JP2001133376A - 硬さ試験機における力校正機構および硬さ試験機における力校正方法 - Google Patents

硬さ試験機における力校正機構および硬さ試験機における力校正方法

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JP2001133376A
JP2001133376A JP31259899A JP31259899A JP2001133376A JP 2001133376 A JP2001133376 A JP 2001133376A JP 31259899 A JP31259899 A JP 31259899A JP 31259899 A JP31259899 A JP 31259899A JP 2001133376 A JP2001133376 A JP 2001133376A
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Masaharu Tsujii
正治 辻井
Takayuki Yamada
貴幸 山田
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Akashi Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 力校正を迅速かつ正確に行うことが可能な硬
さ試験機における力校正機構および力校正方法を提供す
る。 【解決手段】 力を発生させる力発生部(2)と、前記
力発生部で発生した力を圧子(41)に伝達する力伝達
部(4:力伝達レバー)と、を備え、所定の荷重が前記
圧子に負荷される位置に錘(W)を載置し、当該錘の荷
重と平衡する力を力発生部により発生させることに基づ
いて力校正を行う硬さ試験機における力校正機構であっ
て、前記力伝達部のゆれを減衰させる減衰手段(9:電
磁ダンパ)を備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料に圧子を押し
込んで圧痕を形成させることに基づいて硬さを算出する
硬さ試験機における力校正機構および硬さ試験機におけ
る力校正方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体素子表面の材料特性を評価
する試験機として微小硬さ試験機が知られている。この
微小硬さ試験機は、四角錐圧子、若しくは三角錐圧子を
試料に微小荷重で押し込んだ時の押し込み深さを測定
し、荷重と押し込み深さから硬さを算出したり、或いは
算出したデータをグラフ化して材料の強度特性を解析す
る試験機である。
【0003】上記従来の微小硬さ試験機において、試料
に圧子により荷重を負荷する荷重負荷機構部は、例え
ば、図4に示すようになっている。即ち、微小硬さ試験
機の荷重負荷機構部100は、電磁力を発生させるフォ
ースコイル101と、このフォースコイル101によっ
て発生した力を圧子に伝達する荷重レバー102と、こ
の荷重レバー102によって伝達された力で試料を押圧
する圧子103と、この圧子103による押し込み深さ
を計測する押し込み深さ計測部104などにより構成さ
れている。
【0004】前記押し込み深さ計測部104は、例え
ば、圧子103の押し込み深さを電気容量方式で計測す
るものである。そして、圧子103が試料Sに接触し、
荷重を増加させていくと、圧子103が試料Sに侵入し
ていく。そのときの押し込み深さ量を、押し込み深さ計
測部104により計測することにより硬さを算出するよ
うになっている。
【0005】ところで、従来、荷重レバー102により
試料Sに作用させる力の校正は、以下に示す方法により
行われていた。まず、既知の重量の錘Wを荷重レバー1
02の圧子103側の端部の上に載置させて荷重を加え
る。次いで、この荷重をキャンセルさせて荷重レバー1
02を平衡状態に戻すように、フォースコイル101に
通常試験時とは逆方向の電磁力をステップ的に上昇させ
る。次いで、荷重レバー102が平衡状態となったとき
のフォースコイル101の電流値を求める。そして、上
記作業を幾つかの水準の重量の錘で行うことにより力校
正を行っていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
力校正方法では、電磁力を発生させた場合に荷重レバー
102のゆれが発生していたので、力校正を正確に行う
ためには、ゆれが無くなるまで待たなければならず、力
校正に要する時間が長くかかってしまう。一方、荷重レ
バー102のゆれをなるべく小さくするため、電磁力の
上昇ステップを小さくすると、平衡状態になるまでの電
磁力上昇までの時間が長くかかり、結果として、同じく
力校正に要する時間が長くかかってしまうという問題点
があった。
【0007】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、力校正を迅速かつ正確に行うことが
可能な硬さ試験機における力校正機構および力校正方法
を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1記載の発明は、例えば、図1〜3に示すよ
うに、力を発生させる力発生部(2)と、前記力発生部
で発生した力を圧子(41)に伝達する力伝達部(4:
力伝達レバー)と、を備え、所定の荷重が前記圧子に負
荷される位置に錘(W)を載置し、当該錘の荷重に抗す
る力を前記力発生部により発生させて前記錘と平衡させ
ることに基づいて力校正を行う硬さ試験機における力校
正機構(1)であって、前記力伝達部のゆれを減衰させ
る減衰手段(9:電磁ダンパ)を備えたことを特徴とし
ている。
【0009】請求項1記載の発明によれば、減衰手段に
よって力伝達部のゆれを強制的に減衰させることができ
るので、力校正時における力伝達部のゆれが無くなるま
での待ち時間が少なくなるとともに、力の上昇ステップ
の幅を従来より大きくすることが出来ることとなって、
力校正にかかる時間を短縮させることが出来る。即ち、
予め錘の荷重をキャンセルするのに必要な電磁力の近く
まで一気に上げても減衰手段により力伝達部のゆれを減
衰させることが出来ることとなって、力校正にかける時
間を短縮出来る。
【0010】ここで、減衰手段は、例えば、ばねを使用
し、力伝達部のゆれを機械的に減衰させるものであって
もよいし、或いは電磁力を利用して減衰させるものであ
ってもよい。また、流体ダンパを用いてもよい。
【0011】請求項2記載の発明は、請求項1記載の力
校正機構において、前記力伝達部は、支持部(3)を支
点として回動自在に支持された力伝達レバー(4)を備
え、当該力伝達レバーの一方の端部に前記力発生部が取
り付けられるとともに、他方の端部に前記圧子が取り付
けられ、前記力発生部で発生した力を前記圧子により試
料に伝達し、所定の荷重が前記圧子に負荷される位置に
前記錘を載置し、前記減衰手段により前記力伝達レバー
のゆれを減衰させ、当該錘の荷重と平衡する力を力発生
部により発生させることに基づいて力校正を行うように
構成されていることを特徴としている。
【0012】請求項2記載の発明によれば、力伝達部が
支持部を支点として回動自在な力伝達レバーとなってい
るのでゆれ易い構造であるが、減衰手段によりゆれを減
衰させることが出来、請求項1記載の発明の効果を顕著
に発揮させることが出来る。
【0013】請求項3の発明は、請求項1又は2記載の
硬さ試験機における力校正機構において、前記減衰手段
は、前記力伝達部と非接触の電磁ダンパ(9)であるこ
とを特徴としている。
【0014】請求項3記載の発明によれば、請求項1又
は2記載の発明と同様の効果が得られることは無論こ
と、特に、減衰手段は力伝達部と非接触の電磁ダンパで
あるので、微妙な釣り合い状態をより正確に測定するこ
とが出来る。
【0015】請求項4記載の発明は、請求項1〜3の何
れかに記載の硬さ試験機における力校正機構を用いた力
校正方法において、試料台に載置された試料に圧子を接
触させ、この状態で前記圧子の軸上であって、前記圧子
に所定の荷重が負荷される位置に錘を載置し、次いで、
この状態で前記力発生部により前記錘の荷重に対抗する
力を発生させるとともに、前記減衰手段により前記力伝
達部のゆれを減衰させて、前記錘の荷重と前記力発生部
で発生する力とを釣り合わせて力校正を行うことを特徴
としている。
【0016】請求項4記載の発明によれば、試料台に載
置された試料に圧子が接触され、この状態で圧子の軸上
の力伝達部に所定の荷重の錘が載置され、次いで、この
状態で力発生部により錘の荷重に対抗する力が発生され
るとともに、減衰手段により力伝達部のゆれを減衰させ
て、錘の荷重と力発生部で発生する力とを釣り合わせて
力校正が行われるので、力校正時における力伝達部のゆ
れが無くなるまでの待ち時間が少なくなるとともに、力
の上昇ステップの幅を従来より大きくすることが出来る
こととなって、力校正にかかる時間を短縮させることが
出来る。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、図を参照して本発明に係る
硬さ試験機における力校正機構および力校正方法の実施
の形態を詳細に説明する。図1は、本発明に係る硬さ試
験機の力校正機構部の要部構成を示した図である。図1
に示す硬さ試験機の力校正機構部1は、力発生部2と、
硬さ試験機のベース30に取り付けられた支持部3に回
動自在に支持され、前記力発生部2によって発生した力
を自由端部4aに取り付けられた圧子41に伝達する力
伝達レバー4(力伝達部)と、前記支持部3に回動自在
に支持されたコンタクトレバー5と、前記圧子41によ
る試料Sへの押し込み深さを計測する押し込み深さ計測
部6と、前記コンタクトレバー5を駆動させる駆動部7
と、前記コンタクトレバー5に当接可能な位置に配置さ
れたストッパー8と、前記力伝達レバー4のゆれを減衰
させる電磁ダンパ9(減衰手段)などにより構成され、
力発生部2の力校正制御は、力校正制御部10により行
われる。
【0018】前記力発生部2は、試料Sに荷重を負荷す
るためのフォースコイル21と圧子ゼロコイル(図示省
略)を備えている。前記フォースコイル21は、直流磁
界が形成された隙間に配設されたコイルに電流を供給す
ることによって電磁力を発生させるものである。そし
て、このフォースコイル21で発生した力は、力伝達レ
バー4を介して圧子41に伝達される。前記圧子ゼロコ
イル(図示省略)は、直流磁界が形成された隙間に配設
されたコイルに電流を供給することによって電磁力を発
生させるものである。そして、この圧子ゼロコイルに微
小電流をステップ毎に流していき、圧子41が試料Sに
接触するまでは、加えた電流分、一定の比で圧子41を
試料Sに向かって降下させてゆく。圧子41が接触する
と、圧子41の降下変位量が降下時と異なるため、この
降下変位量の傾きが異なる折れ点が試料の接触点とな
る。
【0019】前記支持部3は、その軸に十字ばね31を
備え、前記力伝達レバー4および前記コンタクトレバー
5を回動自在に支持する。前記力伝達レバー4は、その
一端が前記フォースコイル21に取り付けられ、該フォ
ースコイル21によって発生した力を支持部3を支点と
して圧子41に伝達する。
【0020】前記コンタクトレバー5は、前記力伝達レ
バー4と同一の軸を支点としており、前記圧子41側の
端部5aには、後述する押し込み深さ計測部6のベース
電極板62、63が取り付けられている。また、反対側
の端部5bには、前記駆動部7が取り付けられるととも
に、前記ストッパー8が当接可能となっている。前記押
し込み深さ計測部6は、圧子41の押し込み深さを電気
容量方式で計測するものであり、図2に示すように、圧
子41の上方に位置して力伝達レバー4に取り付けられ
た圧子電極板61と、前記コンタクトレバー5の一方の
端部5aに取り付けられ、前記圧子電極板61をすき間
を有しつつ挟む位置にベース電極板62、63を備えて
いる。前記圧子電極板61とベース電極板62、63
は、セラミックスで形成され、各電極板の対向する面は
金蒸着されている。そして、圧子41を試料Sに接触さ
せ、荷重を増加させていくと、圧子41が試料Sに侵入
していく。そのとき、圧子電極板61も圧子41と連動
して移動するので、圧子電極板61とベース電極板6
2、63の間の距離が変化し、各電極板間の電気容量が
変化する。
【0021】また、圧子41側の端部5aには、圧子4
1の軸線上に力校正用の錘Wを取り付けることが出来る
錘取付台52が備えられていて、当該錘取付台52に所
定の重さの錘Wを取り付けることにより、圧子41に所
定の荷重を負荷することが出来るようになっている。こ
こで、力校正用に用いられる錘Wの重さの種類は、例え
ば、0.8g、1.0g、4.0g、20.0g、4
0.0gの5種類であり、その間の重さは各錘の計測結
果により補間される。
【0022】前記駆動部7は、コンタクトレバー5を回
動させるための駆動コイル71を備えている。駆動コイ
ル71は、直流磁界が形成された隙間に配設されたコイ
ルに電流を供給することによって電磁力を発生させるも
のである。そして、この駆動コイル71に電流が印加さ
れると、コンタクトレバー5が支持部3を支点として回
動し、これにより、ベース電極板62、63が移動して
圧子電極板61とベース電極板62、63の間の距離を
変化させることが出来るようになっている。
【0023】前記ストッパー8は、マイクロメータによ
り構成され、ストッパー8の移動量が測定出来るように
なっている。このストッパー8には、当該ストッパー8
を昇降させる駆動モータ(図示省略)を備え、駆動モー
タ(図示省略)を駆動させることによりストッパー8を
上下動させて圧子電極板61の中立位置調整が出来るよ
うになっている。前記電磁ダンパ9は、前記ベース30
に取り付けられた支柱91と、この支柱91から前記力
伝達レバー4をすき間を持たせた状態で狭持するように
突出した2つの電磁アーム92、92と、を備えてい
る。前記電磁アーム92、92には電磁コイル92aが
巻かれ、当該電磁コイル92aに電流を通すことによ
り、2つの電磁アーム92、92間に電磁力を発生させ
ることが出来るようになっている。従って、この電磁力
により力伝達レバー4のゆれを減衰させることが出来
る。
【0024】前記力校正制御部10は、図2に示すよう
に、増幅器11、A/D変換器12、比較演算回路1
3、駆動回路14、D/A変換器15、メモリ16など
を具備している。増幅器11は、押し込み深さ計測部6
により測定された2つの電極板間の電気容量信号を増幅
し、A/D変換器12に出力する。具体的には、錘Wに
より圧子41に押し込まれたときの押し込み深さ計測部
6の計測結果を入力して増幅した後、A/D変換器12
に出力する。A/D変換器12は、増幅された電気容量
信号をA/D変換して比較演算回路13に出力する。比
較演算回路13は、A/D変換された電気容量データ
と、予め設定された中立点における電気容量データとを
比較し、この比較結果を駆動回路14に出力する。
【0025】駆動回路14は、この比較結果に基づいて
前記フォースコイル21の駆動を制御する駆動制御信号
をD/A変換器15に出力する。D/A変換器15は、
駆動制御信号をD/A変換して力発生部2に出力する。
メモリ16は、押し込み深さ計測部6の圧子電極板61
が中立位置となったときの力伝達レバー4に作用する力
をフォースコイル21の電流値として記憶する。そし
て、硬さ試験時においては、メモリ16に記憶された各
錘Wの荷重に相当する力を逆方向に加えて試験を行う。
【0026】次に、上記硬さ試験機における力校正動作
(方法)について説明する。まず、圧子ゼロコイル(図
示省略)に微小電流をステップ毎に流していき、圧子4
1が試料台31に載置された試料Sに接触するまで降下
させる。次いで、この状態で、押し込み深さ計測部6の
圧子電極板61とベース電極板62間のおよび圧子電極
板61とベース電極板63間の電気容量を測定し、圧子
電極板61が、ベース電極板62、63の中立位置とな
るようにストッパー8を上下動させて中立点補正処理を
行う。次いで、この状態で前記圧子41の軸線上のコン
タクトレバー5の錘取付台52に所定の荷重の錘Wを載
置する。
【0027】続いて、この状態で前記力発生部2により
前記錘Wの荷重に対抗する電磁力(通常の試験時と逆向
きの力)を発生させるとともに、電磁ダンパ9を稼動さ
せる。このとき、前記錘Wの荷重と釣り合うために必要
と想定される電磁力まで一気に上げる。次に、押し込み
深さ計測部6の変位の出力をモニタして、力伝達レバー
4のゆれを電磁ダンパ9で抑えつつ、圧子電極板61が
中立位置となるまで力発生部2の電磁力を増減させる。
そして、圧子電極板61が中立位置となったら、そのと
きの力発生部2により出力された電磁力を電流値として
メモリ16に記憶する。
【0028】より具体的には、押し込み深さ計測部6の
変位は、電気容量信号として力校正制御部10の増幅器
11に出力されて増幅され、A/D変換器12に出力さ
れる。次いで、A/D変換器12により増幅された電気
容量信号は、A/D変換されて比較演算回路13に出力
される。
【0029】次いで、比較演算回路13により、A/D
変換された電気容量データと、予め設定された中立点に
おける設定電気容量データとが比較され、この比較結果
が駆動回路14に出力される。次いで、駆動回路14に
より、前記測定された電気容量データと前記設定電気容
量データとが等しくなるように、ベース電極板62、6
3の位置を変更するための駆動信号を生成され、力発生
部2に出力される。次いで、力発生部2により駆動信号
に応じた電磁力が力伝達レバー4に作用して、力伝達レ
バー4が動く。
【0030】再び、この状態で、押し込み深さ計測部6
の圧子電極板61とベース電極板62間および圧子電極
板61とベース電極板63間の電気容量を測定して、圧
子電極板61が中立位置となるまで上記動作を繰り返し
て行う。そして、圧子電極板61が中立位置となったと
きの電流値をメモリ16に記憶する。次に、錘Wを順次
換えて上記動作を行い、得られたデータから荷重と電流
値の対応テーブルを作成し、このテーブルに従って硬さ
試験を行う。
【0031】以上説明した本発明に係る硬さ試験機にお
ける力校正機構1によれば、電磁ダンパ9によって力伝
達レバー4のゆれを強制的に減衰させることができるの
で、力校正時における力伝達レバー4のゆれが無くなる
までの待ち時間が少なくなるとともに、力の上昇ステッ
プの幅を従来より大きくすることが出来ることとなっ
て、力校正にかかる時間を短縮させることが出来る。加
えて、減衰手段として力伝達レバー4と非接触の電磁ダ
ンパ9を用いたので、微妙な釣り合い状態をより正確に
測定することが出来る。
【0032】また、本発明に係る硬さ試験機における力
校正方法によれば、試料台31に載置された試料Sに圧
子41が接触され、この状態で圧子41の軸上の力伝達
レバー4に所定の荷重の錘Wが載置され、次いで、この
状態で力発生部2により錘Wの荷重に対抗する力が発生
されるとともに、電磁ダンパ9により力伝達レバー4の
ゆれを減衰させて、錘Wの荷重と力発生部2で発生する
力とを釣り合わせて力校正が行われるので、力校正時に
おける力伝達レバー4のゆれが無くなるまでの待ち時間
が少なくなるとともに、力の上昇ステップの幅を従来よ
り大きくすることが出来ることとなって、力校正にかか
る時間を短縮させることが出来る。
【0033】なお、力伝達部は、上記実施の形態のよう
にレバー式のものに限るものではなく、錘を負荷した際
に、ゆれが発生する機構のものであればよい。
【0034】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、減衰手段
によって力伝達部のゆれを強制的に減衰させることがで
きるので、力校正時における力伝達部のゆれが無くなる
までの待ち時間が少なくなるとともに、力の上昇ステッ
プの幅を従来より大きくすることが出来ることとなっ
て、力校正にかかる時間を短縮させることが出来る。
【0035】請求項2記載の発明によれば、力伝達部が
支持部を支点として回動自在な力伝達レバーとなってい
るのでゆれ易い構造であるが、減衰手段によりゆれを減
衰させることが出来、請求項1記載の発明の効果を顕著
に発揮させることが出来る。
【0036】請求項3記載の発明によれば、請求項1又
は2記載の発明と同様の効果が得られることは無論こ
と、特に、減衰手段は力伝達部と非接触の電磁ダンパで
あるので、微妙な釣り合い状態をより正確に測定するこ
とが出来る。
【0037】請求項4記載の発明によれば、試料台に載
置された試料に圧子が接触され、この状態で圧子の軸上
の力伝達部に所定の荷重の錘が載置され、次いで、この
状態で力発生部により錘の荷重に対抗する力が発生され
るとともに、減衰手段により力伝達部のゆれを減衰させ
て、錘の荷重と力発生部で発生する力とを釣り合わせて
力校正が行われるので、力校正時における力伝達部のゆ
れが無くなるまでの待ち時間が少なくなるとともに、力
の上昇ステップの幅を従来より大きくすることが出来る
こととなって、力校正にかかる時間を短縮させることが
出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る硬さ試験機の力校正機構部の要部
構成を示した図である。
【図2】押し込み深さ計測部の要部構成を示した図であ
る。
【図3】力校正制御部の要部構成を示したブロック図で
ある。
【図4】従来の硬さ試験機の力校正機構部の要部構成を
示した図である。
【符号の説明】
1 力校正機構部 2 力発生部 3 支持部 4 力伝達レバー(力伝達部) 5 コンタクトレバー 6 押し込み深さ計測部 7 駆動部(駆動手段) 8 ストッパー 9 電磁ダンパ(減衰手段) 10 力校正制御部 21 フォースコイル 41 圧子 61 圧子電極板 62 ベース電極板 63 ベース電極板

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 力を発生させる力発生部と、 前記力発生部で発生した力を圧子に伝達する力伝達部
    と、を備え、 所定の荷重が前記圧子に負荷される位置に錘を載置し、
    当該錘の荷重に抗する力を前記力発生部により発生させ
    て前記錘と平衡させることに基づいて力校正を行う硬さ
    試験機における力校正機構であって、 前記力伝達部のゆれを減衰させる減衰手段を備えたこと
    を特徴とする硬さ試験機における力校正機構。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の力校正機構において、 前記力伝達部は、支持部を支点として回動自在に支持さ
    れた力伝達レバーを備え、 当該力伝達レバーの一方の端部に前記力発生部が取り付
    けられるとともに、他方の端部に前記圧子が取り付けら
    れ、前記力発生部で発生した力を前記圧子により試料に
    伝達し、 所定の荷重が前記圧子に負荷される位置に前記錘を載置
    し、前記減衰手段により前記力伝達レバーのゆれを減衰
    させ、当該錘の荷重と平衡する力を力発生部により発生
    させることに基づいて力校正を行うように構成されてい
    ることを特徴とする硬さ試験機における力校正機構。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の硬さ試験機におけ
    る力校正機構において、 前記減衰手段は、前記力伝達部と非接触の電磁ダンパで
    あることを特徴とする硬さ試験機における力校正機構。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3の何れかに記載の硬さ試験
    機における力校正機構を用いた硬さ試験機における力校
    正方法において、 試料台に載置された試料に圧子を接触させ、この状態で
    前記圧子に所定の荷重が負荷される位置に錘を載置し、 次いで、この状態で前記力発生部により前記錘の荷重に
    対抗する力を発生させるとともに、前記減衰手段により
    前記力伝達部のゆれを減衰させて、前記錘の荷重と前記
    力発生部で発生する力とを釣り合わせて力校正を行うこ
    とを特徴とする硬さ試験機における力校正方法。
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