JP2001159506A - ３次元形状計測装置および方法、並びに記録媒体 - Google Patents
３次元形状計測装置および方法、並びに記録媒体Info
- Publication number
- JP2001159506A JP2001159506A JP34439299A JP34439299A JP2001159506A JP 2001159506 A JP2001159506 A JP 2001159506A JP 34439299 A JP34439299 A JP 34439299A JP 34439299 A JP34439299 A JP 34439299A JP 2001159506 A JP2001159506 A JP 2001159506A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- subject
- photographing
- distance image
- reference image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/42—Mixtures of liquid crystal compounds covered by two or more of the preceding groups C09K19/06 - C09K19/40
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
- C09K19/58—Dopants or charge transfer agents
- C09K19/586—Optically active dopants; chiral dopants
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/137—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering
- G02F1/13718—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering based on a change of the texture state of a cholesteric liquid crystal
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ミスマッチング領域が無い距離画像を生成す
る。 【解決手段】 投光器３は、非周期的な投光パターンを
被写体１に照射する。基準カメラ４は、基準画像を撮影
する。参照カメラ５は、参照画像を撮影する。画像間対
応付け回路６，７は、基準画像と参照画像との視差を求
める。距離画像生成回路８は、視差を用いて距離画像を
生成する。置換回路１１は、投光パターンが照射された
状態の距離画像のミスマッチング領域を、投光パターン
が照射されていない状態の距離画像の対応する部分で置
換する。
る。 【解決手段】 投光器３は、非周期的な投光パターンを
被写体１に照射する。基準カメラ４は、基準画像を撮影
する。参照カメラ５は、参照画像を撮影する。画像間対
応付け回路６，７は、基準画像と参照画像との視差を求
める。距離画像生成回路８は、視差を用いて距離画像を
生成する。置換回路１１は、投光パターンが照射された
状態の距離画像のミスマッチング領域を、投光パターン
が照射されていない状態の距離画像の対応する部分で置
換する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、３次元形状計測装
置および方法、並びに記録媒体に関し、特に、被写体を
複数の異なる位置から撮影した画像を用いて被写体表面
の３次元形状を計測する場合に用いて好適な３次元形状
計測装置および方法、並びに記録媒体に関する。
置および方法、並びに記録媒体に関し、特に、被写体を
複数の異なる位置から撮影した画像を用いて被写体表面
の３次元形状を計測する場合に用いて好適な３次元形状
計測装置および方法、並びに記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に「ステレオ視」または「ステレオ
３次元画像計測」等と呼ばれている距離測定方法は、異
なる位置に設けられた少なくとも２台以上のカメラ（基
準カメラと、その他の参照カメラ）で被写体を撮影し
て、得られた複数の画像（基準カメラによる基準画像
と、参照カメラによる参照画像）の間で対応する画素を
特定し（一般に、「対応点付け」と呼ばれる）、対応付
けられた基準画像上の画素と、参照画像上の画素との位
置の差（視差）に三角測量の原理を適用することによ
り、基準カメラ（または、参照カメラ）から当該画素に
対応する被写体上の点までの距離を計測するものであ
る。従って、被写体の表面全体に対応する全ての画素ま
での距離を測定すれば、被写体の形状や奥行きを測定す
ることが可能となる。
３次元画像計測」等と呼ばれている距離測定方法は、異
なる位置に設けられた少なくとも２台以上のカメラ（基
準カメラと、その他の参照カメラ）で被写体を撮影し
て、得られた複数の画像（基準カメラによる基準画像
と、参照カメラによる参照画像）の間で対応する画素を
特定し（一般に、「対応点付け」と呼ばれる）、対応付
けられた基準画像上の画素と、参照画像上の画素との位
置の差（視差）に三角測量の原理を適用することによ
り、基準カメラ（または、参照カメラ）から当該画素に
対応する被写体上の点までの距離を計測するものであ
る。従って、被写体の表面全体に対応する全ての画素ま
での距離を測定すれば、被写体の形状や奥行きを測定す
ることが可能となる。
【０００３】なお、「ステレオ３次元画像計測」におい
て最も重要な「対応点付け」は、基準画像上のある点Ｐ
ａに写像される実空間上の点は複数（図１に示す実空間
上の点Ｐ1，Ｐ2，Ｐ3等）存在するので、実空間上の点
Ｐ1，Ｐ2，Ｐ3等の写像である直線（エピポーラライン
と呼ばれている）上に、点Ｐａに対応する参照画像上の
点Ｐａ’が存在することに基づいて行われる。
て最も重要な「対応点付け」は、基準画像上のある点Ｐ
ａに写像される実空間上の点は複数（図１に示す実空間
上の点Ｐ1，Ｐ2，Ｐ3等）存在するので、実空間上の点
Ｐ1，Ｐ2，Ｐ3等の写像である直線（エピポーラライン
と呼ばれている）上に、点Ｐａに対応する参照画像上の
点Ｐａ’が存在することに基づいて行われる。
【０００４】ところで、「対応点付け」の具体的な方法
としては、例えば、「C.Lawrence Zitnick and Jon A.W
ebb:Mult-baseline Stereo Using Surface Extraction,
Technical Report,CMU-CS-96-196,(1996)」に記述され
ているピクセルベース(Pixel-based)マッチング法、例
えば、「奥富、金出：複数の基線長を利用したステレオ
マッチング、電子情報通信学会論文誌Ｄ−II、Vol.75-D
-II,No.8,pp.1317-1327,(1992)」に記述されているエリ
アベース(Area-based)マッチング法、例えば、「H.H.Ba
ker and T.O.Binford:Depth from edge intensity base
d stereo,In Proc.IJCAI'81,(1981)」に記述されている
フィーチャベース(Feature-based)マッチング法等が提
案されている。
としては、例えば、「C.Lawrence Zitnick and Jon A.W
ebb:Mult-baseline Stereo Using Surface Extraction,
Technical Report,CMU-CS-96-196,(1996)」に記述され
ているピクセルベース(Pixel-based)マッチング法、例
えば、「奥富、金出：複数の基線長を利用したステレオ
マッチング、電子情報通信学会論文誌Ｄ−II、Vol.75-D
-II,No.8,pp.1317-1327,(1992)」に記述されているエリ
アベース(Area-based)マッチング法、例えば、「H.H.Ba
ker and T.O.Binford:Depth from edge intensity base
d stereo,In Proc.IJCAI'81,(1981)」に記述されている
フィーチャベース(Feature-based)マッチング法等が提
案されている。
【０００５】しかしながら、上述したいずれの方法にお
いても、被写体（距離を測定する対象物）が、例えば、
単色の壁や人の顔のように、濃淡、形状、色等の局所的
な特徴が少ないものである場合、対応点付けが困難とな
り、ミスマッチング領域が生じてしまう問題があった。
いても、被写体（距離を測定する対象物）が、例えば、
単色の壁や人の顔のように、濃淡、形状、色等の局所的
な特徴が少ないものである場合、対応点付けが困難とな
り、ミスマッチング領域が生じてしまう問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そのような問題を解決
するために、例えば、「S.B.Kang,J.A.Webb,C.L.Zitnic
k and T.Kanade:A Multibaseline Stereo System with
Active Illumination and Real-time Image Acquisitio
n,Proc IEEE Int Conf.Comput.Vis.,Vol.5,pp88-93,(19
95)」に記述された方法では、局所的な特徴を有しない
被写体に周期的な模様の光を照射して撮影し、得られた
画像の対応点付けを行うことが提案されたが、周期的な
模様を被写体に照射する方法は、模様が周期的であるが
故に、対応点付けを誤ることがあり、必ずしも効果的で
はない課題があった。
するために、例えば、「S.B.Kang,J.A.Webb,C.L.Zitnic
k and T.Kanade:A Multibaseline Stereo System with
Active Illumination and Real-time Image Acquisitio
n,Proc IEEE Int Conf.Comput.Vis.,Vol.5,pp88-93,(19
95)」に記述された方法では、局所的な特徴を有しない
被写体に周期的な模様の光を照射して撮影し、得られた
画像の対応点付けを行うことが提案されたが、周期的な
模様を被写体に照射する方法は、模様が周期的であるが
故に、対応点付けを誤ることがあり、必ずしも効果的で
はない課題があった。
【０００７】特に、上述したような被写体に光を照射す
る方法では、照射光が被写体の凸部で正反射した場合、
撮影した画像の正反射部分の画素値が飽和してしまい対
応点付けができず、ミスマッチ領域となってしまう課題
があった。
る方法では、照射光が被写体の凸部で正反射した場合、
撮影した画像の正反射部分の画素値が飽和してしまい対
応点付けができず、ミスマッチ領域となってしまう課題
があった。
【０００８】また、上述したような被写体に光を照射す
る方法では、被写体の反射率が低い部分（例えば、人の
頭髪部分等）では照射光が反射されずに、ミスマッチ領
域となってしまう課題があった。
る方法では、被写体の反射率が低い部分（例えば、人の
頭髪部分等）では照射光が反射されずに、ミスマッチ領
域となってしまう課題があった。
【０００９】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、照射光を用いて生成した距離画像と照射光
を用いずに生成された距離画像を組み合わせることによ
り、ミスマッチ領域の無い距離画像を生成することを目
的とする。
ものであり、照射光を用いて生成した距離画像と照射光
を用いずに生成された距離画像を組み合わせることによ
り、ミスマッチ領域の無い距離画像を生成することを目
的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の３次元形状計測
装置は、乱数を用いて非周期的な投光パターンを生成す
る投光パターン生成手段と、被写体に前記投光パターン
を照射する照射手段と、被写体を撮影して、基準画像を
生成する第１の撮影手段と、第１の撮影手段の位置とは
異なる位置から被写体を撮影して、参照画像を生成する
第２の撮影手段と、照射手段の照射タイミング、並びに
第１および第２の撮影手段の撮影タイミングを制御する
タイミング制御手段と、基準画像上の画素と、参照画像
上の画素との対応を識別して、対応する画素間の視差を
算出する識別手段と、視差に基づいて距離画像を生成す
る距離画像生成手段とを含むことを特徴とする。
装置は、乱数を用いて非周期的な投光パターンを生成す
る投光パターン生成手段と、被写体に前記投光パターン
を照射する照射手段と、被写体を撮影して、基準画像を
生成する第１の撮影手段と、第１の撮影手段の位置とは
異なる位置から被写体を撮影して、参照画像を生成する
第２の撮影手段と、照射手段の照射タイミング、並びに
第１および第２の撮影手段の撮影タイミングを制御する
タイミング制御手段と、基準画像上の画素と、参照画像
上の画素との対応を識別して、対応する画素間の視差を
算出する識別手段と、視差に基づいて距離画像を生成す
る距離画像生成手段とを含むことを特徴とする。
【００１１】本発明の３次元形状計測装置は、照射手段
が投光パターンを照射した状態に対応する距離画像と、
照射手段が投光パターンを照射していない状態に対応す
る距離画像とを合成する合成手段をさらに含むことがで
きる。
が投光パターンを照射した状態に対応する距離画像と、
照射手段が投光パターンを照射していない状態に対応す
る距離画像とを合成する合成手段をさらに含むことがで
きる。
【００１２】本発明の３次元形状計測装置は、照射手段
が投光パターンを照射した状態に対応する距離画像と、
照射手段が投光パターンを照射していない状態に対応す
る距離画像のうちのいずれか一方の距離画像の中で、画
素値の信頼性が低い領域を検出する検出手段をさらに含
むことができ、前記合成手段は、検出手段が検出した領
域の画素値を、他方の前記距離画像の対応する領域の画
素値を用いて置換することによって、照射手段が投光パ
ターンを照射した状態に対応する距離画像と、照射手段
が投光パターンを照射していない状態に対応する距離画
像とを合成するようにすることができる。
が投光パターンを照射した状態に対応する距離画像と、
照射手段が投光パターンを照射していない状態に対応す
る距離画像のうちのいずれか一方の距離画像の中で、画
素値の信頼性が低い領域を検出する検出手段をさらに含
むことができ、前記合成手段は、検出手段が検出した領
域の画素値を、他方の前記距離画像の対応する領域の画
素値を用いて置換することによって、照射手段が投光パ
ターンを照射した状態に対応する距離画像と、照射手段
が投光パターンを照射していない状態に対応する距離画
像とを合成するようにすることができる。
【００１３】前記検出手段は、距離画像の画素値の連続
性に基づいて、画素値の信頼性が低い領域を検出するよ
うにすることができる。
性に基づいて、画素値の信頼性が低い領域を検出するよ
うにすることができる。
【００１４】前記タイミング制御手段は、照射手段が投
光パターンを照射した状態に対応する基準画像および参
照画像と、照射手段が投光パターンの照射を止めた状態
に対応する基準画像および参照画像が、それぞれ連続し
たフレーム画像となるように、照射タイミングおよび前
記撮影タイミングを制御するようにすることができる。
光パターンを照射した状態に対応する基準画像および参
照画像と、照射手段が投光パターンの照射を止めた状態
に対応する基準画像および参照画像が、それぞれ連続し
たフレーム画像となるように、照射タイミングおよび前
記撮影タイミングを制御するようにすることができる。
【００１５】本発明の３次元形状計測方法は、乱数を用
いて非周期的な投光パターンを生成する投光パターン生
成ステップと、被写体に前記投光パターンを照射する照
射ステップと、被写体を撮影して、基準画像を生成する
第１の撮影ステップと、第１の撮影ステップの処理で撮
影した位置とは異なる位置から被写体を撮影して、参照
画像を生成する第２の撮影ステップと、照射ステップの
処理の照射タイミング、並びに第１および第２の撮影ス
テップの処理の撮影タイミングを制御するタイミング制
御ステップと、基準画像上の画素と、参照画像上の画素
との対応を識別して、対応する画素間の視差を算出する
識別ステップと、視差に基づいて距離画像を生成する距
離画像生成ステップとを含むことを特徴とする。
いて非周期的な投光パターンを生成する投光パターン生
成ステップと、被写体に前記投光パターンを照射する照
射ステップと、被写体を撮影して、基準画像を生成する
第１の撮影ステップと、第１の撮影ステップの処理で撮
影した位置とは異なる位置から被写体を撮影して、参照
画像を生成する第２の撮影ステップと、照射ステップの
処理の照射タイミング、並びに第１および第２の撮影ス
テップの処理の撮影タイミングを制御するタイミング制
御ステップと、基準画像上の画素と、参照画像上の画素
との対応を識別して、対応する画素間の視差を算出する
識別ステップと、視差に基づいて距離画像を生成する距
離画像生成ステップとを含むことを特徴とする。
【００１６】本発明の記録媒体のプログラムは、照射手
段の照射タイミング、並びに第１および第２の撮影手段
の撮影タイミングを制御するタイミング制御ステップ
と、基準画像上の画素と、参照画像上の画素との対応を
識別して、対応する画素間の視差を算出する識別ステッ
プと、視差に基づいて距離画像を生成する距離画像生成
ステップとを含むことを特徴とする。
段の照射タイミング、並びに第１および第２の撮影手段
の撮影タイミングを制御するタイミング制御ステップ
と、基準画像上の画素と、参照画像上の画素との対応を
識別して、対応する画素間の視差を算出する識別ステッ
プと、視差に基づいて距離画像を生成する距離画像生成
ステップとを含むことを特徴とする。
【００１７】本発明の３次元形状計測装置、３次元形状
計測方法、および記録媒体のプログラムにおいては、乱
数を用いて非周期的な投光パターンが生成され、被写体
に投光パターンが照射される。また、被写体が撮影され
て基準画像が生成され、異なる位置から被写体が撮影さ
れて参照画像が生成される。なお、照射タイミング、撮
影タイミングは制御される。また、基準画像上の画素
と、参照画像上の画素との対応が識別されて、対応する
画素間の視差が算出され、視差に基づいて距離画像が生
成される。
計測方法、および記録媒体のプログラムにおいては、乱
数を用いて非周期的な投光パターンが生成され、被写体
に投光パターンが照射される。また、被写体が撮影され
て基準画像が生成され、異なる位置から被写体が撮影さ
れて参照画像が生成される。なお、照射タイミング、撮
影タイミングは制御される。また、基準画像上の画素
と、参照画像上の画素との対応が識別されて、対応する
画素間の視差が算出され、視差に基づいて距離画像が生
成される。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明を適用した距離画像生成シ
ステムの構成例について、図２を参照して説明する。こ
の距離画像生成システムは、例えば、人の顔のような立
体的な被写体１の表面と基準カメラ４との距離を示す距
離画像、すなわち、基準カメラ４から見た被写体１の表
面形状を示す画像を生成するものである。
ステムの構成例について、図２を参照して説明する。こ
の距離画像生成システムは、例えば、人の顔のような立
体的な被写体１の表面と基準カメラ４との距離を示す距
離画像、すなわち、基準カメラ４から見た被写体１の表
面形状を示す画像を生成するものである。
【００１９】距離画像生成システムの投光パターン生成
回路２は、一様乱数や正規乱数を発生して、図３(A)，
(B)に示すような、ドットのサイズ、線の長さや太さ、
位置、濃度等が非周期的に設定した投光パターンを生成
して投光器３に供給する。投光器３は、図４に示すよう
に、光を投光パターンスライド２２に照射する光源２
１、投光パターン生成回路２から供給された投光パター
ンが描かれたスライド２２、および、投光パターンを被
写体１に拡大して照射するレンズ２３から構成され、制
御回路１３からの制御に従ったタイミングで、投光パタ
ーンを被写体１に照射する。
回路２は、一様乱数や正規乱数を発生して、図３(A)，
(B)に示すような、ドットのサイズ、線の長さや太さ、
位置、濃度等が非周期的に設定した投光パターンを生成
して投光器３に供給する。投光器３は、図４に示すよう
に、光を投光パターンスライド２２に照射する光源２
１、投光パターン生成回路２から供給された投光パター
ンが描かれたスライド２２、および、投光パターンを被
写体１に拡大して照射するレンズ２３から構成され、制
御回路１３からの制御に従ったタイミングで、投光パタ
ーンを被写体１に照射する。
【００２０】基準カメラ４は、CCD(Charge Coupled Dev
ice)素子を内蔵しており、制御回路１３による制御に従
ったタイミングで、被写体１を撮影し、得られた基準画
像を電気信号に変換して画像間対応付け回路６（または
画像間対応付け回路７）に出力する。具体的には、基準
カメラ４は、投光パターンが照射された状態の被写体１
と、照射されない状態の被写体１を連続的に撮影し、投
光パターンが照射された状態の被写体１を撮像した基準
画像を画像間対応付け回路６に出力し、投光パターンが
照射されない状態の被写体１を撮像した基準画像を画像
間対応付け回路７に出力する。参照カメラ５は、基準カ
メラ４に対して所定の距離と角度が設けられており、基
準カメラ４と同時に被写体１を撮影し、投光パターンが
照射された状態の被写体１を撮像した参照画像を画像間
対応付け回路６に出力し、投光パターンが照射されない
状態の被写体１を撮像した参照画像を画像間対応付け回
路７に出力する。
ice)素子を内蔵しており、制御回路１３による制御に従
ったタイミングで、被写体１を撮影し、得られた基準画
像を電気信号に変換して画像間対応付け回路６（または
画像間対応付け回路７）に出力する。具体的には、基準
カメラ４は、投光パターンが照射された状態の被写体１
と、照射されない状態の被写体１を連続的に撮影し、投
光パターンが照射された状態の被写体１を撮像した基準
画像を画像間対応付け回路６に出力し、投光パターンが
照射されない状態の被写体１を撮像した基準画像を画像
間対応付け回路７に出力する。参照カメラ５は、基準カ
メラ４に対して所定の距離と角度が設けられており、基
準カメラ４と同時に被写体１を撮影し、投光パターンが
照射された状態の被写体１を撮像した参照画像を画像間
対応付け回路６に出力し、投光パターンが照射されない
状態の被写体１を撮像した参照画像を画像間対応付け回
路７に出力する。
【００２１】画像間対応付け回路６は、基準カメラ４か
らの投光パターンが照射された状態の被写体１を撮像し
た基準画像と、参照カメラ５からの投光パターンが照射
された状態の被写体１を撮像した参照画像との対応点付
けを行い、基準画像の各画素に対する参照画像の画素の
視差を距離画像生成回路８に出力する。画像間対応付け
回路７は、基準カメラ４からの投光パターンが照射され
ない状態の被写体１を撮像した基準画像と、参照カメラ
５からの投光パターンが照射されない状態の被写体１を
撮像した参照画像との対応点付けを行い、基準画像の各
画素に対する参照画像の画素の視差を距離画像生成回路
８に出力する。
らの投光パターンが照射された状態の被写体１を撮像し
た基準画像と、参照カメラ５からの投光パターンが照射
された状態の被写体１を撮像した参照画像との対応点付
けを行い、基準画像の各画素に対する参照画像の画素の
視差を距離画像生成回路８に出力する。画像間対応付け
回路７は、基準カメラ４からの投光パターンが照射され
ない状態の被写体１を撮像した基準画像と、参照カメラ
５からの投光パターンが照射されない状態の被写体１を
撮像した参照画像との対応点付けを行い、基準画像の各
画素に対する参照画像の画素の視差を距離画像生成回路
８に出力する。
【００２２】なお、画像間対応付け回路７を省略し、画
像間対応付け回路６により、投光パターンが照射された
状態の被写体１を撮像した基準画像と参照画像の組を対
応点付けした後、投光パターンが照射されない状態の被
写体１を撮像した基準画像と参照画像の組を対応点付け
するようにしてもよい。
像間対応付け回路６により、投光パターンが照射された
状態の被写体１を撮像した基準画像と参照画像の組を対
応点付けした後、投光パターンが照射されない状態の被
写体１を撮像した基準画像と参照画像の組を対応点付け
するようにしてもよい。
【００２３】距離画像生成回路８は、画像間対応付け回
路６から入力される基準画像と参照画像の各画素の視差
を基に、距離画像（被写体１の写像の画素値が、被写体
１の対応する点と基準カメラ４との距離に対応している
画像）Ｄ１を生成して画像メモリ９に出力する。距離画
像生成回路８はまた、画像間対応付け回路７から入力さ
れる基準画像と参照画像の視差を基に、距離画像Ｄ２を
生成して画像メモリ９に出力する。画像メモリ９は、距
離画像生成回路８から入力される２種類の距離画像Ｄ
１，Ｄ２を記憶する。
路６から入力される基準画像と参照画像の各画素の視差
を基に、距離画像（被写体１の写像の画素値が、被写体
１の対応する点と基準カメラ４との距離に対応している
画像）Ｄ１を生成して画像メモリ９に出力する。距離画
像生成回路８はまた、画像間対応付け回路７から入力さ
れる基準画像と参照画像の視差を基に、距離画像Ｄ２を
生成して画像メモリ９に出力する。画像メモリ９は、距
離画像生成回路８から入力される２種類の距離画像Ｄ
１，Ｄ２を記憶する。
【００２４】ミスマッチング領域検出回路１０は、画像
メモリ９から距離画像を読み出してラベリング（詳細は
後述する）し、距離画像Ｄ１の中の被写体１に対応する
部分の上に存在するミスマッチング領域を検出して、そ
の位置情報を距離画像生成回路８、および置換回路１１
に出力する。置換回路１１は、画像メモリ９から２種類
の距離画像Ｄ１，Ｄ２を読み出して、ミスマッチング領
域周辺の画素値（距離）の連続性を判定し、判定結果に
対応して、距離画像Ｄ１のミスマッチング領域に対応す
る部分の画素値（距離）を、距離画像Ｄ２の画素値（距
離）で置換して、出力回路１２に供給する。出力回路１
２は、置換回路１１からの距離画像を出力する。
メモリ９から距離画像を読み出してラベリング（詳細は
後述する）し、距離画像Ｄ１の中の被写体１に対応する
部分の上に存在するミスマッチング領域を検出して、そ
の位置情報を距離画像生成回路８、および置換回路１１
に出力する。置換回路１１は、画像メモリ９から２種類
の距離画像Ｄ１，Ｄ２を読み出して、ミスマッチング領
域周辺の画素値（距離）の連続性を判定し、判定結果に
対応して、距離画像Ｄ１のミスマッチング領域に対応す
る部分の画素値（距離）を、距離画像Ｄ２の画素値（距
離）で置換して、出力回路１２に供給する。出力回路１
２は、置換回路１１からの距離画像を出力する。
【００２５】制御回路１３は、ドライブ１４を駆動させ
て、磁気ディスク１５、光ディスク１６、光磁気ディス
ク１７、または半導体メモリ１８に記憶されている制御
用プログラムを読み出し、読み出した制御用プログラム
に基づいて、距離画像生成システムの各回路を制御す
る。制御回路１３はまた、ユーザから入力されるコマン
ド等に対応して、距離画像生成システムの全体を制御す
る。
て、磁気ディスク１５、光ディスク１６、光磁気ディス
ク１７、または半導体メモリ１８に記憶されている制御
用プログラムを読み出し、読み出した制御用プログラム
に基づいて、距離画像生成システムの各回路を制御す
る。制御回路１３はまた、ユーザから入力されるコマン
ド等に対応して、距離画像生成システムの全体を制御す
る。
【００２６】次に、距離画像生成システムの動作につい
て、図５のフローチャートを参照して説明する。
て、図５のフローチャートを参照して説明する。
【００２７】ステップＳ１において、投光パターン生成
回路２は、一様乱数や正規乱数を用いて、例えば図３
(A)に示すような非周期的な投光パターン（以下、投光
パターンＰ１と記述する）を生成し、投光器３に供給す
る。投光器３は、投光パターン生成回路２から供給され
た投光パターンＰ１を被写体１に拡大して照射する。
回路２は、一様乱数や正規乱数を用いて、例えば図３
(A)に示すような非周期的な投光パターン（以下、投光
パターンＰ１と記述する）を生成し、投光器３に供給す
る。投光器３は、投光パターン生成回路２から供給され
た投光パターンＰ１を被写体１に拡大して照射する。
【００２８】ステップＳ２において、基準カメラ４と参
照カメラ５は、投光パターンＰ１が照射された被写体１
（例えば、人の頭部）を撮影し、それぞれ、得られた基
準画像Ｇ１１（図８(A)）、参照画像Ｇ１２（図８(B)）
を画像間対応付け回路６に出力する。ステップＳ３にお
いて、投光パターン生成回路２は、投光パターンＰ１の
照射を止める。基準カメラ４と参照カメラ５は、環境光
の下で投光パターンＰ１が照射されていない状態の被写
体１を撮影し、それぞれ、得られた基準画像Ｇ２１（図
９(A)）、参照画像Ｇ２２（図９(B)）を画像間対応付け
回路７に出力する。
照カメラ５は、投光パターンＰ１が照射された被写体１
（例えば、人の頭部）を撮影し、それぞれ、得られた基
準画像Ｇ１１（図８(A)）、参照画像Ｇ１２（図８(B)）
を画像間対応付け回路６に出力する。ステップＳ３にお
いて、投光パターン生成回路２は、投光パターンＰ１の
照射を止める。基準カメラ４と参照カメラ５は、環境光
の下で投光パターンＰ１が照射されていない状態の被写
体１を撮影し、それぞれ、得られた基準画像Ｇ２１（図
９(A)）、参照画像Ｇ２２（図９(B)）を画像間対応付け
回路７に出力する。
【００２９】ここで、制御回路１３による、ステップＳ
１乃至ステップＳ３の処理における投光パターンＰ１の
照射タイミング、および撮影タイミングの制御につい
て、図６および図７を参照して説明する。
１乃至ステップＳ３の処理における投光パターンＰ１の
照射タイミング、および撮影タイミングの制御につい
て、図６および図７を参照して説明する。
【００３０】基準カメラ４および参照カメラ５がインタ
レース方式である場合、図６に示すように、投光パター
ンＰ１が照射された状態の奇数フィールド画像および偶
数フィールド画像が撮像され、それに連続して、環境光
の下で奇数フィールド画像および偶数フィールド画像が
撮像される。具体的には、連続する４回のCCD蓄積時間
（各１／６０秒間）のうちの前半の２回において、時間
Ｔ１だけ投光パターンＰ１が照射され、照射時間Ｔ１の
うちの時間Ｔ２だけ、基準カメラ４および参照カメラ５
のシャッタが開放される。後半の２回においては、投光
パターンＰ１は照射されず、その間、基準カメラ４およ
び参照カメラ５のシャッタは開放される。
レース方式である場合、図６に示すように、投光パター
ンＰ１が照射された状態の奇数フィールド画像および偶
数フィールド画像が撮像され、それに連続して、環境光
の下で奇数フィールド画像および偶数フィールド画像が
撮像される。具体的には、連続する４回のCCD蓄積時間
（各１／６０秒間）のうちの前半の２回において、時間
Ｔ１だけ投光パターンＰ１が照射され、照射時間Ｔ１の
うちの時間Ｔ２だけ、基準カメラ４および参照カメラ５
のシャッタが開放される。後半の２回においては、投光
パターンＰ１は照射されず、その間、基準カメラ４およ
び参照カメラ５のシャッタは開放される。
【００３１】また、基準カメラ４および参照カメラ５が
ノンインタレース方式である場合、図７に示すように、
投光パターンＰ１が照射された状態のフレーム画像が撮
像され、それに続いて、環境光の下でフレーム画像が撮
像される。具体的には、連続する２回のCCD蓄積時間
（各１／３０秒間）のうちの前半の１回において、時間
Ｔ１だけ投光パターンＰ１が照射され、照射時間Ｔ１の
うちの時間Ｔ２だけ、基準カメラ４および参照カメラ５
のシャッタが開放される。後半の１回においては、投光
パターンＰ１は照射されず、その間、基準カメラ４およ
び参照カメラ５のシャッタは開放される。
ノンインタレース方式である場合、図７に示すように、
投光パターンＰ１が照射された状態のフレーム画像が撮
像され、それに続いて、環境光の下でフレーム画像が撮
像される。具体的には、連続する２回のCCD蓄積時間
（各１／３０秒間）のうちの前半の１回において、時間
Ｔ１だけ投光パターンＰ１が照射され、照射時間Ｔ１の
うちの時間Ｔ２だけ、基準カメラ４および参照カメラ５
のシャッタが開放される。後半の１回においては、投光
パターンＰ１は照射されず、その間、基準カメラ４およ
び参照カメラ５のシャッタは開放される。
【００３２】ところで、投光パターンＰ１が照射された
被写体の基準画像Ｇ１１（図８(A)）と参照画像Ｇ１２
（図８(B)）においては、被写体である人物の頭部のう
ち、鼻付近で照射光が正反射し、その部分の画素値が飽
和しているものとする。また、頭髪部分は光の反射率が
悪く、背景部分には照射光が到達しないので、それらの
部分の画素値が極端に小さい値となっているものとす
る。
被写体の基準画像Ｇ１１（図８(A)）と参照画像Ｇ１２
（図８(B)）においては、被写体である人物の頭部のう
ち、鼻付近で照射光が正反射し、その部分の画素値が飽
和しているものとする。また、頭髪部分は光の反射率が
悪く、背景部分には照射光が到達しないので、それらの
部分の画素値が極端に小さい値となっているものとす
る。
【００３３】図５に戻る。ステップＳ４において、画像
間対応付け回路６は、基準カメラ４からの基準画像Ｇ１
１と、参照カメラ５からの参照画像Ｇ１２との対応点付
けを行い、基準画像Ｇ１１の各画素に対する参照画像Ｇ
１２の画素の視差を距離画像生成回路８に出力する。た
だし、被写体の鼻付近の視差については、照射光が正反
射したことに起因して、また、頭髪部分の視差について
は照射光の反射が少なかったことに起因して正確な値で
はない。その他の顔の部分は、投光パターンＰ１によ
り、正確な対応点付けがなされる。
間対応付け回路６は、基準カメラ４からの基準画像Ｇ１
１と、参照カメラ５からの参照画像Ｇ１２との対応点付
けを行い、基準画像Ｇ１１の各画素に対する参照画像Ｇ
１２の画素の視差を距離画像生成回路８に出力する。た
だし、被写体の鼻付近の視差については、照射光が正反
射したことに起因して、また、頭髪部分の視差について
は照射光の反射が少なかったことに起因して正確な値で
はない。その他の顔の部分は、投光パターンＰ１によ
り、正確な対応点付けがなされる。
【００３４】ステップＳ５において、距離画像生成回路
８は、画像間対応付け回路６から入力された基準画像Ｇ
１１と参照画像Ｇ１２の各画素の視差を基に、距離画像
Ｄ１を生成して画像メモリ９に記録する。生成された距
離画像の被写体の鼻付近、頭髪部分の画素値（距離）に
ついては、正確な視差を得られていないのでミスマッチ
領域となっている。
８は、画像間対応付け回路６から入力された基準画像Ｇ
１１と参照画像Ｇ１２の各画素の視差を基に、距離画像
Ｄ１を生成して画像メモリ９に記録する。生成された距
離画像の被写体の鼻付近、頭髪部分の画素値（距離）に
ついては、正確な視差を得られていないのでミスマッチ
領域となっている。
【００３５】ステップＳ６において、ミスマッチング領
域検出回路１０は、画像メモリ９から距離画像Ｄ１を読
み出してラベリング処理を実行し、距離画像Ｄ１の中の
被写体１に対応する部分の上に存在するミスマッチング
領域を検出して、その位置情報を距離画像生成回路８、
および置換回路１１に出力する。
域検出回路１０は、画像メモリ９から距離画像Ｄ１を読
み出してラベリング処理を実行し、距離画像Ｄ１の中の
被写体１に対応する部分の上に存在するミスマッチング
領域を検出して、その位置情報を距離画像生成回路８、
および置換回路１１に出力する。
【００３６】ここで、ラベリング処理の詳細について、
図１０のフローチャートを参照して説明する。ステップ
Ｓ２１において、ミスマッチング領域検出回路１０は、
画像メモリ９から距離画像Ｄ１を読み出す。ステップＳ
２２において、ミスマッチング領域検出回路１０は、ラ
ベリング未処理画素数ｋを０に初期化する。また、ミス
マッチング領域検出回路１０は、内蔵する座標記憶用バ
ッファｘ[k]，ｙ[k]を初期化する。ステップＳ２３にお
いて、ミスマッチング領域検出回路１０は、距離画像Ｄ
１の中の被写体１に対応する部分の任意の位置の座標
を、注目する画素の座標（ｉ，ｊ）に代入する。
図１０のフローチャートを参照して説明する。ステップ
Ｓ２１において、ミスマッチング領域検出回路１０は、
画像メモリ９から距離画像Ｄ１を読み出す。ステップＳ
２２において、ミスマッチング領域検出回路１０は、ラ
ベリング未処理画素数ｋを０に初期化する。また、ミス
マッチング領域検出回路１０は、内蔵する座標記憶用バ
ッファｘ[k]，ｙ[k]を初期化する。ステップＳ２３にお
いて、ミスマッチング領域検出回路１０は、距離画像Ｄ
１の中の被写体１に対応する部分の任意の位置の座標
を、注目する画素の座標（ｉ，ｊ）に代入する。
【００３７】ステップＳ２４において、ミスマッチング
領域検出回路１０は、距離画像Ｄ１の注目画素の画素値
ｇ（ｉ，ｊ）を抽出する。ステップＳ２５において、ミ
スマッチング領域検出回路１０は、注目画素に隣接する
８つの画素のうちの１つの画素値ｇ（ｉ＋ｍ，ｊ＋ｎ）
（ｍ，ｎ＝−１，０，１）を抽出する。
領域検出回路１０は、距離画像Ｄ１の注目画素の画素値
ｇ（ｉ，ｊ）を抽出する。ステップＳ２５において、ミ
スマッチング領域検出回路１０は、注目画素に隣接する
８つの画素のうちの１つの画素値ｇ（ｉ＋ｍ，ｊ＋ｎ）
（ｍ，ｎ＝−１，０，１）を抽出する。
【００３８】ステップＳ２６において、ミスマッチング
領域検出回路１０は、注目する画素の画素値ｇ（ｉ，
ｊ）が、ラベル値Ｌ０である否かを判定し、さらに、注
目する画素の画素値ｇ（ｉ，ｊ）と、隣接する画素の画
素値ｇ（ｉ＋ｍ，ｊ＋ｎ）の差の絶対値が所定の閾値よ
りも小さいか否か、すなわち、注目する画素の画素値ｇ
（ｉ，ｊ）に対して、隣接する画素の画素値ｇ（ｉ＋
ｍ，ｊ＋ｎ）が連続しているか否かを判定する。注目す
る画素の画素値ｇ（ｉ，ｊ）がラベル値Ｌ０ではなく、
且つ、隣接する画素の画素値ｇ（ｉ＋ｍ，ｊ＋ｎ）が画
素値ｇ（ｉ，ｊ）に対して連続していると判定された場
合、ステップＳ２７に進む。
領域検出回路１０は、注目する画素の画素値ｇ（ｉ，
ｊ）が、ラベル値Ｌ０である否かを判定し、さらに、注
目する画素の画素値ｇ（ｉ，ｊ）と、隣接する画素の画
素値ｇ（ｉ＋ｍ，ｊ＋ｎ）の差の絶対値が所定の閾値よ
りも小さいか否か、すなわち、注目する画素の画素値ｇ
（ｉ，ｊ）に対して、隣接する画素の画素値ｇ（ｉ＋
ｍ，ｊ＋ｎ）が連続しているか否かを判定する。注目す
る画素の画素値ｇ（ｉ，ｊ）がラベル値Ｌ０ではなく、
且つ、隣接する画素の画素値ｇ（ｉ＋ｍ，ｊ＋ｎ）が画
素値ｇ（ｉ，ｊ）に対して連続していると判定された場
合、ステップＳ２７に進む。
【００３９】ステップＳ２７において、ミスマッチング
領域検出回路１０は、ラベリング未処理画素数ｋを１だ
けインクリメントし、隣接する画素のｘ座標ｉ＋ｍを座
標記憶用バッファｘ[k]に記録し、ｙ座標ｊ＋ｎを座標
記憶用バッファｙ[k]に記録する。
領域検出回路１０は、ラベリング未処理画素数ｋを１だ
けインクリメントし、隣接する画素のｘ座標ｉ＋ｍを座
標記憶用バッファｘ[k]に記録し、ｙ座標ｊ＋ｎを座標
記憶用バッファｙ[k]に記録する。
【００４０】ステップＳ２８において、ミスマッチング
領域検出回路１０は、注目する画素に隣接する８つ全て
の画素に対してステップＳ２５，Ｓ２６の処理を施した
か否かを判定し、隣接する画素に、ステップＳ２５，Ｓ
２６の処理を施していないものが存在すると判定した場
合、ステップＳ２５に戻り、それ以降の処理を繰り返
す。その後、ステップＳ２８で、隣接する８つ全ての画
素に、ステップＳ２５，Ｓ２６の処理を施したと判定さ
れた場合、ステップＳ２９に進む。
領域検出回路１０は、注目する画素に隣接する８つ全て
の画素に対してステップＳ２５，Ｓ２６の処理を施した
か否かを判定し、隣接する画素に、ステップＳ２５，Ｓ
２６の処理を施していないものが存在すると判定した場
合、ステップＳ２５に戻り、それ以降の処理を繰り返
す。その後、ステップＳ２８で、隣接する８つ全ての画
素に、ステップＳ２５，Ｓ２６の処理を施したと判定さ
れた場合、ステップＳ２９に進む。
【００４１】ステップＳ２９において、ミスマッチング
領域検出回路１０は、注目画素の画素値ｇ（ｉ，ｊ）を
ラベル値Ｌ０に置換する。ここで、ラベル値Ｌ０は、距
離画像Ｄ１の被写体１に対応する部分の画素に対して付
されるものである。
領域検出回路１０は、注目画素の画素値ｇ（ｉ，ｊ）を
ラベル値Ｌ０に置換する。ここで、ラベル値Ｌ０は、距
離画像Ｄ１の被写体１に対応する部分の画素に対して付
されるものである。
【００４２】ステップＳ３０において、ミスマッチング
領域検出回路１０は、ラベリング未処理画素数ｋが０で
あるか否かを判定し、ラベリング未処理画素数ｋが０で
はないと判定した場合、ステップＳ３１に進む。
領域検出回路１０は、ラベリング未処理画素数ｋが０で
あるか否かを判定し、ラベリング未処理画素数ｋが０で
はないと判定した場合、ステップＳ３１に進む。
【００４３】ステップＳ３１において、ミスマッチング
領域検出回路１０は、座標記憶用バッファｘ[k]に記録
されている値を注目画素のｘ座標とし、座標記憶用バッ
ファｙ[k]に記録されている値を注目画素のｙ座標とす
る。これにより、先程までの注目画素に隣接し、且つ、
画素値が連続する画素が新たな注目画素とされる。その
後、ミスマッチング領域検出回路１０は、ラベリング未
処理画素数ｋを１だけインクリメントして、ステップＳ
２４に戻り、以降の処理が繰り返される。
領域検出回路１０は、座標記憶用バッファｘ[k]に記録
されている値を注目画素のｘ座標とし、座標記憶用バッ
ファｙ[k]に記録されている値を注目画素のｙ座標とす
る。これにより、先程までの注目画素に隣接し、且つ、
画素値が連続する画素が新たな注目画素とされる。その
後、ミスマッチング領域検出回路１０は、ラベリング未
処理画素数ｋを１だけインクリメントして、ステップＳ
２４に戻り、以降の処理が繰り返される。
【００４４】その後、ステップＳ３０において、ラベリ
ング未処理画素数ｋが０であると判定された場合、ステ
ップＳ３２に進む。ステップＳ３２において、ミスマッ
チング領域検出回路１０は、距離画像Ｄ１の画素で画素
値がラベル値Ｌ０に置換されていない画素の画素値を、
ミスマッチング領域であることを示すラベル値Ｌ１に置
換する。さらに、ミスマッチング領域検出回路１０は、
ラベル値Ｌ１を付した画素の位置情報を距離画像生成回
路８、および置換回路１１に出力する。
ング未処理画素数ｋが０であると判定された場合、ステ
ップＳ３２に進む。ステップＳ３２において、ミスマッ
チング領域検出回路１０は、距離画像Ｄ１の画素で画素
値がラベル値Ｌ０に置換されていない画素の画素値を、
ミスマッチング領域であることを示すラベル値Ｌ１に置
換する。さらに、ミスマッチング領域検出回路１０は、
ラベル値Ｌ１を付した画素の位置情報を距離画像生成回
路８、および置換回路１１に出力する。
【００４５】このようなラベリング処理により、距離画
像Ｄ１の中の被写体１に対応する部分であって、且つ、
隣接する画素と画素値が連続している画素は、その画素
値がラベル値Ｌ０とされ、距離画像Ｄ１の中の被写体１
に対応しない部分、および、被写体１に対応する部分で
あって、且つ、隣接する画素と画素値が連続しない画素
は、その画素値がラベル値Ｌ１とされる。具体的には、
距離画像Ｄ１の中の顔の画素がラベル値Ｌ０とされる。
ただし、照射光の正反射が発生したことにより、正確な
距離画像の画素値が得られていない顔の中の鼻付近と、
照射光が反射しなかったために正確な距離画像の画素値
が得られていない頭髪部分の画素はラベル値Ｌ１とされ
る。
像Ｄ１の中の被写体１に対応する部分であって、且つ、
隣接する画素と画素値が連続している画素は、その画素
値がラベル値Ｌ０とされ、距離画像Ｄ１の中の被写体１
に対応しない部分、および、被写体１に対応する部分で
あって、且つ、隣接する画素と画素値が連続しない画素
は、その画素値がラベル値Ｌ１とされる。具体的には、
距離画像Ｄ１の中の顔の画素がラベル値Ｌ０とされる。
ただし、照射光の正反射が発生したことにより、正確な
距離画像の画素値が得られていない顔の中の鼻付近と、
照射光が反射しなかったために正確な距離画像の画素値
が得られていない頭髪部分の画素はラベル値Ｌ１とされ
る。
【００４６】図５に戻る。ステップＳ７において、ミス
マッチング領域検出回路１０は、ラベル値Ｌ１が付され
た画素のうちで、ラベル値Ｌ０が付された画素に囲まれ
ているものが存在するか否かを判定することにより、距
離画像Ｄ１の中の被写体１に対応する部分にミスマッチ
ング領域が存在するか否かを判定し、距離画像Ｄ１の中
の被写体１に対応する部分にミスマッチング領域が存在
すると判定した場合、ステップＳ８に進む。
マッチング領域検出回路１０は、ラベル値Ｌ１が付され
た画素のうちで、ラベル値Ｌ０が付された画素に囲まれ
ているものが存在するか否かを判定することにより、距
離画像Ｄ１の中の被写体１に対応する部分にミスマッチ
ング領域が存在するか否かを判定し、距離画像Ｄ１の中
の被写体１に対応する部分にミスマッチング領域が存在
すると判定した場合、ステップＳ８に進む。
【００４７】ステップＳ８において、画像間対応付け回
路７は、基準カメラ４からの基準画像Ｇ２１と、参照カ
メラ５からの参照画像Ｇ２２との対応点付けを行い、基
準画像Ｇ２１の各画素に対する参照画像Ｇ２２の画素の
視差を距離画像生成回路８に出力する。ここで、基準画
像Ｇ２１と参照画像Ｇ２２は、投光パターンＰ１は照射
されず、環境光下で撮像されたものであるので、対応点
付けが不正確である場合もあるが、頭髪部分の対応点付
けが行われている。
路７は、基準カメラ４からの基準画像Ｇ２１と、参照カ
メラ５からの参照画像Ｇ２２との対応点付けを行い、基
準画像Ｇ２１の各画素に対する参照画像Ｇ２２の画素の
視差を距離画像生成回路８に出力する。ここで、基準画
像Ｇ２１と参照画像Ｇ２２は、投光パターンＰ１は照射
されず、環境光下で撮像されたものであるので、対応点
付けが不正確である場合もあるが、頭髪部分の対応点付
けが行われている。
【００４８】ステップＳ９において、距離画像生成回路
８は、画像間対応付け回路７から入力された基準画像Ｇ
２１と参照画像Ｇ２２の各画素の視差を基に、距離画像
Ｄ２を生成して画像メモリ９に記憶させる。
８は、画像間対応付け回路７から入力された基準画像Ｇ
２１と参照画像Ｇ２２の各画素の視差を基に、距離画像
Ｄ２を生成して画像メモリ９に記憶させる。
【００４９】ステップＳ１０において、置換回路１１
は、距離画像Ｄ１の中の被写体１に対応する部分に存在
する全てのミスマッチング領域のうちの１つを選択す
る。
は、距離画像Ｄ１の中の被写体１に対応する部分に存在
する全てのミスマッチング領域のうちの１つを選択す
る。
【００５０】ステップＳ１１において、置換回路１１
は、ステップＳ１０で選択したミスマッチング領域に対
応する距離画像Ｄ２の領域の画素値と、ステップＳ１０
で選択したミスマッチング領域の周囲に対する距離画像
Ｄ１の画素値の連続性を所定のアルゴリズム（例えば、
画素値の差の絶対値を所定の閾値と比較する）に基づい
て判定し、連続していると判定した場合、ステップＳ１
２に進む。
は、ステップＳ１０で選択したミスマッチング領域に対
応する距離画像Ｄ２の領域の画素値と、ステップＳ１０
で選択したミスマッチング領域の周囲に対する距離画像
Ｄ１の画素値の連続性を所定のアルゴリズム（例えば、
画素値の差の絶対値を所定の閾値と比較する）に基づい
て判定し、連続していると判定した場合、ステップＳ１
２に進む。
【００５１】ステップＳ１２において、置換回路１１
は、ステップＳ１０で選択したミスマッチング領域に対
応する距離画像Ｄ１の領域の画素値を、距離画像Ｄ２の
対応する領域の画素値を用いて置換する。
は、ステップＳ１０で選択したミスマッチング領域に対
応する距離画像Ｄ１の領域の画素値を、距離画像Ｄ２の
対応する領域の画素値を用いて置換する。
【００５２】ステップＳ１３において、置換回路１１
は、ステップＳ１０で、距離画像Ｄ１の中に存在する全
てのミスマッチング領域を選択したか否かを判定し、全
てのミスマッチング領域を選択したと判定するまで、ス
テップＳ１０に戻り、それ以降の処理を繰り返す。
は、ステップＳ１０で、距離画像Ｄ１の中に存在する全
てのミスマッチング領域を選択したか否かを判定し、全
てのミスマッチング領域を選択したと判定するまで、ス
テップＳ１０に戻り、それ以降の処理を繰り返す。
【００５３】その後、ステップＳ１３において、距離画
像Ｄ１の中の被写体１に対応する部分に存在する全ての
ミスマッチング領域を選択したと判定した場合、ステッ
プＳ１４に進む。
像Ｄ１の中の被写体１に対応する部分に存在する全ての
ミスマッチング領域を選択したと判定した場合、ステッ
プＳ１４に進む。
【００５４】ステップＳ１４において、ミスマッチング
領域検出回路１０は、距離画像Ｄ１上のミスマッチ領域
であって、置換回路１１によって距離画像Ｄ２の画素値
を用いて置換されていない領域に対応する、距離画像Ｄ
２上の領域でステップＳ６と同様にラベリング処理を実
行する。このラベリング処理により、照射光が反射しな
かったことに起因してミスマッチ領域となった距離画像
Ｄ１上の領域に対応する距離画像Ｄ２上の領域が抽出さ
れる。いまの場合、距離画像Ｄ２上の被写体の頭髪部分
が抽出される。ステップＳ１５において、置換回路１１
は、ステップＳ１４で抽出した距離画像Ｄ２の領域の画
素値を用いて、距離画像Ｄ１の対応する領域の画素値を
置換する。
領域検出回路１０は、距離画像Ｄ１上のミスマッチ領域
であって、置換回路１１によって距離画像Ｄ２の画素値
を用いて置換されていない領域に対応する、距離画像Ｄ
２上の領域でステップＳ６と同様にラベリング処理を実
行する。このラベリング処理により、照射光が反射しな
かったことに起因してミスマッチ領域となった距離画像
Ｄ１上の領域に対応する距離画像Ｄ２上の領域が抽出さ
れる。いまの場合、距離画像Ｄ２上の被写体の頭髪部分
が抽出される。ステップＳ１５において、置換回路１１
は、ステップＳ１４で抽出した距離画像Ｄ２の領域の画
素値を用いて、距離画像Ｄ１の対応する領域の画素値を
置換する。
【００５５】ステップＳ１６において、置換回路１１
は、距離画像Ｄ２の画素値を用いて部分的に置換した距
離画像Ｄ１を出力回路１２に供給する。出力回路１２
は、置換回路１１からの距離画像Ｄ１を出力する。
は、距離画像Ｄ２の画素値を用いて部分的に置換した距
離画像Ｄ１を出力回路１２に供給する。出力回路１２
は、置換回路１１からの距離画像Ｄ１を出力する。
【００５６】なお、ステップＳ１１において、ステップ
Ｓ１０で選択したミスマッチング領域に対応する距離画
像Ｄ２の領域の画素値と、ステップＳ１０で選択したミ
スマッチング領域の周囲に対する距離画像Ｄ１の画素値
が連続していないと判定された場合、そのミスマッチン
グ領域は、被写体１上に実在する極端な凹凸部分である
か、または、オクリュージョン領域であると考えられる
ので、ステップＳ１２はスキップされる。
Ｓ１０で選択したミスマッチング領域に対応する距離画
像Ｄ２の領域の画素値と、ステップＳ１０で選択したミ
スマッチング領域の周囲に対する距離画像Ｄ１の画素値
が連続していないと判定された場合、そのミスマッチン
グ領域は、被写体１上に実在する極端な凹凸部分である
か、または、オクリュージョン領域であると考えられる
ので、ステップＳ１２はスキップされる。
【００５７】また、ステップＳ７において、距離画像Ｄ
１の中の被写体１に対応する部分にミスマッチング領域
が存在しないと判定された場合、ステップＳ８乃至Ｓ１
３の処理はスキップされる。
１の中の被写体１に対応する部分にミスマッチング領域
が存在しないと判定された場合、ステップＳ８乃至Ｓ１
３の処理はスキップされる。
【００５８】このような距離画像生成処理により、例え
ば図１１(A)に示すように、距離画像Ｄ１の被写体１に
対応する部分上にミスマッチング領域があった場合、そ
の部分が距離画像Ｄ２の画素値を用いて置換されるの
で、結果的に、図１１(B)に示すようなミスマッチング
領域のない距離画像を得ることが可能となる。
ば図１１(A)に示すように、距離画像Ｄ１の被写体１に
対応する部分上にミスマッチング領域があった場合、そ
の部分が距離画像Ｄ２の画素値を用いて置換されるの
で、結果的に、図１１(B)に示すようなミスマッチング
領域のない距離画像を得ることが可能となる。
【００５９】なお、距離画像Ｄ１のミスマッチング領域
が、被写体１上に実在する極端な凹凸部分ではなく、且
つ、オクリュージョン領域でもないことが明らかである
場合において、ミスマッチング領域に対応する距離画像
Ｄ２の画素値が置換に用いる値として適切ではないとき
には、異なる投光パターンを被写体に照射して部分的な
距離画像Ｄ３を生成し、その画素値を用いて距離画像Ｄ
１の画素値を置換するようにしてもよい。
が、被写体１上に実在する極端な凹凸部分ではなく、且
つ、オクリュージョン領域でもないことが明らかである
場合において、ミスマッチング領域に対応する距離画像
Ｄ２の画素値が置換に用いる値として適切ではないとき
には、異なる投光パターンを被写体に照射して部分的な
距離画像Ｄ３を生成し、その画素値を用いて距離画像Ｄ
１の画素値を置換するようにしてもよい。
【００６０】以上のように、本発明を適用した距離画像
生成システムによれば、非周期的な投光パターンを被写
体に照射して撮影することで、対応点付けにおけるミス
を減少させ、さらに、照射光の正反射や、反対に、照射
光が反射しないことによって生じるミスマッチング領域
を、環境光の下で撮影した画像を用いて生成した距離画
像の画素値で置換するようにしたので、白い壁や人の顔
等のように、特徴が少ない立体的な被写体の表面形状を
示す距離画像を生成することが可能となる。
生成システムによれば、非周期的な投光パターンを被写
体に照射して撮影することで、対応点付けにおけるミス
を減少させ、さらに、照射光の正反射や、反対に、照射
光が反射しないことによって生じるミスマッチング領域
を、環境光の下で撮影した画像を用いて生成した距離画
像の画素値で置換するようにしたので、白い壁や人の顔
等のように、特徴が少ない立体的な被写体の表面形状を
示す距離画像を生成することが可能となる。
【００６１】ところで、上述した一連の処理は、ハード
ウェアにより実行させることもできるが、ソフトウェア
により実行させることもできる。一連の処理をソフトウ
ェアにより実行させる場合には、そのソフトウェアを構
成するプログラムが、専用のハードウェアに組み込まれ
ているコンピュータ、または、各種のプログラムをイン
ストールすることで、各種の機能を実行することが可能
な、例えば汎用のパーソナルコンピュータなどに、記録
媒体からインストールされる。
ウェアにより実行させることもできるが、ソフトウェア
により実行させることもできる。一連の処理をソフトウ
ェアにより実行させる場合には、そのソフトウェアを構
成するプログラムが、専用のハードウェアに組み込まれ
ているコンピュータ、または、各種のプログラムをイン
ストールすることで、各種の機能を実行することが可能
な、例えば汎用のパーソナルコンピュータなどに、記録
媒体からインストールされる。
【００６２】この記録媒体は、図２に示すように、コン
ピュータとは別に、ユーザにプログラムを提供するため
に配布される、プログラムが記録されている磁気ディス
ク１５（フロッピディスクを含む）、光ディスク１６
（CD-ROM(Compact Disc-Read Only Memory)、DVD(Digit
al Versatile Disc)を含む）、光磁気ディスク１７（Ｍ
Ｄ(Mini Disc)を含む）、もしくは半導体メモリ１８な
どよりなるパッケージメディアにより構成されるだけで
なく、コンピュータに予め組み込まれた状態でユーザに
提供される、プログラムが記録されているROMや記憶部
に含まれるハードディスクなどで構成される。
ピュータとは別に、ユーザにプログラムを提供するため
に配布される、プログラムが記録されている磁気ディス
ク１５（フロッピディスクを含む）、光ディスク１６
（CD-ROM(Compact Disc-Read Only Memory)、DVD(Digit
al Versatile Disc)を含む）、光磁気ディスク１７（Ｍ
Ｄ(Mini Disc)を含む）、もしくは半導体メモリ１８な
どよりなるパッケージメディアにより構成されるだけで
なく、コンピュータに予め組み込まれた状態でユーザに
提供される、プログラムが記録されているROMや記憶部
に含まれるハードディスクなどで構成される。
【００６３】なお、本明細書において、記録媒体に記録
されるプログラムを記述するステップは、記載された順
序に従って時系列的に行われる処理はもちろん、必ずし
も時系列的に処理されなくとも、並列的あるいは個別に
実行される処理をも含むものである。
されるプログラムを記述するステップは、記載された順
序に従って時系列的に行われる処理はもちろん、必ずし
も時系列的に処理されなくとも、並列的あるいは個別に
実行される処理をも含むものである。
【００６４】また、本明細書において、システムとは、
複数の装置により構成される装置全体を表すものであ
る。
複数の装置により構成される装置全体を表すものであ
る。
【００６５】
【発明の効果】以上のように、本発明の３次元形状計測
装置、３次元形状計測方法、および記録媒体のプログラ
ムによれば、基準画像上の画素と、参照画像上の画素と
の対応を識別して対応する画素間の視差を算出し、視差
に基づいて２種類の距離画像を生成する。また、必要に
応じて、２種類の距離画像を合成するようにしたので、
ミスマッチング領域が無い距離画像を生成することが可
能となる。
装置、３次元形状計測方法、および記録媒体のプログラ
ムによれば、基準画像上の画素と、参照画像上の画素と
の対応を識別して対応する画素間の視差を算出し、視差
に基づいて２種類の距離画像を生成する。また、必要に
応じて、２種類の距離画像を合成するようにしたので、
ミスマッチング領域が無い距離画像を生成することが可
能となる。
【図１】エピポーララインを説明するための図である。
【図２】本発明を適用した距離画像生成システムの構成
例を示すブロック図である。
例を示すブロック図である。
【図３】投光パターンの一例を示す図である。
【図４】投光器３の構成例を示すブロック図である。
【図５】距離画像生成処理を説明するフローチャートで
ある。
ある。
【図６】投光パターンの照射タイミング、および撮影タ
イミングを説明するための図である。
イミングを説明するための図である。
【図７】投光パターンの照射タイミング、および撮影タ
イミングを説明するための図である。
イミングを説明するための図である。
【図８】基準画像と参照画像の一例を示す図である。
【図９】基準画像と参照画像の一例を示す図である。
【図１０】図５のステップＳ５のラベリング処理の詳細
を説明するフローチャートである。
を説明するフローチャートである。
【図１１】補正された距離画像の例を示す図である。
１ 被写体， ２ 投光パターン生成回路， ３ 投光
器， ４ 基準カメラ， ５ 参照カメラ， ６，７
画像間対応付け回路， ８ 距離画像生成回路， ９
画像メモリ， １０ ミスマッチ領域検出回路， １１
置換回路，１２ 出力回路， １３ 制御回路， １
４ ドライブ， １５ 磁気ディスク， １６ 光ディ
スク， １７ 光磁気ディスク， １８ 半導体メモリ
器， ４ 基準カメラ， ５ 参照カメラ， ６，７
画像間対応付け回路， ８ 距離画像生成回路， ９
画像メモリ， １０ ミスマッチ領域検出回路， １１
置換回路，１２ 出力回路， １３ 制御回路， １
４ ドライブ， １５ 磁気ディスク， １６ 光ディ
スク， １７ 光磁気ディスク， １８ 半導体メモリ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芦ヶ原 隆之 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 林 和慶 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 横山 敦 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 2F065 AA07 AA53 BB05 DD00 FF05 HH07 HH12 JJ03 JJ05 JJ26 KK01 LL24 NN03 PP23 QQ24 QQ36 RR09 SS13 UU01 UU05 5B057 BA02 BA11 BA19 BA21 CE08 DA07 DB03 DC03 DC09 DC32
Claims (7)
- 【請求項１】 被写体を異なる視点から撮影した画像を
用いて、前記被写体の３次元形状を計測する３次元形状
計測装置において、 乱数を用いて非周期的な投光パターンを生成する投光パ
ターン生成手段と、 前記被写体に前記投光パターンを照射する照射手段と、 前記被写体を撮影して、基準画像を生成する第１の撮影
手段と、 前記第１の撮影手段の位置とは異なる位置から前記被写
体を撮影して、参照画像を生成する第２の撮影手段と、 前記照射手段の照射タイミング、並びに前記第１および
第２の撮影手段の撮影タイミングを制御するタイミング
制御手段と、 前記基準画像上の画素と、前記参照画像上の画素との対
応を識別して、対応する画素間の視差を算出する識別手
段と、 前記視差に基づいて距離画像を生成する距離画像生成手
段とを含むことを特徴とする３次元形状計測装置。 - 【請求項２】 前記照射手段が前記投光パターンを照射
した状態に対応する前記距離画像と、前記照射手段が前
記投光パターンを照射していない状態に対応する前記距
離画像とを合成する合成手段をさらに含むことを特徴と
する請求項１に記載の３次元形状計測装置。 - 【請求項３】 前記照射手段が前記投光パターンを照射
した状態に対応する前記距離画像と、前記照射手段が前
記投光パターンを照射していない状態に対応する前記距
離画像のうちのいずれか一方の距離画像の中で、画素値
の信頼性が低い領域を検出する検出手段をさらに含み、 前記合成手段は、前記検出手段が検出した前記領域の画
素値を、他方の前記距離画像の対応する領域の画素値を
用いて置換することによって、前記照射手段が前記投光
パターンを照射した状態に対応する前記距離画像と、前
記照射手段が前記投光パターンを照射していない状態に
対応する前記距離画像とを合成することを特徴とする請
求項２に記載の３次元形状計測装置。 - 【請求項４】 前記検出手段は、前記距離画像の画素値
の連続性に基づいて、前記画素値の信頼性が低い領域を
検出することを特徴とする請求項１に記載の３次元形状
計測装置。 - 【請求項５】 前記タイミング制御手段は、前記照射手
段が前記投光パターンを照射した状態に対応する前記基
準画像および前記参照画像と、前記照射手段が前記投光
パターンの照射を止めた状態に対応する前記基準画像お
よび前記参照画像が、それぞれ連続したフレーム画像と
なるように、前記照射タイミングおよび前記撮影タイミ
ングを制御することを特徴とする請求項１に記載の３次
元形状計測装置。 - 【請求項６】 被写体を異なる視点から撮影した画像を
用いて、前記被写体の３次元形状を計測する３次元形状
計測装置の３次元形状計測方法において、 乱数を用いて非周期的な投光パターンを生成する投光パ
ターン生成ステップと、 前記被写体に前記投光パターンを照射する照射ステップ
と、 前記被写体を撮影して、基準画像を生成する第１の撮影
ステップと、 前記第１の撮影ステップの処理で撮影した位置とは異な
る位置から前記被写体を撮影して、参照画像を生成する
第２の撮影ステップと、 前記照射ステップの処理の照射タイミング、並びに前記
第１および第２の撮影ステップの処理の撮影タイミング
を制御するタイミング制御ステップと、 前記基準画像上の画素と、前記参照画像上の画素との対
応を識別して、対応する画素間の視差を算出する識別ス
テップと、 前記視差に基づいて距離画像を生成する距離画像生成ス
テップとを含むことを特徴とする３次元形状計測方法。 - 【請求項７】 乱数を用いて非周期的な投光パターンを
生成する投光パターン生成手段と、 前記被写体に前記投光パターンを照射する照射手段と、 前記被写体を撮影して、基準画像を生成する第１の撮影
手段と、 前記第１の撮影手段の位置とは異なる位置から前記被写
体を撮影して、参照画像を生成する第２の撮影手段とを
備え、 被写体を異なる視点から撮影した画像を用いて、前記被
写体の３次元形状を計測する３次元形状計測装置を制御
するプログラムであって、 前記照射手段の照射タイミング、並びに前記第１および
第２の撮影手段の撮影タイミングを制御するタイミング
制御ステップと、 前記基準画像上の画素と、前記参照画像上の画素との対
応を識別して、対応する画素間の視差を算出する識別ス
テップと、 前記視差に基づいて距離画像を生成する距離画像生成ス
テップとを含むことを特徴とするコンピュータが読み取
り可能なプログラムが記録されている記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/450,723 US6287647B1 (en) | 1999-12-03 | 1999-11-30 | Liquid crystal composition and liquid crystal display using the same |
| JP34439299A JP2001159506A (ja) | 1999-12-03 | 1999-12-03 | ３次元形状計測装置および方法、並びに記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34439299A JP2001159506A (ja) | 1999-12-03 | 1999-12-03 | ３次元形状計測装置および方法、並びに記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001159506A true JP2001159506A (ja) | 2001-06-12 |
Family
ID=18368903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34439299A Withdrawn JP2001159506A (ja) | 1999-12-03 | 1999-12-03 | ３次元形状計測装置および方法、並びに記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6287647B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001159506A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1146313A2 (en) * | 2000-04-13 | 2001-10-17 | Sony Corporation | Image pickup apparatus and method, and recording medium |
| WO2007102195A1 (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-13 | Fujitsu Limited | 撮影装置、及び撮影方法 |
| JP2010091492A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Fujifilm Corp | ３次元形状計測用撮影装置および方法並びにプログラム |
| JP2011232150A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-11-17 | Casio Comput Co Ltd | 情報処理装置及び方法、並びにプログラム |
| US8294762B2 (en) | 2008-10-10 | 2012-10-23 | Fujifilm Corporation | Three-dimensional shape measurement photographing apparatus, method, and program |
| JP2014219299A (ja) * | 2013-05-09 | 2014-11-20 | 新日鐵住金株式会社 | 高炉内装入物のプロフィル測定データの処理方法 |
| JP2021503603A (ja) * | 2017-11-17 | 2021-02-12 | トリナミクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 少なくとも１つの物体の位置を決定するための検出器 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3765182B2 (ja) * | 1998-05-15 | 2006-04-12 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| US6599589B1 (en) * | 1999-09-30 | 2003-07-29 | Minolta Co., Ltd. | Liquid crystal composition and liquid crystal light display element using the same |
| JP2001107050A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-17 | Minolta Co Ltd | 液晶組成物及び該組成物を用いた液晶光変調素子 |
| JP2001329265A (ja) * | 2000-05-22 | 2001-11-27 | Minolta Co Ltd | 液晶表示素子 |
| JP2002107768A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-10 | Minolta Co Ltd | 液晶表示素子 |
| EP1721307B1 (en) * | 2004-02-24 | 2013-04-17 | Merck Patent GmbH | Zenithal bistable nematic liquid crystal device |
| CN100401145C (zh) * | 2005-03-14 | 2008-07-09 | 财团法人工业技术研究院 | 彩色胆固醇型液晶显示器及其制造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2827471C2 (de) | 1978-06-22 | 1982-09-02 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Flüssigkristallzelle mit einer induzierten cholesterischen Phase |
| WO1992018448A1 (en) * | 1991-04-13 | 1992-10-29 | MERCK Patent Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Fluoro tolans and liquid crystalline media |
| DE59306095D1 (de) * | 1992-09-25 | 1997-05-15 | Merck Patent Gmbh | Acetylen Derivate und sie enthaltende flüssigkristalline Mischungen |
| DE59306101D1 (de) * | 1992-10-23 | 1997-05-15 | Merck Patent Gmbh | Fluorsubstituierte Phenyl-Cyclohexylacetylene und sie enthaltende flüssigkristalline Gemische |
| US5693421A (en) * | 1992-12-22 | 1997-12-02 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Information recording medium and information recording and reproducing method |
| US5498367A (en) * | 1994-03-30 | 1996-03-12 | Hoffmann-La Roche Inc. | Optically active tolanes |
| EP0681021B1 (en) * | 1994-05-06 | 1998-12-23 | Chisso Corporation | A liquid crystal composition |
| JP3579727B2 (ja) * | 1994-05-06 | 2004-10-20 | チッソ株式会社 | 液晶組成物 |
| JPH0929882A (ja) | 1995-07-20 | 1997-02-04 | Nippon Oil Co Ltd | 調光材料 |
| US5807499A (en) * | 1995-08-23 | 1998-09-15 | Chisso Corporation | Liquid crystal composition and a liquid crystal display device containing the same |
| DE19538700A1 (de) * | 1995-10-18 | 1997-04-24 | Hoechst Ag | Cholesterische Phasen bildende Polymere, Verfahren zu deren Herstellung sowie Verwendung |
| GB2315561A (en) * | 1996-07-19 | 1998-02-04 | Sharp Kk | Liquid crystal device |
-
1999
- 1999-11-30 US US09/450,723 patent/US6287647B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-03 JP JP34439299A patent/JP2001159506A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1146313A2 (en) * | 2000-04-13 | 2001-10-17 | Sony Corporation | Image pickup apparatus and method, and recording medium |
| EP1146313A3 (en) * | 2000-04-13 | 2003-01-29 | Sony Corporation | Image pickup apparatus and method, and recording medium |
| WO2007102195A1 (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-13 | Fujitsu Limited | 撮影装置、及び撮影方法 |
| JP4751443B2 (ja) * | 2006-03-07 | 2011-08-17 | 富士通株式会社 | 撮影装置、及び撮影方法 |
| JP2010091492A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Fujifilm Corp | ３次元形状計測用撮影装置および方法並びにプログラム |
| US8294762B2 (en) | 2008-10-10 | 2012-10-23 | Fujifilm Corporation | Three-dimensional shape measurement photographing apparatus, method, and program |
| JP2011232150A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-11-17 | Casio Comput Co Ltd | 情報処理装置及び方法、並びにプログラム |
| JP2014219299A (ja) * | 2013-05-09 | 2014-11-20 | 新日鐵住金株式会社 | 高炉内装入物のプロフィル測定データの処理方法 |
| JP2021503603A (ja) * | 2017-11-17 | 2021-02-12 | トリナミクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 少なくとも１つの物体の位置を決定するための検出器 |
| JP7254799B2 (ja) | 2017-11-17 | 2023-04-10 | トリナミクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 少なくとも１つの物体の位置を決定するための検出器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6287647B1 (en) | 2001-09-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6754370B1 (en) | Real-time structured light range scanning of moving scenes | |
| US20190156557A1 (en) | 3d geometric modeling and 3d video content creation | |
| US9392262B2 (en) | System and method for 3D reconstruction using multiple multi-channel cameras | |
| JP2001264033A (ja) | 三次元形状計測装置とその方法、三次元モデリング装置とその方法、およびプログラム提供媒体 | |
| CN101542538B (zh) | 用来对光进行建模的方法与系统 | |
| Zhang et al. | Rapid shape acquisition using color structured light and multi-pass dynamic programming | |
| JP5570126B2 (ja) | 物体の姿勢を求める方法及び装置 | |
| US9098908B2 (en) | Generating a depth map | |
| US20020006282A1 (en) | Image pickup apparatus and method, and recording medium | |
| US9189859B2 (en) | 3D image generation | |
| JP2001159506A (ja) | ３次元形状計測装置および方法、並びに記録媒体 | |
| US6181345B1 (en) | Method and apparatus for replacing target zones in a video sequence | |
| JP2008537190A (ja) | 赤外線パターンを照射することによる対象物の三次元像の生成 | |
| JP2001091232A (ja) | ３次元形状計測装置および方法、並びに記録媒体 | |
| JP2003130621A (ja) | ３次元形状計測方法およびその装置 | |
| JP4110501B2 (ja) | ランダムパターン生成装置とその方法、距離画像生成装置とその方法、およびプログラム提供媒体 | |
| JP2019079487A (ja) | パラメータ最適化装置、パラメータ最適化方法、プログラム | |
| CN107370950B (zh) | 对焦处理方法、装置和移动终端 | |
| JP4418935B2 (ja) | 光学マーカシステム | |
| Martel et al. | An active approach to solving the stereo matching problem using event-based sensors | |
| US11398019B2 (en) | Light field system occlusion removal | |
| US7280685B2 (en) | Object segmentation from images acquired by handheld cameras | |
| US20130287293A1 (en) | Active Lighting For Stereo Reconstruction Of Edges | |
| JP2001266128A (ja) | 奥行き情報取得方法，装置および奥行き情報取得プログラムを記録した記録媒体 | |
| JP4337203B2 (ja) | 距離画像生成装置および距離画像生成方法、並びにプログラム提供媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070206 |