JP2001163981A - 分岐状オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents

分岐状オルガノポリシロキサンの製造方法

Info

Publication number
JP2001163981A
JP2001163981A JP2000273290A JP2000273290A JP2001163981A JP 2001163981 A JP2001163981 A JP 2001163981A JP 2000273290 A JP2000273290 A JP 2000273290A JP 2000273290 A JP2000273290 A JP 2000273290A JP 2001163981 A JP2001163981 A JP 2001163981A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organopolysiloxane
weight
emulsion
less
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000273290A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3978566B2 (ja
Inventor
Naoki Omura
直樹 大村
Satoshi Kuwata
敏 桑田
Yoshito Osawa
芳人 大沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2000273290A priority Critical patent/JP3978566B2/ja
Publication of JP2001163981A publication Critical patent/JP2001163981A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3978566B2 publication Critical patent/JP3978566B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 (A)下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1は炭素数1〜20の1価有機基、R2は互い
に同一又は異種の炭素数1〜20の1価有機基、R3
水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数1〜2
0の1価有機基を示す。mは1≦m≦100を満足する
数、aは0又は1、bは3又は4であり、a+b=4で
ある。)で示される分岐状オルガノポリシロキサン、及
び(B)低分子オルガノポリシロキサンよりなるオルガ
ノポリシロキサン混合物を、酸性又は塩基性触媒の存在
下で重合することを特徴とする分岐状オルガノポリシロ
キサンの製造方法。 【効果】 本発明によれば、分岐状オルガノポリシロキ
サン及び分岐状オルガノポリシロキサン乳化重合物を重
合時間を短縮して製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、生産性に優れた分
岐状オルガノポリシロキサン及び分岐状オルガノポリシ
ロキサン乳化重合物の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】分岐状
オルガノポリシロキサンは、直鎖状オルガノポリシロキ
サンに比較して、低温特性や、チキソ性に優れることが
従来より知られている。特に近年においては、消泡剤用
途(特開平5−271689号、同8−196811
号、同8−309104号各公報)或いは水性コーティ
ング剤用途(特公昭60−22018号、特開平8−8
5760号各公報)に有用とされている。しかしなが
ら、この分岐構造単位のオルガノポリシロキサン単位へ
の導入は困難を伴うものであった。これらの分岐状オル
ガノポリシロキサンの製造方法としてはすでに報告があ
るが(特開平10−60115号公報)、更に生産性の
向上が求められていた。
【0003】また、従来、分岐状オルガノポリシロキサ
ンエマルジョンの製造方法としては、環状シロキサンと
トリアルコキシシランの乳化重合法(特公昭56−38
609号、特開昭63−286434号公報)が知られ
ている。しかしながら、これらは酸又はアルカリ性触媒
による平衡化反応であるために揮発性の低分子シロキサ
ンをシロキサン中8〜15重量%、一般的には12重量
%程度含有するものであった。
【0004】他方、揮発性の低分子シロキサンを低減化
したオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法と
しては、両末端ヒドロキシオルガノポリシロキサン、触
媒からなるエマルジョンを40℃以下で重合させる方法
(特開平4−178429号公報)、両末端ヒドロキシ
オルガノポリシロキサンと両末端アミノキシオルガノポ
リシロキサンを乳化重合する方法(特開平4−1983
21号公報)、両末端ヒドロキシオルガノポリシロキサ
ンと特定のスルホン酸の存在下乳化重合する方法(特開
平11−71522号公報)などがあるが、分岐状オル
ガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法に関する記
載はない。
【0005】本発明は、上記事情を改善するためになさ
れたもので、分岐状のオルガノポリシロキサンを効率よ
く製造する方法を提供することを目的とする。
【0006】また、本発明は、低分子シロキサン含有量
が少なく、このため繊維処理剤、コーティング剤の主剤
として好適な分岐状オルガノポリシロキサンエマルジョ
ンの製造方法を提供することを他の目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を行っ
た結果、特定の構造を持つ分岐単位を含有するオルガノ
ポリシロキサンと低分子オルガノポリシロキサンよりな
るオルガノポリシロキサン混合物を酸性又は塩基性触媒
の存在下に重合させるか、或いは、このオルガノポリシ
ロキサン混合物に界面活性剤を添加配合して水中に乳化
分散させ、該乳化物中で酸性又は塩基性触媒の存在下に
重合することにより、効率よく分岐状オルガノポリシロ
キサンを製造できることを見出した。
【0008】即ち、本発明は、(A)下記一般式(1)
【化4】 (式中、R1は炭素数1〜20の1価有機基、R2は互い
に同一又は異種の炭素数1〜20の1価有機基、R3
水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数1〜2
0の1価有機基を示す。mは1≦m≦100を満足する
数、aは0又は1、bは3又は4であり、a+b=4で
ある。)で示される分岐状オルガノポリシロキサン、及
び(B)低分子オルガノポリシロキサンよりなるオルガ
ノポリシロキサン混合物を、酸性又は塩基性触媒の存在
下で重合することを特徴とする分岐状オルガノポリシロ
キサンの製造方法、及び上記(A)成分及び(B)成分
よりなるオルガノポリシロキサン混合物に、(C)酸性
又は塩基性の界面活性剤を添加して水中に乳化分散さ
せ、該乳化物中で重合することを特徴とする分岐状オル
ガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【0009】また、本発明者は、揮発性の低分子シロキ
サンを低減化した分岐状オルガノポリシロキサンエマル
ジョンを得るため鋭意検討を行った結果、それぞれケイ
素原子数が10以下の環状低分子シロキサン含有量が5
重量%以下である末端ヒドロキシ分岐単位含有オルガノ
ポリシロキサンと末端ヒドロキシジオルガノポリシロキ
サンとを酸性又は塩基性触媒の存在下、水と界面活性剤
を用いて縮重合することにより、ケイ素原子数10以下
の環状低分子シロキサン含有量が5重量%以下である分
岐状オルガノポリシロキサンエマルジョンが得られ、こ
れは低分子シロキサンの揮散が少ないので、環境汚染の
少ない繊維処理剤やコーティング剤として有用であるこ
とを知見した。
【0010】従って、本発明は、更に、(D)下記一般
式(2)
【化5】 (式中、R1は炭素数1〜20の1価有機基、R2は互い
に同一又は異種の炭素数1〜20の1価有機基、pは4
≦p≦100を満足する整数、aは0又は1、bは3又
は4であり、a+b=4である。)で示され、かつケイ
素原子数が10以下の環状低分子シロキサン含有量が5
重量%以下である分岐状オルガノポリシロキサン、
(E)下記一般式(3)
【化6】 (式中、R4は炭素数1〜20の1価有機基、qは10
≦q≦700を満足する整数を示す。)で示され、かつ
ケイ素原子数が10以下の環状低分子シロキサン含有量
が5重量%以下である末端ヒドロキシオルガノポリシロ
キサンよりなるオルガノポリシロキサン混合物を酸性又
は塩基性触媒の存在下で縮重合することを特徴とするケ
イ素原子数が10以下の環状低分子シロキサン含有量が
5重量%以下である分岐状オルガノポリシロキサンの製
造方法、及び上記(D)成分及び(E)成分よりなるオ
ルガノポリシロキサン混合物に、(C)酸性又は塩基性
の界面活性剤を添加して水中に乳化分散させ、該乳化物
中で重合することを特徴とするケイ素原子数が10以下
の環状低分子シロキサン含有量が5重量%以下である分
岐状オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【0011】以下、本発明につき、更に詳しく説明す
る。本発明の第1の分岐状オルガノポリシロキサンの製
造方法は、下記(A)、(B)成分、更に必要により下
記(C)成分を使用する。(A)成分 本発明の出発原料として使用する分岐構造単位を含有す
る(A)成分の分岐状オルガノポリシロキサンは、下記
一般式(1)で表されるものである。
【0012】
【化7】
【0013】ここで、R1は炭素数1〜20の1価有機
基、R2は互いに同一又は異種の炭素数1〜20の1価
有機基、R3は水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基又
は炭素数1〜20の1価有機基であり、1≦m≦100
である。
【0014】このR1としては、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサ
デシル、オクタデシル、エイコシル等のアルキル基、シ
クロペンチル、シクロヘキシルなどのシクロアルキル
基、ビニル、アリル等のアルケニル基、フェニル、トリ
ル、ナフチル等のアリール基、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキ
シ、オクチルオキシ、デシルオキシ、テトラデシルオキ
シ等のアルコキシ基、或いはこれらの有機基構造中の水
素原子の一部をハロゲン原子や、アミノ、アクリロキ
シ、メタクリロキシ、エポキシ、メルカプト、カルボキ
シル等の極性基含有の有機基で置換したものなどが挙げ
られる。これらの中ではメチル、ビニル、フェニルなど
が特に好ましいものである。
【0015】また、R2としては上記R1と同様の1価有
機基から選択される1種又は2種以上の1価有機基が挙
げられるが、90モル%以上がメチル基であることが特
に好ましい。
【0016】R3としては、水酸基、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシな
どのアルコキシ基、或いは、上記R1と同様の1価有機
基が挙げられるが、これらの中では水酸基が特に好まし
い。
【0017】また、mは1未満であると重合速度が小さ
くなるし、100を超えると(A)成分の配合量が多く
なり、非効率となることから、mは平均数で1≦m≦1
00とされるが、好ましくは10≦m≦50である。a
は0又は1、bは3又は4であり、a+b=4である。
【0018】この(A)成分の製造方法は必ずしも限定
されるものではないが、例えば、下記一般式(4)又は
(5)で表されるクロロシラン化合物と下記一般式
(6)で表される水酸基含有オルガノポリシロキサンと
の脱塩酸反応等により容易に得ることができる。 R1SiCl3 (4) SiCl4 (5)
【0019】
【化8】 (式中、R1,R2,R3,mは上記と同じ。)
【0020】(B)成分 本発明の出発原料として使用する(B)成分としての低
分子オルガノポリシロキサンとしては、特に制限されな
いが、環状オルガノポリシロキサン、末端がトリオルガ
ノシリル基、ジオルガノモノヒドロキシシリル基もしく
はジオルガノモノアルコキシシリル基で封鎖された鎖状
オルガノポリシロキサン又はこれらの混合物が好適に用
いられる。
【0021】ここで、環状オルガノポリシロキサンとし
ては、下記一般式(7)で示されるものが好ましく、具
体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタ
メチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペン
タシロキサン、1,1−ジエチルヘキサメチルシクロテ
トラシロキサン、フェニルヘプタメチルシクロテトラシ
ロキサン、1,1−ジフェニルヘキサメチルシクロテト
ラシロキサン、1,2,3,4−テトラビニル−1,
2,3,4−テトラメチルシクロテトラシロキサン、
1,2,3,4−テトラメチルシクロテトラシロキサ
ン、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−
テトラフェニルシクロテトラシロキサンなどが例示され
る。
【0022】
【化9】
【0023】ここで、R5は水素原子又は炭素数1〜8
の1価炭化水素基であり、1価炭化水素基としては、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル
等のアルキル基、シクロヘキシル等のシクロアルキル
基、ビニル、アリル等のアルケニル基、フェニル等のア
リール基、ベンジル等のアラルキル基や、これらの基の
水素原子の一部又は全部が塩素、フッ素等のハロゲン原
子で置換された基などを挙げることができる。なお、R
5は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、
qは3≦q≦8を満足する整数である。
【0024】また、上記末端封鎖基を有する鎖状オルガ
ノポリシロキサンとしては、下記一般式(8)で示され
るものが好ましく、具体的には、ヘキサメチルジシロキ
サン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラ
シロキサン、ヘキサデカメチルヘプタシロキサン、ヘキ
サエチルジシロキサン、テトラメチルジエチルジシロキ
サン、テトラメチルジビニルジシロキサン、テトラメチ
ルジヒドロキシジシロキサン、テトラメチルジメトキシ
ジシロキサン、オクタメチルジヒドロキシテトラシロキ
サン、オクタメチルジメトキシテトラシロキサン等が例
示される。
【0025】
【化10】
【0026】ここで、R5は上記と同じである。R6は水
酸基、炭素数1〜8のアルコキシ基又はR5を示し、0
≦r≦40である。
【0027】本発明の一つの態様としては、上記(A)
成分と(B)成分のオルガノポリシロキサン混合物に酸
性又は塩基性触媒を更に添加配合し、通常10〜200
℃において重合を行い、その後は中和する製造方法であ
る。この酸性又は塩基性触媒としては、従来公知のもの
が使用でき、具体的には、酸性触媒としては硫酸、リン
酸、塩酸、硝酸等の無機酸、メタンスルホン酸、トリフ
ロロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸などの
有機酸などが挙げられ、塩基性触媒としては、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウムなどの無機
アルカリ化合物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシ
ド、テトラブチルホスホニウムヒドロキシド等の有機ア
ルカリ化合物及びこれらのシラノレート化合物が挙げら
れる。
【0028】なお、(A)成分と(B)成分からなるオ
ルガノポリシロキサン混合物中の(A)成分の配合量は
0.1重量%未満であると重合速度が低下するし、50
重量%を超えると得られる分岐状オルガノポリシロキサ
ンの粘度が高くなりすぎるおそれがあるため、0.1〜
50重量%がよい。好ましくは1〜20重量%である。
【0029】また、上記反応において、酸性触媒を用い
る場合、酸性触媒の強度、及びシロキサンの重合度にも
よるが、酸性触媒の量はシロキサンに対して、0.1〜
10mol%、好ましくは0.2〜5mol%が好適に
使用される。反応条件は、温度は室温〜70℃の範囲で
行われることが好ましく、反応時間は通常3〜8時間で
ある。塩基性触媒を用いる場合、塩基性触媒の強度、及
びシロキサンの重合度にもよるが、塩基性触媒の量はシ
ロキサンに対して、0.001〜1.0mol%、好ま
しくは0.01〜0.1mol%が好適に使用される。
反応条件は、温度は70〜150℃の範囲で行われるこ
とが好ましく、反応時間は通常3〜8時間である。これ
らの反応は通常無溶媒で行われるが、粘度が高い場合
や、触媒の活性を向上させる目的で、トルエン、キシレ
ン、アセトン、THF等の溶媒を使用しても差し支えな
い。
【0030】本発明のもう一つの態様としては、上記
(A)成分と(B)成分のオルガノポリシロキサン混合
物に、更に下記(C)成分として界面活性剤を添加配合
して、水中に乳化分散させた後、10〜80℃におい
て、酸性又は塩基性触媒の存在下に乳化重合を行い、中
和して、分岐状オルガノポリシロキサン乳化重合物を得
る方法である。
【0031】(C)成分 (C)成分の界面活性剤としては、酸性又は塩基性の界
面活性剤を使用することができる。この種の酸性又は塩
基性の界面活性剤は、上記(A)、(B)成分の混合物
の乳化剤として作用すると共に、重合触媒(酸性又は塩
基性触媒)として作用し、従ってこの酸性又は塩基性の
界面活性剤を使用する場合は、別途重合触媒(酸性又は
塩基性触媒)を添加しなくてもよい。また、界面活性剤
として、このような重合触媒作用を有さない界面活性
剤、例えばノニオン系界面活性剤(ノニオン系乳化剤)
を安定性を良好にするため用いることもでき、この場合
は先に例示した酸性又は塩基性の界面活性剤と併用す
る。
【0032】この場合、上記(A)成分と(B)成分と
のオルガノポリシロキサン混合物の乳化剤兼重合触媒と
して作用する酸性の界面活性剤としては、特に制限され
ないが、下記一般式(9)〜(12)で示されるものが
挙げられる。
【0033】
【化11】 (式中、R7,R8はそれぞれ炭素数6以上の脂肪族1価
炭化水素基、s,tは1〜20の整数である。)
【0034】ここで、式(9)〜(12)における
7,R8は、それぞれ炭素数6以上、好ましくは6〜1
8の脂肪族1価炭化水素基であり、例えばヘキシル、オ
クチル、デシル、セチル、ステアリル、ミリスチル、オ
レイル、ノネニル、オクチニル、フィチル、ペンタデカ
ジエニル各基が挙げられる。これらの具体例としては、
ヘキシルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、セチルベンゼンス
ルホン酸、オクチルサルフェート、ラウリルサルフェー
ト、オレイルサルフェート、セチルサルフェート、ポリ
オキシエチレンノニルフェニルサルフェート、ポリオキ
シエチレンドデシルフェニルエーテルサルフェート、ポ
リオキシエチレン化ラウリルサルフェート、ポリオキシ
エチレン化オレイルサルフェート、ポリオキシエチレン
化セチルサルフェートなどが挙げられる。
【0035】更に触媒作用の弱いアニオン系界面活性剤
も上記酸性界面活性剤と併用して使用することができ
る。このようなアニオン系界面活性剤としては上記式
(9)〜(12)のナトリウム塩、カリウム塩、アンモ
ニウム塩などが挙げられる。また、これら以外にも、例
えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテルカルボン
酸、ポリオキシエチレンステアリルエーテルカルボン
酸、ポリオキシエチレンオクチルエーテルカルボン酸、
及びそれらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム
塩等を併用してもよい。
【0036】また、上記の酸性界面活性剤と、塩酸、硫
酸、リン酸等の無機酸を併用することも可能である。本
発明においては、上記のオルガノポリシロキサン混合物
を上述の酸性界面活性剤により水中に乳化分散させた
後、好ましくは10〜80℃において重合を行う。この
重合温度が10℃より低いと重合速度が遅くなり、80
℃より高いと重合中に乳化物の安定性が低下するおそれ
がある。重合時間としては、通常1〜50時間、好まし
くは5〜30時間であり、静置或いは1〜100rpm
の緩やかな撹拌下に行うことが好ましい。この重合反応
終了後は、アルカリ性物質を添加することでpH4〜9
に中和することが好ましい。このpHは4より小さくて
も、9より大きくても得られる乳化物の安定性が低下す
るおそれがあるため、4〜9であることが好ましく、よ
り好ましくは5〜8である。この時のアルカリ性物質と
しては水酸化アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、
アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩等の無機
アルカリ化合物、アンモニア、有機アミン等の有機アル
カリ化合物が挙げられる。
【0037】なお、この初期の乳化分散は、上記(A)
〜(C)成分を水と共に従来公知の乳化機を用いて行え
ばよく、ホモジナイザー、マイクロフルイダイザー、ナ
ノマイザー(以上、何れも商品名)、コロイドミル、ホ
モミキサー、アジホモミキサー(商品名)、コンビミキ
サー(商品名)等が挙げられる。
【0038】次に、(A)成分と(B)成分との混合物
の乳化剤兼重合触媒として作用する塩基性の界面活性剤
としては、特に制限されないが、下記一般式(13)で
示されるものが挙げられる。 R9101112NOH (13) (式中、R9は炭素数6以上の脂肪族1価炭化水素基、
10〜R12は炭素数1〜8の1価炭化水素基である。)
【0039】ここで、R9は炭素数6以上、好ましくは
6〜18の脂肪族1価炭化水素基、例えばヘキシル、オ
クチル、デシル、セチル、ステアリル、ミリスチル、オ
レイル、ノネニル、オクチニル、フィチル、ペンタデカ
ジエニル各基が挙げられる。また、R10〜R12は炭素数
1〜8の1価炭化水素基であり、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、フェニル、ベンジ
ル各基が挙げられる。
【0040】これらの具体例としては、デシルトリメチ
ルアンモニウムヒドロキシド、ラウリルトリメチルアン
モニウムヒドロキシド、セチルトリメチルアンモニウム
ヒドロキシド、ステアリルトリメチルアンモニウムヒド
ロキシド、ベンジルジメチルドデシルアンモニウムヒド
ロキシド等が挙げられる。
【0041】更に、触媒作用の弱いカチオン系界面活性
剤も上記の塩基性界面活性剤と併用して使用することが
できる。このようなカチオン系界面活性剤としては、上
記式(13)の塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸
塩や、他のアルキルアミン塩、ポリアミン、アミノアル
コール、脂肪酸誘導体等のアミン塩、ピリジニウム塩、
イミダゾリウム塩等が挙げられる。
【0042】また、上記の塩基性界面活性剤と、水酸化
アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、アルカリ金属
炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩などの無機アルカリ化
合物或いはアンモニア、有機アミンなどの有機アルカリ
化合物を併用することも可能である。
【0043】なお、この場合の乳化分散、重合について
は、上述の(C)成分が酸性界面活性剤の場合と同様に
実施すればよいが、中和においては、酸性物質を添加す
ることで、pHを好ましくは4〜9、より好ましくは5
〜8とする。この時の酸性物質としては、塩酸、臭化水
素酸、硫酸、リン酸等の無機酸や、ギ酸、酢酸、乳酸、
プロピオン酸、マロン酸、クエン酸などの有機酸等が挙
げられる。
【0044】更に、本発明においては、(C)成分とし
て上記触媒作用の弱いアニオン系界面活性剤、触媒作用
の弱いカチオン系界面活性剤が使用でき、この場合に
は、前者においては酸、後者の場合にはアルカリ化合物
を重合触媒として添加することが好ましい。また、
(C)成分としてノニオン系界面活性剤(ノニオン系乳
化剤)を併用することができ、この場合には、上記酸性
又は塩基性の界面活性剤の触媒作用を損なわない範囲で
添加する必要がある。
【0045】上記ノニオン系界面活性剤としては、特に
制限されるものではないが、HLBが6〜20のものが
好ましく、このようなものとして例えばモノラウリン酸
ポリオキシエチレン(6)ソルビタン、モノパルミチン
酸ポリオキシエチレン(20)ソルビタン、モノステア
リン酸ポリオキシエチレン(20)ソルビタン、トリオ
レイン酸ポリオキシエチレン(20)ソルビタン、ポリ
オキシエチレン(6)ラウリルエーテル、ポリオキシエ
チレン(7)セチルエーテル、ポリオキシエチレン(1
2)ステアリルエーテル、ポリオキシエチレン(9)オ
クチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン(11)
ノニルフェニルエーテル、モノステアリン酸ポリエチレ
ングリコール(14)、ジステアリン酸ポリエチレング
リコール(80)、ポリオキシエチレン(25)硬化ヒ
マシ油等が挙げられる。
【0046】このような触媒作用の弱いアニオン系又は
カチオン系界面活性剤と、酸又はアルカリ性化合物(酸
性又は塩基性触媒)とを用いて乳化分散、重合するに
は、上記と同様に行えばよい。
【0047】これらの態様においての配合量は、(A)
成分及び(B)成分からなるオルガノポリシロキサン混
合物が10〜80重量%、(C)成分が0.1〜10重
量%及び水が残部とするのがよい。ここで、オルガノポ
リシロキサン混合物が10重量%未満であると、安定性
に劣るものになるし、80重量%を超えると粘度が増加
して、生産効率が低下するおそれがあることから、10
〜80重量%とすることがよいが、特に好ましくは30
〜60重量%である。また、(C)成分が0.1重量%
未満であると、重合速度が小さくなるし、10重量%を
超えるとオルガノポリシロキサンの特性を阻害するおそ
れがある。特に好ましくは0.5〜5重量%である。な
お、残部は水である。
【0048】この場合、上記オルガノポリシロキサン混
合物中の(A)、(B)成分の割合は上述した通りであ
る。
【0049】更に、上記の乳化重合によって得られる本
発明の分岐状オルガノポリシロキサン乳化重合物の安定
性を向上させるために、他のアニオン系界面活性剤、ノ
ニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、或いは両
性系界面活性剤を本発明の目的を損なわない範囲で乳化
重合後、或いは中和後に添加してもよい。このアニオン
系界面活性剤としては、例えば高級アルコール硫酸エス
テル塩、アルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩、ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩、高級アルコールリン酸エ
ステル塩、エトキシ化高級アルコール硫酸エステル塩、
エトキシ化アルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩、
エトキシ化高級アルコールリン酸塩等が挙げられ、ノニ
オン系界面活性剤としては、例えばエトキシ化高級アル
コール、エトキシ化アルキルフェノール、多価アルコー
ル脂肪酸エステル、エトキシ化多価アルコール脂肪酸エ
ステル、エトキシ化脂肪酸、エトキシ化脂肪酸アミド、
ソルビトール、ソルビタン脂肪酸エステル、エトキシ化
ソルビタン脂肪酸エステル、しょ糖脂肪酸エステルなど
が挙げられ、カチオン系界面活性剤としては、アルキル
アミン塩、ポリアミン及びアミノアルコール脂肪酸誘導
体などのアミン塩、アルキル4級アンモニウム塩、芳香
族4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリウ
ム塩等が挙げられ、両性系界面活性剤としては、ベタイ
ン類、アミノカルボン酸塩、イミダゾリン誘導体等が挙
げられる。
【0050】上記方法によれば、分岐状オルガノポリシ
ロキサン及び分岐状オルガノポリシロキサン乳化重合物
を重合時間を短縮して製造することができる。
【0051】次に、本発明の第2の分岐状オルガノポリ
シロキサンの製造方法においては、下記(D)、(E)
成分及び上記(C)成分、水を使用する。(D)成分 本発明の出発原料として使用する分岐構造単位を含有す
る(D)成分のオルガノポリシロキサンは、下記一般式
(2)で示されるものであり、かつケイ素原子数が10
以下の環状低分子シロキサンの含有量が5重量%以下の
ものである。
【0052】
【化12】
【0053】ここで、R1は炭素数1〜20の1価有機
基、R2は互いに同一又は異種の炭素数1〜20の1価
有機基、pは4≦p≦100である。
【0054】このR1としてはメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサ
デシル、オクタデシル、エイコシル等のアルキル基、シ
クロペンチル、シクロヘキシルなどのシクロアルキル
基、ビニル、アリル等のアルケニル基、フェニル、トリ
ル、ナフチル等のアリール基、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキ
シ、オクチルオキシ、デシルオキシ、テトラデシルオキ
シ等のアルコキシ基、或いはこれらの有機基構造中の水
素原子の一部をハロゲン原子や、アミノ、アクリロキ
シ、メタクリロキシ、エポキシ、メルカプト、カルボキ
シル等の極性基含有の有機基で置換したものなどが挙げ
られる。これらの中ではメチル、ビニル、フェニルなど
が特に好ましいものである。
【0055】また、R2としては上記R1と同様の1価有
機基から選択される1種又は2種以上の1価有機基が挙
げられるが、90モル%以上がメチル基であることが特
に好ましい。
【0056】上記オルガノポリシロキサン中のケイ素原
子数が10以下の環状低分子シロキサン含有量が5重量
%より多い場合には、重合後のシロキサンポリマー中の
揮発性低分子シロキサン含有量が5重量%を超えてしま
う可能性があるため、5重量%以下、好ましくは4重量
%以下、より好ましくは3重量%以下まで低分子シロキ
サン量を調節したものを使用する必要がある。pは4よ
り小さいとケイ素原子数10以下の環状低分子シロキサ
ン含有量を5重量%以下に調節するのが難しく、100
より大きいと乳化した際のエマルジョン安定性が悪くな
ることから4≦p≦100である必要がある。また、分
岐状シロキサンであることからa+b=4で、かつaは
0又は1、bは3又は4である必要があり、縮合反応時
の反応性の面から末端基はヒドロキシル基である必要が
ある。
【0057】このような分岐状シロキサンは、両末端ヒ
ドロキシジメチルポリシロキサンとトリクロロメチルシ
ラン、トリクロロフェニルシラン、トリクロロビニルシ
ラン、テトラクロロシランなどのクロロシランとの脱塩
酸反応のような公知の方法で合成することができる。
【0058】(E)成分 (E)成分は、下記一般式(3)で示され、かつケイ素
原子数が10以下の環状低分子シロキサン含有量が5重
量%以下である末端ヒドロキシオルガノポリシロキサン
である。
【0059】
【化13】 (式中、R4は炭素数1〜20の1価有機基、qは10
≦q≦700を満足する整数を示す。)
【0060】ここで、R4は上記R1,R2と同様のもの
が挙げられるが、好ましくはメチル基である。このオル
ガノポリシロキサン中のケイ素原子数が10以下の環状
低分子シロキサン含有量が5重量%より多い場合には、
重合後のシロキサンポリマー中の揮発性低分子シロキサ
ン含有量が5重量%を超えてしまう可能性があるため、
5重量%以下、好ましくは4重量%以下、より好ましく
は3重量%以下、更に好ましくは2重量%以下まで低分
子シロキサン量を調節したものを使用する必要がある。
更に、qは10より小さいとケイ素原子数10以下の環
状低分子シロキサン含有量を5重量%以下に調節するの
が難しく、700より大きいとエマルジョン化した際の
安定性が悪くなることから10≦q≦700である必要
があり、縮合反応時の反応性の面から未端基はヒドロキ
シル基である必要がある。
【0061】上記(D)成分は(A)成分に、(E)成
分は(B)成分にそれぞれ対応し得、従ってこれら
(D)、(E)成分の配合割合はそれぞれ(A)、
(B)成分の配合割合と同様である。また、(C)成分
の配合割合も上記と同様である。
【0062】上述した(D)成分、(E)成分、(C)
成分をホモミキサー、ホモジナイザーなどの乳化機を使
用して水中に均一に乳化分散した後、液温度を0〜30
℃として必要に応じて触媒として硫酸、塩酸などの酸性
物質又は水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどのアル
カリ性物質を添加し、5〜200時間重合反応を実施す
る。重合時間が5時間より短い場合は縮重合反応が不十
分であり、200時間より多くても縮重合反応による重
合度変化はないことから不経済となるため、5〜200
時間であることが好ましく、より好ましくは、10〜1
00時間である。なお、この際(C)成分である界面活
性剤としてアルキルベンゼンスルホン酸のような酸型界
面活性剤を使用する場合には、それ自身が触媒として作
用するため触媒をあらたに添加する必要はない。重合時
の液温度が30℃を超える場合には平衡化反応が優先的
に進行するため低分子シロキサンが副生してしまう。こ
のため、シラノール同士の縮合反応を優先的に進行させ
るため液温度は30℃以下であることが好ましい。0℃
より低い場合には凍結によりエマルジョン安定性が悪く
なってしまうので、0〜30℃であることが好ましく、
より好ましくは0〜25℃、更に好ましくは0〜20℃
である。重合終了後は酸性触媒を使用した場合には炭酸
ナトリウム、アンモニア、水酸化ナトリウム、トリエタ
ノールアミンなどのアルカリ性物質で、アルカリ性触媒
を使用した場合には酢酸、ギ酸、リン酸、塩酸などの酸
性物質で中和すればよい。
【0063】このようにして得られる分岐状オルガノポ
リシロキサンエマルジョンは、下記一般式(14)で示
されるものであり、これはケイ素原子数10以下の環状
低分子シロキサン含有量が5重量%以下のものである。
【0064】
【化14】 (式中、R1,R2,R4,a,b,pは上記と同じであ
り、xは正数、特に10≦x≦4,000である。)
【0065】上記のようにして得られた分岐状オルガノ
ポリシロキサンエマルジョンは、これに皮膜補強剤、密
着向上剤、触媒などを配合したエマルジョン組成物にす
ることで、水を除去するだけで容易にゴム皮膜を形成す
るため、コーティング剤などとして有用である。
【0066】上記方法によれば、低分子シロキサン含有
量が低減した分岐状オルガノポリシロキサンエマルジョ
ンを効率よく確実に製造することができる。
【0067】
【実施例】以下に本発明の具体的態様を実施例、比較例
により更に詳しく説明するが、本発明は以下の例によっ
て限定されるものではない。なお、実施例中の粘度は2
5℃における値である。
【0068】
【化15】
【0069】還流管、温度計、滴下ロート、撹拌羽根を
備えた1000mlのガラスフラスコに、予め共沸脱水
したトルエン450gと以下の平均構造式で示されるオ
ルガノポリシロキサン(a−1)115.1g(0.0
9mol)を仕込み、ピリジン7.8g(0.099m
ol)を添加し、均一に混合した後、フェニルトリクロ
ロシラン6.35g(0.03mol)を10分かけて
室温で滴下した。白色のピリジン塩酸塩の生成が見ら
れ、フラスコ温度は35℃まで上昇した。滴下終了後、
1時間撹拌し、更に80℃に昇温して1時間撹拌した。
冷却後、ピリジン塩酸塩を濾別し、濾液を5%硫酸ナト
リウム水溶液で2回洗浄した。ピリジン塩酸塩の乾燥後
重量は10.7gであり(理論生成量10.4g)、反
応がほぼ定量的に進んだことが確認された。
【0070】
【化16】
【0071】上記濾液に無水硫酸ナトリウムを投入し、
1日乾燥後、無水硫酸ナトリウムを濾別し、ストリップ
によりトルエンを除去することにより、粘度115cp
の無色液体が108g得られた。
【0072】29Si−NMRにより同定を行ったとこ
ろ、上記(A−1)の構造式であることが確認された。
【0073】
【化17】
【0074】製造例1においてフェニルトリクロロシラ
ンのかわりに、メチルトリクロロシラン4.5g(0.
03mol)を使用した他は、製造例1と全く同じ方法
で合成を行ったところ、粘度102cpの無色液体が1
04g得られた。
【0075】29Si−NMRにより同定を行ったとこ
ろ、上記(A−2)の構造式であることが確認された。
【0076】
【化18】
【0077】製造例1においてフェニルトリクロロシラ
ンのかわりに、テトラクロロシラン3.83g(0.0
225mol)を使用した他は、製造例1と全く同じ方
法で合成を行ったところ、粘度107cpの無色液体が
101g得られた。
【0078】29Si−NMRにより同定を行ったとこ
ろ、上記(A−3)の構造式であることが確認された。
【0079】[実施例1]製造例1で合成した(A−
1)31.4gとオクタメチルシクロテトラシロキサン
470.4gの混合物に10%ドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム水溶液50g、脱イオン水50gを添加
し、ホモミキサーで1000rpmで撹拌することによ
り転相乳化を行い、更に撹拌速度を5000rpmで1
5分間撹拌した。次いで、10%ドデシルベンゼンスル
ホン酸水溶液50gを添加し、更に脱イオン水333.
1gを加えて希釈した。次に、これを「ナノマイザーL
A−31」(ナノマイザー株式会社製)で1000kg
f/cm2の圧力で2回通過させ、乳化分散を行った。
これを50℃で6時間静置することにより重合させ、更
に15℃で10時間熟成を行い、10%の炭酸ナトリウ
ム水溶液9.8gを添加し、pH6.2に中和し、平均
粒径185nmの均一な乳濁液を得た(「エマルジョン
−1」)。この「エマルジョン−1」10gにイソプロ
ピルアルコール90gを加えて、オイル成分の抽出を行
い、105℃で3時間乾燥後のオイル成分の5%トルエ
ン溶液の粘度を「回転振動型粘度計ビスコメイトVM−
1G」(山一電気株式会社製)を用いて測定した。結果
を表1に示す。
【0080】[比較例1]実施例1において、(A−
1)の代わりにフェニルトリエトキシシラン1.8g、
オクタメチルシクロテトラシロキサンを500g用いた
以外は実施例1と同様にして、平均粒径198nmの乳
濁液を得た(「エマルジョン−2」)。この「エマルジ
ョン−2」について、実施例1と同様にしてオイル成分
の抽出を行い、乾燥後のオイル成分の5%トルエン溶液
の粘度を測定した。結果を表2に示す。
【0081】[実施例2]実施例1において、重合時間
を25℃で20時間とし、熟成を行わなかった他は、実
施例1と同様にして、平均粒径190nmの均一な乳濁
液を得た(「エマルジョン−3」)。この「エマルジョ
ン−3」について、実施例1と同様にしてオイル成分の
抽出を行い、乾燥後のオイル成分の5%トルエン溶液の
粘度を測定した。結果を表1に示す。
【0082】[比較例2]実施例2において、(A−
1)の代わりにフェニルトリエトキシシラン1.8g、
オクタメチルシクロテトラシロキサンを500g用いた
以外は実施例2と同様に行い、平均粒径210nmの均
一な乳濁液を得た(「エマルジョン−4」)。この「エ
マルジョン−4」について、実施例1と同様にしてオイ
ル成分の抽出を行い、乾燥したところ、オイル成分は揮
発してしまい、重合があまり進行していなかった。結果
を表2に示す。
【0083】[実施例3]実施例1において、(A−
1)の代わりに(A−2)を用い、「ナノマイザーLA
−31」をホモジナイザー「15M−8TA」(APV
ゴーリン社製)に変更し、圧力を200kgf/cm2
とし、重合を50℃で20時間とした他は実施例1と同
様にして平均粒径402nmの均一な乳濁液を得た
(「エマルジョン−5」)。この「エマルジョン−5」
について、実施例1と同様にしてオイル成分の抽出を行
い、乾燥後のオイル成分の5%トルエン溶液の粘度を測
定した。結果を表1に示す。
【0084】[比較例3]実施例3において、(A−
2)の代わりにメチルトリメトキシシラン1.0g、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンを500.8g用い
た以外は実施例3と同様にして、平均粒径412nmの
均一な乳濁液を得た(「エマルジョン−6」)。この
「エマルジョン−6」について、実施例1と同様にして
オイル成分の抽出を行い、乾燥後のオイル成分の5%ト
ルエン溶液の粘度を測定した。結果を表2に示す。
【0085】[実施例4]製造例2で合成した(A−
2)31.4gとオクタメチルシクロテトラシロキサン
470.4gの混合物に40%ベンジルジメチルドデシ
ルアンモニウムヒドロキシド水溶液を50g、脱イオン
水40gを添加し、ホモミキサーで1000rpmで撹
拌することにより転相乳化を行い、更に撹拌速度を50
00rpmで15分間撹拌した。更に脱イオン水38
3.1gを加えて希釈した。次いでこれを「ナノマイザ
ーLA−31」(ナノマイザー株式会社製)で1000
kgf/cm2の圧力で2回通過させ、乳化分散を行っ
た。これを50℃で20時間静置することにより重合さ
せ、更に15℃で24時間熟成を行い、5%の塩酸46
gを添加し、pH6.8に中和し、平均粒径129nm
の均一な乳濁液を得た(「エマルジョン−7」)。この
「エマルジョン−7」について、実施例1と同様にして
オイル成分の抽出を行い、乾燥後のオイル成分の5%ト
ルエン溶液の粘度を測定した。結果を表1に示す。
【0086】[比較例4]実施例4において、(A−
2)の代わりにメチルトリメトキシシラン1.0g、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンを500.8g用い
た以外は実施例4と同様にして平均粒径132nmの均
一な乳濁液を得た(「エマルジョン−8」)。この「エ
マルジョン−8」について、実施例1と同様にしてオイ
ル成分の抽出を行い、乾燥後のオイル成分の5%トルエ
ン溶液の粘度を測定した。結果を表2に示す。
【0087】[実施例5]実施例1において、(A−
1)の代わりに製造例3で合成した(A−3)を20.
5g、オクタメチルシクロテトラシロキサンを479.
5g使用した他は、実施例1と同様にして、平均粒径1
90nmの均一な乳濁液を得た(「エマルジョン−
9)。この「エマルジョン−9」について、実施例1と
同様にしてオイル成分の抽出を行い、乾燥後のオイル成
分の5%トルエン溶液の粘度を測定した。結果を表1に
示す。
【0088】[比較例5]実施例1において、(A−
1)の代わりにテトラエトキシシラン0.82g、オク
タメチルシクロテトラシロキサンを500g用いた以外
は実施例1と同様に行い、平均粒径185nmの均一な
乳濁液を得た(「エマルジョン−10」)。この「エマ
ルジョン−10」について、実施例1と同様にしてオイ
ル成分の抽出を行い、乾燥後のオイル成分の5%トルエ
ン溶液の粘度を測定した。結果を表2に示す。
【0089】
【表1】
【0090】
【表2】
【0091】[実施例6]Si原子数10以下の環状低
分子シロキサン含有量が2.8重量%であり、式(i)
で示される分岐単位含有オルガノポリシロキサン24.
4g、Si原子数10以下の環状低分子シロキサン含有
量が1.3重量%であり、式(ii)で示される末端ヒ
ドロキシオルガノポリシロキサン415.6g、10%
ラウリル硫酸ナトリウム水溶液100gを2リットルポ
リエチレン製ビーカーに仕込み、ホモミキサーで均一に
乳化した後、水366gを徐々に加えて希釈し、圧力2
9.4MPaで高圧ホモジナイザーに2回通し、均一な
白色エマルジョンを得た。このエマルジョンを5℃に冷
却し、10%ドデシルベンゼンスルホン酸水溶液50g
を添加し、70時間重合反応を行った。その後、3%ア
ンモニア水11gでpH8に中和し、「エマルジョン
A」を得た。このエマルジョンは105℃で3時間乾燥
後の不揮発分が44.5重量%であった。物性を表3に
示す。
【0092】
【化19】
【0093】[実施例7]Si原子数10以下の環状低
分子シロキサン含有量が2.6重量%であり、式(ii
i)で示される分岐単位含有オルガノポリシロキサン2
4g、Si原子数10以下の環状低分子シロキサン含有
量が1.3重量%であり、上記式(ii)で示される末
端ヒドロキシオルガノポリシロキサン416gを使用し
た以外は実施例6と同様の方法で「エマルジョンB」を
得た。このエマルジョンは105℃で3時間乾燥後の不
揮発分が44.6重量%であった。物性を表3に示す。
【0094】
【化20】
【0095】[実施例8]Si原子数10以下の環状低
分子シロキサン含有量が3.0重量%であり、式(i
v)で示される分岐単位含有オルガノポリシロキサン2
4.1g、Si原子数10以下の環状低分子シロキサン
含有量が1.3重量%であり、上記式(ii)で示され
る末端ヒドロキシオルガノポリシロキサン415.9g
を使用した以外は実施例6と同様の方法で「エマルジョ
ンC」を得た。このエマルジョンは105℃で3時間乾
燥後の不揮発分が44.5重量%であった。物性を表3
に示す。
【0096】
【化21】 [実施例9]エマルジョンの温度を20℃にしたこと以
外は実施例6と同様にして「エマルジョンD」を得た。
このエマルジョンは105℃で3時間乾燥後の不揮発分
が43.6重量%であった。物性を表3に示す。
【0097】[比較例6]C65Si(OC253
示される3官能アルコキシシラン1.6g、Si原子数
10以下の環状低分子シロキサン含有量が1.3重量%
であり、上記式(ii)で示される末端ヒドロキシオル
ガノポリシロキサン438.4gを使用した以外は実施
例6と同様の方法で「エマルジョンE」を得た。このエ
マルジョンは105℃で3時間乾燥後の不揮発分が4
4.4重量%であった。物性を表3に示す。
【0098】[比較例7]C65Si(OC253
示される3官能アルコキシシラン1.6g、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサン438.4gを使用したこと
以外は比較例8と同様の方法で「エマルジョンF」を得
た。このエマルジョンは105℃で3時間乾燥後の不揮
発分が40.0重量%であった。物性を表3に示す。
【0099】上記で得られた「エマルジョンA〜F」を
使用して、コーティング剤として公知の以下の組成で配
合し、乾燥皮膜のゴム弾性を測定した。結果を表3に併
記する。
【0100】 (組成) エマルジョンA〜F 100重量部 皮膜補強剤(コロイダルシリカ20%スラリー) 30重量部 密着向上剤No.1 5重量部 密着向上剤No.2 2重量部 縮合触媒(ジオクチルスズジラウレートの30%エマルジョン) 1重量部 (注) 密着向上剤No.1:無水マレイン酸と(C25O)3SiC36NH2との反 応生成物
【化22】
【0101】(ゴム弾性測定)上記配合物を125×8
0mmのトレーに20g採取し、室温で2日間風乾後、
105℃/1時間キュアーさせて得られたゴムシートを
JIS K−6249に準拠して「伸び」特性を測定し
た。コーティング剤として使用する際の目標レベルは2
50%以上である。
【0102】
【表3】 [低分子シロキサン含有量]エマルジョン1ccに水1
0cc、メタノール10cc、n−ヘキサン20ccを
添加、振盪してシロキサンを抽出したヘキサン相のガス
クロ分析により定量した。 [5%トルエン溶液粘度]エマルジョン5ccをIPA
50ccに撹拌しながら添加してシロキサンを分離し、
105℃で1時間乾燥後トルエンに溶解して5%溶液と
し、オストワルド粘度計で測定した。
【0103】
【発明の効果】本発明によれば、分岐状オルガノポリシ
ロキサン及び分岐状オルガノポリシロキサン乳化重合物
を重合時間を短縮して製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大沢 芳人 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 Fターム(参考) 4J035 BA01 BA02 BA04 CA072 CA092 CA112 CA132 CA192 CA262 GA01 GB02 GB08 LB01

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1は炭素数1〜20の1価有機基、R2は互い
    に同一又は異種の炭素数1〜20の1価有機基、R3
    水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数1〜2
    0の1価有機基を示す。mは1≦m≦100を満足する
    数、aは0又は1、bは3又は4であり、a+b=4で
    ある。)で示される分岐状オルガノポリシロキサン、及
    び(B)低分子オルガノポリシロキサンよりなるオルガ
    ノポリシロキサン混合物を、酸性又は塩基性触媒の存在
    下で重合することを特徴とする分岐状オルガノポリシロ
    キサンの製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1における(A)成分及び(B)
    成分よりなるオルガノポリシロキサン混合物に、(C)
    酸性又は塩基性の界面活性剤を添加して水中に乳化分散
    させ、該乳化物中で重合することを特徴とする分岐状オ
    ルガノポリシロキサンの製造方法。
  3. 【請求項3】 (B)成分の低分子オルガノポリシロキ
    サンが、環状オルガノポリシロキサン、末端がトリオル
    ガノシリル基、ジオルガノモノヒドロキシシリル基もし
    くはジオルガノモノアルコキシシリル基で封鎖された鎖
    状オルガノポリシロキサン又はこれらの混合物である請
    求項1又は2記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 (D)下記一般式(2) 【化2】 (式中、R1は炭素数1〜20の1価有機基、R2は互い
    に同一又は異種の炭素数1〜20の1価有機基、pは4
    ≦p≦100を満足する整数、aは0又は1、bは3又
    は4であり、a+b=4である。)で示され、かつケイ
    素原子数が10以下の環状低分子シロキサン含有量が5
    重量%以下である分岐状オルガノポリシロキサン、
    (E)下記一般式(3) 【化3】 (式中、R4は炭素数1〜20の1価有機基、qは10
    ≦q≦700を満足する整数を示す。)で示され、かつ
    ケイ素原子数が10以下の環状低分子シロキサン含有量
    が5重量%以下である末端ヒドロキシオルガノポリシロ
    キサンよりなるオルガノポリシロキサン混合物を酸性又
    は塩基性触媒の存在下で縮重合することを特徴とするケ
    イ素原子数が10以下の環状低分子シロキサン含有量が
    5重量%以下である分岐状オルガノポリシロキサンの製
    造方法。
  5. 【請求項5】 請求項4における(D)成分及び(E)
    成分よりなるオルガノポリシロキサン混合物に、(C)
    酸性又は塩基性の界面活性剤を添加して水中に乳化分散
    させ、該乳化物中で重合することを特徴とするケイ素原
    子数が10以下の環状低分子シロキサン含有量が5重量
    %以下である分岐状オルガノポリシロキサンの製造方
    法。
JP2000273290A 1999-09-09 2000-09-08 分岐状オルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法 Expired - Fee Related JP3978566B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000273290A JP3978566B2 (ja) 1999-09-09 2000-09-08 分岐状オルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25602499 1999-09-09
JP11-256024 1999-09-09
JP27650199 1999-09-29
JP11-276501 1999-09-29
JP2000273290A JP3978566B2 (ja) 1999-09-09 2000-09-08 分岐状オルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001163981A true JP2001163981A (ja) 2001-06-19
JP3978566B2 JP3978566B2 (ja) 2007-09-19

Family

ID=27334491

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000273290A Expired - Fee Related JP3978566B2 (ja) 1999-09-09 2000-09-08 分岐状オルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3978566B2 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006511645A (ja) * 2002-12-20 2006-04-06 ダウ・コーニング・コーポレイション 有機水素シリコン化合物由来の分岐ポリマー
JP2006511646A (ja) * 2002-12-20 2006-04-06 ダウ・コーニング・コーポレイション 有機水素シリコン化合物から得られる分岐ポリマー
JP2007517103A (ja) * 2003-12-30 2007-06-28 ロディア・シミ カルベンの存在下でのポリオルガノシロキサン(pos)の開環重合及び/又は再分配によるposの製造方法並びに該方法によって製造されたpos化合物
JP2009534497A (ja) * 2006-04-21 2009-09-24 ブルースター シリコーン フランス カルベン触媒を用いたシリル単位の縮合方法
WO2009123104A1 (ja) * 2008-04-02 2009-10-08 三井化学株式会社 組成物及びその製造方法、多孔質材料及びその形成方法、層間絶縁膜、半導体材料、半導体装置、並びに低屈折率表面保護膜
US9587075B2 (en) 2015-04-15 2017-03-07 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Addition-curable silicone composition and a semiconductor device
EP3184589A1 (en) 2015-12-22 2017-06-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Addition-curable silicone resin composition and a semiconductor device
US9862803B2 (en) 2015-04-15 2018-01-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Branched organopolysiloxane and a method for preparing the same
US9994711B2 (en) 2015-03-24 2018-06-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Condensation-curable silicone composition and a semiconductor device
EP3604392A1 (en) 2018-07-31 2020-02-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Addition-curable silicone resin composition and a semiconductor device

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4925027B2 (ja) * 2002-12-20 2012-04-25 ダウ・コーニング・コーポレイション 有機水素シリコン化合物から得られる分岐ポリマーの調製方法
JP2006511646A (ja) * 2002-12-20 2006-04-06 ダウ・コーニング・コーポレイション 有機水素シリコン化合物から得られる分岐ポリマー
JP2006511645A (ja) * 2002-12-20 2006-04-06 ダウ・コーニング・コーポレイション 有機水素シリコン化合物由来の分岐ポリマー
JP4925026B2 (ja) * 2002-12-20 2012-04-25 ダウ・コーニング・コーポレイション 有機水素シリコン化合物由来の分岐ポリマーの調製方法
JP2007517103A (ja) * 2003-12-30 2007-06-28 ロディア・シミ カルベンの存在下でのポリオルガノシロキサン(pos)の開環重合及び/又は再分配によるposの製造方法並びに該方法によって製造されたpos化合物
KR101179719B1 (ko) 2003-12-30 2012-09-07 썽트르 나시오날 드 라 르쉐이쉬 씨엉띠피끄(씨.엔.에르.에스.) 에따블리스망 ?블릭 카르벤의 존재하에서 pos의 개환중합 및/또는 재분배중합에 의한 폴리오가노실록산 (pos) 제조 방법 및 상기 방법에 의해 생산된 pos 화합물
JP2009534497A (ja) * 2006-04-21 2009-09-24 ブルースター シリコーン フランス カルベン触媒を用いたシリル単位の縮合方法
JP2010090389A (ja) * 2008-04-02 2010-04-22 Mitsui Chemicals Inc 組成物及びその製造方法、多孔質材料及びその形成方法、層間絶縁膜、半導体材料、半導体装置、並びに低屈折率表面保護膜
JP4598876B2 (ja) * 2008-04-02 2010-12-15 三井化学株式会社 組成物の製造方法、多孔質材料及びその形成方法、層間絶縁膜、半導体材料、半導体装置、並びに低屈折率表面保護膜
WO2009123104A1 (ja) * 2008-04-02 2009-10-08 三井化学株式会社 組成物及びその製造方法、多孔質材料及びその形成方法、層間絶縁膜、半導体材料、半導体装置、並びに低屈折率表面保護膜
KR101220029B1 (ko) 2008-04-02 2013-01-21 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 조성물 및 그 제조 방법, 다공질 재료 및 그 형성 방법, 층간 절연막, 반도체 재료, 반도체 장치, 및 저굴절률 표면 보호막
US8603588B2 (en) 2008-04-02 2013-12-10 Mitsui Chemicals, Inc. Composition and method for production thereof, porous material and method for production thereof, interlayer insulating film, semiconductor material, semiconductor device, and low-refractive-index surface protection film
JPWO2009123104A1 (ja) * 2008-04-02 2011-07-28 三井化学株式会社 組成物の製造方法、多孔質材料及びその形成方法、層間絶縁膜、半導体材料、半導体装置、並びに低屈折率表面保護膜
US9994711B2 (en) 2015-03-24 2018-06-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Condensation-curable silicone composition and a semiconductor device
US9587075B2 (en) 2015-04-15 2017-03-07 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Addition-curable silicone composition and a semiconductor device
US9862803B2 (en) 2015-04-15 2018-01-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Branched organopolysiloxane and a method for preparing the same
EP3184589A1 (en) 2015-12-22 2017-06-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Addition-curable silicone resin composition and a semiconductor device
US10253139B2 (en) 2015-12-22 2019-04-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Addition-curable silicone resin composition and a semiconductor device
EP3473675A1 (en) 2015-12-22 2019-04-24 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Addition-curable silicone resin composition and a semiconductor device
US10696794B2 (en) 2015-12-22 2020-06-30 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Addition-curable silicone resin composition and a semiconductor device
EP3604392A1 (en) 2018-07-31 2020-02-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Addition-curable silicone resin composition and a semiconductor device
US11208532B2 (en) 2018-07-31 2021-12-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Addition-curable silicone resin composition and a semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3978566B2 (ja) 2007-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4476282A (en) Method of producing finely divided, stable oil-in-water emulsions of organopolysiloxanes
KR100414420B1 (ko) 겔없는 중합체의 마이크로에멀션
EP1583790B1 (en) Method of making silicone resin emulsions
JP5306220B2 (ja) シリコーン樹脂の水性エマルジョン
US7582700B2 (en) Method for the production of emulsions of highly-viscous organopolysiloxanes
KR20000023308A (ko) 초고 점도 실리콘 중합체를 포함하는 에멀젼
US6417310B1 (en) Method for preparing branched organopolysiloxane
JPS6036563A (ja) 安定なシリコーン乳濁液の製造方法
JPH02233762A (ja) エラストマー形成組成物
JP3978566B2 (ja) 分岐状オルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法
JPWO2013153833A1 (ja) オルガノポリシロキサンエマルション組成物の製造方法
JP5480288B2 (ja) 高粘性シリコーンポリエーテルのエマルジョン
JPH07103240B2 (ja) 室温で固体の高分子量オルガノポリシロキサンの水性乳濁液を製造する方法
US6207781B1 (en) Polymerization of an organofunctional cocyclic siloxane
JPH05140506A (ja) 被覆剤の製造法並びに金属、金属合金およびプラスチツクの被覆方法
US6211323B1 (en) High molecular weight alkylmethyl-alkylaryl siloxane terpolymers having low SiH content and methods for their preparation
JP2002363408A (ja) オルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法
US6245852B1 (en) Preparation of organopolysiloxane emulsion
JP3724554B2 (ja) オルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法
JP2000119393A (ja) オルガノポリシロキサンエマルションの製造方法
US11549015B2 (en) Silicone emulsion composition for forming rubber coating film, and method for manufacturing same
JPH02284959A (ja) アミノシリコーン微粒子エマルジョンの製造方法
KR20050038636A (ko) 수지 개질된 실리콘 탄성체
JP2001055445A (ja) シリコーンコポリマーまたはシリコーンターポリマーの製造方法
JP7249442B2 (ja) アミノシリコーンポリマー、それを含むシリコーンエマルジョン、およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061206

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070314

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070427

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070530

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070612

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 3978566

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100706

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130706

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees