JP2001163626A - ガラス基板の製造方法およびガラス基板製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 超平滑な表面を有する円板状のガラス基板を
低コストで容易に製造することができるガラス基板の製
造方法および製造装置を提供する。 【解決手段】 溶融炉ノズル１５から吐出された溶融ガ
ラス２４を下型１７ａ上に載置する。そして、溶融ガラ
ス２４を、下型１７ａおよび上型１７ｃと、下型１７ａ
と上型１７ｃとの空隙を規制するための規制部材１７ｂ
とからなる成形用金型を用いて加圧成形することによっ
て、直径Ｘと厚さＹとがＸ＞４０Ｙの関係を満たす円板
状のガラス基板を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス基板の製造
方法およびガラス基板製造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の分野、特に磁気ディス
クにおいては、小型化、薄型化、高容量化等の高性能化
が進んでいるが、それに伴って高密度磁気記録媒体への
要求が高まっている。このような要求に応える記録媒体
用の基板として、ガラス基板は、高剛性、高硬度で平滑
化が容易で、高密度化、高信頼性化に極めて有利なこと
から盛んに検討されている。

【０００３】従来、磁気ディスク用ガラス基板は所定の
サイズに切断された後、平滑な表面を得るために基板を
研磨する研磨法により製造されてきた。しかしながら、
近年、基板表面には超平滑性が要求され、研磨工程には
技術的にも非常に難しい高い精度が求められるようにな
り、こうした基板を１枚１枚研磨することは工程数も多
く高価であるという欠点があった。

【０００４】また、ガラス素材を加熱、成形、冷却し、
成形型の成形面を成形により転写するプレス成形法は、
後加工を必要としないため、安価で生産性が高く、かつ
高品質であるため、ガラス基板製造の分野でも近年提案
され、実用化検討がなされている。

【０００５】たとえば、平板状のガラス成形体を得るた
めに、プレス成形に用いる被成形ガラス素材として薄板
状のガラスを用いる方法も提案されている（特開平２−
２６８４３号公報）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の方法では、薄板状のガラスを被成形ガラス素材とし
て用いるため、ガラス素材を成形型に配置した時点で、
ガラス素材と成形型との間に空気が入り込み、ガラス基
板にバブルを発生させるという問題があった。特にこの
問題は、ガラス基板表面を平滑にするために金型のプレ
ス面を平滑にするほど生じやすくなる。

【０００７】上記問題を解決するため、本発明は、超平
滑な表面を有する円板状のガラス基板を低コストで容易
に製造することができるガラス基板の製造方法およびガ
ラス基板製造装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のガラス基板の製造方法は、円板状のガラス
基板を製造する方法であって、前記ガラス基板の材料で
あるガラスを溶融して溶融ガラスを得る第１の工程と、
上型および下型と、前記上型と前記下型との空隙を規制
するための規制部材とを備える成形用金型内に前記溶融
ガラスを配置したのち加圧成形することによって、直径
Ｘと厚さＹとがＸ＞４０Ｙの関係を満たす円板状のガラ
ス基板を形成する第２の工程とを含むことを特徴とす
る。上記製造方法では、溶融ガラスを加圧成形すること
によってガラス基板を製造するため、ガラス素材を加熱
する必要がなく短いサイクルタイムでガラス基板を製造
することができ、また、薄肉形状の被成形ガラス素材を
用いた場合と異なりガラス素材と成形型との間に空気が
かみ込むことがなく、ガラス基板の表面にバブルが発生
しやすいといった問題も生じない。したがって、上記製
造方法によれば、超平滑な表面を有する円板状のガラス
基板を低コストで容易に製造することができる。さら
に、上記製造方法では、規制部材を備える成形用金型を
用いているため、直径Ｘと厚さＹとがＸ＞４０Ｙの関係
を満たすような薄い円板状のガラス基板でも、精度よく
超平滑な面をもったガラス基板を製造できる。

【０００９】上記ガラス基板の製造方法では、前記規制
部材の熱収縮量が、前記ガラスの熱収縮量よりも小さい
ことが好ましい。上記構成によれば、加圧成形後のガラ
ス基板を成形用金型から容易に分離することができるた
め、超平滑な表面を有するガラス基板を特に低コストか
つ容易に製造できる。従来技術として、特開平１−１７
６２３７号公報では、胴型と、この胴型に摺動可能に嵌
合するレンズ面成形型と、胴型の周囲を保持する胴型ホ
ルダーとを備え、胴型の熱収縮量をレンズ素材の熱収縮
量よりも小さく、胴型ホルダーの熱収縮量をレンズ素材
の熱収縮量よりも大きくしたことを特徴とするレンズ成
形装置を用いた方法が示されている。しかしながら、上
記従来の方法では、冷却の過程で上型の加圧力が常にガ
ラス素材にかかった状態になるため、直径Ｘと厚さＹと
の関係がＸ＞４０Ｙとなるような平板状のガラス基板を
成形する場合には、ガラス素材が上下型に密着し離型す
ることができないという問題があった。特にこの問題
は、ガラス基板表面を平滑にするために金型のプレス面
を平滑にするほど生じやすくなる。本発明の製造方法で
は、前記規制部材の熱収縮量を、前記ガラスの熱収縮量
よりも小さくすることによって、上記問題が生じること
を防止できる。

【００１０】上記ガラス基板の製造方法では、前記第２
の工程は、前記溶融ガラスを前記成形用金型に配置する
前に、前記溶融ガラスを冷却する工程を含むことが好ま
しい。上記構成によれば、溶融ガラスの温度を成形型の
耐熱温度にまで低下させることができるため、成形用金
型の寿命を延ばすことができる。

【００１１】上記ガラス基板の製造方法では、前記第２
の工程において、前記成形用金型に配置される前記溶融
ガラスの温度がガラス転移点以上の温度であることが好
ましい。上記構成によって、ガラス基板を容易に加圧成
形できる。

【００１２】上記ガラス基板の製造方法では、前記第２
の工程において、前記成形用金型に配置される前記溶融
ガラスの温度が、加圧成形する際の温度以上の温度であ
ることが好ましい。上記構成によって、ガラス基板を容
易に加圧成形できる。

【００１３】また、本発明のガラス基板製造装置は、ガ
ラス基板を製造するためのガラス基板製造装置であっ
て、前記ガラス基板の材料となるガラスを溶融するため
の溶融炉と、前記溶融炉で溶融された溶融ガラスを冷却
するための冷却手段と、前記冷却手段によって冷却され
た前記溶融ガラスを加圧成形するための成形用金型とを
備え、前記成形用金型は、直径Ｘと厚さＹとがＸ＞４０
Ｙの関係を満たす円板状のガラス基板を製造するための
成形用金型であって、上型および下型と、前記上型と前
記下型との空隙を規制するための規制部材とを備える成
形用金型であることを特徴とする。上記ガラス基板製造
装置によれば、冷却された溶融ガラスを用いてガラス基
板を製造できるため、超平滑な表面を有する円板状のガ
ラス基板を低コストで容易に製造することができる。

【００１４】上記ガラス基板製造装置では、前記規制部
材の熱収縮量が、前記ガラスの熱収縮量よりも小さいこ
とが好ましい。上記構成によれば、加圧成形後のガラス
基板を成形用金型から容易に分離することができるた
め、超平滑な表面を有するガラス基板を特に低コストか
つ容易に製造できる。

【００１５】上記ガラス基板製造装置では、前記冷却手
段が傾斜ガイドであり、前記溶融ガラスは前記傾斜ガイ
ド上を移動することによって冷却されることが好まし
い。上記構成によって、溶融ガラスを容易に冷却するこ
とができる。また、傾斜ガイドの長さや傾斜角度を変え
ることによって、溶融ガラスが冷却される温度を容易に
制御できる。

【００１６】上記ガラス基板製造装置では、溶融ガラス
と反応しないように、前記傾斜ガイドがステンレス鋼か
らなることが好ましい。

【００１７】上記ガラス基板製造装置では、前記傾斜ガ
イドの表面に、炭素を主成分とする熱伝導性シートを備
えることが好ましい。上記構成によれば、溶融ガラスが
傾斜ガイドに接すると同時に瞬間的に熱を分散させるこ
とができるため、溶融ガラスの品質を向上させることが
できる。

【００１８】上記ガラス基板製造装置では、前記冷却手
段がダクトであり、前記溶融ガラスが前記ダクト内を通
過することによって冷却されることが好ましい。上記構
成によって、溶融ガラスを容易に冷却することができ
る。また、ダクトの長さを変えることによって、溶融ガ
ラスが冷却される温度を容易に制御できる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。

【００２０】（実施形態１）実施形態１では、本発明の
ガラス基板の製造方法について、一例を説明する。

【００２１】実施形態１のガラス基板の製造方法は、円
板状のガラス基板を製造する方法であり、この製造方法
によって製造されたガラス基板は、たとえば磁気ディス
クなどの記録媒体に用いることができる。

【００２２】まず、実施形態１のガラス基板の製造方法
に用いることができるガラス基板製造装置１０につい
て、一例を図１に示す。なお、図１では、理解を容易に
するためハッチングを一部省略している（以下の図にお
いても同様である）。

【００２３】図１を参照して、ガラス基板製造装置１０
は、溶融ガラス供給ステージ１１および成形ステージ１
２を備えるチャンバ１３と、成形されたガラス基板を徐
冷するための冷却炉１４と、成形用金型１７とを備え
る。チャンバ１３内は、窒素ガス雰囲気である。

【００２４】溶融ガラス供給ステージ１１は、ガラス溶
融炉（図示せず）で溶融された溶融ガラスをチャンバ１
３内に導入するための溶融炉ノズル１５と、溶融炉ノズ
ル１５から吐出された溶融ガラスを切断するためのシャ
ー１６と、成形用金型１７の一部である下型１７ａおよ
び規制部材１７ｂと、下型１７ａを加熱するための下ヒ
ータ１８と、下断熱板１９とを備える。そして、下型１
７ａは、下ヒータ１８に固定され、下ヒータ１８は下断
熱板１９を介してトラバーサ２０に固定されている。ト
ラバーサ２０によって、下断熱板１９は、下断熱板１９
上に配置された下ヒータ１８、下型１７ａおよび規制部
材１７ｂとともに溶融ガラス供給ステージ１１と成形ス
テージ１２との間を移動できるようになっている。

【００２５】成形ステージ１２は、上下に移動自在なシ
リンダ２１と、シリンダ２１に固定された上断熱板２２
と、上断熱板２２に固定された上ヒータ２３と、成形用
金型の一部であり上ヒータ２３に固定された上型１７ｃ
とを備える。成形時には、下型１７ａが、上型１７ｃと
略同軸上に対向するように配置される。そして、シリン
ダ２１が上下することによって、下型１７ａ上に配置さ
れた溶融ガラス２４が下型１７ａと上型１７ｃとによっ
て成形され、ガラス基板２５が得られる。

【００２６】下型１７ａ、規制部材１７ｂおよび上型１
７ｃは、成形用金型１７を構成する。規制部材１７ｂの
上下から上型１７ｃと下型１７ａとが嵌挿された状態の
断面図を図２（ａ）に、図２（ａ）の線Ｘ−Ｙにおける
断面図を図２（ｂ）に模式的に示す。規制部材１７ｂ
は、成形完了時（下型１７ａと上型１７ｃとの最近接
時）における下型１７ａと上型１７ｃとの空隙（両者の
成形面の距離）を規制する部材であり、リング状の形状
を有する。下型１７ａの成形面と上型１７ｃの成形面と
の距離を規制部材１７ｂによって制御することによっ
て、成形されるガラス基板の厚さが変化する。この距離
は、成形するガラス基板の厚さにより異なるが、最大で
も１ｍｍ程度である。

【００２７】下型１７ａ、規制部材１７ｂおよび上型１
７ｃからなる成形用金型１７は、たとえば、超硬合金、
セラミクスなどからなる。規制部材１７ｂの熱収縮量
は、成形されるガラスの熱収縮量よりも小さい。具体的
には、成形用金型１７の材料として、イゲタロイ（ＡＦ
１製、超々微粒合金シリーズ、線熱膨張係数α＝５８×
１０^-7（室温〜４００℃））を用いることができる。ま
た、下型１７ａおよび上型１７ｃの成形面は所望の表面
粗さに加工され、白金（Ｐｔ）系などの合金保護膜によ
って被覆されている。このときの成形面の中心線平均粗
さ（Ｒａ）は、磁気ディスク用としては５ｎｍ以下が適
当で、２ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以下で
あることが特に好ましい。

【００２８】以下、本発明のガラス基板の製造方法につ
いて説明する。本発明のガラス基板の製造方法は、記録
媒体に用いられる円板状のガラス基板を製造する方法で
あって、ガラス基板の材料であるガラスを溶融して溶融
ガラスを得る第１の工程と、上型および下型と、上型と
下型との空隙を規制するための規制部材とを備える成形
用金型内に溶融ガラスを配置したのち加圧成形すること
によって、直径Ｘと厚さＹとがＸ＞４０Ｙの関係を満た
す円板状のガラス基板を形成する第２の工程とを含む。
なお、第２の工程は、溶融ガラスを成形用金型に配置す
る前に溶融ガラスを冷却する工程を含むことが好まし
い。

【００２９】以下、本発明のガラス基板の製造方法につ
いて、上記ガラス基板製造装置１０を用いた一例を具体
的に説明する。なお、実施形態１の製造方法では、一例
として、外径９５ｍｍ、厚さ０．８ｍｍの磁気ディスク
用ガラス基板を製造する場合について説明する。この場
合、下型１７ａの成形面と上型１７ｃの成形面との最近
接距離は、０．８ｍｍとなるように規制部材１７ｂによ
って規制される。

【００３０】実施形態１の製造方法では、まず、ガラス
溶融炉（図示せず）で溶融されたガラスが、溶融炉ノズ
ル１５を通って窒素ガス雰囲気のチャンバ１３内に導入
される。用いるガラスとしては、さまざまなガラスを用
いることができるが、この実施形態１では、アルミノシ
リケートのガラス（ガラス転移温度Ｔｇ＝４９２℃、線
熱膨張係数α＝９５×１０^-7（１００〜３００℃））を
用いた場合について説明する。

【００３１】溶融炉ノズル１５から出た溶融ガラスは、
シャー１６によって適切な重量に切断され、あらかじめ
所望の温度に加熱された下型１７ａのほぼ中央に載置さ
れる。なお、下型１７ａ上に載置する前に溶融ガラスを
所望の温度まで冷却することが好ましい。ただし、冷却
後の溶融ガラスの温度は、材料となるガラスのガラス転
移温度以上の温度、または、加圧成形の際の温度よりも
高いことが好ましい。溶融ガラスの冷却は、以下の実施
形態２で説明するガラス基板製造装置を用いて容易に行
うことができる。

【００３２】その後、溶融ガラス２４を載置した下型１
７ａ、規制部材１７ｂ、下ヒータ１８、下断熱板１９
は、溶融ガラス供給ステージ１１から隣の成形ステージ
１２へ、トラバーサ２０によって移動される。

【００３３】溶融ガラス２４が載置された下型１７ａを
成形ステージ１２へ移動させたのち、シリンダ２１によ
って上型１７ｃを下降させ、溶融ガラス２４を加圧成形
する。加圧成形の際の温度は、たとえば、７００℃であ
る。溶融ガラス２４の変形は、上型１７ｃのフランジ部
に規制部材１７ｂが当たったところで終了する。このと
き、溶融ガラス２４は、規制部材１７ｂにより上型１７
ｃと下型１７ａとの間につくられる空隙と同じ、０．８
ｍｍの厚さに成形される。

【００３４】溶融ガラス２４の変形が終了した時点で下
ヒータ１８および上ヒータ２３の電源が切られ、高荷重
が保持されたまま、上型１７ｃ、下型１７ａ、規制部材
１７ｂおよびガラス基板２５は冷却される。このとき強
制的に冷却してもよいが、成形用金型の成形面ができる
だけ均一の温度になるように冷却しなければならない。
なお、規制部材１７ｂによってガラス基板２５への加圧
は制限される。

【００３５】この冷却の過程において、下型１７ａ、規
制部材１７ｂ、上型１７ｃおよびガラス基板２５はそれ
ぞれ収縮するが、上型１７ｃと下型１７ａは規制部材１
７ｂによって空隙（両者の成形面の距離）を規制されて
いるので、この空隙量は規制部材１７ｂの収縮に依存す
ることになる。このとき、規制部材１７ｂよりもガラス
基板２５の熱収縮量の方が大きいため、温度が下がるに
つれてガラス基板２５は下型１７ａおよび上型１７ｃか
ら離型する。

【００３６】成形用金型１７には、ガラス基板２５がガ
ラス転移温度である５３９℃程度に冷却されるまでシリ
ンダ２１によって高荷重がかけられ、その後低荷重に減
圧される。

【００３７】その後、成形用金型の温度を３５０℃程度
まで冷却したのち、シリンダ２１によって上型１７ｃを
上昇させて原点位置に戻す。そして、成形用金型１７内
に残ったガラス基板２５を、搬送パッド（図示せず）に
よって冷却炉１４に移動し、徐冷する。徐冷が終了した
のち、ガラス基板２５をガラス基板製造装置から取り出
し、成形は終了する。

【００３８】このようにして製造されたガラス基板２５
の平面図を図３（ａ）に、中央部断面図を図３（ｂ）に
模式的に示す。ガラス基板２５の主面は、下型１７ａお
よび上型１７ｃのプレス面の形状が転写され、たとえ
ば、表面粗さが１ｎｍで、平坦度４μｍ以内の超平滑で
うねりのない面が得られる。なお、ガラス基板２５の外
周部は、成形時に成形用金型で規制しない場合には曲面
となる上記実施形態１の製造方法では、成形用金型に溶
融ガラスを配置して、これを成形してガラス基板を得
る。したがって、成形用金型に加熱していないガラスを
配置し成形用金型内でガラスを加熱して溶融する場合と
は異なり、サイクルタイムが長くなるという問題や、ガ
ラス外部の温度がガラス内部の温度よりも高くなってガ
ラスと成形用金型が反応したりガラス基板表面にバブル
が発生したりするという問題が生じにくい。したがっ
て、実施形態１のガラス基板の製造方法によれば、超平
滑な表面を有する円板状のガラス基板を低コストで容易
に製造することができる。

【００３９】また、実施形態１の製造方法において、成
形用金型内に溶融ガラスを配置する前に、溶融ガラスを
所望の温度になるまで冷却することによって、成形型の
寿命を延ばすことができる。

【００４０】（実施形態２）実施形態２では、本発明の
ガラス基板製造装置について一例を説明する。

【００４１】実施形態２のガラス基板製造装置４０につ
いて、構成を図４に模式的に示す。図４を参照して、ガ
ラス基板製造装置４０は、溶融ガラス供給ステージ１１
ａおよび成形ステージ１２を備えるチャンバ１３と、成
形されたガラス基板を徐冷するための冷却炉１４と、成
形用金型１７とを備える。なお、成形ステージ１２、チ
ャンバ１３、冷却炉１４および成形用金型１７について
は実施形態１で説明したガラス基板製造装置１０のもの
と同様であるため、重複する説明は省略する。また、溶
融ガラス供給ステージ１１ａは、実施形態１で説明した
溶融ガラス供給ステージ１１と比較して、傾斜ガイド４
１を備える点のみが異なるため、重複する説明を省略す
る。

【００４２】傾斜ガイド４１は、溶融炉ノズル１５から
吐出され、シャー１６によって切断された溶融ガラスを
冷却するための冷却手段として機能する。すなわち、シ
ャー１６によって切断された溶融ガラスは、傾斜ガイド
４１の斜面を転がり落ちる際に冷却され、下型１７ａ上
に載置される。傾斜ガイド４１には、高温の溶融ガラス
と反応しない材料を用いることができ、たとえばステン
レスを用いることができる。なお、冷却される温度につ
いては、傾斜ガイド４１の熱容量と長さによって容易に
制御できる。

【００４３】次に、上記ガラス基板製造装置４０を用い
て本発明のガラス基板の製造方法を実施し、直径６５ｍ
ｍ、厚さ０．６３５ｍｍの磁気ディスク用ガラス基板を
製造した一例について説明する。なお、この場合には、
規制部材１７ｂによって規制される下型１７ａと上型１
７ａとの最小間隔は、０．６３５ｍｍである。

【００４４】用いたガラス素材は、アルミノシリケート
のガラス（ガラス転移温度Ｔｇ＝４９２℃、線熱膨張係
数α＝９５×１０^-7（１００〜３００℃））である。ま
ず、ガラス素材を１２００℃に加熱し、溶融する。溶融
炉ノズル１５から吐出される１２００℃の溶融ガラス
は、傾斜ガイド４１の斜面上を移動する間に７５０℃に
まで冷却され、下型１７ａ上に載置される。このよう
に、高温で溶融したガラスを冷却することによって、成
形用金型の寿命を延ばすことができる。

【００４５】下型１７ａ上に載置された溶融ガラス２４
は、その後、実施形態１で説明したのと同様の方法によ
ってガラス基板２５に成形される。このようにして得ら
れたガラス基板２５の表面は、表面粗さが１ｎｍで、平
坦度４μｍ以内の超平滑でうねりのない面であった。

【００４６】なお、傾斜ガイド４１の斜面の表面に、炭
素を主成分とする熱伝導性のよいシート（たとえば、面
方向の熱伝導率が６００Ｗ／ｍ・Ｋ〜８００Ｗ／ｍ・Ｋ
であり、厚み方向の熱伝導率が５Ｗ／ｍ・Ｋであり、比
重が１．０ｇ／ｃｍ³のシートである。）を配置しても
よい。上記構成によって、高温の溶融ガラス２４が傾斜
ガイド４１に接すると同時に瞬間的に熱を分散させるこ
とができ、ガラス基板２５の品質を向上させることがで
きる。

【００４７】以上説明したように、実施形態２のガラス
基板製造装置４０によれば、超平滑な表面を有する円板
状のガラス基板を低コストで容易に製造することができ
る。

【００４８】なお、上記実施形態では、溶融ガラスの冷
却手段が傾斜ガイドである場合を示したが、本発明のガ
ラス基板製造装置はこれに限定されず、他の冷却手段を
備えるものであってもよい。一例として、冷却手段がダ
クトである場合のガラス基板製造装置４０ａを図５に示
す。

【００４９】図５を参照して、ガラス基板製造装置４０
ａは、溶融ガラス供給ステージ１１ｂおよび成形ステー
ジ１２を備えるチャンバ１３と、成形されたガラス基板
を徐冷するための冷却炉１４と、成形用金型１７とを備
える。そして、溶融ガラス供給ステージ１１ｂは、溶融
ガラスの冷却手段としてダクト５１を備える。

【００５０】ガラス基板製造装置４０ａは、溶融ガラス
の冷却手段として冷却ガイド４１の代わりにダクト５１
を備える点のみがガラス基板製造装置４０と異なるた
め、重複する説明を省略する。

【００５１】ダクト５１は中空である。溶融炉ノズル１
５から吐出されシャー１６によって切断された溶融ガラ
スは、遮風されたダクト５１内を自由落下することによ
って冷却される。なお、冷却される温度は、ダクト５１
の長さを変えることによって容易に制御することができ
る。また、ダクト５１は、溶融ガラス２４の温度を制御
するためのヒータ等を備えてもよい。

【００５２】次に、上記ガラス基板製造装置４０ａを用
いて直径６５ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍの磁気ディスク
用ガラス基板を製造した一例について説明する。

【００５３】用いたガラス素材は、アルミノシリケート
のガラス（ガラス転移温度Ｔｇ＝４９２℃、線熱膨張係
数α＝９５×１０^-7（１００〜３００℃））である。ま
ず、ガラス素材を１２００℃に加熱し、溶融する。溶融
炉ノズル１５から吐出される１２００℃の溶融ガラス
は、長さ約３．２ｍのダクト５１内を自由落下すること
によって８００℃にまで冷却され、下型１７ａ上に載置
される。このように、高温で溶融したガラスを冷却する
ことによって、成形用金型の寿命を延ばすことができ
る。

【００５４】下型１７ａ上に載置された溶融ガラス２４
は、その後、実施形態１で説明したのと同様の方法によ
ってガラス基板２５に成形される。このようにして得ら
れたガラス基板２５の表面は、表面粗さが０．５ｎｍ
で、平坦度４μｍ以内の超平滑でうねりのない面であっ
た。

【００５５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のガラス基
板の製造方法によれば、超平滑な表面を有する円板状の
ガラス基板を低コストで容易に製造することができる。

【００５６】また、本発明のガラス基板製造装置によれ
ば、超平滑な表面を有する円板状のガラス基板を低コス
トで容易に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のガラス基板の製造方法に用いるガラ
ス基板製造装置について一例を示す模式図である。

【図２】 本発明のガラス基板の製造方法に用いる成形
用金型の一例を示す断面図である。

【図３】 本発明のガラス基板の製造方法によって製造
されたガラス基板の一例を示す図である。

【図４】 本発明のガラス基板製造装置について一例を
示す模式図である。

【図５】 本発明のガラス基板製造装置について他の一
例を示す模式図である。

【符号の説明】

１０、４０、４０ａ ガラス基板製造装置 １１、１１ａ、１１ｂ 溶融ガラス供給ステージ １２ 成形ステージ １３ チャンバ １７ 成形用金型 １７ａ 下型 １７ｂ 規制部材 １７ｃ 上型 ２４ 溶融ガラス ２５ ガラス基板 ４１ 傾斜ガイド（冷却手段） ５１ ダクト（冷却手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野田 稔 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 奥山 冨士夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 円板状のガラス基板を製造する方法であ
   って、 前記ガラス基板の材料であるガラスを溶融して溶融ガラ
   スを得る第１の工程と、 上型および下型と、前記上型と前記下型との空隙を規制
   するための規制部材とを備える成形用金型内に前記溶融
   ガラスを配置したのち加圧成形することによって、直径
   Ｘと厚さＹとがＸ＞４０Ｙの関係を満たす円板状のガラ
   ス基板を形成する第２の工程とを含むことを特徴とする
   ガラス基板の製造方法。
2. 【請求項２】 前記規制部材の熱収縮量が、前記ガラス
   の熱収縮量よりも小さい請求項１に記載のガラス基板の
   製造方法。
3. 【請求項３】 前記第２の工程は、前記溶融ガラスを前
   記成形用金型に配置する前に、前記溶融ガラスを冷却す
   る工程を含む請求項１または２に記載のガラス基板の製
   造方法。
4. 【請求項４】 前記第２の工程において、前記成形用金
   型に配置される前記溶融ガラスの温度がガラス転移温度
   以上の温度である請求項３に記載のガラス基板の製造方
   法。
5. 【請求項５】 前記第２の工程において、前記成形用金
   型に配置される前記溶融ガラスの温度が、加圧成形する
   際の温度以上の温度である請求項３に記載のガラス基板
   の製造方法。
6. 【請求項６】 ガラス基板を製造するためのガラス基板
   製造装置であって、 前記ガラス基板の材料となるガラスを溶融するための溶
   融炉と、 前記溶融炉で溶融された溶融ガラスを冷却するための冷
   却手段と、 前記冷却手段によって冷却された前記溶融ガラスを加圧
   成形するための成形用金型とを備え、 前記成形用金型は、直径Ｘと厚さＹとがＸ＞４０Ｙの関
   係を満たす円板状のガラス基板を製造するための成形用
   金型であって、上型および下型と、前記上型と前記下型
   との空隙を規制するための規制部材とを備える成形用金
   型であることを特徴とするガラス基板製造装置。
7. 【請求項７】 前記規制部材の熱収縮量が、前記ガラス
   の熱収縮量よりも小さい請求項６に記載のガラス基板製
   造装置。
8. 【請求項８】 前記冷却手段が傾斜ガイドであり、前記
   溶融ガラスは前記傾斜ガイド上を移動することによって
   冷却される請求項６または７に記載のガラス基板製造装
   置。
9. 【請求項９】 前記傾斜ガイドがステンレス鋼からなる
   請求項８に記載のガラス基板製造装置。
10. 【請求項１０】 前記傾斜ガイドの表面に、炭素を主成
    分とする熱伝導性シートを備える請求項９に記載のガラ
    ス基板製造装置。
11. 【請求項１１】 前記冷却手段がダクトであり、前記溶
    融ガラスが前記ダクト内を通過することによって冷却さ
    れる請求項６または７に記載のガラス基板製造装置。