JP2001141652A - 光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時測定方法及びそのための装置 - Google Patents
光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時測定方法及びそのための装置Info
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
- G01N21/45—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高速な測定が可能な光干渉法による測定対象
物の屈折率と厚さの同時測定方法及びそのための装置を
提供する。 【解決手段】 第１のビームスプリッターと第１の光検
出器を備える低コヒーレンス光干渉測定手段と、この低
コヒーレンス光干渉測定手段とは分離されるとともに、
第２のビームスプリッターと第２の光検出器を備える共
焦点光学測定手段とを備え、実際の測定では、サンプル
１０５を搭載したステージ１０４を１ｍｍ／秒以上の速
度でｚ方向に１回移動するだけで、サンプル１０５の屈
折率ｎと厚さｔ同時測定に必要な二つの量ΔｚとΔＤ
（＝ｎg ×ｔ）が実測できる。ここで、サンプルの位相
屈折率ｎp と群屈折率ｎg の関係を近似的に表現する式
およびｎp 、ｎg 、ｔとΔｚ、ΔＤとの関係式をもと
に、二つの実測量Δｚ、ΔＤからサンプル１０５の屈折
率ｎp 、ｎg 、ｔと厚さｔを決定できる。このような一
連の屈折率と厚さの同時測定に要する時間は１秒以下で
あり、測定可能なサンプル厚は２０μｍ〜数ｍｍで、測
定精度は厚さ０．１ｍｍにおいて０．２％以下である。
物の屈折率と厚さの同時測定方法及びそのための装置を
提供する。 【解決手段】 第１のビームスプリッターと第１の光検
出器を備える低コヒーレンス光干渉測定手段と、この低
コヒーレンス光干渉測定手段とは分離されるとともに、
第２のビームスプリッターと第２の光検出器を備える共
焦点光学測定手段とを備え、実際の測定では、サンプル
１０５を搭載したステージ１０４を１ｍｍ／秒以上の速
度でｚ方向に１回移動するだけで、サンプル１０５の屈
折率ｎと厚さｔ同時測定に必要な二つの量ΔｚとΔＤ
（＝ｎg ×ｔ）が実測できる。ここで、サンプルの位相
屈折率ｎp と群屈折率ｎg の関係を近似的に表現する式
およびｎp 、ｎg 、ｔとΔｚ、ΔＤとの関係式をもと
に、二つの実測量Δｚ、ΔＤからサンプル１０５の屈折
率ｎp 、ｎg 、ｔと厚さｔを決定できる。このような一
連の屈折率と厚さの同時測定に要する時間は１秒以下で
あり、測定可能なサンプル厚は２０μｍ〜数ｍｍで、測
定精度は厚さ０．１ｍｍにおいて０．２％以下である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、低コヒーレント光
干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時測定方法
及びそのための装置に関するものであり、特に、透明物
体の屈折率と厚さを同時に測定するものである。
干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時測定方法
及びそのための装置に関するものであり、特に、透明物
体の屈折率と厚さを同時に測定するものである。
【０００２】
【従来の技術】このような分野の参考文献としては以下
に示すようなものがある。
に示すようなものがある。
【０００３】（１）Ｔ．Ｆｕｋａｎｏ ｅｔ ａｌ，Ｏ
ｐｔ，Ｌｅｔｔ．２１，ｐｐ．１９４２−１９４４（１
９９６）． （２）Ｍ．Ｏｈｍｉ ｅｔ ａｌ，Ｏｐｔ．Ｒｅｖ．
４，ｐｐ．５０７−５１５（１９９７）． （３）Ｍ．Ｈａｒｕｎａ ｅｔ ａｌ，Ｏｐｔ．Ｌｅｔ
ｔ．２３，ｐｐ．９６６−９６８（１９９８）． （４）春名他、光波センシング技術研究会論文集、ＬＳ
Ｔ２１−２１，ｐｐ．１４５−１５２，ＭＡＹ １９９
８． （５）Ｓ．Ｉｎｏｕｅ ｅｔ ａｌ，ＯＦＳ−１３，ｐ
ａｐｅｒ Ｔｕ４−６，Ｐｒｏｃ．ｐｐ．１２４−１２
７，Ｋｙｏｎｇｊｕ，Ｋｏｒｅａ，Ａｐｒ．１９９９． （６）Ｈ．Ｍａｒｕｙａｍａ ｅｔ ａｌ，Ｉｎｔ’ｌ
Ｃｏｎｆ．Ｏｐｔ．Ｅｎｇ．ｆｏｒ Ｓｅｎｓｉｎｇ
ａｎｄ Ｎａｎｏｔｅｃｈ．，Ｐｒｏｃ．ＳＰＩＥ
３７４０，ｐｐ．２６−２９，Ｙｏｋｏｈａｍａ，Ｊｕ
ｎｅ １９９９． 低コヒーレンス光干渉をベースとする屈折率ｎと厚さｔ
の同時測定に関して〔上記文献（１）〕、高精度測定が
可能な測定サンプル走査法を提案・実証し〔上記文献
（２），（３）〕、これに基づいて実用を装置を試作し
た〔上記文献（４）〜（６）〕。
ｐｔ，Ｌｅｔｔ．２１，ｐｐ．１９４２−１９４４（１
９９６）． （２）Ｍ．Ｏｈｍｉ ｅｔ ａｌ，Ｏｐｔ．Ｒｅｖ．
４，ｐｐ．５０７−５１５（１９９７）． （３）Ｍ．Ｈａｒｕｎａ ｅｔ ａｌ，Ｏｐｔ．Ｌｅｔ
ｔ．２３，ｐｐ．９６６−９６８（１９９８）． （４）春名他、光波センシング技術研究会論文集、ＬＳ
Ｔ２１−２１，ｐｐ．１４５−１５２，ＭＡＹ １９９
８． （５）Ｓ．Ｉｎｏｕｅ ｅｔ ａｌ，ＯＦＳ−１３，ｐ
ａｐｅｒ Ｔｕ４−６，Ｐｒｏｃ．ｐｐ．１２４−１２
７，Ｋｙｏｎｇｊｕ，Ｋｏｒｅａ，Ａｐｒ．１９９９． （６）Ｈ．Ｍａｒｕｙａｍａ ｅｔ ａｌ，Ｉｎｔ’ｌ
Ｃｏｎｆ．Ｏｐｔ．Ｅｎｇ．ｆｏｒ Ｓｅｎｓｉｎｇ
ａｎｄ Ｎａｎｏｔｅｃｈ．，Ｐｒｏｃ．ＳＰＩＥ
３７４０，ｐｐ．２６−２９，Ｙｏｋｏｈａｍａ，Ｊｕ
ｎｅ １９９９． 低コヒーレンス光干渉をベースとする屈折率ｎと厚さｔ
の同時測定に関して〔上記文献（１）〕、高精度測定が
可能な測定サンプル走査法を提案・実証し〔上記文献
（２），（３）〕、これに基づいて実用を装置を試作し
た〔上記文献（４）〜（６）〕。
【０００４】このような従来の装置は厚さｔはサンプル
としての２０μｍ〜数ｍｍの透明板に対応でき、特に、
数１００μｍ以上の厚さでは測定制度≦０．３％が確保
できる。しかしながら、測定に約４分を要するのが欠点
であり、従来の装置の適用範囲を拡大するには、測定精
度を維持したままでの大幅な測定時間短縮が必須であ
る。
としての２０μｍ〜数ｍｍの透明板に対応でき、特に、
数１００μｍ以上の厚さでは測定制度≦０．３％が確保
できる。しかしながら、測定に約４分を要するのが欠点
であり、従来の装置の適用範囲を拡大するには、測定精
度を維持したままでの大幅な測定時間短縮が必須であ
る。
【０００５】また、本発明の先行技術としては、本願の
発明者によって、既に提案された特開平９−２１８０１
６号がある。
発明者によって、既に提案された特開平９−２１８０１
６号がある。
【０００６】図６はかかる従来のＳＬＤ（スーパールミ
ネッセントダイオード）を用いた光干渉法による測定対
象物の屈折率と厚さの同時測定の基本的なシステム構成
図である。
ネッセントダイオード）を用いた光干渉法による測定対
象物の屈折率と厚さの同時測定の基本的なシステム構成
図である。
【０００７】この図において、ＳＬＤ１の発振中心波長
λc ＝８３４ｎｍで、発振スペクトラムの半値全幅（Ｆ
ＷＨＭ）はΔλ＝１６ｎｍであり、これによって決まる
干渉計の可干渉距離はΔｌc 〜２５μｍである。この干
渉計において、ＳＬＤ１から出射された光はビームスプ
リッター（ＢＳ）２で二等分され、その光の一方は集光
レンズ（対物レンズ）３で第２のステージ４上に置かれ
た測定対象物５に集光される。
λc ＝８３４ｎｍで、発振スペクトラムの半値全幅（Ｆ
ＷＨＭ）はΔλ＝１６ｎｍであり、これによって決まる
干渉計の可干渉距離はΔｌc 〜２５μｍである。この干
渉計において、ＳＬＤ１から出射された光はビームスプ
リッター（ＢＳ）２で二等分され、その光の一方は集光
レンズ（対物レンズ）３で第２のステージ４上に置かれ
た測定対象物５に集光される。
【０００８】これに対して、他方の光は、第１のステー
ジ７上のＰＺＴ（ピエゾトランスデューサ）９に固定さ
れた参照光ミラー１０に照射される。ＰＺＴ９には周波
数ｆ（＝５００Ｈｚ）の振動が加えられ、参照光ミラー
１０からの反射光（参照光）を位相変調する。測定対象
物５からの反射光（信号光）と参照光ミラー１０から参
照光を、合波・干渉してフォトダイオード（ＰＤ）１３
でヘテロダイン検波する。
ジ７上のＰＺＴ（ピエゾトランスデューサ）９に固定さ
れた参照光ミラー１０に照射される。ＰＺＴ９には周波
数ｆ（＝５００Ｈｚ）の振動が加えられ、参照光ミラー
１０からの反射光（参照光）を位相変調する。測定対象
物５からの反射光（信号光）と参照光ミラー１０から参
照光を、合波・干渉してフォトダイオード（ＰＤ）１３
でヘテロダイン検波する。
【０００９】その検出信号はアンプ１４、高域通過フィ
ルタ１５、アンプ１６を通してサンプリングホールド回
路１７に導き、周波数ｆなる交流信号振幅の最大値を抽
出し、Ａ／Ｄコンバータ１８により、１０ビットのディ
ジタル信号に変換してパーソナルコンピュータ（ＰＣ）
１９に記憶する。なお、１１はステージコントローラで
あり、第１のステージ７、第２のステージ４、第３のス
テージ６をそれぞれ制御する。８はＰＺＴ９に接続され
る交流電圧源、１２ａ，１２ｂはリレーレンズである。
ルタ１５、アンプ１６を通してサンプリングホールド回
路１７に導き、周波数ｆなる交流信号振幅の最大値を抽
出し、Ａ／Ｄコンバータ１８により、１０ビットのディ
ジタル信号に変換してパーソナルコンピュータ（ＰＣ）
１９に記憶する。なお、１１はステージコントローラで
あり、第１のステージ７、第２のステージ４、第３のス
テージ６をそれぞれ制御する。８はＰＺＴ９に接続され
る交流電圧源、１２ａ，１２ｂはリレーレンズである。
【００１０】一般に、光通信用の半導体レーザダイオー
ド（ＬＤ）は、発振波長スペクトラム幅Δλ（＜０．１
ｎｍ）は狭く、良質の単色光源である。これに対してＳ
ＬＤ１は、発光ダイオード（ＬＥＤ）とＬＤの中間的な
もので、市販のＳＬＤの発振波長スペクトラムは広くΔ
λ〜１５ｎｍ程度である。
ド（ＬＤ）は、発振波長スペクトラム幅Δλ（＜０．１
ｎｍ）は狭く、良質の単色光源である。これに対してＳ
ＬＤ１は、発光ダイオード（ＬＥＤ）とＬＤの中間的な
もので、市販のＳＬＤの発振波長スペクトラムは広くΔ
λ〜１５ｎｍ程度である。
【００１１】このＳＬＤ１を光源とする干渉光学系を低
コヒーレント光干渉系と呼び、その可干渉距離ΔｌC は
わずか２０μｍである。すなわち、ＳＬＤ干渉光学系で
は、ビームスプリッターで分けられた二つの光（参照光
と信号光）は、これらの伝搬距離（光路長）の差がΔｌ
C ／２（〜１０μｍ）以下でなければ、干渉できない。
言い換えれば、ＳＬＤ干渉光学系は、約１０μｍの分解
能で光の伝搬距離（光路長）の差を識別できる。このこ
とから、ＳＬＤ干渉光学系は分解能１０μｍオーダーの
光路長測定や微小領域の故障診断に利用できる。
コヒーレント光干渉系と呼び、その可干渉距離ΔｌC は
わずか２０μｍである。すなわち、ＳＬＤ干渉光学系で
は、ビームスプリッターで分けられた二つの光（参照光
と信号光）は、これらの伝搬距離（光路長）の差がΔｌ
C ／２（〜１０μｍ）以下でなければ、干渉できない。
言い換えれば、ＳＬＤ干渉光学系は、約１０μｍの分解
能で光の伝搬距離（光路長）の差を識別できる。このこ
とから、ＳＬＤ干渉光学系は分解能１０μｍオーダーの
光路長測定や微小領域の故障診断に利用できる。
【００１２】そこで、測定対象物（ここでは、板状の透
明媒質、つまり透明板）５の屈折率ｎ、厚さｔの測定を
行なう。
明媒質、つまり透明板）５の屈折率ｎ、厚さｔの測定を
行なう。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同
時測定方法及びそのための装置では、被測定物体（又は
集光レンズ）が搭載されているステージを走査し、反射
光を得る。この反射光の必要なポイント毎に参照光ミラ
ーが載ったステージを前後に移動させて、干渉光の強度
パターンを得る、繰り返しの測定になり、かなりの時間
がかかる。現に専門家による専用の測定ソフトを作成し
たが、１ポイントでの屈折率、厚さの測定に約４分を要
した。特に、面分布を知るために多点測定には高速化が
望まれる。
た従来の光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同
時測定方法及びそのための装置では、被測定物体（又は
集光レンズ）が搭載されているステージを走査し、反射
光を得る。この反射光の必要なポイント毎に参照光ミラ
ーが載ったステージを前後に移動させて、干渉光の強度
パターンを得る、繰り返しの測定になり、かなりの時間
がかかる。現に専門家による専用の測定ソフトを作成し
たが、１ポイントでの屈折率、厚さの測定に約４分を要
した。特に、面分布を知るために多点測定には高速化が
望まれる。
【００１４】本発明は、上記状況に鑑みて、測定時間が
極めて短く、かつ測定精度が高い光干渉法による測定対
象物の屈折率と厚さの同時測定方法及びそのための装置
を提供することを目的とする。
極めて短く、かつ測定精度が高い光干渉法による測定対
象物の屈折率と厚さの同時測定方法及びそのための装置
を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、 〔１〕光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時
測定装置において、第１のビームスプリッターと第１の
光検出器を備える低コヒーレンス光干渉測定手段と、こ
の低コヒーレンス光干渉測定手段とは分離されるととも
に、第２のビームスプリッターと第２の光検出器を備え
る共焦点光学測定手段とを具備することを特徴とする。
成するために、 〔１〕光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時
測定装置において、第１のビームスプリッターと第１の
光検出器を備える低コヒーレンス光干渉測定手段と、こ
の低コヒーレンス光干渉測定手段とは分離されるととも
に、第２のビームスプリッターと第２の光検出器を備え
る共焦点光学測定手段とを具備することを特徴とする。
【００１６】〔２〕上記〔１〕記載の光干渉法による測
定対象物の屈折率と厚さの同時測定装置において、前記
第１の光検出器はこの第１の光検出器の直前にアパーチ
ャを配置し、ビーム径を小さくして実効的な開口数（Ｎ
Ａ）を小さくして、測定対象物の反射面を測定し、前記
第２の光検出器の直前では、サンプルへの入射光ビーム
そのままのビーム径で、レンズ固有の大きな開口数（Ｎ
Ａ）を利用して、空間フィルタリングにより、測定対象
物の前面及び後面からの鋭い反射光プロファイルを得る
ことを特徴とする。
定対象物の屈折率と厚さの同時測定装置において、前記
第１の光検出器はこの第１の光検出器の直前にアパーチ
ャを配置し、ビーム径を小さくして実効的な開口数（Ｎ
Ａ）を小さくして、測定対象物の反射面を測定し、前記
第２の光検出器の直前では、サンプルへの入射光ビーム
そのままのビーム径で、レンズ固有の大きな開口数（Ｎ
Ａ）を利用して、空間フィルタリングにより、測定対象
物の前面及び後面からの鋭い反射光プロファイルを得る
ことを特徴とする。
【００１７】〔３〕上記〔２〕記載の光干渉法による測
定対象物の屈折率と厚さの同時測定装置において、前記
空間フィルタリングは、単一モード光ファイバによるこ
とを特徴とする。
定対象物の屈折率と厚さの同時測定装置において、前記
空間フィルタリングは、単一モード光ファイバによるこ
とを特徴とする。
【００１８】〔４〕光干渉法による測定対象物の屈折率
と厚さの同時測定方法において、低コヒーレンス光干渉
計と共焦点光学系を組み合わせて、１回のサンプル走査
により測定対象物の屈折率と厚さの同時測定を短時間で
行うことを特徴とする。
と厚さの同時測定方法において、低コヒーレンス光干渉
計と共焦点光学系を組み合わせて、１回のサンプル走査
により測定対象物の屈折率と厚さの同時測定を短時間で
行うことを特徴とする。
【００１９】〔５〕上記〔４〕記載の光干渉法による測
定対象物の屈折率と厚さの同時測定方法において、２０
μｍ〜数ｍｍの透明測定対象物であるカバーガラスを用
い、０．１μｍステップのステージを２００００パルス
／秒の信号で走査し、１回のサンプル走査により測定対
象物の屈折率と厚さの同時測定を１秒以下で行うことを
特徴とする。
定対象物の屈折率と厚さの同時測定方法において、２０
μｍ〜数ｍｍの透明測定対象物であるカバーガラスを用
い、０．１μｍステップのステージを２００００パルス
／秒の信号で走査し、１回のサンプル走査により測定対
象物の屈折率と厚さの同時測定を１秒以下で行うことを
特徴とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。
て図面を参照しながら説明する。
【００２１】図１は本発明の実施例を示す光干渉法によ
る測定対象物の屈折率と厚さの高速同時測定システムの
構成図である。
る測定対象物の屈折率と厚さの高速同時測定システムの
構成図である。
【００２２】図１において、１０１は近赤外スーパール
ミネッセントダイオード（ＳＬＤ）であり、発振中心波
長λC は８５０ｎｍ、スペクトル幅はΔλは２４ｎｍ、
コヒーレンス長Δｌc は１２μｍ、最大出力は５ｍＷで
ある。１０２は第１のビームスプリッターであり、ＳＬ
Ｄ光を２分割して、干渉計の参照アームと信号光（サン
プル）アームに導く。更に、参照光ミラー１０７からの
反射光（参照光）と測定サンプル１０５からの反射光を
合波・干渉して光検出器に導く。
ミネッセントダイオード（ＳＬＤ）であり、発振中心波
長λC は８５０ｎｍ、スペクトル幅はΔλは２４ｎｍ、
コヒーレンス長Δｌc は１２μｍ、最大出力は５ｍＷで
ある。１０２は第１のビームスプリッターであり、ＳＬ
Ｄ光を２分割して、干渉計の参照アームと信号光（サン
プル）アームに導く。更に、参照光ミラー１０７からの
反射光（参照光）と測定サンプル１０５からの反射光を
合波・干渉して光検出器に導く。
【００２３】１０３は第２のビームスプリッターであ
り、測定サンプル１０５からの反射光を第１のビームス
プリッター１０２と第３のレンズ１２２の方向に２分割
する。１０４は微動ステージであり、０．１μｍステッ
プで、測定サンプル１０５をｚ方向に一定速度（ｖ＝２
ｍｍ／ｓ）で移動する。１０５は測定サンプルであり、
厚さ約５０μｍ以上の透明板である。
り、測定サンプル１０５からの反射光を第１のビームス
プリッター１０２と第３のレンズ１２２の方向に２分割
する。１０４は微動ステージであり、０．１μｍステッ
プで、測定サンプル１０５をｚ方向に一定速度（ｖ＝２
ｍｍ／ｓ）で移動する。１０５は測定サンプルであり、
厚さ約５０μｍ以上の透明板である。
【００２４】１０６は分散補償用ガラスブロックであ
り、信号光アームにある第１のビームスプリッター１０
２の波長分散を補償するためのガラスブロックであり、
実験では使用したビームスプリッターに応じて、厚さ１
５ｍｍのブロックを使用している。１０７は参照光ミラ
ーであり、干渉計の参照光アームに用いるミラーであ
る。１０８はミラーホルダーであり、参照光ミラー１０
７の傾き調整機構付のホルダーである。
り、信号光アームにある第１のビームスプリッター１０
２の波長分散を補償するためのガラスブロックであり、
実験では使用したビームスプリッターに応じて、厚さ１
５ｍｍのブロックを使用している。１０７は参照光ミラ
ーであり、干渉計の参照光アームに用いるミラーであ
る。１０８はミラーホルダーであり、参照光ミラー１０
７の傾き調整機構付のホルダーである。
【００２５】１０９はアパーチャであり、干渉光のビー
ム径を１ｍｍφに制限し、測定サンプル１０５前面にあ
る第２のレンズ１２１への入射光ビームのうち直径１ｍ
ｍ内の光ビームのみを検出するためのものであり、これ
によって、光コヒーレンスゲートのための第２のレンズ
１２１の実効的な開口数（ＮＡ）は、０．０５となり、
第２のレンズ１２１の集光作用を抑えてコヒーレンスゲ
ートを有効に活用できる。
ム径を１ｍｍφに制限し、測定サンプル１０５前面にあ
る第２のレンズ１２１への入射光ビームのうち直径１ｍ
ｍ内の光ビームのみを検出するためのものであり、これ
によって、光コヒーレンスゲートのための第２のレンズ
１２１の実効的な開口数（ＮＡ）は、０．０５となり、
第２のレンズ１２１の集光作用を抑えてコヒーレンスゲ
ートを有効に活用できる。
【００２６】１１０は単一モード光ファイバであり、コ
ア径１０μｍの単一モード光ファイバで、測定サンプル
１０５からの反射光の空間コヒーレンスゲートを改善す
るために利用し、空間フィルタリングの役割を果たす。
１１１は第１の光検出器であり、測定サンプル１０５か
らの反射光と参照光との干渉光を検出する。すなわち、
低コヒーレンス光干渉計用光検出器である。１１２は第
２の光検出器であり、共焦点光学系の光検出器である。
１１３は第１の増幅器（第１のアンプ）、１１４は第２
の増幅器（第２のアンプ）である。
ア径１０μｍの単一モード光ファイバで、測定サンプル
１０５からの反射光の空間コヒーレンスゲートを改善す
るために利用し、空間フィルタリングの役割を果たす。
１１１は第１の光検出器であり、測定サンプル１０５か
らの反射光と参照光との干渉光を検出する。すなわち、
低コヒーレンス光干渉計用光検出器である。１１２は第
２の光検出器であり、共焦点光学系の光検出器である。
１１３は第１の増幅器（第１のアンプ）、１１４は第２
の増幅器（第２のアンプ）である。
【００２７】１１５は高域通過フィルタであり、微動ス
テージ１０４の移動速度（ｖ＝２ｍｍ／ｓ）に応じて、
信号光（サンプルからの反射光）の周波数はドップラー
シフトｆD ＝４．７ｋＨｚを受ける。したがって、干渉
・ヘテロダイン検波された信号の周波数はドップラーシ
フトｆD 付近にある。したがって、カットオフ周波数５
００Ｈｚの高域通過フィルタ１１５を設けて、直流成分
を除去して、干渉計からの検出信号を処理する。
テージ１０４の移動速度（ｖ＝２ｍｍ／ｓ）に応じて、
信号光（サンプルからの反射光）の周波数はドップラー
シフトｆD ＝４．７ｋＨｚを受ける。したがって、干渉
・ヘテロダイン検波された信号の周波数はドップラーシ
フトｆD 付近にある。したがって、カットオフ周波数５
００Ｈｚの高域通過フィルタ１１５を設けて、直流成分
を除去して、干渉計からの検出信号を処理する。
【００２８】１１６は第３の増幅器（第３のアンプ）、
１１７はＡＤコンバータであり、１２ビット、８チャネ
ル、サンプリング周波数６３．４４ｋＨｚのＡＤコンバ
ータを使用する。１１８はステージコントローラ、１１
９はパーソナルコンピュータ（ＰＣ）である。
１１７はＡＤコンバータであり、１２ビット、８チャネ
ル、サンプリング周波数６３．４４ｋＨｚのＡＤコンバ
ータを使用する。１１８はステージコントローラ、１１
９はパーソナルコンピュータ（ＰＣ）である。
【００２９】１２０は第１のレンズであり、ＳＬＤ出射
光のビーム径を６ｍｍに拡げるための×２０対物レンズ
である。１２１は第２のレンズであり、ＳＬＤ光を測定
サンプル１０５前面、後面に集光するための×２０対物
レンズである。１２２は第３のレンズであり、測定サン
プル１０５からの反射光を単一モード光ファイバ１１０
端面に集光するための×２０対物レンズである。１２３
は第４のレンズであり、干渉計の信号光アームと参照光
アームの波長分散を同じにするための、第２のレンズ１
２１と同タイプのものである。１２４は第５のレンズで
あり、１ｍｍ径の光ビームを第１の光検出器１１１に集
光するための×５対物レンズである。１２５は第６のレ
ンズであり、単一モード光ファイバ出射光を第２の検出
器１１２に集光するための×１０対物レンズである。
光のビーム径を６ｍｍに拡げるための×２０対物レンズ
である。１２１は第２のレンズであり、ＳＬＤ光を測定
サンプル１０５前面、後面に集光するための×２０対物
レンズである。１２２は第３のレンズであり、測定サン
プル１０５からの反射光を単一モード光ファイバ１１０
端面に集光するための×２０対物レンズである。１２３
は第４のレンズであり、干渉計の信号光アームと参照光
アームの波長分散を同じにするための、第２のレンズ１
２１と同タイプのものである。１２４は第５のレンズで
あり、１ｍｍ径の光ビームを第１の光検出器１１１に集
光するための×５対物レンズである。１２５は第６のレ
ンズであり、単一モード光ファイバ出射光を第２の検出
器１１２に集光するための×１０対物レンズである。
【００３０】このように、本発明は、近赤外スーパール
ミネッセントダイオード（ＳＬＤ）１０１を共通の光源
として、低コヒーレンス光干渉計と共焦点光学系を複合
化したものである。ＳＬＤ１０１の中心波長は８５０ｎ
ｍでコヒーレンス長は１２μｍであり、本発明では、測
定サンプル１０５を、０．１μｍ／ステップの微動ステ
ージ１０４上に搭載するだけでよい。
ミネッセントダイオード（ＳＬＤ）１０１を共通の光源
として、低コヒーレンス光干渉計と共焦点光学系を複合
化したものである。ＳＬＤ１０１の中心波長は８５０ｎ
ｍでコヒーレンス長は１２μｍであり、本発明では、測
定サンプル１０５を、０．１μｍ／ステップの微動ステ
ージ１０４上に搭載するだけでよい。
【００３１】ここで、干渉計では、第１の光検出器１１
１の直前に配置したアパーチャ１０９でビーム径を１ｍ
ｍに制限して光軸近傍の光のみを取り出し、これによっ
てサンプルアーム上に置かれた×２０集光レンズである
第２のレンズ１２１の実効的な開口数ＮＡを、光干渉計
に対してのみ６分の１に低下させることができる。すな
わち、コヒーレンスゲートで反射面を特定するには、第
２のレンズ１２１の集光作用を極力除去するのがよい。
１の直前に配置したアパーチャ１０９でビーム径を１ｍ
ｍに制限して光軸近傍の光のみを取り出し、これによっ
てサンプルアーム上に置かれた×２０集光レンズである
第２のレンズ１２１の実効的な開口数ＮＡを、光干渉計
に対してのみ６分の１に低下させることができる。すな
わち、コヒーレンスゲートで反射面を特定するには、第
２のレンズ１２１の集光作用を極力除去するのがよい。
【００３２】一方、第２のビームスプリッター１０３で
構成される共焦点光学系では、焦点面からの反射光の光
軸に対する拡がりは集光レンズ１２１の開口数（ＮＡ）
に依存する。したがって、鋭い反射光プロファイルを得
るには大きなＮＡをもつ第３のレンズ１２１と単一モー
ド光ファイバ１１０による空間フィルタリングが必要で
ある。
構成される共焦点光学系では、焦点面からの反射光の光
軸に対する拡がりは集光レンズ１２１の開口数（ＮＡ）
に依存する。したがって、鋭い反射光プロファイルを得
るには大きなＮＡをもつ第３のレンズ１２１と単一モー
ド光ファイバ１１０による空間フィルタリングが必要で
ある。
【００３３】図２は本発明の測定法においてｚ方向への
測定サンプルの移動とレンズ焦点位置との関係を示す模
式図である。図２（ａ）は測定サンプル表面に焦点位置
があり、この状態から測定サンプル１０５をΔｚ移動す
ると、図２（ｃ）に示すように、測定サンプル後面に焦
点合わせされる。この移動距離Δｚを共焦点光学系で測
定する。一方、例えば、レンズ焦点が、図２（ｂ）に示
すような位置にあるとき、測定サンプル表面と参照光ミ
ラー１０７の位置が等しい光学的距離にあるとすると、
この状態で光干渉計の検出器１１１の出力がピーク値を
示す。この状態から、図２（ｄ）に示すように、測定サ
ンプル１０５をｚ方向に沿ってΔＤ移動すると、今度は
測定サンプル１０５後面と参照光ミラー１０７が等しい
光学的距離になり、再び光干渉計の検出器１１１の出力
がピークを示す。このサンプル移動距離ΔＤは光干渉計
のコヒーレンスゲートで測定できる。
測定サンプルの移動とレンズ焦点位置との関係を示す模
式図である。図２（ａ）は測定サンプル表面に焦点位置
があり、この状態から測定サンプル１０５をΔｚ移動す
ると、図２（ｃ）に示すように、測定サンプル後面に焦
点合わせされる。この移動距離Δｚを共焦点光学系で測
定する。一方、例えば、レンズ焦点が、図２（ｂ）に示
すような位置にあるとき、測定サンプル表面と参照光ミ
ラー１０７の位置が等しい光学的距離にあるとすると、
この状態で光干渉計の検出器１１１の出力がピーク値を
示す。この状態から、図２（ｄ）に示すように、測定サ
ンプル１０５をｚ方向に沿ってΔＤ移動すると、今度は
測定サンプル１０５後面と参照光ミラー１０７が等しい
光学的距離になり、再び光干渉計の検出器１１１の出力
がピークを示す。このサンプル移動距離ΔＤは光干渉計
のコヒーレンスゲートで測定できる。
【００３４】以下、この点について詳細に説明する。
【００３５】さて、図１に示す光学系では、従来の測定
サンプル走査法と異なり、図２に示すように、サンプル
１０５を＋ｚ方向に沿って一度走査するだけで、サンプ
ル１０５の前面と後面からの反射光を、コヒーレンスゲ
ート及び共焦点光学系の両方で検出する。
サンプル走査法と異なり、図２に示すように、サンプル
１０５を＋ｚ方向に沿って一度走査するだけで、サンプ
ル１０５の前面と後面からの反射光を、コヒーレンスゲ
ート及び共焦点光学系の両方で検出する。
【００３６】まず、共焦点光学系で得られる前面と後面
の反射光ピークの間隔Δｚは、集光レンズのＮＡをζと
すると、 Δｚ＝ｔ×√｛（１−ζ2 ）／（ｎp 2 −ζ2 ）｝ …（１） また、コヒーレンスゲートによる干渉縞の二つの包絡線
ピークの間隔ΔＤは、光学的厚さであるので、 ΔＤ＝ｎg ・ｔ …（２） となる。ここで、ｎp 、ｎg は各々サンプルの位相屈折
率及び群屈折率である。透明サンプルにおいては、屈折
率の波長分散δｎをΔｚとΔＤで近似的に表現すること
ができ、 δｎ＝（ｎg −ｎp ）／（ｎp ）＝ａ・〔｛√（ΔＤ／Δｚ）｝−１〕b …（３） である〔上記文献（４）、（６）参照〕。ａ，ｂは実験
により決定される定数で、固体サンプルの場合、ａ＝
０．０２４，ｂ＝１．６９である（ａ，ｂは別途、実験
的に求めた）。
の反射光ピークの間隔Δｚは、集光レンズのＮＡをζと
すると、 Δｚ＝ｔ×√｛（１−ζ2 ）／（ｎp 2 −ζ2 ）｝ …（１） また、コヒーレンスゲートによる干渉縞の二つの包絡線
ピークの間隔ΔＤは、光学的厚さであるので、 ΔＤ＝ｎg ・ｔ …（２） となる。ここで、ｎp 、ｎg は各々サンプルの位相屈折
率及び群屈折率である。透明サンプルにおいては、屈折
率の波長分散δｎをΔｚとΔＤで近似的に表現すること
ができ、 δｎ＝（ｎg −ｎp ）／（ｎp ）＝ａ・〔｛√（ΔＤ／Δｚ）｝−１〕b …（３） である〔上記文献（４）、（６）参照〕。ａ，ｂは実験
により決定される定数で、固体サンプルの場合、ａ＝
０．０２４，ｂ＝１．６９である（ａ，ｂは別途、実験
的に求めた）。
【００３７】以上の式から、 ２ｎp 2 ＝ζ2 ＋√［ζ4 ＋４（１−ζ2 ）・（ΔＤ／Δｚ）2 ・（１−２δ ｎ）］ …（４） ｔ＝ΔＤ／｛ｎp （１＋δｎ）｝ …（５） を得る。上記（３）式、上記（４）式、及び上記（５）
式から、実測量Δｚ、ΔＤをもとにしてｎp 、ｔ及びｎ
g を求めることができる。
式から、実測量Δｚ、ΔＤをもとにしてｎp 、ｔ及びｎ
g を求めることができる。
【００３８】以下、実験結果について説明する。
【００３９】ここで、測定サンプルとしてｔ〜１５０μ
ｍのカバーガラスを用い、高速屈折率ｎ、厚さｔの同時
測定を試みた。サンプルステージを１ｍｍ／ｓの一定速
度で走査し、サンプリング周波数２２．４１ｋＨｚのＡ
／Ｄコンバータを使用して連続的にデータを取り込ん
だ。この時のサンプリング間隔は４５ｎｍである。検出
した信号パターンを図３に示す。
ｍのカバーガラスを用い、高速屈折率ｎ、厚さｔの同時
測定を試みた。サンプルステージを１ｍｍ／ｓの一定速
度で走査し、サンプリング周波数２２．４１ｋＨｚのＡ
／Ｄコンバータを使用して連続的にデータを取り込ん
だ。この時のサンプリング間隔は４５ｎｍである。検出
した信号パターンを図３に示す。
【００４０】図３は本発明の実施例を示す測定対象物の
走査と信号強度と特性図であり、縦軸は信号強度（任意
スケール）、横軸は走査方向ｚ（μｍ）を示している。
ここで、コヒーレンスゲート信号は、図４に示すような
干渉縞であり、その包絡線の半値全幅はＳＬＤのコヒー
レンス長で決まり、ΔｌC ＝１１．４μｍとなる。
走査と信号強度と特性図であり、縦軸は信号強度（任意
スケール）、横軸は走査方向ｚ（μｍ）を示している。
ここで、コヒーレンスゲート信号は、図４に示すような
干渉縞であり、その包絡線の半値全幅はＳＬＤのコヒー
レンス長で決まり、ΔｌC ＝１１．４μｍとなる。
【００４１】図に示すように、共焦点光学系による反射
光ピーク間隔からΔｚ＝９６．３４μｍが得られ、コヒ
ーレンスゲートによる干渉縞の包絡線のピーク間隔か
ら、ΔＤ＝２２９．６７μｍを得た。上式を用いてｎp
＝１．５３４４、ｔ＝１４８．４μｍと求められた。
光ピーク間隔からΔｚ＝９６．３４μｍが得られ、コヒ
ーレンスゲートによる干渉縞の包絡線のピーク間隔か
ら、ΔＤ＝２２９．６７μｍを得た。上式を用いてｎp
＝１．５３４４、ｔ＝１４８．４μｍと求められた。
【００４２】この１点の測定に要した時間は１秒以下で
ある。
ある。
【００４３】次いで、この測定結果の精度を評価するた
めに、同一サンプルについて、従来の測定サンプル走査
法により測定を行った。Δｚ＝９８μｍ、ΔＬ＝１３５
μｍ（ΔＤ＝ΔＬ＋Δｚ＝２３３μｍ）と実測され、こ
れよりｎp ＝１．５３２４、ｔ＝１５０．８μｍを得
た。測定時間は３分５０秒であった。
めに、同一サンプルについて、従来の測定サンプル走査
法により測定を行った。Δｚ＝９８μｍ、ΔＬ＝１３５
μｍ（ΔＤ＝ΔＬ＋Δｚ＝２３３μｍ）と実測され、こ
れよりｎp ＝１．５３２４、ｔ＝１５０．８μｍを得
た。測定時間は３分５０秒であった。
【００４４】これら２つの測定手法で得られたｎp の偏
差は０．１３％であり、本発明の測定精度は測定サンプ
ル走査法と同等であることがわかる。
差は０．１３％であり、本発明の測定精度は測定サンプ
ル走査法と同等であることがわかる。
【００４５】このように、コヒーレンスゲートと共焦点
光学系を組み合わせて、１回のサンプル走査で屈折率ｎ
と厚さｔの同時測定が行える測定手法を提案した。
光学系を組み合わせて、１回のサンプル走査で屈折率ｎ
と厚さｔの同時測定が行える測定手法を提案した。
【００４６】これにより、本発明の測定精度は、従来の
測定サンプル走査法と同等であるが、測定時間は従来は
４分であったものが、本発明によれば、僅かに１秒以下
を実現することができた。
測定サンプル走査法と同等であるが、測定時間は従来は
４分であったものが、本発明によれば、僅かに１秒以下
を実現することができた。
【００４７】また、本発明によれば、共焦点光学系の反
射光プロファイルの拡がりは、図５に示すように、その
半値全幅（ＦＷＨＭ）が３１μｍ）であり、測定可能な
サンプルの最小膜厚は、現状では厚さｔは約５０μｍま
で測定が可能である。共焦点光学系の光源として空間コ
ヒーレンスの優れたＬＤを用いれば、反射光プロファイ
ルの拡がりは、ＦＷＨＭで約１３μｍとなるので、サン
プル厚さｔは２０μｍまで測定が可能である。
射光プロファイルの拡がりは、図５に示すように、その
半値全幅（ＦＷＨＭ）が３１μｍ）であり、測定可能な
サンプルの最小膜厚は、現状では厚さｔは約５０μｍま
で測定が可能である。共焦点光学系の光源として空間コ
ヒーレンスの優れたＬＤを用いれば、反射光プロファイ
ルの拡がりは、ＦＷＨＭで約１３μｍとなるので、サン
プル厚さｔは２０μｍまで測定が可能である。
【００４８】上記したように、ビームスプリッターと光
検出器（受光素子）を１組から２組にして、これによ
り、光干渉測定と共焦点光学測定とを分離するようにし
た。
検出器（受光素子）を１組から２組にして、これによ
り、光干渉測定と共焦点光学測定とを分離するようにし
た。
【００４９】光干渉測定には検出器１１１とレンズ１２
４の前に光ビーム径を１ｍｍにするためにアパーチャ１
０９を設ける。これによって、光干渉計のみに対して、
集光レンズ１２１の開口数（ＮＡ）を６分の１に低下す
ることができる。しかしながら、共焦点光学系に対して
は、集光レンズ１２１の開口数（ＮＡ）は、０．３のま
ま維持される。
４の前に光ビーム径を１ｍｍにするためにアパーチャ１
０９を設ける。これによって、光干渉計のみに対して、
集光レンズ１２１の開口数（ＮＡ）を６分の１に低下す
ることができる。しかしながら、共焦点光学系に対して
は、集光レンズ１２１の開口数（ＮＡ）は、０．３のま
ま維持される。
【００５０】また、測定サンプルとして１５０μｍの厚
さを持つ透明なカバーガラスを用い実証した。被測定物
体を１回走査するのみで、必要データが入手できる。従
来は約４分を要していたのに対して、本発明によれば、
高測定精度を維持したまま、１秒以下で実現することが
できた。
さを持つ透明なカバーガラスを用い実証した。被測定物
体を１回走査するのみで、必要データが入手できる。従
来は約４分を要していたのに対して、本発明によれば、
高測定精度を維持したまま、１秒以下で実現することが
できた。
【００５１】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
【００５２】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、被測定物体を１回走査するのみで、必要データ
が入手できる。その測定に従来は約４分を要していたの
に対して、本発明によれば、１秒以下が実現することが
できる。
よれば、被測定物体を１回走査するのみで、必要データ
が入手できる。その測定に従来は約４分を要していたの
に対して、本発明によれば、１秒以下が実現することが
できる。
【００５３】特に、測定時間が極めて短く、かつ測定精
度が高いので、光学材料等の厚さや屈折率分布測定及び
製造ライン上における透明板・膜の抜取り検査などに好
適である。
度が高いので、光学材料等の厚さや屈折率分布測定及び
製造ライン上における透明板・膜の抜取り検査などに好
適である。
【図１】本発明の実施例を示す光干渉法による測定対象
物の屈折率と厚さの高速同時測定システムの構成図であ
る。
物の屈折率と厚さの高速同時測定システムの構成図であ
る。
【図２】本発明の測定法においてｚ方向へのサンプルの
移動とレンズ焦点位置との関係を示す模式図である。
移動とレンズ焦点位置との関係を示す模式図である。
【図３】本発明の実施例を示す測定対象物の走査と信号
強度と特性図である。
強度と特性図である。
【図４】本発明の実施例を示す光干渉計で検出したサン
プル表面付近の干渉縞を示す図である。
プル表面付近の干渉縞を示す図である。
【図５】本発明の実施例を示す光共焦点光学系における
反射光プロファイルの拡がりを示す図である。
反射光プロファイルの拡がりを示す図である。
【図６】従来のＳＬＤ（スーパールミネッセントダイオ
ード）を用いた光干渉法による測定対象物の屈折率と厚
さの同時測定の基本的なシステム構成図である。
ード）を用いた光干渉法による測定対象物の屈折率と厚
さの同時測定の基本的なシステム構成図である。
１０１ 近赤外スーパールミネッセントダイオード
（ＳＬＤ） １０２ 第１のビームスプリッター １０３ 第２のビームスプリッター １０４ 微動ステージ １０５ 測定サンプル １０６ 分散補償用ガラスブロック １０７ 参照光ミラー １０８ ミラーホルダー １０９ アパーチャ １１０ 単一モード光ファイバ １１１ 第１の光検出器 １１２ 第２の光検出器 １１３ 第１の増幅器（第１のアンプ） １１４ 第２の増幅器（第２のアンプ） １１５ 高域通過フィルタ １１６ 第３の増幅器（第３のアンプ） １１７ ＡＤコンバータ １１８ ステージコントローラ １１９ パーソナルコンピュータ １２０ 第１のレンズ １２１ 第２のレンズ １２２ 第３のレンズ １２３ 第４のレンズ １２４ 第５のレンズ １２５ 第６のレンズ
（ＳＬＤ） １０２ 第１のビームスプリッター １０３ 第２のビームスプリッター １０４ 微動ステージ １０５ 測定サンプル １０６ 分散補償用ガラスブロック １０７ 参照光ミラー １０８ ミラーホルダー １０９ アパーチャ １１０ 単一モード光ファイバ １１１ 第１の光検出器 １１２ 第２の光検出器 １１３ 第１の増幅器（第１のアンプ） １１４ 第２の増幅器（第２のアンプ） １１５ 高域通過フィルタ １１６ 第３の増幅器（第３のアンプ） １１７ ＡＤコンバータ １１８ ステージコントローラ １１９ パーソナルコンピュータ １２０ 第１のレンズ １２１ 第２のレンズ １２２ 第３のレンズ １２３ 第４のレンズ １２４ 第５のレンズ １２５ 第６のレンズ
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F065 AA30 BB22 DD06 FF10 FF52 GG07 JJ05 JJ15 LL02 LL12 LL26 LL30 LL46 PP12 QQ03 2G059 AA02 BB08 CC20 DD13 EE02 EE09 FF06 GG01 HH01 HH06 JJ11 JJ14 JJ17 JJ22 KK03 MM01 MM09 PP01 2G086 HH07
Claims (5)
- 【請求項１】 光干渉法による測定対象物の屈折率と厚
さの同時測定装置において、（ａ）第１のビームスプリ
ッターと第１の光検出器を備える低コヒーレンス光干渉
測定手段と、（ｂ）該低コヒーレンス光干渉測定手段と
は分離されるとともに、第２のビームスプリッターと第
２の光検出器を備える共焦点光学測定手段とを具備する
ことを特徴とする光干渉法による測定対象物の屈折率と
厚さの同時測定装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の光干渉法による測定対象
物の屈折率と厚さの同時測定装置において、前記第１の
光検出器は該第１の光検出器の直前にアパーチャを配置
し、ビーム径を小さくして実効的な開口数（ＮＡ）を小
さくし、測定対象物の反射面を測定し、前記第２の光検
出器の直前では、サンプルへの入射光ビームそのままの
ビーム径で、レンズ固有の大きな開口数（ＮＡ）を利用
して、空間フィルタリングにより、測定対象物の前面及
び後面からの鋭い反射光プロファイルを得ることを特徴
とする光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時
測定装置。 - 【請求項３】 請求項２記載の光干渉法による測定対象
物の屈折率と厚さの同時測定装置において、前記空間フ
ィルタリングは、単一モード光ファイバによることを特
徴とする光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同
時測定装置。 - 【請求項４】 光干渉法による測定対象物の屈折率と厚
さの同時測定方法において、低コヒーレンス光干渉計と
共焦点光学系を組み合わせて、１回のサンプル走査によ
り測定対象物の屈折率と厚さの同時測定を短時間で行う
ことを特徴とする光干渉法による測定対象物の屈折率と
厚さの同時測定方法。 - 【請求項５】 請求項４記載の光干渉法による測定対象
物の屈折率と厚さの同時測定方法において、２０μｍ〜
数ｍｍのカバーガラスを透明測定対象物となし、０．１
μｍステップのステージを２００００パルス／秒の信号
で走査し、１回のサンプル走査により測定対象物の屈折
率と厚さの同時測定を１秒以下で行うことを特徴とする
光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時測定方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32761999A JP3642996B2 (ja) | 1999-11-18 | 1999-11-18 | 光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時測定方法及びそのための装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32761999A JP3642996B2 (ja) | 1999-11-18 | 1999-11-18 | 光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時測定方法及びそのための装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001141652A true JP2001141652A (ja) | 2001-05-25 |
| JP3642996B2 JP3642996B2 (ja) | 2005-04-27 |
Family
ID=18201085
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|---|---|---|---|
| JP32761999A Expired - Fee Related JP3642996B2 (ja) | 1999-11-18 | 1999-11-18 | 光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時測定方法及びそのための装置 |
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|---|---|
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