたり、複数組の
電極間に供給する原料ガスあるいはキャリアガスの種類
を、各電極間ごとに変えることを特徴とする常圧プラズ
マ処理方法。