JP2001144169A - 基板収納治具搬送方法および自動搬送システム - Google Patents

基板収納治具搬送方法および自動搬送システム

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JP2001144169A JP32697799A JP32697799A JP2001144169A JP 2001144169 A JP2001144169 A JP 2001144169A JP 32697799 A JP32697799 A JP 32697799A JP 32697799 A JP32697799 A JP 32697799A JP 2001144169 A JP2001144169 A JP 2001144169A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、搬送による異物発生を低レベルに
抑えかつ搬送時間の短縮を実現する基板収納治具搬送方
法および自動搬送システムを得る。 【解決手段】 搬送する際にFOUP20のBD面が搬
送方向に垂直になるようにFOUP20を保持して搬送
する手段が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、フォトレティク
ル(reticle:回路原版)用基板、液晶ディスプ
レイパネル用基板やプラズマデイスプレイパネル用基板
等の表示パネル基板、ハードディスク用基板、半導体装
置等の電子デバイス用のウェハ等の基板を収納、運搬お
よび保管する次世代の基板収納治具であるFOUP(F
rontOpen Unified Pod:フロント
・オープニング・ユニファイド・ポッド)技術に係り、
特に搬送による異物発生を低レベルに抑えかつ搬送時間
の短縮を実現する基板収納治具搬送方法および自動搬送
システムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】次世代の基板収納治具であるFOUP
(Front Opening Unified Po
d:フロント・オープニング・ユニファイド・ポッド)
システムを搬送する際、半導体製造ラインの効率を上げ
るためになるべく搬送時間を短くする必要がある。ま
た、搬送によるウェハへの異物(例えば、パティクルや
ごみなど)の付着をできるだけ低くする必要がある。一
方、搬送時間を短くするためには搬送速度を上げる必要
があり、そのためにFOUP20にかかる加速度を大き
くする必要がある。しかし、加速度を大きくするとウェ
ハへの異物の付着が増加する傾向がある。このため、な
るべく異物の発生を抑えるような搬送方法が望まれてい
た。
【0003】このような技術背景において、従来、FO
UPを自動搬送システム(AMHS:Automate
d Material Handling Syste
m)等で搬送する際の搬送方向に対するFOUPの向き
についての提案はなかった。このため、ウェハ上の異物
発生を低レベルに抑えたままでより大きな加減速度を実
現するために、搬送機器上のFOUPの向きを規定する
ことがなかった。
【0004】まず、次世代の基板収納治具であるFOU
P(Front OpeningUnified Po
d)の構造について説明する。
【0005】FOUPシェルはウェハを保持する部分で
ある。FOUPシェル、FOUPドアの両者を合わせた
全体をFOUPと呼ぶ。
【0006】寸法等の情報はSEMI Standar
ds E57、E47.1等に記載されている。このウ
ェハキャリアは、従来使用されてきたオープンカセット
(SEMI Standards E1.9他8インチ
以前)と異なり、密閉空間中にウェハを保持すること
で、大気中の異物や化学的な汚染からウェハを防御する
ものである。密閉性を保つためにFOUPドアにシール
材(パッキン)を持ち、FOUPドアをFOUPシェル
に固定するため、FOUPドア側にはクランピング機構
(ストッパー機構)を持ち、FOUPシェル側にもFO
UPドアの固定用の相対するクランプされる穴を持つ。
また、リテーナと呼ばれるものでFOUPドアをFOU
Pシェルに固定した際に、ウェハを押さえて固定する。
また、FOUPシェル側のウェハを着座させる梁のこと
をウェハティースと呼ぶ。
【0007】次に、FOUPを用いた自動搬送システム
(AMHS)について、OHT(Overhead H
oist Transfer:オーバーヘッド・ホイス
ト・トランスファ)を例として説明する。
【0008】半導体工場内では処理を受けるウェハはF
OUPに入れられ処理装置間を移動する。300mmウ
ェハを収納したFOUPは約8kgの重量で、安全上人
手搬送は考えにくくOHT等の自動搬送システムを使用
することになる。以下、半導体工場内でのOHT動作の
一例として、処理されるウェハが入ったFOUPがある
処理装置に供給され、そこで処理され、回収される一連
の動作を説明する。
【0009】処理されるウェハが入ったFOUPは、最
初、工程内に設置されたストッカに保管されている。処
理装置(例えばエッチング装置)へのウェハ供給を上位
システムより指示されると、ストッカは上位から指定さ
れたFOUPをOHTへの受け渡し位置(ストッカ側の
ロードポート)まで搬送する。
【0010】OHTはストッカ側のロードポートの上ま
でやってきて停止し、昇降機構(Hoist機構)によ
りロボットハンドがFOUPのマッシュルームを掴み、
FOUPを引き上げる。引き上げが完了すると、OHT
は供給すべき処理装置側のロードポート上までFOUP
を搬送する。
【0011】FOUPは昇降機構で降ろされる。昇降機
構は、マッシュルームを外して上昇し、FOUPは処理
装置側のロードポート上に残される。その後処理装置側
のロードポートはFOUPのクランピング機構を外して
FOUPドアをFOUPシェルから取り外す。
【0012】FOUPドアが外れた状態ではFOUPの
前面からウェハを取り出すことができ、処理装置内のウ
ェハ搬送ロボットによりウェハを処理装置内部の処理部
に運び必要な処理を行う。処理が終了した後、ウェハ搬
送ロボットにより処理済みウェハを前記FOUPに戻
す。
【0013】FOUP内に存在するウェハに必要な処理
を行った後、処理装置側のロードポートは、FOUPド
アをFOUPシェルとドッキングさせクランピング機構
を働かせFOUPドアをFOUPシェルに固定する。そ
の後FOUPを後退させ移載ポジションに位置させる。
【0014】搬送要求により空のOHTがストッカ側の
ロードポート上に停止し、昇降機構によりロボットハン
ドがマッシュルームを掴み、引き上げる。その後OHT
はFOUPをストッカに搬送し、FOUPはそこで一時
保管された後、次の処理工程に運ばれる。半導体工場で
は、上記のような動作フローを繰り返して必要な回路を
ウェハに形成していく。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
動作フローで明らかなように、自動搬送システム(AM
HS)の搬送能力(=単位時間あたり搬送可能なFOU
P数の上限)が十分でない場合自動搬送システム(AM
HS)は、処理装置の稼動率を低下させてしまう。この
ため、搬送能力は処理装置の処理能力に見合うだけ用意
する必要があるという問題点があった。
【0016】このような問題点を解決することを目的と
する従来技術としては、自動搬送システム(AMHS)
の台車の数を増やす技術と、個々の自動搬送システム
(AMHS)の台車の搬送速度を高める技術の2つが開
示されている。このうち、台車数を増やすことはコスト
増大を引き起こすので、台車の搬送速度を高める技術の
方が望ましいと考えられている。しかしながら、搬送速
度を高めると加速度も高くなることになり、同時にFO
UPにかかる加速度も増大する。その結果、ウェハ上の
異物の発生増大の要因となるという問題点があった。
【0017】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、搬送による異物発生を低レベル
に抑えかつ搬送時間の短縮を実現する基板収納治具搬送
方法および自動搬送システムを得ることを目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項1記載
の発明にかかる基板収納治具搬送方法は、基板搬送によ
る異物発生を低レベルに抑えかつ基板搬送時間の短縮を
実現する基板収納治具搬送方法であって、基板を収納、
運搬および保管する基板収納治具を、当該基板収納治具
のバイラテラル・データム面が搬送方向に略垂直になる
ように当該基板収納治具を保持した状態で搬送する工程
を有するものである。
【0019】請求項2記載の発明にかかる基板収納治具
搬送方法は、基板搬送による異物発生を低レベルに抑え
かつ基板搬送時間の短縮を実現する基板収納治具搬送方
法であって、基板を収納、運搬および保管する基板収納
治具を、当該基板収納治具のバイラテラル・データム面
が搬送方向に対して所定角度の範囲内になるように当該
基板収納治具を保持した状態で搬送する工程を有するも
のである。
【0020】請求項3記載の発明にかかる基板収納治具
搬送方法は、基板搬送による異物発生を低レベルに抑え
かつ基板搬送時間の短縮を実現する基板収納治具搬送方
法であって、基板を収納、運搬および保管する基板収納
治具を、当該基板収納治具のバイラテラル・データム面
が搬送方向に略±30°以内になるように当該基板収納
治具を保持した状態で搬送する工程を有するものであ
る。
【0021】請求項4記載の発明にかかる基板収納治具
搬送方法は、基板搬送による異物発生を低レベルに抑え
かつ基板搬送時間の短縮を実現する基板収納治具搬送方
法であって、半導体装置製造時に前記基板としてのウェ
ハを収納、運搬および保管する基板収納治具としてのウ
ェハキャリアを、当該ウェハキャリアのバイラテラル・
データム面が搬送方向に略垂直になるように当該基板収
納治具を保持した状態で搬送する工程を有するものであ
る。
【0022】請求項5記載の発明にかかる基板収納治具
搬送方法は、基板搬送による異物発生を低レベルに抑え
かつ基板搬送時間の短縮を実現する基板収納治具搬送方
法であって、半導体装置製造時に前記基板としてのウェ
ハを収納、運搬および保管する基板収納治具としてのウ
ェハキャリアを、当該ウェハキャリアのバイラテラル・
データム面が搬送方向に略±30°以内になるように当
該基板収納治具を保持した状態で搬送する工程を有する
ものである。
【0023】請求項6記載の発明にかかる基板収納治具
搬送方法は、上記請求項4または5記載の発明におい
て、前記ウェハキャリアがフロント・オープニング・ユ
ニファイド・ポッドであるものである。
【0024】請求項7記載の発明にかかる自動搬送シス
テムは、基板搬送による異物発生を低レベルに抑えかつ
基板搬送時間の短縮を実現する自動搬送システムであっ
て、基板を収納、運搬および保管する基板収納治具と、
前記基板収納治具のマッシュルームを把持した状態で当
該基板収納治具を移動する昇降機構と、前記昇降機構に
よって前記基板収納治具のマッシュルームを掴んで当該
基板収納治具を保持する際に、当該基板収納治具を当該
基板収納治具のバイラテラル・データム面を搬送方向と
略垂直になるように保持するオーバーヘッド・ホイスト
・トランスファを備え、前記オーバーヘッド・ホイスト
・トランスファが前記昇降機構によって前記基板収納治
具のマッシュルームを掴んで当該基板収納治具を保持す
る際に、当該基板収納治具を当該基板収納治具のバイラ
テラル・データム面を搬送方向と略垂直になるように保
持し、続いて当該昇降機構が当該マッシュルームを把持
した状態で当該オーバーヘッド・ホイスト・トランスフ
ァ本体に当該基板収納治具を固定し、続いて当該オーバ
ーヘッド・ホイスト・トランスファが当該昇降機構を回
転して当該昇降機構と当該オーバーヘッド・ホイスト・
トランスファ本体の位置関係を調整して当該基板収納治
具のバイラテラル・データム面を搬送方向と略垂直にな
るように当該基板収納治具を保持するように構成されて
いるものである。
【0025】請求項8記載の発明にかかる自動搬送シス
テムは、基板搬送による異物発生を低レベルに抑えかつ
基板搬送時間の短縮を実現する自動搬送システムであっ
て、基板を収納、運搬および保管する基板収納治具と、
前記基板収納治具のマッシュルームを把持した状態で当
該基板収納治具を移動する昇降機構と、前記昇降機構に
よって前記基板収納治具のマッシュルームを掴んで当該
基板収納治具を保持する際に、当該基板収納治具を当該
基板収納治具のバイラテラル・データム面が搬送方向に
対して所定角度の範囲内になるように保持するオーバー
ヘッド・ホイスト・トランスファを備え、前記オーバー
ヘッド・ホイスト・トランスファが前記昇降機構によっ
て前記基板収納治具のマッシュルームを掴んで当該基板
収納治具を保持する際に、当該基板収納治具を当該基板
収納治具のバイラテラル・データム面を搬送方向と前記
所定角度の範囲内になるように保持し、続いて当該昇降
機構が当該マッシュルームを把持した状態で当該オーバ
ーヘッド・ホイスト・トランスファ本体に当該基板収納
治具を固定し、続いて当該オーバーヘッド・ホイスト・
トランスファが当該昇降機構を回転して当該昇降機構と
当該オーバーヘッド・ホイスト・トランスファ本体の位
置関係を調整して当該基板収納治具のバイラテラル・デ
ータム面を搬送方向と前記所定角度の範囲内になるよう
に当該基板収納治具を保持するように構成されているも
のである。
【0026】請求項9記載の発明にかかる自動搬送シス
テムは、基板搬送による異物発生を低レベルに抑えかつ
基板搬送時間の短縮を実現する自動搬送システムであっ
て、基板を収納、運搬および保管する基板収納治具と、
前記基板収納治具のマッシュルームを把持した状態で当
該基板収納治具を移動する昇降機構と、前記昇降機構に
よって前記基板収納治具のマッシュルームを掴んで当該
基板収納治具を保持する際に、当該基板収納治具を当該
基板収納治具のバイラテラル・データム面が搬送方向に
対して略±30°以内になるように保持するオーバーヘ
ッド・ホイスト・トランスファを備え、前記オーバーヘ
ッド・ホイスト・トランスファが前記昇降機構によって
前記基板収納治具のマッシュルームを掴んで当該基板収
納治具を保持する際に、当該基板収納治具を当該基板収
納治具のバイラテラル・データム面を搬送方向と前記略
±30°以内になるように保持し、続いて当該昇降機構
が当該マッシュルームを把持した状態で当該オーバーヘ
ッド・ホイスト・トランスファ本体に当該基板収納治具
を固定し、続いて当該オーバーヘッド・ホイスト・トラ
ンスファが当該昇降機構を回転して当該昇降機構と当該
オーバーヘッド・ホイスト・トランスファ本体の位置関
係を調整して当該基板収納治具のバイラテラル・データ
ム面を搬送方向と前記略±30°以内になるように当該
基板収納治具を保持するように構成されているものであ
る。
【0027】請求項10記載の発明にかかる自動搬送シ
ステムは、半導体装置製造時に基板としてのウェハ搬送
による異物発生を低レベルに抑えかつ基板搬送時間の短
縮を実現する自動搬送システムであって、ウェハを収
納、運搬および保管する基板収納治具としてのウェハキ
ャリアと、前記ウェハキャリアのマッシュルームを把持
した状態で当該ウェハキャリアを移動する昇降機構と、
前記昇降機構によって前記ウェハキャリアのマッシュル
ームを掴んで当該ウェハキャリアを保持する際に、当該
ウェハキャリアを当該ウェハキャリアのバイラテラル・
データム面が搬送方向に対して所定角度の範囲内になる
ように保持するオーバーヘッド・ホイスト・トランスフ
ァを備え、前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスフ
ァが前記昇降機構によって前記ウェハキャリアのマッシ
ュルームを掴んで当該ウェハキャリアを保持する際に、
当該ウェハキャリアを当該ウェハキャリアのバイラテラ
ル・データム面を搬送方向と前記所定角度の範囲内にな
るように保持し、続いて当該昇降機構が当該マッシュル
ームを把持した状態で当該オーバーヘッド・ホイスト・
トランスファ本体に当該ウェハキャリアを固定し、続い
て当該オーバーヘッド・ホイスト・トランスファが当該
昇降機構を回転して当該昇降機構と当該オーバーヘッド
・ホイスト・トランスファ本体の位置関係を調整して当
該ウェハキャリアのバイラテラル・データム面を搬送方
向と前記所定角度の範囲内になるように当該ウェハキャ
リアを保持するように構成されているものである。
【0028】請求項11記載の発明にかかる自動搬送シ
ステムは、半導体装置製造時に基板としてのウェハ搬送
による異物発生を低レベルに抑えかつ基板搬送時間の短
縮を実現する自動搬送システムであって、ウェハを収
納、運搬および保管する基板収納治具としてのウェハキ
ャリアと、前記ウェハキャリアのマッシュルームを把持
した状態で当該ウェハキャリアを移動する昇降機構と、
前記昇降機構によって前記ウェハキャリアのマッシュル
ームを掴んで当該ウェハキャリアを保持する際に、当該
ウェハキャリアを当該ウェハキャリアのバイラテラル・
データム面を搬送方向と略垂直になるように保持するオ
ーバーヘッド・ホイスト・トランスファを備え、前記オ
ーバーヘッド・ホイスト・トランスファが前記昇降機構
によって前記ウェハキャリアのマッシュルームを掴んで
当該ウェハキャリアを保持する際に、当該ウェハキャリ
アを当該ウェハキャリアのバイラテラル・データム面を
搬送方向と略垂直になるように保持し、続いて当該昇降
機構が当該マッシュルームを把持した状態で当該オーバ
ーヘッド・ホイスト・トランスファ本体に当該ウェハキ
ャリアを固定し、続いて当該オーバーヘッド・ホイスト
・トランスファが当該昇降機構を回転して当該昇降機構
と当該オーバーヘッド・ホイスト・トランスファ本体の
位置関係を調整して当該ウェハキャリアのバイラテラル
・データム面を搬送方向と略垂直になるように当該ウェ
ハキャリアを保持するように構成されているものであ
る。
【0029】請求項12記載の発明にかかる自動搬送シ
ステムは、半導体装置製造時に基板としてのウェハ搬送
による異物発生を低レベルに抑えかつ基板搬送時間の短
縮を実現する自動搬送システムであって、ウェハを収
納、運搬および保管する基板収納治具としてのウェハキ
ャリアと、前記ウェハキャリアのマッシュルームを把持
した状態で当該ウェハキャリアを移動する昇降機構と、
前記昇降機構によって前記ウェハキャリアのマッシュル
ームを掴んで当該ウェハキャリアを保持する際に、当該
ウェハキャリアを当該ウェハキャリアのバイラテラル・
データム面が搬送方向に対して略±30°以内になるよ
うに保持するオーバーヘッド・ホイスト・トランスファ
を備え、前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスファ
が前記昇降機構によって前記ウェハキャリアのマッシュ
ルームを掴んで当該ウェハキャリアを保持する際に、当
該ウェハキャリアを当該ウェハキャリアのバイラテラル
・データム面を搬送方向と前記略±30°以内になるよ
うに保持し、続いて当該昇降機構が当該マッシュルーム
を把持した状態で当該オーバーヘッド・ホイスト・トラ
ンスファ本体に当該ウェハキャリアを固定し、続いて当
該オーバーヘッド・ホイスト・トランスファが当該昇降
機構を回転して当該昇降機構と当該オーバーヘッド・ホ
イスト・トランスファ本体の位置関係を調整して当該ウ
ェハキャリアのバイラテラル・データム面を搬送方向と
前記略±30°以内になるように当該ウェハキャリアを
保持するように構成されているものである。
【0030】請求項13記載の発明にかかる自動搬送シ
ステムは、上記請求項10乃至12のいずれか一項に記
載の発明において、前記ウェハキャリアがフロント・オ
ープニング・ユニファイド・ポッドであるものである。
【0031】請求項14記載の発明にかかる自動搬送シ
ステムは、上記請求項11または13記載の発明におい
て、前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスファは、
前記昇降機構に設けられているロボットハンドが前記基
板収納治具の前記マッシュルームを掴んで当該基板収納
治具を引き上げる作業を完了した際に、当該基板収納治
具のバイラテラル・データム面に略垂直方向を当該マッ
シュルームの向きから検知するとともに、当該検知した
マッシュルームの向きに応じて当該昇降機構を回転させ
ることにより当該基板収納治具のバイラテラル・データ
ム面を搬送方向と略垂直になるようにする手段を有し、
供給すべき処理装置側のロードポート上まで当該基板収
納治具を搬送する際に当該基板収納治具のバイラテラル
・データム面を搬送方向に略垂直に保持するように構成
されているものである。
【0032】請求項15記載の発明にかかる自動搬送シ
ステムは、上記請求項11または13記載の発明におい
て、前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスファは、
搬送要求により空の自身がストッカ側の前記ロードポー
ト上に停止し前記昇降機構によりロボットハンドが前記
マッシュルームを把持して前記基板収納治具を引き上げ
る作業が完了した際に、当該基板収納治具のバイラテラ
ル・データム面に略垂直な方向を当該マッシュルームの
向きから検知するとともに、当該検知したマッシュルー
ムの向きに応じて当該昇降機構を回転させることにより
当該基板収納治具のバイラテラル・データム面を搬送方
向と略垂直になるようにする手段を有し、ストッカ側の
当該ロードポート上まで当該基板収納治具を搬送する際
に当該基板収納治具のバイラテラル・データム面を搬送
方向に略垂直に保持するように構成されているものであ
る。
【0033】請求項16記載の発明にかかる自動搬送シ
ステムは、上記請求項10または13記載の発明におい
て、前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスファは、
前記昇降機構に設けられているロボットハンドが前記基
板収納治具の前記マッシュルームを掴んで当該基板収納
治具を引き上げる作業を完了した際に、当該基板収納治
具のバイラテラル・データム面に対して所定角度の方向
を当該マッシュルームの向きから検知するとともに、当
該検知したマッシュルームの向きに応じて当該昇降機構
を回転させることにより当該基板収納治具のバイラテラ
ル・データム面を搬送方向に対して所定角度の範囲内に
なるようにする手段を有し、供給すべき処理装置側のロ
ードポート上まで当該基板収納治具を搬送する際に当該
基板収納治具のバイラテラル・データム面は搬送方向に
対して所定角度の範囲内に保持するように構成されてい
るものである。
【0034】請求項17記載の発明にかかる自動搬送シ
ステムは、上記請求項10または13記載の発明におい
て、前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスファは、
搬送要求により空の自身がストッカ側の前記ロードポー
ト上に停止し前記昇降機構によりロボットハンドが前記
マッシュルームを把持して前記基板収納治具を引き上げ
る作業が完了した際に、当該基板収納治具のバイラテラ
ル・データム面に対して所定角度の方向を当該マッシュ
ルームの向きから検知するとともに、当該検知したマッ
シュルームの向きに応じて当該昇降機構を回転させるこ
とにより当該基板収納治具のバイラテラル・データム面
を搬送方向に対して所定角度の範囲になるようにする手
段を有し、ストッカ側の当該ロードポート上まで当該基
板収納治具を搬送する際に当該基板収納治具のバイラテ
ラル・データム面は搬送方向に対して所定角度の範囲内
に保持するように構成されているものである。
【0035】
【発明の実施の形態】次世代の基板収納治具であるFO
UP(Front Opening Unified
Pod:フロント・オープニング・ユニファイド・ポッ
ド)システムを搬送する際、半導体製造ラインの効率を
上げるためになるべく搬送時間を短くする必要がある。
また、搬送によるウェハへの異物(例えば、パティク
ル、ごみなど)の付着をできるだけ低くする必要があ
る。一方、搬送時間を短くするためには搬送速度を上げ
る必要があり、そのためにFOUPにかかる加速度を大
きくする必要がある。しかし、加速度を大きくするとウ
ェハへの異物の付着が増加する傾向がある。このため、
なるべく異物の発生を抑えるような搬送方法が望まれて
いた。
【0036】このような技術背景を踏まえて本発明の発
明者は、FOUPにかける加速度の方向、大きさと異物
発生の関係を調査した結果、加速度がある一定値(しき
い値)以上になると異物の発生数が極端に増えるような
しきい値がどの方向に加速度を加えた場合にも存在し、
かつ当該しきい値は加速度の方向がBD面に垂直方向の
場合が一番高いという新規な知見を得た。
【0037】本発明は当該新規な知見を基になされたも
のであって、FOUPを搬送する際、FOUPのBil
ateral Datum planeが搬送方向に垂
直になるようにFOUP20を保持して搬送することに
より、搬送による異物発生を低レベルに抑え、かつ搬送
時間の短縮を実現する点に特徴を有している。以下、図
面に基づき本発明の実施の形態を説明する。
【0038】まず、次世代の基板収納治具であるFOU
P(Front OpeningUnified Po
d)の構造について、図1、図2、図3、図4、図5を
利用して説明する。
【0039】図1は本発明の一実施の形態に係るFOU
P20の向きと搬送方向の関係を説明するための上面
図、図2は図1のFOUP20の外観構成を説明するた
めの斜視図、図3は図1のFOUP20のFOUPドア
2(基板収納治具ドア)の内側の構成を説明するための
斜視図、図4は図1のFOUP20の内側に設けられて
いるウェハティース8とウェハ7との位置関係を説明す
るためのFOUP20の正面図、そして図5はウェハ7
とウェハティース8とリテーナ5との位置関係を説明す
るためのFOUP20の上面図である。
【0040】図1,2において、1はFOUPシェル1
(基板収納治具本体)、2はFOUPドア、3はマッシ
ュルーム、20はFOUP、FD面はFacial D
atum planeと呼ばれる仮想基準面、BD面は
Bilateral Datum planeと呼ばれ
る仮想基準面を示し、図3において、4はクランピング
機構、5はリテーナ、6はシール材を示し、図4におい
て、7はウェハ、8はウェハティースを示している。
【0041】図1,2に示す本実施の形態のFOUP2
0において、FOUPシェル1(基板収納治具本体)は
ウェハ7(図4参照)を保持する部分である。FOUP
シェル1(基板収納治具本体)、FOUPドア2(基板
収納治具ドア)の両者を合わせた全体をFOUP20と
呼ぶ。
【0042】また、以下の記述で、BD面、FD面とい
う用語を使用するが、BD面はFOUP20を左右に2
等分する平面、FD面はキャリア前面に平行な平面であ
る(図2参照)。それらの正確な定義については、SE
MI Standard E47.1に記載されてい
る。
【0043】寸法等の情報はSEMI Standar
ds E57,E47.1等に記載されている。このF
OUP20と呼ばれるウェハキャリアは、従来使用され
てきたオープンカセット(SEMI Standard
s E1.9等に記載されている8インチ以前用のオー
プンカセット)と異なり、密閉空間中にウェハ7を保持
することで大気中の異物や化学的な汚染からウェハ7を
防御するものである。また、図3に示すように、密閉性
を保つためにFOUPドア2(基板収納治具ドア)にシ
ール材(パッキン)6が周設され、FOUPドア2(基
板収納治具ドア)をFOUPシェル1(基板収納治具本
体)に固定するためにFOUPドア2(基板収納治具ド
ア)側に図3に示すようなクランピング機構4(換言す
れば、ストッパー機構)が設けられ、さらに加えて、F
OUPシェル1(基板収納治具本体)側にはFOUPド
ア2(基板収納治具ドア)の固定用の穴がクランピング
機構4と相対する位置に設けられている。
【0044】また、リテーナ5(図3、図5参照)と呼
ばれるものでFOUPドア2(基板収納治具ドア)をF
OUPシェル1(基板収納治具本体)に固定した際に図
5に示すようにウェハ7を押さえて固定する。また、F
OUPシェル1(基板収納治具本体)側のウェハ7を着
座させる梁のことをウェハティース8(図4、図5参
照)と呼ぶ。
【0045】本発明の発明者は、FOUP20にかける
加速度の方向、大きさと異物発生の関係を調査した結
果、加速度がある一定値(しきい値)以上になると異物
の発生数が極端に増えるようなしきい値がどの方向に加
速度を加えた場合にも存在し、かつ当該しきい値は加速
度の方向がBD面に垂直方向の場合が一番高いという事
実を突き止めた。そこで本実施の形態は当該新規な知見
に基づいて、FOUP20を搬送する際、FOUP20
のBilateral Datum planeが搬送
方向に垂直になるようにFOUP20を保持して搬送し
ている。
【0046】すなわち、本実施の形態では、OHT(O
verhead Hoist Transfer:オー
バーヘッド・ホイスト・トランスファ)10は昇降機構
12によってFOUP20のマッシュルーム3を掴んで
FOUP20を保持する際に、当該FOUP20を図1
に示すようにFOUP20のBD面を搬送方向と垂直に
なるように保持している。昇降機構12はマッシュルー
ム3を把持した状態でOHT10本体にFOUP20を
固定しているので、OHT10が昇降機構12を回転し
て昇降機構12とOHT10本体の位置関係を調整する
ことにより、どのような場合でもFOUP20のBD面
を搬送方向と垂直になるようにFOUP20を保持する
ことができるように構成されている。
【0047】次に図6、図7を用いて、加速度と異物増
加数の関係を説明する。図6はFD面(Facial
Datum plane)に垂直方向の正弦波振動を加
えた場合の異物増加の実験結果を説明するためのグラ
フ、図7はBD面(Bilateral Datum
plane)に垂直方向の正弦波振動を加えた場合の異
物増加の実験結果を説明するためのグラフである。図
6,7のグラフにおいて、横軸は加速度(単位は[10
-2m/s2])、縦軸は異物増加数(単位は[個])で
ある。また、縦軸の異物増加数は対数表示にしてある。
【0048】FD面に垂直に加速度を加えた場合は、図
6のグラフに示すように、加速度が大きくなると、異物
発生量が急激に増加することがわかる。一方、BD面に
垂直に加速度を加えた場合は、図7のグラフに示すよう
に、加速度が大きくなっても異物はそれほど増加しない
ことがわかる。
【0049】すなわち、本実施の形態では、自動搬送シ
ステム(AMHS)がFOUP20を保持する際、FO
UP20のBD面を搬送方向と垂直になるように保持す
ることにより、加速度の許容できる上限を最大にするこ
とができることになる。
【0050】次に搬送方向をBD面に垂直にした方が搬
送方向をFD面に垂直にするより望ましい理由を図5を
参照して説明する。図5はウェハ7とウェハティース8
とリテーナ5との位置関係を説明するためのFOUP2
0の上面図である。
【0051】図1,5を参照すると、一般に、FOUP
20はFOUPドア2(基板収納治具ドア)とFOUP
シェル1(基板収納治具本体)が分離しているため、F
OUPドア2(基板収納治具ドア)の閉鎖時にウェハ7
を確実に保持するために、FOUPドア2(基板収納治
具ドア)に設けたリテーナ5に弾力(弾性)を持たせ、
FOUPドア2(基板収納治具ドア)の閉鎖時ウェハ7
を押しつけるようにリテーナ5の形状が設計されてい
る。このようにリテーナ5が弾力(弾性)を持っている
ため、FOUP20のFD面に垂直の方向にある一定値
以上の加速度がかかると、ウェハ7がその方向(FD面
に垂直の方向)に振動してウェハ7とウェハティース8
間で擦れ、その結果、異物が発生することがわかった。
【0052】これに対してFOUP20のBD面に垂直
方向に加速度をかけた場合、その方向(BD面に垂直の
方向)でのウェハ7の保持はウェハティース8によって
行われており、ウェハティース8はFOUPシェル1
(基板収納治具本体)に固定されているのでウェハ7と
ウェハティース8が擦れることはなく、異物が発生しな
い。
【0053】もちろんBD面に垂直方向の加速度であっ
ても、あまり大きな加速度をかけるとウェハ7がウェハ
ティース8から外れ、その結果、ウェハ7の擦れが発生
し、異物が発生する。
【0054】そこで、本実施の形態では、自動搬送シス
テム(AMHS)がFOUP20を保持する際、FOU
P20のBD面を搬送方向と垂直になるように保持する
ように構成されている。これにより、加速度の許容でき
る上限を最大にすることができ、これによって搬送速度
を向上させ、効率のよい半導体製造ラインを構成するこ
とができるようになるといった効果を奏する。
【0055】次にFOUP20を用いた自動搬送システ
ム(AMHS)について、OHT(Overhead
Hoist Transfer)を例として図8を利用
して説明する。図8はOHT10を用いたFOUP20
の自動搬送概システムのシステム構成概略略図、図9は
図8のOHT10の一実施の形態を説明するための斜視
図である。図8、図9において、3はマッシュルーム、
9は処理装置、10はOHT、11はストッカ側のロー
ドポート、12は昇降機構、13はストッカ、14は処
理装置側のロードポート、20はFOUPを示してい
る。
【0056】半導体工場内では処理を受けるウェハ7は
FOUP20に入れられ処理装置9間を移動する。30
0mmサイズのウェハ7を収納したFOUP20は約8
kgの重量を有するため、安全上人手搬送は考えにくく
OHT10等の自動搬送システムを使用することにな
る。以下、半導体工場内でのOHT10動作の一例とし
て、処理されるウェハ7が入ったFOUP20がある処
理装置9に供給され、そこで処理され、回収される一連
の動作を説明する。
【0057】処理されるウェハ7が納置されたFOUP
20は最初、工程内に設置されたストッカ13に保管さ
れている。処理装置9(例えばエッチング装置)へのウ
ェハ供給を上位システムより指示されると、ストッカ1
3は上位から指定されたFOUP20をOHT10への
受け渡し位置(ストッカ13側のロードポート11)ま
で搬送する。OHT10はストッカ13側のロードポー
ト11の上までやってきて停止し、続いて、昇降機構
(Hoist機構)12に設けられているロボットハン
ドがFOUP20のマッシュルーム3を掴んでFOUP
20を引き上げる。
【0058】引き上げが完了すると、OHT10はFO
UP20のBD面に垂直方向をマッシュルーム3の向き
から検知し、必要ならば昇降機構12を回転させること
により、FOUP20のBD面を搬送方向と垂直になる
ようにする。
【0059】OHT10は供給すべき処理装置9側のロ
ードポート14上までFOUP20を搬送する。この搬
送の際、FOUP20のBD面は搬送方向に垂直に保た
れている。
【0060】その後、FOUP20は昇降機構12で降
ろされる。昇降機構12はマッシュルーム3を外して上
昇し、FOUP20はロードポート14上に残される。
【0061】その後、ロードポート14のドアをFOU
Pシェル1(基板収納治具本体)から取り外し、処理装
置9はFOUP20の前面からウェハ7を取り出して必
要な処理を行う。処理が終了した後、処理装置9は処理
済みウェハ7を前記FOUP20に戻す。
【0062】ロードポート14はFOUPドア2(基板
収納治具ドア)をFOUPシェル1(基板収納治具本
体)に固定する。搬送要求により空のOHT10がスト
ッカ13側のロードポート11上に停止し、昇降機構1
2によりロボットハンドがマッシュルーム3を把持して
FOUP20を引き上げる。
【0063】当該引き上げが完了すると、OHT10は
FOUP20のBD面に垂直方向をマッシュルーム3の
向きから検知し、必要ならば昇降機構12を回転させる
ことにより、FOUP20のBD面を搬送方向と垂直に
なるようにする。
【0064】その後、OHT10はFOUP20をスト
ッカ13側のロードポート11上までFOUP20を搬
送する。この搬送の際、FOUP20のBD面は搬送方
向に垂直に保たれている。
【0065】その後、FOUP20は昇降機構12で降
ろされる。その後、昇降機構12は、マッシュルーム3
を外して上昇し、FOUP20はストッカ13側のロー
ドポート11上に残される。
【0066】続いて、ストッカ13側のロードポート1
1はFOUP20をストッカ13内へ搬送し、ストッカ
13はFOUP20を保管する。FOUP20はそこで
一時保管された後、ベイ間搬送で次の処理工程のストッ
カ13に運ばれ、そこで保管される。半導体工場では、
上記のような動作フローを繰り返して必要な回路をウェ
ハ7に形成していく。
【0067】以上説明したように本実施の形態では、O
HT10は常にFOUP20のBD面と搬送方向が垂直
になるようにFOUP20を保持するため、搬送時の加
減速による異物発生を抑制することができる。
【0068】なお、上記実施の形態では自動搬送として
OHT10を用いる例を説明したが、これに特に限定さ
れることなく、AGV(Automatic Guid
edVehicle),RGV(Rail Guide
d Vehicle),OHS(Over Head
Shuttle)を用いてもよい。AGV,RGVおよ
びOHSに関しては、例えば、「次世代ファブにおける
CIM/FAの展望とスタンダードの最適化」(SEM
Iジャパン SEMICON KANSAI’99
June # 1999)に記載されている。
【0069】最後に、本実施の形態と従来のFOUPを
用いた自動搬送システム(AMHS)とを対比してその
技術的差違について説明する。図8は従来のFOUPを
用いた自動搬送システム(AMHS)の一例であるOH
T(Overhead Hoist Transfe
r)である。なお、理解を助けるために本実施例の括弧
付きの符号および名称を援用するが、本発明は従来のF
OUPを用いた自動搬送システム(AMHS)に限定さ
れるものではない。
【0070】従来、半導体工場内では処理を受けるウェ
ハ(7)はFOUP(20)に入れられ処理装置(9)
間を移動する。300mmサイズのウェハ(7)を収納
したFOUP(20)は約8kgの重量を有するため、
安全上人手搬送は考えにくくOHT(10)等の自動搬
送システムを使用することになる。以下、半導体工場内
でのOHT(10)動作の一例として、処理されるウェ
ハ(7)が入ったFOUP(20)がある処理装置
(9)に供給され、そこで処理され、回収される一連の
動作を説明する。
【0071】処理されるウェハ(7)が納置されたFO
UP(20)は最初、工程内に設置されたストッカ(1
3)に保管されている。処理装置(9)(例えばエッチ
ング装置)へのウェハ供給を上位システムより指示され
ると、ストッカ(13)は上位から指定されたFOUP
(20)をOHT(10)への受け渡し位置(ストッカ
(13)側のロードポート(11))まで搬送する。O
HT(10)はストッカ(13)側のロードポート(1
1)の上までやってきて停止し、続いて、昇降機構(H
oist機構)12に設けられているロボットハンドが
FOUP(20)のマッシュルーム(3)を掴んでFO
UP(20)を引き上げる。
【0072】引き上げが完了すると、OHT(10)は
供給すべき処理装置(9)側のロードポート(14)上
までFOUP(20)を搬送する。その後、FOUP
(20)は昇降機構(12)で降ろされる。昇降機構
(12)はマッシュルーム(3)を外して上昇し、これ
により、FOUP(20)は処理装置(9)側のロード
ポート(14)上に残される。
【0073】その後処理装置(9)側のロードポート
(14)はFOUP(20)のクランピング機構(4)
を外してFOUPドア(2)をFOUPシェル(1)か
ら取り外す。FOUPドア(2)が外れた状態ではFO
UP(20)の前面からウェハ(7)を取り出すことが
でき、処理装置(9)内のウェハ搬送ロボットを操作し
てウェハ(7)を処理装置(9)内部の処理部に運び必
要な処理を行う。当該処理が終了した後、ウェハ搬送ロ
ボットにより処理済みウェハ(7)を前記FOUP(2
0)に戻す。
【0074】FOUP(20)内に存在するウェハ
(7)に必要な処理を行った後、処理装置(9)側のロ
ードポート(14)は、FOUPドア(2)をFOUP
シェル(1)とドッキングさせクランピング機構(4)
を働かせFOUPドア(2)をFOUPシェル(1)に
固定する。
【0075】その後、FOUPを後退させ移載ポジショ
ンに位置させる。搬送要求に応じて空のOHT(10)
がストッカ(13)側のロードポート(11)上に停止
し、昇降機構(12)によりロボットハンドがマッシュ
ルーム(3)を掴んで引き上げる。
【0076】その後、OHT(10)はFOUP(2
0)をストッカ(13)に搬送し、FOUP(20)は
そこで一時保管された後、次の処理工程に運ばれる。半
導体工場では、上記のような動作フローを繰り返して必
要な回路をウェハ(7)に形成していく。
【0077】しかしながら、前述したように、従来、F
OUP(20)を自動搬送システム(AMHS:Aut
omated Material Handling
System)等で搬送する際の、搬送方向に対するF
OUP(20)の向きについての提案はなかった。この
ため、ウェハ7上の異物発生を低レベルに抑えたまま、
より大きな加減速度を実現する方法として、搬送機器上
のFOUP(20)の向きを規定することがなかった。
【0078】さらに、上記の動作フローで明らかなよう
に、自動搬送システム(AMHS)の搬送能力(=単位
時間あたり搬送可能なFOUP数の上限)が十分でない
場合自動搬送システム(AMHS)は、処理装置9の稼
動率を低下させてしまうという問題点があった。このた
め、搬送能力は処理装置9の処理能力に見合うだけ用意
する必要がある。このための方策としては、自動搬送シ
ステム(AMHS)台車の数を増やす方策と、個々の自
動搬送システム(AMHS)台車の搬送速度を高める方
策の2つがある。このうち、台車数を増やすことはコス
ト増大を引き起こすので、台車の搬送速度を高める方策
の方が望ましい。しかし、搬送速度を高めると、加速度
も高くなることになり、同時にFOUP(20)にかか
る加速度も増大する。これは、ウェハ7上の異物の発生
増大の要因となるという問題点があった。
【0079】これに対して、本実施の形態では、FOU
P20にかける加速度の方向、大きさと異物発生の関係
を調査した結果、加速度がある一定値(しきい値)以上
になると異物の発生数が極端に増えるようなしきい値が
どの方向に加速度を加えた場合にも存在し、かつ当該し
きい値は加速度の方向がBD面に垂直方向の場合が一番
高いという新規な知見に基づいて、FOUP20を搬送
する際、FOUP20のBilateral Datu
m planeが搬送方向に垂直になるようにFOUP
20を保持して搬送することにより、搬送による異物発
生を低レベルに抑え、かつ搬送時間の短縮を実現してい
る。これにより、自動搬送システム(AMHS)がFO
UP20を保持する際、FOUP20のBD面を搬送方
向と垂直になるように保持することにより、搬送による
異物発生を低レベルに抑え、かつ搬送時間の短縮を実現
し、高効率な半導体生産ラインを構成することができる
ようになるといった効果を奏する。
【0080】なお、上記実施の形態は、半導体装置に用
いられるウェハに特に限定されることなく、フォトレテ
ィクル(reticle:回路原版)用基板、液晶ディ
スプレイパネル用基板やプラズマデイスプレイパネル用
基板等の表示パネル基板、ハードディスク用基板、半導
体装置等の電子デバイス用基板等の各種の基板を収納、
運搬および保管する基板収納治具、このような基板収納
治具に対する評価調整治具および治具校正方法に適用可
能である。さらに、本発明が上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術思想の範囲内において、実施の形態は
適宜変更され得ることは明らかである。また上記構成部
材の数、位置、形状等は上記実施の形態に限定されず、
本発明を実施する上で好適な数、位置、形状等にするこ
とができる。また、各図において、同一構成要素には同
一符号を付している。
【0081】
【発明の効果】本発明は、自動搬送システムがFOUP
を保持する際にFOUPのBD面を搬送方向と垂直にな
るように保持することにより、搬送による異物発生を低
レベルに抑え、かつ搬送時間の短縮を実現し、高効率な
半導体生産ラインを構成することができるようになると
いった効果を奏する。従来、FOUPを自動搬送システ
ム等で搬送する際の、搬送方向に対するFOUPの向き
についての提案はなかった。このため、ウェハ上の異物
発生を低レベルに抑えたまま、より大きな加減速度を実
現する方法として、搬送機器上のFOUPの向きを規定
することがなかった。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施の形態に係るFOUP(Fr
ont Opening Unified Pod)の
向きと搬送方向の関係を説明するための上面図である。
【図2】 本発明の一実施の形態に係るFOUPの外観
構成を説明するための斜視図である。
【図3】 図1のFOUPのFOUPドアの内側の構成
を説明するための斜視図である。
【図4】 図1のFOUPの内側に設けられているウェ
ハティースとウェハとの位置関係を説明するためのFO
UPの正面図である。
【図5】 ウェハとウェハティースとリテーナとの位置
関係を説明するためのFOUPの上面図である。
【図6】 FD面(Facial Datum pla
ne)に垂直方向の正弦波振動を加えた場合の異物増加
の実験結果を説明するためのグラフである。
【図7】 BD面(Bilateral Datum
plane)に垂直方向の正弦波振動を加えた場合の異
物増加の実験結果を説明するためのグラフである。
【図8】 OHT(Overhead Hoist T
ransfer)を用いたFOUPの自動搬送概システ
ムのシステム構成概略略図である。
【図9】 図8のOHTの一実施の形態を説明するため
の斜視図である。
【符号の説明】
1 FOUPシェル、 2 FOUPドア、 3 マッ
シュルーム、 4 クランピング機構、 5 リテー
ナ、 6 シール材、 7 ウェハ、 8 ウェハティ
ース、 9 処理装置、 10 OHT、 11 スト
ッカ側のロードポート、 12 昇降機構、 13 ス
トッカ、 14 処理装置側のロードポート、 20
FOUP。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年6月20日(2000.6.2
0)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0018
【補正方法】変更
【補正内容】
【0018】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項1記載
の発明にかかる自動搬送システムは、基板搬送による異
物発生を低レベルに抑えかつ基板搬送時間の短縮を実現
する自動搬送システムであって、基板を収納、運搬およ
び保管する基板収納治具と、基板収納治具のマッシュル
ームを把持して基板収納治具を移動する昇降機構と、前
記昇降機構によって基板収納治具のマッシュルームを掴
んで、基板収納治具のバイラテラル・データム面が搬送
方向と略垂直になるように基板収納治具を保持して搬送
するオーバーヘッド・ホイスト・トランスファとを備え
たことを特徴とするものである。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0019
【補正方法】変更
【補正内容】
【0019】請求項2記載の発明にかかる自動搬送シス
テムは、請求項1記載のシステムにおいて、前記オーバ
ーヘッド・ホイスト・トランスファは、前記昇降機構に
よって前記基板収納治具の前記マッシュルームを把持し
て当該基板収納治具を引き上げる作業を完了した際に、
当該基板収納治具のバイラテラル・データム面に略垂直
方向を当該マッシュルームの向きから検知するととも
に、当該検知したマッシュルームの向きに応じて当該昇
降機構を回転させることにより当該基板収納治具のバイ
ラテラル・データム面を搬送方向と略垂直になるように
する手段を有し、当該基板収納治具のバイラテラル・デ
ータム面を搬送方向に略垂直に保持し搬送するように構
成されていることを特徴とするものである。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0020
【補正方法】変更
【補正内容】
【0020】請求項3記載の発明にかかる自動搬送シス
テムは、請求項1または2に記載のシステムにおいて、
前記基板収納治具がフロント・オープニング・ユニファ
イド・ポッドであることを特徴とするものである。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】削除
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】削除
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0023
【補正方法】削除
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】削除
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】削除
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】削除
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0027
【補正方法】削除
【手続補正12】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】削除
【手続補正13】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0029
【補正方法】削除
【手続補正14】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0030
【補正方法】削除
【手続補正15】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】削除
【手続補正16】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0032
【補正方法】削除
【手続補正17】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】削除
【手続補正18】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0034
【補正方法】削除
【手続補正19】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0046
【補正方法】変更
【補正内容】
【0046】すなわち、本実施の形態では、後述する図
8を参照すると、OHT(Overhead Hois
t Transfer:オーバーヘッド・ホイスト・ト
ランスファ)10は昇降機構12によってFOUP20
のマッシュルーム3を掴んでFOUP20を保持する際
に、当該FOUP20を図1に示すようにFOUP20
のBD面を搬送方向と垂直になるように保持している。
昇降機構12はマッシュルーム3を把持した状態でOH
T10本体にFOUP20を固定しているので、OHT
10が昇降機構12を回転して昇降機構12とOHT1
0本体の位置関係を調整することにより、どのような場
合でもFOUP20のBD面を搬送方向と垂直になるよ
うにFOUP20を保持することができるように構成さ
れている。
【手続補正20】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0061
【補正方法】変更
【補正内容】
【0061】その後、FOUPドアをFOUPシェル1
(基板収納治具本体)から取り外し、処理装置9はFO
UP20の前面からウェハ7を取り出して必要な処理を
行う。処理が終了した後、処理装置9は処理済みウェハ
7を前記FOUP20に戻す。

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板搬送による異物発生を低レベルに抑
    えかつ基板搬送時間の短縮を実現する基板収納治具搬送
    方法であって、 基板を収納、運搬および保管する基板収納治具を、当該
    基板収納治具のバイラテラル・データム面が搬送方向に
    略垂直になるように当該基板収納治具を保持した状態で
    搬送する工程を有することを特徴とする基板収納治具搬
    送方法。
  2. 【請求項2】 基板搬送による異物発生を低レベルに抑
    えかつ基板搬送時間の短縮を実現する基板収納治具搬送
    方法であって、 基板を収納、運搬および保管する基板収納治具を、当該
    基板収納治具のバイラテラル・データム面が搬送方向に
    対して所定角度の範囲内になるように当該基板収納治具
    を保持した状態で搬送する工程を有することを特徴とす
    る基板収納治具搬送方法。
  3. 【請求項3】 基板搬送による異物発生を低レベルに抑
    えかつ基板搬送時間の短縮を実現する基板収納治具搬送
    方法であって、 基板を収納、運搬および保管する基板収納治具を、当該
    基板収納治具のバイラテラル・データム面が搬送方向に
    略±30°以内になるように当該基板収納治具を保持し
    た状態で搬送する工程を有することを特徴とする基板収
    納治具搬送方法。
  4. 【請求項4】 基板搬送による異物発生を低レベルに抑
    えかつ基板搬送時間の短縮を実現する基板収納治具搬送
    方法であって、 半導体装置製造時に前記基板としてのウェハを収納、運
    搬および保管する基板収納治具としてのウェハキャリア
    を、当該ウェハキャリアのバイラテラル・データム面が
    搬送方向に略垂直になるように当該基板収納治具を保持
    した状態で搬送する工程を有することを特徴とする基板
    収納治具搬送方法。
  5. 【請求項5】 基板搬送による異物発生を低レベルに抑
    えかつ基板搬送時間の短縮を実現する基板収納治具搬送
    方法であって、 半導体装置製造時に前記基板としてのウェハを収納、運
    搬および保管する基板収納治具としてのウェハキャリア
    を、当該ウェハキャリアのバイラテラル・データム面が
    搬送方向に略±30°以内になるように当該基板収納治
    具を保持した状態で搬送する工程を有することを特徴と
    する基板収納治具搬送方法。
  6. 【請求項6】 前記ウェハキャリアがフロント・オープ
    ニング・ユニファイド・ポッドであることを特徴とする
    請求項4または5に記載の基板収納治具搬送方法。
  7. 【請求項7】 基板搬送による異物発生を低レベルに抑
    えかつ基板搬送時間の短縮を実現する自動搬送システム
    であって、 基板を収納、運搬および保管する基板収納治具と、 前記基板収納治具のマッシュルームを把持した状態で当
    該基板収納治具を移動する昇降機構と、 前記昇降機構によって前記基板収納治具のマッシュルー
    ムを掴んで当該基板収納治具を保持する際に、当該基板
    収納治具を当該基板収納治具のバイラテラル・データム
    面を搬送方向と略垂直になるように保持するオーバーヘ
    ッド・ホイスト・トランスファを備え、 前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスファが前記昇
    降機構によって前記基板収納治具のマッシュルームを掴
    んで当該基板収納治具を保持する際に、当該基板収納治
    具を当該基板収納治具のバイラテラル・データム面を搬
    送方向と略垂直になるように保持し、続いて当該昇降機
    構が当該マッシュルームを把持した状態で当該オーバー
    ヘッド・ホイスト・トランスファ本体に当該基板収納治
    具を固定し、続いて当該オーバーヘッド・ホイスト・ト
    ランスファが当該昇降機構を回転して当該昇降機構と当
    該オーバーヘッド・ホイスト・トランスファ本体の位置
    関係を調整して当該基板収納治具のバイラテラル・デー
    タム面を搬送方向と略垂直になるように当該基板収納治
    具を保持するように構成されていることを特徴とする自
    動搬送システム。
  8. 【請求項8】 基板搬送による異物発生を低レベルに抑
    えかつ基板搬送時間の短縮を実現する自動搬送システム
    であって、 基板を収納、運搬および保管する基板収納治具と、 前記基板収納治具のマッシュルームを把持した状態で当
    該基板収納治具を移動する昇降機構と、 前記昇降機構によって前記基板収納治具のマッシュルー
    ムを掴んで当該基板収納治具を保持する際に、当該基板
    収納治具を当該基板収納治具のバイラテラル・データム
    面が搬送方向に対して所定角度の範囲内になるように保
    持するオーバーヘッド・ホイスト・トランスファを備
    え、 前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスファが前記昇
    降機構によって前記基板収納治具のマッシュルームを掴
    んで当該基板収納治具を保持する際に、当該基板収納治
    具を当該基板収納治具のバイラテラル・データム面を搬
    送方向と前記所定角度の範囲内になるように保持し、続
    いて当該昇降機構が当該マッシュルームを把持した状態
    で当該オーバーヘッド・ホイスト・トランスファ本体に
    当該基板収納治具を固定し、続いて当該オーバーヘッド
    ・ホイスト・トランスファが当該昇降機構を回転して当
    該昇降機構と当該オーバーヘッド・ホイスト・トランス
    ファ本体の位置関係を調整して当該基板収納治具のバイ
    ラテラル・データム面を搬送方向と前記所定角度の範囲
    内になるように当該基板収納治具を保持するように構成
    されていることを特徴とする自動搬送システム。
  9. 【請求項9】 基板搬送による異物発生を低レベルに抑
    えかつ基板搬送時間の短縮を実現する自動搬送システム
    であって、 基板を収納、運搬および保管する基板収納治具と、 前記基板収納治具のマッシュルームを把持した状態で当
    該基板収納治具を移動する昇降機構と、 前記昇降機構によって前記基板収納治具のマッシュルー
    ムを掴んで当該基板収納治具を保持する際に、当該基板
    収納治具を当該基板収納治具のバイラテラル・データム
    面が搬送方向に対して略±30°以内になるように保持
    するオーバーヘッド・ホイスト・トランスファを備え、 前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスファが前記昇
    降機構によって前記基板収納治具のマッシュルームを掴
    んで当該基板収納治具を保持する際に、当該基板収納治
    具を当該基板収納治具のバイラテラル・データム面を搬
    送方向と前記略±30°以内になるように保持し、続い
    て当該昇降機構が当該マッシュルームを把持した状態で
    当該オーバーヘッド・ホイスト・トランスファ本体に当
    該基板収納治具を固定し、続いて当該オーバーヘッド・
    ホイスト・トランスファが当該昇降機構を回転して当該
    昇降機構と当該オーバーヘッド・ホイスト・トランスフ
    ァ本体の位置関係を調整して当該基板収納治具のバイラ
    テラル・データム面を搬送方向と前記略±30°以内に
    なるように当該基板収納治具を保持するように構成され
    ていることを特徴とする自動搬送システム。
  10. 【請求項10】 半導体装置製造時に基板としてのウェ
    ハ搬送による異物発生を低レベルに抑えかつ基板搬送時
    間の短縮を実現する自動搬送システムであって、 ウェハを収納、運搬および保管する基板収納治具として
    のウェハキャリアと、 前記ウェハキャリアのマッシュルームを把持した状態で
    当該ウェハキャリアを移動する昇降機構と、 前記昇降機構によって前記ウェハキャリアのマッシュル
    ームを掴んで当該ウェハキャリアを保持する際に、当該
    ウェハキャリアを当該ウェハキャリアのバイラテラル・
    データム面が搬送方向に対して所定角度の範囲内になる
    ように保持するオーバーヘッド・ホイスト・トランスフ
    ァを備え、 前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスファが前記昇
    降機構によって前記ウェハキャリアのマッシュルームを
    掴んで当該ウェハキャリアを保持する際に、当該ウェハ
    キャリアを当該ウェハキャリアのバイラテラル・データ
    ム面を搬送方向と前記所定角度の範囲内になるように保
    持し、続いて当該昇降機構が当該マッシュルームを把持
    した状態で当該オーバーヘッド・ホイスト・トランスフ
    ァ本体に当該ウェハキャリアを固定し、続いて当該オー
    バーヘッド・ホイスト・トランスファが当該昇降機構を
    回転して当該昇降機構と当該オーバーヘッド・ホイスト
    ・トランスファ本体の位置関係を調整して当該ウェハキ
    ャリアのバイラテラル・データム面を搬送方向と前記所
    定角度の範囲内になるように当該ウェハキャリアを保持
    するように構成されていることを特徴とする自動搬送シ
    ステム。
  11. 【請求項11】 半導体装置製造時に基板としてのウェ
    ハ搬送による異物発生を低レベルに抑えかつ基板搬送時
    間の短縮を実現する自動搬送システムであって、 ウェハを収納、運搬および保管する基板収納治具として
    のウェハキャリアと、 前記ウェハキャリアのマッシュルームを把持した状態で
    当該ウェハキャリアを移動する昇降機構と、 前記昇降機構によって前記ウェハキャリアのマッシュル
    ームを掴んで当該ウェハキャリアを保持する際に、当該
    ウェハキャリアを当該ウェハキャリアのバイラテラル・
    データム面を搬送方向と略垂直になるように保持するオ
    ーバーヘッド・ホイスト・トランスファを備え、 前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスファが前記昇
    降機構によって前記ウェハキャリアのマッシュルームを
    掴んで当該ウェハキャリアを保持する際に、当該ウェハ
    キャリアを当該ウェハキャリアのバイラテラル・データ
    ム面を搬送方向と略垂直になるように保持し、続いて当
    該昇降機構が当該マッシュルームを把持した状態で当該
    オーバーヘッド・ホイスト・トランスファ本体に当該ウ
    ェハキャリアを固定し、続いて当該オーバーヘッド・ホ
    イスト・トランスファが当該昇降機構を回転して当該昇
    降機構と当該オーバーヘッド・ホイスト・トランスファ
    本体の位置関係を調整して当該ウェハキャリアのバイラ
    テラル・データム面を搬送方向と略垂直になるように当
    該ウェハキャリアを保持するように構成されていること
    を特徴とする自動搬送システム。
  12. 【請求項12】 半導体装置製造時に基板としてのウェ
    ハ搬送による異物発生を低レベルに抑えかつ基板搬送時
    間の短縮を実現する自動搬送システムであって、 ウェハを収納、運搬および保管する基板収納治具として
    のウェハキャリアと、 前記ウェハキャリアのマッシュルームを把持した状態で
    当該ウェハキャリアを移動する昇降機構と、 前記昇降機構によって前記ウェハキャリアのマッシュル
    ームを掴んで当該ウェハキャリアを保持する際に、当該
    ウェハキャリアを当該ウェハキャリアのバイラテラル・
    データム面が搬送方向に対して略±30°以内になるよ
    うに保持するオーバーヘッド・ホイスト・トランスファ
    を備え、 前記オーバーヘッド・ホイスト・トランスファが前記昇
    降機構によって前記ウェハキャリアのマッシュルームを
    掴んで当該ウェハキャリアを保持する際に、当該ウェハ
    キャリアを当該ウェハキャリアのバイラテラル・データ
    ム面を搬送方向と前記略±30°以内になるように保持
    し、続いて当該昇降機構が当該マッシュルームを把持し
    た状態で当該オーバーヘッド・ホイスト・トランスファ
    本体に当該ウェハキャリアを固定し、続いて当該オーバ
    ーヘッド・ホイスト・トランスファが当該昇降機構を回
    転して当該昇降機構と当該オーバーヘッド・ホイスト・
    トランスファ本体の位置関係を調整して当該ウェハキャ
    リアのバイラテラル・データム面を搬送方向と前記略±
    30°以内になるように当該ウェハキャリアを保持する
    ように構成されていることを特徴とする自動搬送システ
    ム。
  13. 【請求項13】 前記ウェハキャリアがフロント・オー
    プニング・ユニファイド・ポッドであることを特徴とす
    る請求項10乃至12のいずれか一項に記載の自動搬送
    システム。
  14. 【請求項14】 前記オーバーヘッド・ホイスト・トラ
    ンスファは、前記昇降機構に設けられているロボットハ
    ンドが前記基板収納治具の前記マッシュルームを掴んで
    当該基板収納治具を引き上げる作業を完了した際に、当
    該基板収納治具のバイラテラル・データム面に略垂直方
    向を当該マッシュルームの向きから検知するとともに、
    当該検知したマッシュルームの向きに応じて当該昇降機
    構を回転させることにより当該基板収納治具のバイラテ
    ラル・データム面を搬送方向と略垂直になるようにする
    手段を有し、供給すべき処理装置側のロードポート上ま
    で当該基板収納治具を搬送する際に当該基板収納治具の
    バイラテラル・データム面を搬送方向に略垂直に保持す
    るように構成されていることを特徴とする請求項11ま
    たは13に記載の自動搬送システム。
  15. 【請求項15】 前記オーバーヘッド・ホイスト・トラ
    ンスファは、搬送要求により空の自身がストッカ側の前
    記ロードポート上に停止し前記昇降機構によりロボット
    ハンドが前記マッシュルームを把持して前記基板収納治
    具を引き上げる作業が完了した際に、当該基板収納治具
    のバイラテラル・データム面に略垂直な方向を当該マッ
    シュルームの向きから検知するとともに、当該検知した
    マッシュルームの向きに応じて当該昇降機構を回転させ
    ることにより当該基板収納治具のバイラテラル・データ
    ム面を搬送方向と略垂直になるようにする手段を有し、
    ストッカ側の当該ロードポート上まで当該基板収納治具
    を搬送する際に当該基板収納治具のバイラテラル・デー
    タム面を搬送方向に略垂直に保持するように構成されて
    いることを特徴とする請求項11または13に記載の自
    動搬送システム。
  16. 【請求項16】 前記オーバーヘッド・ホイスト・トラ
    ンスファは、前記昇降機構に設けられているロボットハ
    ンドが前記基板収納治具の前記マッシュルームを掴んで
    当該基板収納治具を引き上げる作業を完了した際に、当
    該基板収納治具のバイラテラル・データム面に対して所
    定角度の方向を当該マッシュルームの向きから検知する
    とともに、当該検知したマッシュルームの向きに応じて
    当該昇降機構を回転させることにより当該基板収納治具
    のバイラテラル・データム面を搬送方向に対して所定角
    度の範囲内になるようにする手段を有し、供給すべき処
    理装置側のロードポート上まで当該基板収納治具を搬送
    する際に当該基板収納治具のバイラテラル・データム面
    は搬送方向に対して所定角度の範囲内に保持するように
    構成されていることを特徴とする請求項10または13
    に記載の自動搬送システム。
  17. 【請求項17】 前記オーバーヘッド・ホイスト・トラ
    ンスファは、搬送要求により空の自身がストッカ側の前
    記ロードポート上に停止し前記昇降機構によりロボット
    ハンドが前記マッシュルームを把持して前記基板収納治
    具を引き上げる作業が完了した際に、当該基板収納治具
    のバイラテラル・データム面に対して所定角度の方向を
    当該マッシュルームの向きから検知するとともに、当該
    検知したマッシュルームの向きに応じて当該昇降機構を
    回転させることにより当該基板収納治具のバイラテラル
    ・データム面を搬送方向に対して所定角度の範囲になる
    ようにする手段を有し、ストッカ側の当該ロードポート
    上まで当該基板収納治具を搬送する際に当該基板収納治
    具のバイラテラル・データム面は搬送方向に対して所定
    角度の範囲内に保持するように構成されていることを特
    徴とする請求項10または13に記載の自動搬送システ
    ム。
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