JP2001134967A - 自動焦点調整装置 - Google Patents
自動焦点調整装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 鏡筒の円周方向の振動を防止してピッチむら
のない記録原盤の製作を可能とする。 【解決手段】 対物レンズ5が固定され、装置本体1の
貫通孔2に配置された鏡筒3と、貫通孔2に圧縮空気を
吐出し、この空気圧によって貫通孔2内で浮遊した状態
で鏡筒3を支持する第1静圧空気軸受6と、電磁力によ
って鏡筒3を軸方向に移動させる電磁気駆動手段11
と、鏡筒3の円周方向の回転を規制する回り止め手段A
を第2静圧空気軸受16で構成し、第2静圧空気軸受1
6は、装置本体1側に設けられた一対の上ブロック部1
9a,19bを有し、この一対の上ブロック部19a,
19bの対向する内面に、互いに逆方向に圧縮空気を吐
出する一対の流動絞り部25,25を設け、この一対の
流動絞り部25,25から吐出される圧縮空気を両面で
受ける空気受け部材26を鏡筒3に設けた。
のない記録原盤の製作を可能とする。 【解決手段】 対物レンズ5が固定され、装置本体1の
貫通孔2に配置された鏡筒3と、貫通孔2に圧縮空気を
吐出し、この空気圧によって貫通孔2内で浮遊した状態
で鏡筒3を支持する第1静圧空気軸受6と、電磁力によ
って鏡筒3を軸方向に移動させる電磁気駆動手段11
と、鏡筒3の円周方向の回転を規制する回り止め手段A
を第2静圧空気軸受16で構成し、第2静圧空気軸受1
6は、装置本体1側に設けられた一対の上ブロック部1
9a,19bを有し、この一対の上ブロック部19a,
19bの対向する内面に、互いに逆方向に圧縮空気を吐
出する一対の流動絞り部25,25を設け、この一対の
流動絞り部25,25から吐出される圧縮空気を両面で
受ける空気受け部材26を鏡筒3に設けた。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学式ディスク原
盤装置に適用され、記録ビーム又は再生ビームを絞り込
むための自動焦点調整装置に関し、特に、対物レンズが
固定される鏡筒を静圧空気軸受で支持する装置に係わ
る。
盤装置に適用され、記録ビーム又は再生ビームを絞り込
むための自動焦点調整装置に関し、特に、対物レンズが
固定される鏡筒を静圧空気軸受で支持する装置に係わ
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、特に光学式記録装置における
自動焦点調整装置は、対物レンズ可動範囲が大きく取れ
ることや、対物レンズを固定する鏡筒の着脱が容易にで
きることや、鏡筒に摩擦抵抗が作用せず軸方向の追従性
が非常に良いことから、鏡筒を圧縮空気による静圧空気
軸受で支持するものが提案されている。
自動焦点調整装置は、対物レンズ可動範囲が大きく取れ
ることや、対物レンズを固定する鏡筒の着脱が容易にで
きることや、鏡筒に摩擦抵抗が作用せず軸方向の追従性
が非常に良いことから、鏡筒を圧縮空気による静圧空気
軸受で支持するものが提案されている。
【0003】図5〜図7はかかる自動焦点調整装置の従
来例を示し、図5は自動焦点調整装置の平面図、図6は
その断面図、図7は図6のA−A線断面図である。図5
〜図7において、装置本体50には上下方向に貫通する
貫通孔51が設けられ、この貫通孔51に鏡筒52の小
径部52aが挿入されている。鏡筒52は小径部52a
とこの小径部52aの上方に一体的に設けられた大径の
フランジ部52bとから成り、このフランジ部52bは
後述するセンターポール65より上方に突出している。
鏡筒52には上下方向に貫通する光路用孔53が設けら
れ、この光路用孔53に対物レンズ54が固定されてい
る。
来例を示し、図5は自動焦点調整装置の平面図、図6は
その断面図、図7は図6のA−A線断面図である。図5
〜図7において、装置本体50には上下方向に貫通する
貫通孔51が設けられ、この貫通孔51に鏡筒52の小
径部52aが挿入されている。鏡筒52は小径部52a
とこの小径部52aの上方に一体的に設けられた大径の
フランジ部52bとから成り、このフランジ部52bは
後述するセンターポール65より上方に突出している。
鏡筒52には上下方向に貫通する光路用孔53が設けら
れ、この光路用孔53に対物レンズ54が固定されてい
る。
【0004】静圧空気軸受55は、装置本体50内に圧
縮空気を導く空気入口56と、この空気入口56に導か
れた圧縮空気を後述する複数の流動絞り部58にそれぞ
れ導く空気通路57と、貫通孔51の2カ所の位置で円
周方向に等間隔で開口し、空気通路57より導かれる圧
縮空気を更に圧縮して貫通孔51に吐出する複数の流動
絞り部58とを有する。そして、この複数の流動絞り部
58より鏡筒52の円周方向に均等圧力で吐出される空
気圧によって貫通孔51内で浮遊した状態で前記鏡筒5
2が支持される。
縮空気を導く空気入口56と、この空気入口56に導か
れた圧縮空気を後述する複数の流動絞り部58にそれぞ
れ導く空気通路57と、貫通孔51の2カ所の位置で円
周方向に等間隔で開口し、空気通路57より導かれる圧
縮空気を更に圧縮して貫通孔51に吐出する複数の流動
絞り部58とを有する。そして、この複数の流動絞り部
58より鏡筒52の円周方向に均等圧力で吐出される空
気圧によって貫通孔51内で浮遊した状態で前記鏡筒5
2が支持される。
【0005】電磁気駆動手段60は、鏡筒52側に設け
られ、リング状のボビン61に巻装された駆動コイル6
2と、装置本体50側に設けられた永久磁石63とヨー
ク64及びセンターポール65とを有する。この永久磁
石63とヨーク64及びセンターポール65によって磁
気回路が構成され、ヨーク64の内周面とセンターポー
ル65の外周面との間にはリング状のエアギャップが形
成されている。そして、このエアギャップ内に前記駆動
コイル62が配置されている。
られ、リング状のボビン61に巻装された駆動コイル6
2と、装置本体50側に設けられた永久磁石63とヨー
ク64及びセンターポール65とを有する。この永久磁
石63とヨーク64及びセンターポール65によって磁
気回路が構成され、ヨーク64の内周面とセンターポー
ル65の外周面との間にはリング状のエアギャップが形
成されている。そして、このエアギャップ内に前記駆動
コイル62が配置されている。
【0006】回り止め手段Aは、ヨーク64上の非磁性
体のスペーサ66の上面にあって円周上に等間隔に3カ
所に設けられている。この各箇所の回り止め手段Aは、
スペーサ66の上面に設けられた永久磁石67と、この
永久磁石67の円周方向の両側に設けられた一対の本体
側ヨーク68と、永久磁石67及び一対の本体側ヨーク
68,68に対向し、鏡筒52の上面に設けられた鏡筒
側ヨーク69とから構成されている。又、回り止め手段
Aは1ケ所又は2ケ所に設けても良い。
体のスペーサ66の上面にあって円周上に等間隔に3カ
所に設けられている。この各箇所の回り止め手段Aは、
スペーサ66の上面に設けられた永久磁石67と、この
永久磁石67の円周方向の両側に設けられた一対の本体
側ヨーク68と、永久磁石67及び一対の本体側ヨーク
68,68に対向し、鏡筒52の上面に設けられた鏡筒
側ヨーク69とから構成されている。又、回り止め手段
Aは1ケ所又は2ケ所に設けても良い。
【0007】一方、鏡筒52の下方には記録用原盤70
がターンテーブル(図示せず)上に載置されて、ターン
テーブルと一体に回転自在になっている。この記録用原
盤70の表面には情報信号記録用のフォトレジストが塗
布されている。又、鏡筒52の上方にはメインビーム7
1とサブビーム72の2つのレーザビームを照射するレ
ーザ発生手段(図示せず)及び発射したサブビーム72
の戻りのサブビーム73を受光する2分割フォトデテク
ター(図示せず)とが設けられている。2つのレーザビ
ームのうちメインビーム71は情報信号を記録するため
のビームでありフォトレジストに対して感度特性の高い
波長のブルー又は紫外線レーザが、サブビーム72は対
物レンズ54の焦点調整のビームでありフォトレジスト
に対して感度特性の低い波長の赤レーザが、それぞれ用
いられる。
がターンテーブル(図示せず)上に載置されて、ターン
テーブルと一体に回転自在になっている。この記録用原
盤70の表面には情報信号記録用のフォトレジストが塗
布されている。又、鏡筒52の上方にはメインビーム7
1とサブビーム72の2つのレーザビームを照射するレ
ーザ発生手段(図示せず)及び発射したサブビーム72
の戻りのサブビーム73を受光する2分割フォトデテク
ター(図示せず)とが設けられている。2つのレーザビ
ームのうちメインビーム71は情報信号を記録するため
のビームでありフォトレジストに対して感度特性の高い
波長のブルー又は紫外線レーザが、サブビーム72は対
物レンズ54の焦点調整のビームでありフォトレジスト
に対して感度特性の低い波長の赤レーザが、それぞれ用
いられる。
【0008】次に、上記構成の作用を説明する。駆動コ
イル62に通電されると、駆動コイル62に軸方向の電
磁力が発生し、この電磁力によって鏡筒52が上方に移
動し鏡筒52のフランジ部52bがセンターポール65
より浮上する。又、静圧空気軸受55の複数の流動絞り
部58からは圧縮空気が貫通孔51に吐出され、この空
気圧力によって鏡筒52が貫通孔51内で浮游した状態
で支持される。又、鏡筒52は、回り止め手段Aの3カ
所の磁気回路の保持力のバランスで回転方向のある1点
で回動することなく静止される。尚、回り止め手段Aが
1ケ所の場合には、一対の本体側ヨーク68と鏡筒側ヨ
ーク69との間の左右空隙の磁束密度による保持力のバ
ランスで1点で回動することなく静止される。また、回
り止め手段Aが2ケ所の場合には、回り止め手段Aの2
ケ所の磁気回路の保持力のバランスで回転方向のある1
点で回動することなく静止される。
イル62に通電されると、駆動コイル62に軸方向の電
磁力が発生し、この電磁力によって鏡筒52が上方に移
動し鏡筒52のフランジ部52bがセンターポール65
より浮上する。又、静圧空気軸受55の複数の流動絞り
部58からは圧縮空気が貫通孔51に吐出され、この空
気圧力によって鏡筒52が貫通孔51内で浮游した状態
で支持される。又、鏡筒52は、回り止め手段Aの3カ
所の磁気回路の保持力のバランスで回転方向のある1点
で回動することなく静止される。尚、回り止め手段Aが
1ケ所の場合には、一対の本体側ヨーク68と鏡筒側ヨ
ーク69との間の左右空隙の磁束密度による保持力のバ
ランスで1点で回動することなく静止される。また、回
り止め手段Aが2ケ所の場合には、回り止め手段Aの2
ケ所の磁気回路の保持力のバランスで回転方向のある1
点で回動することなく静止される。
【0009】このような状態にあって、レーザ発生手段
(図示せず)から発射されたサブビーム72は対物レン
ズ54を通って記録用原盤70のフォトレジストの表面
に達し、ここで反射された戻りのサブビーム73が再び
対物レンズ54を通って2分割フォトデテクター(図示
せず)に導かれる。この2分割フォトデテクター(図示
せず)で得られる焦点情報に基づいて駆動コイル62へ
の電流を調整し、鏡筒52の軸方向の位置、つまり、対
物レンズ54の位置を焦点位置に制御するものである。
(図示せず)から発射されたサブビーム72は対物レン
ズ54を通って記録用原盤70のフォトレジストの表面
に達し、ここで反射された戻りのサブビーム73が再び
対物レンズ54を通って2分割フォトデテクター(図示
せず)に導かれる。この2分割フォトデテクター(図示
せず)で得られる焦点情報に基づいて駆動コイル62へ
の電流を調整し、鏡筒52の軸方向の位置、つまり、対
物レンズ54の位置を焦点位置に制御するものである。
【0010】このように、対物レンズ54が焦点位置に
位置するように鏡筒52が上下動するが、永久磁石63
そのものの回転方向の磁束密度のアンバランス、ヨーク
64とセンターポール65の円周方向の隙間の変動によ
る磁束密度のアンバランス、駆動コイル62の巻線の粗
密、及び、駆動コイル62の巻線が対物レンズ54の光
軸方向の直交方向に傾斜している等の理由により、鏡筒
52に光軸方向以外の力が作用することになる。この光
軸方向以外の力の内、鏡筒52の半径方向の力は静圧空
気軸受55によって押さえ込み、鏡筒52の円周方向の
力は回り止め手段Aによって押さえ込むものである。
位置するように鏡筒52が上下動するが、永久磁石63
そのものの回転方向の磁束密度のアンバランス、ヨーク
64とセンターポール65の円周方向の隙間の変動によ
る磁束密度のアンバランス、駆動コイル62の巻線の粗
密、及び、駆動コイル62の巻線が対物レンズ54の光
軸方向の直交方向に傾斜している等の理由により、鏡筒
52に光軸方向以外の力が作用することになる。この光
軸方向以外の力の内、鏡筒52の半径方向の力は静圧空
気軸受55によって押さえ込み、鏡筒52の円周方向の
力は回り止め手段Aによって押さえ込むものである。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記した従
来の回り止め手段Aは、鏡筒52の円周方向の力を次の
理由により十分に押さえ込むことができない。つまり、
従来の回り止め手段Aにおける一対の本体側ヨーク6
8,68と鏡筒側ヨーク69との空隙間の寸法は、通常
0.5〜1mm程度にしか設定できない。これは、組み
上げ誤差によるヨーク68,69同士の接触を回避する
ためである。又、空隙間の寸法が微小になると、特に、
回り止め手段Aが1カ所の場合、磁気回路の吸着力の増
大により鏡筒52が光軸に対して傾斜するのを回避し、
回り止め手段Aが3カ所の場合、磁気回路の吸着力のア
ンバランスを吸収する移動方向が空隙間の寸法の増減す
る方向であることから、同様に鏡筒52が光軸に対して
傾斜するのを回避するためである。このようにヨーク6
8,69間の空隙寸法を小さくするのに制限があること
から従来の回り止め手段Aによる回転方向の規制力は、
非常に小さく、鏡筒52の円周方向の力を押さえ込むこ
とができない。例えば、鏡筒52を回転方向に数十グラ
ム程度で押すと1mm程度回転方向に動き、この位置で
押圧力を解除すると鏡筒52が静止位置に落ち着くまで
静止位置を中心に往復振動を始め、振幅を減少させなが
ら数秒間振動を続けて止まる挙動を示す。
来の回り止め手段Aは、鏡筒52の円周方向の力を次の
理由により十分に押さえ込むことができない。つまり、
従来の回り止め手段Aにおける一対の本体側ヨーク6
8,68と鏡筒側ヨーク69との空隙間の寸法は、通常
0.5〜1mm程度にしか設定できない。これは、組み
上げ誤差によるヨーク68,69同士の接触を回避する
ためである。又、空隙間の寸法が微小になると、特に、
回り止め手段Aが1カ所の場合、磁気回路の吸着力の増
大により鏡筒52が光軸に対して傾斜するのを回避し、
回り止め手段Aが3カ所の場合、磁気回路の吸着力のア
ンバランスを吸収する移動方向が空隙間の寸法の増減す
る方向であることから、同様に鏡筒52が光軸に対して
傾斜するのを回避するためである。このようにヨーク6
8,69間の空隙寸法を小さくするのに制限があること
から従来の回り止め手段Aによる回転方向の規制力は、
非常に小さく、鏡筒52の円周方向の力を押さえ込むこ
とができない。例えば、鏡筒52を回転方向に数十グラ
ム程度で押すと1mm程度回転方向に動き、この位置で
押圧力を解除すると鏡筒52が静止位置に落ち着くまで
静止位置を中心に往復振動を始め、振幅を減少させなが
ら数秒間振動を続けて止まる挙動を示す。
【0012】ここで、対物レンズ54の光軸中心と鏡筒
52の軸中心とにズレがなければ、鏡筒52が上記のよ
うに回転振動しても何ら問題ない。しかしながら、かか
る対物レンズ54と鏡筒52との軸ズレは、組み上げ
上、最小数十ミクロンから最悪数百ミクロン程度存在す
るため、鏡筒52の回転によって記録用のメインビーム
71の焦点が移動する。この鏡筒52の回転によって記
録用のメインビーム71の焦点は、レーザビームによる
記録原盤製作において時間軸の変動と共に、特に送り方
向のピッチ変動を引き起こす。そして、このピッチ変動
の量は、上記したズレ量を50ミクロン、鏡筒の回転を
0.1度とすると、条件によって0.1ミクロンにな
り、DVD等のサブミクロントラックピッチ盤では、非
常に問題となる値となる。
52の軸中心とにズレがなければ、鏡筒52が上記のよ
うに回転振動しても何ら問題ない。しかしながら、かか
る対物レンズ54と鏡筒52との軸ズレは、組み上げ
上、最小数十ミクロンから最悪数百ミクロン程度存在す
るため、鏡筒52の回転によって記録用のメインビーム
71の焦点が移動する。この鏡筒52の回転によって記
録用のメインビーム71の焦点は、レーザビームによる
記録原盤製作において時間軸の変動と共に、特に送り方
向のピッチ変動を引き起こす。そして、このピッチ変動
の量は、上記したズレ量を50ミクロン、鏡筒の回転を
0.1度とすると、条件によって0.1ミクロンにな
り、DVD等のサブミクロントラックピッチ盤では、非
常に問題となる値となる。
【0013】そこで、本発明は、前記した課題を解決す
べくなされたものであり、鏡筒の円周方向に対する規制
力が大きく、且つ、鏡筒に円周方向の力が作用してもほ
とんど振動することなく元の静止位置に戻り、ピッチむ
らのない記録原盤の製作が可能な自動焦点調整装置を提
供することを目的とする。
べくなされたものであり、鏡筒の円周方向に対する規制
力が大きく、且つ、鏡筒に円周方向の力が作用してもほ
とんど振動することなく元の静止位置に戻り、ピッチむ
らのない記録原盤の製作が可能な自動焦点調整装置を提
供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、対物
レンズが固定され、装置本体の貫通孔に軸方向及び円周
方向に移動自在に配置された鏡筒と、前記貫通孔に圧縮
空気を吐出し、この空気圧によって前記貫通孔内で浮遊
した状態で前記鏡筒を支持する第1静圧空気軸受と、前
記装置本体と前記鏡筒とのいずれか一方に永久磁石を、
他方に駆動コイルをそれぞれ設け、且つ、前記永久磁石
の磁界内に前記駆動コイルを位置させ、前記駆動コイル
への通電により発生する電磁力によって前記鏡筒を軸方
向に移動させる電磁気駆動手段と、前記鏡筒が円周方向
に回転するのを規制する回り止め手段とを備えた自動焦
点調整装置において、前記回り止め手段は、前記装置本
体側に設けられ、圧縮空気を吐出する吐出口と、前記鏡
筒に設けられ、この吐出口から吐出される圧縮空気を受
ける一対の空気受け面とを有し、この一対の空気受け面
に対する最高圧力の発生する方向を前記鏡筒の円周方向
になるように設定される第2静圧空気軸受として構成さ
れたことを特徴とする。
レンズが固定され、装置本体の貫通孔に軸方向及び円周
方向に移動自在に配置された鏡筒と、前記貫通孔に圧縮
空気を吐出し、この空気圧によって前記貫通孔内で浮遊
した状態で前記鏡筒を支持する第1静圧空気軸受と、前
記装置本体と前記鏡筒とのいずれか一方に永久磁石を、
他方に駆動コイルをそれぞれ設け、且つ、前記永久磁石
の磁界内に前記駆動コイルを位置させ、前記駆動コイル
への通電により発生する電磁力によって前記鏡筒を軸方
向に移動させる電磁気駆動手段と、前記鏡筒が円周方向
に回転するのを規制する回り止め手段とを備えた自動焦
点調整装置において、前記回り止め手段は、前記装置本
体側に設けられ、圧縮空気を吐出する吐出口と、前記鏡
筒に設けられ、この吐出口から吐出される圧縮空気を受
ける一対の空気受け面とを有し、この一対の空気受け面
に対する最高圧力の発生する方向を前記鏡筒の円周方向
になるように設定される第2静圧空気軸受として構成さ
れたことを特徴とする。
【0015】請求項2の発明は、前記請求項1に記載の
自動焦点調整装置において、前記回り止め手段は、前記
装置本体側に設けられ、互いに逆方向に圧縮空気を吐出
する一対の吐出口と、前記鏡筒に設けられ、この一対の
吐出口から吐出される圧縮空気を受ける一対の空気受け
面とを有し、この一対の空気受け面がそれぞれ受ける圧
縮空気圧の合力が前記鏡筒の円周方向であって、且つ、
互いに逆方向とされる第2静圧空気軸受として構成され
たことを特徴とする。
自動焦点調整装置において、前記回り止め手段は、前記
装置本体側に設けられ、互いに逆方向に圧縮空気を吐出
する一対の吐出口と、前記鏡筒に設けられ、この一対の
吐出口から吐出される圧縮空気を受ける一対の空気受け
面とを有し、この一対の空気受け面がそれぞれ受ける圧
縮空気圧の合力が前記鏡筒の円周方向であって、且つ、
互いに逆方向とされる第2静圧空気軸受として構成され
たことを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。
基づいて説明する。
【0017】図1及び図2は本発明の第1実施形態を示
し、図1(A)は自動焦点調整装置の平面図、図1
(B)は自動焦点調整装置の断面図、図2は図1(B)
のB−B線断面図である。図1及び図2において、装置
本体1には上下方向に貫通する貫通孔2が設けられ、こ
の貫通孔2に鏡筒3の小径部3aが挿入されている。鏡
筒3は小径部3aとこの小径部3aの上方に一体的に設
けられた大径のフランジ部3bとから成り、このフラン
ジ部3bは後述するセンターポール15より上方に突出
している。鏡筒3には上下方向に貫通する光路用孔4が
設けられ、この光路用孔4に対物レンズ5が固定されて
いる。
し、図1(A)は自動焦点調整装置の平面図、図1
(B)は自動焦点調整装置の断面図、図2は図1(B)
のB−B線断面図である。図1及び図2において、装置
本体1には上下方向に貫通する貫通孔2が設けられ、こ
の貫通孔2に鏡筒3の小径部3aが挿入されている。鏡
筒3は小径部3aとこの小径部3aの上方に一体的に設
けられた大径のフランジ部3bとから成り、このフラン
ジ部3bは後述するセンターポール15より上方に突出
している。鏡筒3には上下方向に貫通する光路用孔4が
設けられ、この光路用孔4に対物レンズ5が固定されて
いる。
【0018】第1静圧空気軸受6は、装置本体1内に圧
縮空気が導かれる空気入口7と、この空気入口7に導か
れた圧縮空気を複数の流動絞り部9にそれぞれ導く空気
通路8と、貫通孔2の上下2ケ所の位置で円周方向に等
間隔で開口し、空気通路8より導かれる圧縮空気を更に
圧縮して貫通孔2に吐出する複数の流動絞り部9とを有
する。そして、この複数の流動絞り部9より鏡筒3の円
周方向に均等圧力で吐出される空気圧によって貫通孔2
内で浮遊した状態で前記鏡筒3が支持される。前記空気
通路8は、装置本体1の軸方向の2箇所の高さ位置にあ
って、円周上の等間隔に半径方向に延びる上下の各8つ
の横孔8aと、この上下の各対応する横孔8a同士を連
通させる8つの縦孔8bと、この8つの縦孔8bを連通
するリング状孔8cとから成る。リング状孔8cは、そ
の下面がOリングを介して遮蔽プレート10で遮蔽され
ている。上下の各8つの横孔8aの貫通孔2側が流動絞
り部9として構成され、又、下側の8つの横孔8aの1
つの外周面側が空気入口7として構成されている。
縮空気が導かれる空気入口7と、この空気入口7に導か
れた圧縮空気を複数の流動絞り部9にそれぞれ導く空気
通路8と、貫通孔2の上下2ケ所の位置で円周方向に等
間隔で開口し、空気通路8より導かれる圧縮空気を更に
圧縮して貫通孔2に吐出する複数の流動絞り部9とを有
する。そして、この複数の流動絞り部9より鏡筒3の円
周方向に均等圧力で吐出される空気圧によって貫通孔2
内で浮遊した状態で前記鏡筒3が支持される。前記空気
通路8は、装置本体1の軸方向の2箇所の高さ位置にあ
って、円周上の等間隔に半径方向に延びる上下の各8つ
の横孔8aと、この上下の各対応する横孔8a同士を連
通させる8つの縦孔8bと、この8つの縦孔8bを連通
するリング状孔8cとから成る。リング状孔8cは、そ
の下面がOリングを介して遮蔽プレート10で遮蔽され
ている。上下の各8つの横孔8aの貫通孔2側が流動絞
り部9として構成され、又、下側の8つの横孔8aの1
つの外周面側が空気入口7として構成されている。
【0019】電磁気駆動手段11は、鏡筒3側に設けら
れた駆動コイル12と、装置本体1側に設けられた永久
磁石13とヨーク14及びセンターポール15とを有す
る。駆動コイル12は、鏡筒3のフランジ部3bの外周
面に上端のみが固定されたリング状のボビン61に巻装
されている。センターポール15は内周側が高く、外周
側が低い円筒状をなし、この外周側の上面に各リング状
の永久磁石13及びヨーク14が積層状態で固定されて
いる。この永久磁石13とヨーク14及びセンターポー
ル15によって磁気回路が構成され、ヨーク14の内周
面とセンターポール15の外周面との間にはリング状の
エアギャップが形成されている。そして、このエアギャ
ップ内に前記駆動コイル12が配置され、これによって
駆動コイル12が永久磁石13の磁界内に配置されてい
る。
れた駆動コイル12と、装置本体1側に設けられた永久
磁石13とヨーク14及びセンターポール15とを有す
る。駆動コイル12は、鏡筒3のフランジ部3bの外周
面に上端のみが固定されたリング状のボビン61に巻装
されている。センターポール15は内周側が高く、外周
側が低い円筒状をなし、この外周側の上面に各リング状
の永久磁石13及びヨーク14が積層状態で固定されて
いる。この永久磁石13とヨーク14及びセンターポー
ル15によって磁気回路が構成され、ヨーク14の内周
面とセンターポール15の外周面との間にはリング状の
エアギャップが形成されている。そして、このエアギャ
ップ内に前記駆動コイル12が配置され、これによって
駆動コイル12が永久磁石13の磁界内に配置されてい
る。
【0020】回り止め手段Aは、第2静圧空気軸受16
として構成されている。この第2静圧空気軸受16は、
ヨーク14上に固定された非磁性体の軸受け筐体17を
有し、この軸受け筐体17は下ブロック部18と、この
下ブロック部18の上に間隔を置いて立設された一対の
上ブロック部19a,19bとから構成されている。下
ブロック部18と一対の上ブロック部19a,19bと
にはそれぞれ空気通路20,21a,21bが形成され
ている。下ブロック部18の空気通路20には第1静圧
空気軸受16の空気通路8に一端が接続された第1配管
22の他端側が接続されており、第1静圧空気軸受16
の圧縮空気が導かれている。下ブロック部18の空気通
路は下ブロック部18内で2つに分岐され、その各排出
側と一対の上ブロック部19a,19bの空気通路21
a,21bとの間が第2配管23及び第3配管24でそ
れぞれ接続されている。一対の上ブロック部19a,1
9bの各空気通路21a,21bの他端側は、上ブロッ
ク部19a,19bの内面の互いに対向する位置に吐出
口である流通絞り部25を介して開口されている。この
一対の流通絞り部25,25の開口位置は、鏡筒3の円
周方向に対し互いに逆方向に向かって圧縮空気を吐出す
る方向に設定されている。
として構成されている。この第2静圧空気軸受16は、
ヨーク14上に固定された非磁性体の軸受け筐体17を
有し、この軸受け筐体17は下ブロック部18と、この
下ブロック部18の上に間隔を置いて立設された一対の
上ブロック部19a,19bとから構成されている。下
ブロック部18と一対の上ブロック部19a,19bと
にはそれぞれ空気通路20,21a,21bが形成され
ている。下ブロック部18の空気通路20には第1静圧
空気軸受16の空気通路8に一端が接続された第1配管
22の他端側が接続されており、第1静圧空気軸受16
の圧縮空気が導かれている。下ブロック部18の空気通
路は下ブロック部18内で2つに分岐され、その各排出
側と一対の上ブロック部19a,19bの空気通路21
a,21bとの間が第2配管23及び第3配管24でそ
れぞれ接続されている。一対の上ブロック部19a,1
9bの各空気通路21a,21bの他端側は、上ブロッ
ク部19a,19bの内面の互いに対向する位置に吐出
口である流通絞り部25を介して開口されている。この
一対の流通絞り部25,25の開口位置は、鏡筒3の円
周方向に対し互いに逆方向に向かって圧縮空気を吐出す
る方向に設定されている。
【0021】又、鏡筒3のフランジ部3bで、且つ、軸
受け筐体17に対向する位置には空気受け部材26が設
けられている。この空気受け部材26は、鏡筒3の半径
方向に沿って配置され、その外方先端側が一対の上ブロ
ック部19a,19bの間のスペースに配置されてい
る。空気受け部材26の両側の面は、一対の流通絞り部
25,25に近接対向される一対の空気受け面26a,
26bとして構成されている。そして、この第1実施形
態では、一対の空気受け面26a,26bが鏡筒3の円
周方向の直交する面であるため、空気圧力勾配を考える
までもなく、当然に、最高圧力の発生する方向が鏡筒3
の円周方向となっている。
受け筐体17に対向する位置には空気受け部材26が設
けられている。この空気受け部材26は、鏡筒3の半径
方向に沿って配置され、その外方先端側が一対の上ブロ
ック部19a,19bの間のスペースに配置されてい
る。空気受け部材26の両側の面は、一対の流通絞り部
25,25に近接対向される一対の空気受け面26a,
26bとして構成されている。そして、この第1実施形
態では、一対の空気受け面26a,26bが鏡筒3の円
周方向の直交する面であるため、空気圧力勾配を考える
までもなく、当然に、最高圧力の発生する方向が鏡筒3
の円周方向となっている。
【0022】この一対の空気受け面26a,26bの間
の幅(空気受け部材26の肉厚)は、一対の上ブロック
部19a,19b間の寸法幅に対して軸受け隙間分だけ
小さく設定され、一対の空気受け面26a,26bの光
軸方向の長さ(空気受け部材26の光軸方向の長さ)
は、一対の上ブロック部19a,19bの高さよりも小
さく設定されている。これは、対物レンズ5を焦点位置
に制御する際にあって、鏡筒3が軸方向の微小移動して
も第2静圧空気軸受16の軸受性能に変化が起こらず、
第2静圧空気軸受16から対物レンズ5を焦点位置に制
御する動作に弊害を発生させないためである。
の幅(空気受け部材26の肉厚)は、一対の上ブロック
部19a,19b間の寸法幅に対して軸受け隙間分だけ
小さく設定され、一対の空気受け面26a,26bの光
軸方向の長さ(空気受け部材26の光軸方向の長さ)
は、一対の上ブロック部19a,19bの高さよりも小
さく設定されている。これは、対物レンズ5を焦点位置
に制御する際にあって、鏡筒3が軸方向の微小移動して
も第2静圧空気軸受16の軸受性能に変化が起こらず、
第2静圧空気軸受16から対物レンズ5を焦点位置に制
御する動作に弊害を発生させないためである。
【0023】又、詳しくは、一対の上ブロック部19
a,19bの各内面、及び、空気受け部材26の一対の
空気受け面26a,26bは、その縦方向が鏡筒3(第
1静圧空気軸受6)の軸方向に平行に設定され、その横
方向が鏡筒3の半径方向に引いた面に対し平行に設定さ
れている。但し、横方向は、回転中心線に対して鏡筒3
の回転時の回転半径に関係なく同一隙間ができるよう回
転中心から放射状に引いた2面に沿った扇型が最良であ
るが、この第1実施形態のように平行型であっても充分
に静圧空気軸受の性能を発揮できる。
a,19bの各内面、及び、空気受け部材26の一対の
空気受け面26a,26bは、その縦方向が鏡筒3(第
1静圧空気軸受6)の軸方向に平行に設定され、その横
方向が鏡筒3の半径方向に引いた面に対し平行に設定さ
れている。但し、横方向は、回転中心線に対して鏡筒3
の回転時の回転半径に関係なく同一隙間ができるよう回
転中心から放射状に引いた2面に沿った扇型が最良であ
るが、この第1実施形態のように平行型であっても充分
に静圧空気軸受の性能を発揮できる。
【0024】さらに、鏡筒3のフランジ部3bの上面に
は、空気受け部材26の位置と180度対向位置にダミ
ー部材27が設けられており、このダミー部材27によ
って鏡筒3の重量バランスが取られている。
は、空気受け部材26の位置と180度対向位置にダミ
ー部材27が設けられており、このダミー部材27によ
って鏡筒3の重量バランスが取られている。
【0025】一方、鏡筒3の下方には記録用原盤28が
ターンテーブル(図示せず)上に載置されて、ターンテ
ーブルと一体に回転自在になっている。この記録用原盤
28の表面には情報信号記録用のフォトレジストが塗布
されている。又、鏡筒3の上方にはメインビーム71と
サブビーム72の2つのレーザビームを照射するレーザ
発生手段(図示せず)及び発射したサブビーム72の戻
りのサブビーム73を受光する2分割フォトデテクター
(図示せず)とが設けられている。2つのレーザビーム
のうちメインビーム71は情報信号を記録するためのビ
ームでありフォトレジストに対して感度特性の高い波長
のブルー又は紫外線レーザが、サブビーム72は対物レ
ンズ54の焦点調整のビームでありフォトレジストに対
して感度特性の低い波長の赤レーザが、それぞれ用いら
れる。
ターンテーブル(図示せず)上に載置されて、ターンテ
ーブルと一体に回転自在になっている。この記録用原盤
28の表面には情報信号記録用のフォトレジストが塗布
されている。又、鏡筒3の上方にはメインビーム71と
サブビーム72の2つのレーザビームを照射するレーザ
発生手段(図示せず)及び発射したサブビーム72の戻
りのサブビーム73を受光する2分割フォトデテクター
(図示せず)とが設けられている。2つのレーザビーム
のうちメインビーム71は情報信号を記録するためのビ
ームでありフォトレジストに対して感度特性の高い波長
のブルー又は紫外線レーザが、サブビーム72は対物レ
ンズ54の焦点調整のビームでありフォトレジストに対
して感度特性の低い波長の赤レーザが、それぞれ用いら
れる。
【0026】次に、上記構成の作用を説明する。駆動コ
イル12に通電されると、駆動コイル12に軸方向の電
磁力が発生し、この電磁力によって鏡筒3が上方に移動
し鏡筒3のフランジ部3bがセンターポール15より浮
上する。又、第1静圧空気軸受6の複数の流動絞り部9
からは圧縮空気が貫通孔2に吐出され、この空気圧力に
よって鏡筒3が貫通孔2内で浮遊した状態で支持され
る。又、第2静圧空気軸受16の一対の流動絞り部2
5,25からは圧縮空気が空気受け部材26の一対の空
気受け面26a,26bに吐出され、この双方の空気圧
力のバランスする回転位置で鏡筒3が回動することなく
静止される。
イル12に通電されると、駆動コイル12に軸方向の電
磁力が発生し、この電磁力によって鏡筒3が上方に移動
し鏡筒3のフランジ部3bがセンターポール15より浮
上する。又、第1静圧空気軸受6の複数の流動絞り部9
からは圧縮空気が貫通孔2に吐出され、この空気圧力に
よって鏡筒3が貫通孔2内で浮遊した状態で支持され
る。又、第2静圧空気軸受16の一対の流動絞り部2
5,25からは圧縮空気が空気受け部材26の一対の空
気受け面26a,26bに吐出され、この双方の空気圧
力のバランスする回転位置で鏡筒3が回動することなく
静止される。
【0027】このような状態にあって、レーザ発生手段
(図示せず)から発射されたサブビーム72は対物レン
ズ5を通って記録用原盤28上のフォトレジストの表面
に達し、ここで反射された戻りのビーム73が再び対物
レンズ5を通って2分割フォトデテクター(図示せず)
に導かれる。この2分割フォトデテクター(図示せず)
で得られる焦点情報に基づいて駆動コイル12への電流
を調整し、鏡筒3の軸方向の位置、つまり、対物レンズ
5の位置を焦点位置に制御するものである。
(図示せず)から発射されたサブビーム72は対物レン
ズ5を通って記録用原盤28上のフォトレジストの表面
に達し、ここで反射された戻りのビーム73が再び対物
レンズ5を通って2分割フォトデテクター(図示せず)
に導かれる。この2分割フォトデテクター(図示せず)
で得られる焦点情報に基づいて駆動コイル12への電流
を調整し、鏡筒3の軸方向の位置、つまり、対物レンズ
5の位置を焦点位置に制御するものである。
【0028】このように対物レンズ5が焦点位置に位置
するように鏡筒3が上下動するが、永久磁石13そのも
のの回転方向の磁束密度のアンバランス、ヨーク14と
センターポール15の円周方向の隙間の変動による磁束
密度のアンバランス、駆動コイル12の巻線の粗密、及
び、駆動コイル12の巻線が対物レンズ5の光軸方向の
直交方向に傾斜している等の理由により、鏡筒3に光軸
方向以外の力が作用することになる。この光軸方向以外
の力の内、鏡筒3の半径方向の力は第1静圧空気軸受6
によって押さえ込まれ、鏡筒3の円周方向の力は第2静
圧空気軸受16に作用する。この円周方向の力によっ
て、いずれか一方の上ブロック部19a,19bの内面
(流通絞り部25)と空気受け面26a,26bとの間
の間隙が狭く、他方の上ブロック部19a,19bの内
面(流通絞り部25)と空気受け面26a,26bとの
間の間隙が広くなる。すると、狭くなった空気受け面2
6a,26b側の空気圧が大きく、広くなった空気受け
面26a,26b側の空気圧が小さくなってこの空気圧
のアンバランスによって鏡筒3を元の静止位置に戻す力
が作用し、この力が狭い間隙内の空気圧であることから
規制力が大きく、且つ、鏡筒3に円周方向の力が作用し
てもほとんど振動することなく鏡筒3が元の静止位置に
戻る。以上より、ピッチむらのない記録原盤28の製作
が可能である。
するように鏡筒3が上下動するが、永久磁石13そのも
のの回転方向の磁束密度のアンバランス、ヨーク14と
センターポール15の円周方向の隙間の変動による磁束
密度のアンバランス、駆動コイル12の巻線の粗密、及
び、駆動コイル12の巻線が対物レンズ5の光軸方向の
直交方向に傾斜している等の理由により、鏡筒3に光軸
方向以外の力が作用することになる。この光軸方向以外
の力の内、鏡筒3の半径方向の力は第1静圧空気軸受6
によって押さえ込まれ、鏡筒3の円周方向の力は第2静
圧空気軸受16に作用する。この円周方向の力によっ
て、いずれか一方の上ブロック部19a,19bの内面
(流通絞り部25)と空気受け面26a,26bとの間
の間隙が狭く、他方の上ブロック部19a,19bの内
面(流通絞り部25)と空気受け面26a,26bとの
間の間隙が広くなる。すると、狭くなった空気受け面2
6a,26b側の空気圧が大きく、広くなった空気受け
面26a,26b側の空気圧が小さくなってこの空気圧
のアンバランスによって鏡筒3を元の静止位置に戻す力
が作用し、この力が狭い間隙内の空気圧であることから
規制力が大きく、且つ、鏡筒3に円周方向の力が作用し
てもほとんど振動することなく鏡筒3が元の静止位置に
戻る。以上より、ピッチむらのない記録原盤28の製作
が可能である。
【0029】尚、第1実施形態によれば、第2静圧空気
軸受16が1ケ所にのみ設けられているが、複数箇所に
設けても良く、又、複数箇所に設ける場合には等回転間
隔(例えば円周上の3ケ所に120度回転間隔)に配置
すればバランス良く機能するため、好ましい。
軸受16が1ケ所にのみ設けられているが、複数箇所に
設けても良く、又、複数箇所に設ける場合には等回転間
隔(例えば円周上の3ケ所に120度回転間隔)に配置
すればバランス良く機能するため、好ましい。
【0030】図3及び図4は本発明の第2実施形態を示
し、図3(A)は図3(B)のC−C線断面図、図3
(B)は自動焦点調整装置の断面図、図4は第2静圧空
気軸受16の拡大断面図である。図3及び図4におい
て、この第2実施形態にあって前記第1実施形態と比較
して回り止め手段Aの構成のみが異なり、他の構成は同
一であるため、図面の同一部材に同一符号を付してその
説明を省略し、異なる構成部分のみを説明する。
し、図3(A)は図3(B)のC−C線断面図、図3
(B)は自動焦点調整装置の断面図、図4は第2静圧空
気軸受16の拡大断面図である。図3及び図4におい
て、この第2実施形態にあって前記第1実施形態と比較
して回り止め手段Aの構成のみが異なり、他の構成は同
一であるため、図面の同一部材に同一符号を付してその
説明を省略し、異なる構成部分のみを説明する。
【0031】即ち、この第2実施形態の回り止め手段A
も、第1実施形態と同様に第2静圧空気軸受16として
構成されている。この第2静圧空気軸受16は、センタ
ーポール15の上面の同一円周上で、且つ、120度回
転間隔の3カ所に立設された軸受けシャフト30を有
し、この各軸受けシャフト30はセンターポール15の
上面に開口された孔31に下端部が嵌合されることによ
って固定されている。各軸受けシャフト30には縦方向
に延びる空気通路32が設けられており、この空気通路
32の下端は、センターポール15に形成された空気通
路33を介して第1静圧空気軸受6の空気通路8に連通
されている。軸受けシャフト30の空気通路32の上端
は上方に開口されず、この空気通路32には一対の吐出
口である一対の流通絞り部34,34(図4に示す)が
連通されている。この一対の流通絞り部34,34の開
口位置は、鏡筒3の円周方向に対し互いに逆方向に向か
って圧縮空気を吐出する方向に設定されている。
も、第1実施形態と同様に第2静圧空気軸受16として
構成されている。この第2静圧空気軸受16は、センタ
ーポール15の上面の同一円周上で、且つ、120度回
転間隔の3カ所に立設された軸受けシャフト30を有
し、この各軸受けシャフト30はセンターポール15の
上面に開口された孔31に下端部が嵌合されることによ
って固定されている。各軸受けシャフト30には縦方向
に延びる空気通路32が設けられており、この空気通路
32の下端は、センターポール15に形成された空気通
路33を介して第1静圧空気軸受6の空気通路8に連通
されている。軸受けシャフト30の空気通路32の上端
は上方に開口されず、この空気通路32には一対の吐出
口である一対の流通絞り部34,34(図4に示す)が
連通されている。この一対の流通絞り部34,34の開
口位置は、鏡筒3の円周方向に対し互いに逆方向に向か
って圧縮空気を吐出する方向に設定されている。
【0032】又、鏡筒3のフランジ部3bの同一円周上
で、且つ、120度回転間隔の3ケ所には、軸受け孔3
5がそれぞれ設けられており、この各軸受け孔35に前
記軸受けシャフト30がそれぞれ配置されている。各軸
受け孔35を形成する両側の面、詳しくは鏡筒の円周方
向の直交方向で分離される両側の面は、一対の流通絞り
部34,34に近接対向される一対の空気受け面35
a,35bとして構成されている。そして、一対の吐出
口である一対の流通絞り部34,34からの圧縮空気の
吐出方向が鏡筒3の円周方向の直交方向であることか
ら、一対の空気受け面35a,35bにおける空気圧力
勾配を考えた時に最高圧力の発生する方向が鏡筒3の円
周方向となっている。
で、且つ、120度回転間隔の3ケ所には、軸受け孔3
5がそれぞれ設けられており、この各軸受け孔35に前
記軸受けシャフト30がそれぞれ配置されている。各軸
受け孔35を形成する両側の面、詳しくは鏡筒の円周方
向の直交方向で分離される両側の面は、一対の流通絞り
部34,34に近接対向される一対の空気受け面35
a,35bとして構成されている。そして、一対の吐出
口である一対の流通絞り部34,34からの圧縮空気の
吐出方向が鏡筒3の円周方向の直交方向であることか
ら、一対の空気受け面35a,35bにおける空気圧力
勾配を考えた時に最高圧力の発生する方向が鏡筒3の円
周方向となっている。
【0033】一対の流通絞り部34,34は、その上下
方向の位置が、対物レンズ5が焦点を結んだ位置で鏡筒
3の軸受け孔35の上下方向のほぼ中心位置になるよう
設定され、その横方向の位置が圧縮空気の吐出方向が鏡
筒3の円周方向にほぼ一致するように設定されている。
これは、第2静圧空気軸受16の組み上げ上のわずかな
誤差による静圧空気軸受の圧力勾配のアンバランスによ
って第1静圧空気軸受6の軸方向移動性能に傾き等の弊
害が発生しないようにするためである。
方向の位置が、対物レンズ5が焦点を結んだ位置で鏡筒
3の軸受け孔35の上下方向のほぼ中心位置になるよう
設定され、その横方向の位置が圧縮空気の吐出方向が鏡
筒3の円周方向にほぼ一致するように設定されている。
これは、第2静圧空気軸受16の組み上げ上のわずかな
誤差による静圧空気軸受の圧力勾配のアンバランスによ
って第1静圧空気軸受6の軸方向移動性能に傾き等の弊
害が発生しないようにするためである。
【0034】又、軸受けシャフト30のフランジ部3b
よりも上方に突出している長さは、鏡筒3の軸受け孔3
5の長さと、対物レンズ5が焦点を結んだ時に鏡筒3が
センターポール15上に浮上している量とを合計した長
さよりも大きく設定されている。これは、対物レンズ5
を焦点位置に制御する際にあって、鏡筒3が軸方向の微
小移動しても第2静圧空気軸受16の軸受性能に変化が
起こらず、第2静圧空気軸受16から対物レンズ5を焦
点位置に制御する動作に弊害を発生させないためであ
る。
よりも上方に突出している長さは、鏡筒3の軸受け孔3
5の長さと、対物レンズ5が焦点を結んだ時に鏡筒3が
センターポール15上に浮上している量とを合計した長
さよりも大きく設定されている。これは、対物レンズ5
を焦点位置に制御する際にあって、鏡筒3が軸方向の微
小移動しても第2静圧空気軸受16の軸受性能に変化が
起こらず、第2静圧空気軸受16から対物レンズ5を焦
点位置に制御する動作に弊害を発生させないためであ
る。
【0035】この第2実施形態では、3ケ所の第2静圧
空気軸受16の一対の流動絞り部34,34からはそれ
ぞれ圧縮空気が鏡筒3の軸受け孔35を形成する一対の
空気受け面35a,35bに吐出され、この双方の空気
圧力のバランスする回転位置で鏡筒3が回動することな
く静止される。そして、何等かの原因により鏡筒3に円
周方向の力が作用すると、第2静圧空気軸受16の軸受
けシャフト30の一方側面(流通絞り部34)と軸受け
孔35の一方の空気受け面35a,35bとの間の間隙
が狭く、軸受けシャフト30の他方側面(流通絞り部3
4)と軸受け孔35の他方の空気受け面35a,35b
との間の間隙が広くなる。すると、狭くなった空気受け
面35a,35b側の空気圧が大きく、広くなった空気
受け面35a,35b側の空気圧が小さくなってこの空
気圧のアンバランスによって鏡筒3を元の静止位置に戻
す力が作用し、この力が狭い間隙内の空気圧であること
から規制力が大きく、且つ、鏡筒3に円周方向の力が作
用してもほとんど振動することなく鏡筒3が元の静止位
置に戻る。以上より、ピッチむらのない記録原盤28の
製作が可能である。
空気軸受16の一対の流動絞り部34,34からはそれ
ぞれ圧縮空気が鏡筒3の軸受け孔35を形成する一対の
空気受け面35a,35bに吐出され、この双方の空気
圧力のバランスする回転位置で鏡筒3が回動することな
く静止される。そして、何等かの原因により鏡筒3に円
周方向の力が作用すると、第2静圧空気軸受16の軸受
けシャフト30の一方側面(流通絞り部34)と軸受け
孔35の一方の空気受け面35a,35bとの間の間隙
が狭く、軸受けシャフト30の他方側面(流通絞り部3
4)と軸受け孔35の他方の空気受け面35a,35b
との間の間隙が広くなる。すると、狭くなった空気受け
面35a,35b側の空気圧が大きく、広くなった空気
受け面35a,35b側の空気圧が小さくなってこの空
気圧のアンバランスによって鏡筒3を元の静止位置に戻
す力が作用し、この力が狭い間隙内の空気圧であること
から規制力が大きく、且つ、鏡筒3に円周方向の力が作
用してもほとんど振動することなく鏡筒3が元の静止位
置に戻る。以上より、ピッチむらのない記録原盤28の
製作が可能である。
【0036】又、この第2実施形態によれば、第2静圧
空気軸受16が3ケ所に設けられているため、第2静圧
空気軸受16の組み上げ上のわずかな誤差による軸受性
能のアンバランスを吸収することができ、好ましい。し
かし、第2静圧空気軸受16を1カ所にのみ設けても充
分に静圧空気軸受の軸受性能を発揮できる。又、2ケ
所、4ケ所以上に設けても良い。
空気軸受16が3ケ所に設けられているため、第2静圧
空気軸受16の組み上げ上のわずかな誤差による軸受性
能のアンバランスを吸収することができ、好ましい。し
かし、第2静圧空気軸受16を1カ所にのみ設けても充
分に静圧空気軸受の軸受性能を発揮できる。又、2ケ
所、4ケ所以上に設けても良い。
【0037】以上、前記第1及び第2実施形態によれ
ば、第2静圧空気軸受16の圧縮空気源として第1静圧
空気軸受6の圧縮空気を利用したので、圧縮空気源が1
つで良い。但し、第1及び第2静圧空気軸受6,16の
圧縮空気源を別々に設けても良い。このように別々にし
た場合には第1及び第2静圧空気軸受6,16の軸受性
能を主に圧縮空気の圧力により調整する時に有効であ
る。又、圧力調整バルブ等を別々に設けた圧縮空気経路
を配置すれば、更に使いやすいものとなる。
ば、第2静圧空気軸受16の圧縮空気源として第1静圧
空気軸受6の圧縮空気を利用したので、圧縮空気源が1
つで良い。但し、第1及び第2静圧空気軸受6,16の
圧縮空気源を別々に設けても良い。このように別々にし
た場合には第1及び第2静圧空気軸受6,16の軸受性
能を主に圧縮空気の圧力により調整する時に有効であ
る。又、圧力調整バルブ等を別々に設けた圧縮空気経路
を配置すれば、更に使いやすいものとなる。
【0038】尚、前記第1及び第2実施形態によれば、
第2静圧空気軸受16の一対の流動絞り部(吐出口)2
5,34がそれぞれ1つだけとして構成されているが、
一対の空気受け面26a,26b、35a,35bがそ
れぞれ受ける圧縮空気圧の合力が鏡筒3の円周方向であ
って、且つ、互いに逆方向とされるよう設定すれば、一
対の流動絞り部(吐出口)25,34をそれぞれ2以上
より構成しても良い。又、前記第2実施形態の構成にお
いては、第2静圧空気軸受16にあって一対の空気受け
面35a,35bにおける空気圧力勾配を考えた時に最
高圧力の発生する方向を円周方向になるようにすれば吐
出口が1つでも良い。又、前記第1及び第2実施形態に
よれば、前記装置本体1と前記鏡筒3のいずれか一方に
永久磁石13を、他方に駆動コイルをそれぞれ設けても
良い。
第2静圧空気軸受16の一対の流動絞り部(吐出口)2
5,34がそれぞれ1つだけとして構成されているが、
一対の空気受け面26a,26b、35a,35bがそ
れぞれ受ける圧縮空気圧の合力が鏡筒3の円周方向であ
って、且つ、互いに逆方向とされるよう設定すれば、一
対の流動絞り部(吐出口)25,34をそれぞれ2以上
より構成しても良い。又、前記第2実施形態の構成にお
いては、第2静圧空気軸受16にあって一対の空気受け
面35a,35bにおける空気圧力勾配を考えた時に最
高圧力の発生する方向を円周方向になるようにすれば吐
出口が1つでも良い。又、前記第1及び第2実施形態に
よれば、前記装置本体1と前記鏡筒3のいずれか一方に
永久磁石13を、他方に駆動コイルをそれぞれ設けても
良い。
【0039】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、対物レンズが固定され、装置本体の貫通孔に移
動自在に配置された鏡筒と、前記貫通孔に圧縮空気を吐
出し、この空気圧によって前記貫通孔内で浮遊した状態
で前記鏡筒を支持する第1静圧空気軸受と、前記装置本
体と前記鏡筒とのいずれか一方に永久磁石を、他方に駆
動コイルをそれぞれ設け、駆動コイルへの通電により発
生する電磁力によって前記鏡筒を軸方向に移動させる電
磁気駆動手段と、前記鏡筒が円周方向に回転するのを規
制する回り止め手段とを備えた自動焦点調整装置におい
て、前記回り止め手段は、前記装置本体側に設けられ、
圧縮空気を吐出する吐出口と、前記鏡筒に設けられ、こ
の吐出口から吐出される圧縮空気を受ける一対の空気受
け面とを有し、この一対の空気受け面に対する最高圧力
の発生する方向を前記鏡筒の円周方向になるように設定
される第2静圧空気軸受として構成されたので、鏡筒の
回転方向の規制が一対の空気受け面を押圧する空気圧力
によることから規制力が大きく、且つ、鏡筒に円周方向
の力が作用してもほとんど振動することなく鏡筒が元の
静止位置に戻るため、ピッチむらのない記録原盤の製作
が可能である。
よれば、対物レンズが固定され、装置本体の貫通孔に移
動自在に配置された鏡筒と、前記貫通孔に圧縮空気を吐
出し、この空気圧によって前記貫通孔内で浮遊した状態
で前記鏡筒を支持する第1静圧空気軸受と、前記装置本
体と前記鏡筒とのいずれか一方に永久磁石を、他方に駆
動コイルをそれぞれ設け、駆動コイルへの通電により発
生する電磁力によって前記鏡筒を軸方向に移動させる電
磁気駆動手段と、前記鏡筒が円周方向に回転するのを規
制する回り止め手段とを備えた自動焦点調整装置におい
て、前記回り止め手段は、前記装置本体側に設けられ、
圧縮空気を吐出する吐出口と、前記鏡筒に設けられ、こ
の吐出口から吐出される圧縮空気を受ける一対の空気受
け面とを有し、この一対の空気受け面に対する最高圧力
の発生する方向を前記鏡筒の円周方向になるように設定
される第2静圧空気軸受として構成されたので、鏡筒の
回転方向の規制が一対の空気受け面を押圧する空気圧力
によることから規制力が大きく、且つ、鏡筒に円周方向
の力が作用してもほとんど振動することなく鏡筒が元の
静止位置に戻るため、ピッチむらのない記録原盤の製作
が可能である。
【0040】請求項2の発明によれば、請求項1に記載
の自動焦点調整装置において、前記回り止め手段は、前
記装置本体側に設けられ、互いに逆方向に圧縮空気を吐
出する一対の吐出口と、前記鏡筒に設けられ、この一対
の吐出口から吐出される圧縮空気を受ける一対の空気受
け面とを有し、この一対の空気受け面がそれぞれ受ける
圧縮空気圧の合力が前記鏡筒の円周方向であって、且
つ、互いに逆方向とされる第2静圧空気軸受として構成
されたので、鏡筒は一対の空気受け面が受ける空気圧が
バランスする静止位置に位置し、この状態にあって鏡筒
に何等かの理由により円周方向の外力が作用すると、い
ずれか一方の吐出口と空気受け面との間の間隙が狭く、
他方の吐出口と空気受け面との間の間隙が広くなり、狭
くなった空気受け面側の空気圧が大きく、広くなった空
気受け面側の空気圧が小さくなってこの空気圧のアンバ
ランスによって鏡筒を元の位置に戻す力が作用し、この
力が狭い間隙内の空気圧であることから規制力が大き
く、且つ、鏡筒に円周方向の力が作用してもほとんど振
動することなく鏡筒が元の静止位置に戻るため、ピッチ
むらのない記録原盤の製作が可能である。
の自動焦点調整装置において、前記回り止め手段は、前
記装置本体側に設けられ、互いに逆方向に圧縮空気を吐
出する一対の吐出口と、前記鏡筒に設けられ、この一対
の吐出口から吐出される圧縮空気を受ける一対の空気受
け面とを有し、この一対の空気受け面がそれぞれ受ける
圧縮空気圧の合力が前記鏡筒の円周方向であって、且
つ、互いに逆方向とされる第2静圧空気軸受として構成
されたので、鏡筒は一対の空気受け面が受ける空気圧が
バランスする静止位置に位置し、この状態にあって鏡筒
に何等かの理由により円周方向の外力が作用すると、い
ずれか一方の吐出口と空気受け面との間の間隙が狭く、
他方の吐出口と空気受け面との間の間隙が広くなり、狭
くなった空気受け面側の空気圧が大きく、広くなった空
気受け面側の空気圧が小さくなってこの空気圧のアンバ
ランスによって鏡筒を元の位置に戻す力が作用し、この
力が狭い間隙内の空気圧であることから規制力が大き
く、且つ、鏡筒に円周方向の力が作用してもほとんど振
動することなく鏡筒が元の静止位置に戻るため、ピッチ
むらのない記録原盤の製作が可能である。
【図1】本発明の第1実施形態を示し、(A)は自動焦
点調整装置の平面図、(B)は自動焦点調整装置の断面
図である。
点調整装置の平面図、(B)は自動焦点調整装置の断面
図である。
【図2】本発明の第1実施形態を示し、図1(B)のB
−B線断面図である。
−B線断面図である。
【図3】本発明の第2実施形態を示し、(A)は(B)
のC−C線断面図、(B)は自動焦点調整装置の断面図
である。
のC−C線断面図、(B)は自動焦点調整装置の断面図
である。
【図4】本発明の第2実施形態を示し、第2静圧空気軸
受の拡大断面図である。
受の拡大断面図である。
【図5】従来例を示し、自動焦点調整装置の平面図であ
る
る
【図6】従来例を示し、自動焦点調整装置の断面図であ
る。
る。
【図7】図6のA−A線断面図である。
1 装置本体 2 貫通孔 3 鏡筒 5 対物レンズ 6 第1静圧空気軸受 11 電磁気駆動手段 12 駆動コイル 13 永久磁石 16 第2静圧空気軸受 25 流動絞り部(吐出口) 26 空気受け部材 26a,26b 空気受け面 34 流動絞り部(吐出口) 35a,35b 空気受け面 A 回り止め手段
Claims (2)
- 【請求項1】 対物レンズが固定され、装置本体の貫通
孔に軸方向及び円周方向に移動自在に配置された鏡筒
と、 前記貫通孔に圧縮空気を吐出し、この空気圧によって前
記貫通孔内で浮遊した状態で前記鏡筒を支持する第1静
圧空気軸受と、 前記装置本体と前記鏡筒とのいずれか一方に永久磁石
を、他方に駆動コイルをそれぞれ設け、且つ、前記永久
磁石の磁界内に前記駆動コイルを位置させ、前記駆動コ
イルへの通電により発生する電磁力によって前記鏡筒を
軸方向に移動させる電磁気駆動手段と、 前記鏡筒が円周方向に回転するのを規制する回り止め手
段とを備えた自動焦点調整装置において、 前記回り止め手段は、前記装置本体側に設けられ、圧縮
空気を吐出する吐出口と、前記鏡筒に設けられ、この吐
出口から吐出される圧縮空気を受ける一対の空気受け面
とを有し、この一対の空気受け面に対する最高圧力の発
生する方向を前記鏡筒の円周方向になるように設定され
る第2静圧空気軸受として構成されたことを特徴とする
自動焦点調整装置。 - 【請求項2】 前記請求項1に記載の自動焦点調整装置
において、 前記第2静圧空気軸受は、前記装置本体側に設けられ、
互いに逆方向に圧縮空気を吐出する一対の吐出口と、前
記鏡筒に設けられ、この一対の吐出口から吐出される圧
縮空気を受ける一対の空気受け面とを有し、この一対の
空気受け面がそれぞれ受ける圧縮空気圧が前記鏡筒の円
周方向であって、且つ、互いに逆方向とされる第2静圧
空気軸受として構成されたことを特徴とする自動焦点調
整装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31855899A JP2001134967A (ja) | 1999-11-09 | 1999-11-09 | 自動焦点調整装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31855899A JP2001134967A (ja) | 1999-11-09 | 1999-11-09 | 自動焦点調整装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001134967A true JP2001134967A (ja) | 2001-05-18 |
Family
ID=18100480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31855899A Pending JP2001134967A (ja) | 1999-11-09 | 1999-11-09 | 自動焦点調整装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001134967A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005015627A1 (de) * | 2005-04-06 | 2006-10-12 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Abbildungsvorrichtung |
US7817359B2 (en) * | 2007-10-11 | 2010-10-19 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Lens module and camera module utilizing the same |
-
1999
- 1999-11-09 JP JP31855899A patent/JP2001134967A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005015627A1 (de) * | 2005-04-06 | 2006-10-12 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Abbildungsvorrichtung |
US7548387B2 (en) | 2005-04-06 | 2009-06-16 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical imaging device |
US7817359B2 (en) * | 2007-10-11 | 2010-10-19 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Lens module and camera module utilizing the same |
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