JP2001133366A

JP2001133366A - 標準ガス発生装置

Info

Publication number: JP2001133366A
Application number: JP31737799A
Authority: JP
Inventors: Masamori Sanaka; 正守佐仲; Hiroshi Nishisato; 洋西里
Original assignee: Stec KK
Current assignee: Stec KK
Priority date: 1999-11-08
Filing date: 1999-11-08
Publication date: 2001-05-18
Anticipated expiration: 2019-11-08
Also published as: JP4354059B2

Abstract

(57)【要約】【課題】多種類の液体材料を原料とする標準ガスを得
ることができ、しかも広い濃度範囲にわたって標準ガス
を連続的に得ることができる標準ガス発生装置を提供す
ること。【解決手段】液体を気化する気化装置１に対して、液
体材料ＬＭの流量を測定する液体用流量計８を備えた液
体材料供給ライン２と、キャリアガスとしての機能をも
有する希釈ガスＤＧ₁の流量を制御するガス流量制御器
１４を備えた第１希釈ガスライン３とを並列的に接続す
るとともに、前記気化装置１に、それにおいて発生した
ガスＧが前記希釈ガスＤＧ₁とともに流れる発生ガスラ
イン４を接続し、この発生ガスライン４にガス流量制御
器１９を設け、さらに、この発生ガスライン４のガス流
量制御器１９より下流側に、希釈ガスＤＧ₂の流量を制
御するガス流量制御器２３を備えた第２希釈ガスライン
２０を接続している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、標準ガス発生装
置に関し、特に、液体材料を気化して所望濃度の標準ガ
スを発生する装置に関する。

【０００２】

【発明の背景】我が国においては、平成９年に、揮発性
有機化合物（ＶＯＣ）の中で、特に発癌性の恐れがある
ベンゼン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン
に対し、環境基準値が定められた。そのため、環境濃度
のモニタリングが必要になり、前記ＶＯＣを測定する分
析計を校正する標準ガスが必要になってきている。

【０００３】

【従来の技術】前記標準ガスを調整する手法として、圧
希釈法や流量比混合法などが公知であるが、これらはい
ずれも原料として気体を使用している。これに対して、
液体材料を原料として所定の濃度の標準ガスを発生する
装置として、例えば、図７に概略的に示すものがある。
この図において、７１は気化室で、その内部には、液体
材料７２を収容し、上部に孔７３を有する容器７４が設
けられ、この容器７４を適宜の加熱手段７５で加熱し、
液体材料７２を気化させてガス７６が発生するように構
成されている。

【０００４】そして、この気化室７１の一方には、キャ
リアガスボンベ７７、圧力調整器７８、流量コントロー
ラ７９、モレキュラーシーブス８０を備えたキャリアガ
スライン８１が接続されており、他方には、希釈器ライ
ン８２を有する発生ガスライン８３が接続され、さら
に、希釈用ガスボンベ８４、圧力調整器８５、流量コン
トローラ８６、モレキュラーシーブス８７を備えた希釈
ガスライン８８が接続され、気化室７１において生じた
ガス７６が希釈ガスライン８８によって供給される希釈
ガスと混合されて希釈され、所定の濃度のガスが得られ
るようにしてある。

【０００５】なお、図７において、８９は精密重量測定
器、９０は信号処理装置である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の標準ガス発生装置においては、液体材料７２を収容
した容器７４を気化室７１内に設け、容器７４を加熱に
よって容器７４内の液体材料７２を気化させるだけであ
るため、気化量が気化室７１内における蒸気圧に支配さ
れ、気化される量が少なく、このため、広い濃度範囲の
ガスを発生させることが困難である。そして、気化した
液体材料７２が気化室７１の内壁に吸着または付着し、
汚染の原因になる。また、液体材料７２を交換した後、
気化室７１内の温度や圧力などが安定するまでに時間を
要するとともに、多種類の液体材料を用いたガス発生に
は不向きである。

【０００７】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、多種類の液体材料を原料とする
標準ガスを得ることができ、しかも広い濃度範囲にわた
って標準ガスを連続的に得ることができる標準ガス発生
装置を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の標準ガス発生装置は、液体を気化する気
化装置に対して、液体材料の流量を測定する液体用流量
計を備えた液体材料供給ラインと、キャリアガスとして
の機能をも有する希釈ガスの流量を制御するガス流量制
御器を備えた第１希釈ガスラインとを並列的に接続する
とともに、前記気化装置に、それにおいて発生したガス
が前記希釈ガスとともに流れる発生ガスラインを接続
し、この発生ガスラインにガス流量制御器を設け、さら
に、この発生ガスラインのガス流量制御器より下流側
に、希釈ガスの流量を制御するガス流量制御器を備えた
第２希釈ガスラインを接続したことを特徴としている
（請求項１）。

【０００９】上記構成よりなる標準ガス発生装置におい
ては、液体を気化する気化装置に対して、液体材料とキ
ャリアガスとしての機能をも有する希釈ガスとが導入さ
れる。この場合、気化装置が液体材料の流量を調整する
ことにより、所定量のガスが発生し、このガスは前記希
釈ガスによって発生ガスラインに導出されるとともに希
釈ガスによって希釈される。この場合、希釈ガスは流量
調整されているので、前記発生ガスは希釈ガスによって
適宜の濃度に希釈される（第１回希釈）。

【００１０】前記発生ガスラインに導出された発生ガス
（第１回希釈後のガス）は、さらに、流量制御された希
釈ガスによって所定の濃度に希釈される（第２回希
釈）。

【００１１】前記気化装置は、その内部に気液混合部お
よびノズル部が互いに近接して形成され、前記気液混合
部において液体材料を流量制御しながら希釈ガスと混合
し、このときの気液混合体を前記ノズル部から噴霧状態
で放出して液体材料を気化し、この気化によって発生し
たガスを前記希釈ガスとともに前記ノズル部の下流側の
ガス導出路から取り出すようにしてあってもよく（請求
項２）、このようにした場合、液体材料と希釈ガスと
を、液体流量制御機能を備えた気化装置内の気液混合部
において流量制御しながら混合し、この気液混合体をノ
ズル部から効率よく噴霧することができ、液体材料を効
率よくしかも安定した状態で気化することができる。

【００１２】また、気化装置に導入される液体材料の流
量は、液体用流量計の出力または発生ガスラインに設け
られる気体用流量計の出力に基づいて制御されるように
してあってもよい（請求項３）。

【００１３】

【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を、図面を
参照しながら説明する。図１は、この発明の標準ガス発
生装置の全体構成を概略的に示すもので、この図におい
て、１は液体流量制御機能を備えた気化装置（その構成
は、後で詳しく説明する）である。この気化装置１に
は、液体材料ＬＭを気化装置１に供給する液体材料供給
ライン２と、キャリアガスとしても機能する希釈ガス
（以下、第１希釈ガスという）ＤＧ ₁を気化装置１に供
給する第１希釈ガスライン３とが互いに並列的に接続さ
れるとともに、気化装置１において発生したガスＧが第
１希釈ガスＤＧ₁とともに流れる発生ガスライン４が接
続されている。

【００１４】そして、前記液体材料供給ライン２は、次
のように構成されている。すなわち、５は液体材料供給
ライン２に設けられる原料タンクで、その内部には液体
材料ＬＭが液密に収容され、その上流側には、レギュレ
ータ６を有する不活性ガス供給管７が接続されている。
そして、Ｎ₂、Ｈｅ、Ａｒなどの不活性ガスＩＧが原料
タンク５内の上部空間に供給されることにより、液体材
料ＬＭが液体材料供給ライン２に押し出されるように構
成されている。８は開閉弁９を介して原料タンク５の下
流側に設けられる液体マスフローメータとしての液体用
流量計で、原料タンク５側から流れてくる液体材料ＬＭ
の流量を計測するものである。この液体用流量計８とし
て例えば公知の液体マスフローメータを用いることがで
きる。そして、この液体用流量計８の検出結果は、装置
全体を制御したり、検出信号などに基づいて演算を行う
装置制御部１０に送出される。なお、１１は液体用流量
計８と気化装置１との間に介装される開閉弁である。

【００１５】また、前記第１希釈ガスライン３は、次の
ように構成されている。すなわち、第１希釈ガスライン
３の上流側には、希釈ガス供給源（図示していない）が
設けられており、例えば、Ｎ₂、Ｈｅ、Ａｒなどの不活
性ガスのいずれかを第１希釈ガスＤＧ₁として供給する
もので、その下流側には、開閉弁（図示していない）を
介してレギュレータ１２が設けられ、さらに、開閉弁１
３を介して希釈用マスフローコントラーラとしての気体
用流量制御装置１４が設けられている。この気体用流量
制御装置１４は、気化装置１に対して供給される第１希
釈ガスＤＧ₁が所定量になるように制御するもので、装
置制御部１０からの制御信号に基づいて開度が調節され
る。この気体用流量制御装置１４として例えば公知の気
体マスフローコントローラを用いることができる。な
お、１５は気体用流量制御装置１４と気化装置１との間
に介装される開閉弁である。

【００１６】前記発生ガスライン４は、次のように構成
されている。この発生ガスライン４には、気体用流量計
１６が介装され、その下流側には排気ライン１７が分岐
接続されている。そして、気体用流量計１６は、気化装
置１からのガス（後述するように、液体材料ＬＭが気化
して生じたガスＧと第１希釈ガスＤＧ₁との混合ガス）
ＫＧ₁の流量を計測するもので、その計測結果は装置制
御部１０に送られる。この気体用流量計１６として例え
ば公知のガスマスフローメータを用いることができる。
また、排気ライン１７には分岐接続点近傍に開閉弁１８
が設けられ、その下流側は適宜のガス処理部（図示して
いない）に接続されている。そして、前記排気ライン１
７と分岐した発生ガスライン４には、サンプリング用マ
スフローコントローラとしての気体用流量制御装置１９
が介装されている。この気体用流量制御装置１９は、前
記混合ガスＫＧ₁のうちの所定量をサンプリングするも
ので、装置制御部１０からの制御信号に基づいて開度が
調節される。この気体用流量制御装置１９として例えば
公知の気体マスフローコントローラを用いることができ
る。

【００１７】２０は第２希釈ガスラインで、その下流側
が発生ガスライン４の気体用流量制御装置１９の下流側
の点４ａにおいて合流している。この第２希釈ガスライ
ン２０は、その上流側に希釈ガス供給源（図示していな
い）が設けられており、例えば、Ｎ₂、Ｈｅ、Ａｒなど
の不活性ガスのいずれかを第２希釈ガスＤＧ₂として供
給するもので、その下流側には、開閉弁（図示していな
い）を介してレギュレータ２１が設けられ、さらに、開
閉弁２２を介して希釈用マスフローコントローラとして
の気体用流量制御装置２３が設けられている。この気体
用流量制御装置２３は、発生ガスライン４を流れるガス
ＫＧ₁に対して供給される第２希釈ガスＤＧ₂が所定量
になるように制御するもので、装置制御部１０からの制
御信号に基づいて開度が調節される。この気体用流量制
御装置２３として例えば公知の気体マスフローコントロ
ーラを用いることができる。第２希釈ガスライン２０と
合流した発生ガスライン４の下流側は、発生口（図示し
ていない）に接続されている。

【００１８】次に、前記気化装置１の具体的構造につい
て、図２〜図５を参照しながら説明する。まず、図２に
おいて、２４は例えば直方体形状の本体ブロックで、ス
テンレス鋼などのように耐熱性および耐腐食性に富む素
材よりなる。この本体ブロック２４の内部には、３つの
流路２５，２６，２７が形成されている。

【００１９】前記流路２５は、液体材料ＬＭを後述する
気液混合部４１に導入するもので、この液体材料導入路
２３は、その一端が本体ブロック２４の左側面に開口
し、他端が本体ブロック２４の上面に開口するよう、逆
Ｌ字型を呈している。そして、流路２６は、第１希釈ガ
スＤＧ₁を気液混合部４１に導入するもので、この希釈
ガス導入路２６は、その一端が本体ブロック２４の右側
面に開口し、他端が本体ブロック２４の上面に開口する
よう、Ｌ字型を呈している。また、流路２７は、ガス導
出路として機能するもので、このガス導出路２７は、そ
の一端が本体ブロック２４の下面に開口し、他端が本体
ブロック２４の適宜位置までほぼ一直線に形成され、そ
の上端側は後述するノズル部４３を介して気液混合部４
１に連なっている。

【００２０】さらに、図２において、２８は本体ブロッ
ク２４全体を加熱するヒータで、例えばカートリッジヒ
ータよりなり、ガス導出路２７の近傍に着脱自在に内蔵
されている。２９は本体ブロック２４の温度を検出する
温度センサとしての熱電対である。

【００２１】そして、図２において、３０，３１は本体
ブロック２４の左右の側面にシール部材３２を介して着
脱自在に設けられる接続ブロックで、各ブロック３０，
３１には、液体材料導入路２５、第１希釈ガス導入路２
６とそれぞれ連通する流路３０ａ，３１ａが形成されて
おり、液体材料導入路２５、希釈ガス導入路２６のそれ
ぞれがブロック３０，３１を介して外部の液体材料供給
ライン２、第１希釈ガス供給ライン３と接続されるよう
になっている。なお、図２においては、ガス導出路２５
と外部の発生ガスライン４との接続構造については示し
てないが、適宜の接続部材を用いて所定の接続が行われ
ることはいうまでもない。

【００２２】次に、上記本体ブロック２４の上面におけ
る構成を、図２〜図４を参照しながら説明する。図２に
おいて、３３は弁ブロックで、本体ブロック２４の上面
２４ａにＯリング３４を介して載置され、例えばステン
レス鋼などのように熱伝導性および耐腐食性の良好な素
材からなる。この弁ブロック３３と前記上面２４ａとの
間に、液体流量制御機能を有するバルブ３５が形成され
る。すなわち、弁ブロック３３の内部空間３６に、ダイ
ヤフラム３７がばね３８によって常時上方に付勢される
ようにして設けられている。

【００２３】ここで、前記本体ブロック２４の上面２４
ａにおける構成を、図３および図５を参照しながら説明
すると、３９は前記上面２４ａのほぼ中央部に形成され
るバルブシートで、二つの環状の隔壁３９ａ，３９ｂよ
りなり、ダイヤフラム３７とともにバルブ３５を構成す
るものである。そして、両バルブシート３９ａ，３９ｂ
によって囲まれた平面視環状の凹部４０は、液体材料導
入路２５の下流側の開口２５ａを含むように形成され、
液流路として機能する。

【００２４】また、内側のバルブシート３９ａによって
囲まれた平面視円形の凹部３９には、図５に示すよう
に、その直径上に第１希釈ガス導入路２６の下流側の開
口２６ａと、ガス導出路２７への孔４２とが開設される
とともに、これらの開口２６ａおよび孔４２を含む浅い
細長い溝４３が形成されており、開口２６ａから流入す
る第１希釈ガスＤＧ₁と、内側のバルブシート３９ａと
ダイヤフラム３７との間の隙間から流入する液体材料Ｌ
Ｍとが混合されるように構成され、気液混合部として機
能する。

【００２５】そして、４４は前記孔４２とガス導出路２
７との間に形成されるノズル部で、このノズル部４４
は、その直径および長さはかなり小さく、例えば直径は
０．８ｍｍ以下、長さは１．０ｍｍ以下である。また、
このノズル部４４は、気液混合部４１とできるだけ近接
して設けるのがよい。そして、このノズル部４４におい
ては、気液混合部４１において生じた気液混合体Ｍが噴
霧状態にしてガス導出路２７に放出され、これにより、
気液混合体Ｍに含まれる液体材料ＬＭがガス化され、こ
のガスは第１希釈ガスＤＧ₁と混合して混合ガスＫＧと
なる。

【００２６】なお、図３において、４５は外側のバルブ
シート３９ｂ外側に形成されるＯリング溝で、前記Ｏリ
ング３４が装填される。

【００２７】そして、前記ダイヤフラム３７は、耐熱性
および耐腐食性が良好かつ適当な弾性を有する素材より
なり、図４（Ａ），（Ｂ）に示すように、軸部３７ａの
下方にバルブシート３９の上面と当接または離間する弁
部３７ｂが形成されるとともに、この周囲に薄肉部３７
ｃを備え、さらに、この薄肉部３７ｃの周囲に厚肉部３
７ｄを備えてなるもので、常時はばね３８によって上方
に付勢されることにより、弁部３７ｂがバルブシート３
９ａからは離間しているが、軸部３７ａに下方向への押
圧力が作用すると、弁部３７ｂがバルブシート３９ａと
当接する方向に変移するように構成されている。

【００２８】４６はダイヤフラム３７を下方に押圧して
これを歪ませるアクチュエータで、この実施の形態にお
いては、弁ブロック３３の上部に立設されたハウジング
４７内に複数の圧電素子を積層してなるピエゾスタック
４８を設け、このピエゾスタック４８の下方の押圧部４
９をダイヤフラム３７の軸部３７ａに当接させたピエゾ
アクチュエータに構成されている。

【００２９】次に、上述のように構成された標準ガス発
生装置の動作について説明する。不活性ガスＩＧとして
のＨｅガスを原料タンク５に供給すると、原料タンク５
内の液体材料ＬＭが加圧され、液体材料ＬＭは液体材料
供給ライン２を気化装置１方向に流れる。この液体材料
ＬＭの流量は、液体流量計８で計測され、この計測結果
は、装置制御部１０に入力される。そして、前記液体材
料ＬＭは、気化装置１内に導入される。そして、液体流
量設定信号に応じた流量となるように、装置制御部１０
から制御信号が気化装置１に送られる。これにより、ピ
エゾアクチュエータ４６が動作して、バルブ３５の開度
を調整する。これにより、気化装置１内に導入された液
体材料ＬＭは、図３に示すように、液体材料導入路２５
を経て液流路４０に至り、さらに、図３および図５に示
すように、液流路４０からバルブシート３９ａとダイヤ
フラム３７の弁部３７ｂとの隙間を経て、適宜の温度に
なっている気液混合部４１に入る。

【００３０】一方、第１希釈ガスライン３には、図示し
ていない希釈ガス供給源からの第１希釈ガスＤＧ₁（例
えばＮ₂ガス）が流れ、この第１希釈ガスＤＧ₁は、気
体用流量制御装置１４において流量制御されて気化装置
１方向に送られ、この気化装置１内の気液混合部４１に
送られる。気化装置１内に導入された第１希釈ガスＤＧ
₁は、図３に示すように、第１希釈ガス導入路２６を経
て気液混合部４１に入る。

【００３１】前記気液混合部４１に入った液体材料ＬＭ
と第１希釈ガスＤＧ₁は互いに混合される。特に、気液
混合部４１に細長い溝４３が形成されており、液体材料
ＬＭがこの溝４３に流れこみながら第１希釈ガスＤＧ₁
と混合されるので、両者ＬＭ，ＤＧ₁が十分に混ざり合
った気液混合体Ｍとなる。

【００３２】そして、前記気液混合体Ｍは、気液混合部
４１の孔４２を経てノズル部４４からガス導出路２７に
向けて放出される。このとき、気液混合体Ｍのなかの液
体材料ＬＭが気化されてガスＧとなる。この気化ガスＧ
は、気液混合体Ｍ中の第１希釈ガスＤＧ₁と混合する。
つまり、液体材料ＬＭが気化して発生したガスＧは、第
１希釈ガスＤＧ₁によって希釈され、混合ガスＫＧ₁と
なってガス導出路２７を下流側に流れていく。このと
き、ガス導出路２７は、ヒータ２８によって加熱されて
いるので、結露が生ずることはない。

【００３３】そして、前記混合ガスＫＧ₁は、ガス導出
路２７の下流側の発生ガスライン４を流れ、気体用流量
計１６を経て下流側に流れる。混合ガスＫＧ₁の流量
は、気体用流量計１６で計測され、この計測結果は、装
置制御部１０に入力される。そして、発生ガスライン４
には、その開度が装置制御部１０からの指令によって設
定される気体用流量制御装置１９が設けられているの
で、この気体用流量制御装置１９によってサンプリング
される所定量の混合ガスＫＧ₁が発生ガスライン４を下
流側に流れ、余剰の混合ガスＫＧ₁は、排気ライン１７
に導かれ、適宜処理される。

【００３４】そして、前記気体用流量制御装置１９を経
た混合ガスＫＧ₁は、さらに、発生ガスライン４を下流
側に流れ、発生ガスライン４と第２希釈ガスライン２０
の合流点４ａに至る。この第２希釈ガスライン２０に
は、図示していない希釈ガス供給源からの第２希釈ガス
ＤＧ₂（第１希釈ガスＤＧ₁と同じガス、つまり、Ｎ₂
ガス）が流れており、この第２希釈ガスＤＧ₂は、装置
制御部１０からの指令によって制御された気体用流量制
御装置２３において流量制御されて、前記合流点４ａ方
向に送られる。その結果、合流点４ａにおいては、混合
ガスＫＧ₁と第２希釈ガスＤＧ₂とが合流し、混合ガス
ＫＧ₁は第２希釈ガスＤＧ₂によって希釈され、混合ガ
スＫＧ₂となる。この混合ガスＫＧ₂は、Ｎ₂ガスによ
る２回にわたる希釈により、所定濃度の標準ガスとなっ
ており、発生ガスライン４の下流側の発生口（図示して
いない）方向に流れていく。

【００３５】次に、上述した標準ガス発生装置によっ
て、液体材料としてのオクタフルオロシクロペンテン
（Ｃ₅Ｆ₆）を気化した例について、数値を挙げて説明
する。液体状態のオクタフルオロシクロペンテンを所定
の温度に保持された気化装置１に供給することにより、
上述したように、オクタフルオロシクロペンテンが気化
して、標準ガスＧが発生し、その流量は０℃換算で２ｃ
ｃ／ｍｉｎとなる（以下、０℃換算の流量をＳＣＣＭと
表記する）。この場合、気化装置１には、第１希釈ガス
ＤＧ₁としてＮ₂ガスが流量制御されて供給されてお
り、このＮ₂ガスによる１回目の希釈により濃度が１／
５０００の標準ガスとなる。

【００３６】そして、前記希釈された標準ガスを、気体
用流量制御装置１９によって１０ＳＣＣＭサンプリング
し、第２希釈ガスＤＧ₂としてのＮ₂ガス（これは気体
用流量制御装置２３によって所定流量となるようにして
ある）によって２回目の希釈を行ってさらに濃度を１／
２０００希釈することにより、０．２ｐｐｍの標準ガス
が得られた。この場合、１回希釈の標準ガスを１００Ｓ
ＣＣＭサンプリングすると、２ｐｐｍの標準ガスが得ら
れる。

【００３７】図６は、上記標準ガス発生装置によって、
０．２〜２ｐｐｍのオクタフルオロシクロペンテンの標
準ガスを発生させたときの発生濃度と波数１０００．５
９ｃｍ^-1における吸光度との関係を示すもので、相関係
数の２乗が０．９９９５となり、非常に直線性に優れた
標準ガスが得られることがわかる。

【００３８】以上説明したように、この発明の標準ガス
発生装置によれば、広い濃度範囲にわたって標準ガスを
連続的に得ることができる。そして、多種類の液体材料
を原料とする標準ガスを得る場合、液体材料を取り替え
るだけでよく、冒頭に掲げた従来装置のような不都合が
生ずることはない。

【００３９】そして、上述の実施の形態においては、液
体流量制御機能を備えた気化装置１内に形成した気液混
合部４１において、液体材料ＬＭを流量制御しながら第
１希釈ガスＤＧ₁と混合し、このときの気液混合体Ｍ
を、気液混合部４１に近接するノズル部４４から噴霧状
態で放出して液体材料ＬＭを気化するようにしているの
で、良好に混合された状態の気液混合体Ｍをノズル部４
４から放出することができ、気液混合体Ｍ中の液体材料
ＬＭを効率よくしかも安定した状態で気化することがで
きる。

【００４０】また、上記実施の形態においては、気化装
置１における液体材料ＬＭの流量制御を、液体用流量計
８の出力に基づいて行うようにしているので、気液混合
部４１に対して液体材料ＬＭを最適量供給することがで
きる。

【００４１】この発明は、上述の実施の形態に限られる
ものではなく、種々に変形して実施することができる。
すなわち、液体材料導入路２５や第１希釈ガス導入路２
６は、必ずしも鉤型状に形成する必要はなく、ストレー
トであってもよい。そして、ヒータ２８はプレートヒー
タであってもよく、ヒータ２８による加熱温度は、液体
材料ＬＭの種類などに応じて適宜設定できる。また、こ
のヒータ２８は、本体ブロック２４の気液混合部４１や
ガス導出路２７の近傍を加熱できるようにしてあればよ
く、特に、ノズル部４４から液体材料ＬＭを噴霧状態で
放出することによってガスを好適に生成できる程度にし
てあればよい。

【００４２】そして、気化装置１における液体材料ＬＭ
の流量制御を、発生ガスライン４に設けられた気体用流
量計１６の出力に基づいて行うようにしてもよく、この
ようにした場合、より精度よく液体材料ＬＭの流量を制
御することができる。

【００４３】また、アクチュエータ４６として、電磁式
のものやサーマル式のものを用いてもよい。

【００４４】さらに、液体材料ＬＭは、常温常圧で液体
状態であるものに限られるものではなく、常温常圧で気
体であっても適宜加圧することにより常温で液体となる
ようなものであってもよい。

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように、この発明において
は、気化装置、液体マスフローメータ、希釈用マスフロ
ーコントローラ、サンプリング用マスフローコントロー
ラを組み合わせてなるものであり、多種類の液体材料を
原料とする標準ガスを確実に得ることができ、しかも広
い濃度範囲にわたって標準ガスを連続的に得ることがで
きる。そして、前記各部材の組み合わせにより、ｐｐ
ｂ、ｐｐｔレベルといった非常に低濃度の標準ガスを精
度よく確実に発生させることができるため、特に、揮発
性有機化合物の標準ガスの発生に適している。

【００４６】そして、請求項２のように構成した場合、
液体材料と希釈ガスとを、液体流量制御機能を備えた気
化装置内の気液混合部において流量制御しながら混合
し、この気液混合体をノズル部から効率よく噴霧するこ
とができ、液体材料を効率よくしかも安定した状態で気
化することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る標準ガス発生装置の全体構成を
概略的に示す図である。

【図２】前記標準ガス発生装置における気化装置の一例
を示す縦断面図である。

【図３】前記気化装置における要部の構成を示す縦断斜
視図である。

【図４】前記気化装置の動作説明図で、（Ａ）はバルブ
の閉状態を示す図、（Ｂ）はバルブの開状態を示す図で
ある。

【図５】前記気液混合部の動作説明図である。

【図６】０．２〜２ｐｐｍのオクタフルオロシクロペン
テンの標準ガスを発生させたときの発生濃度と波数１０
００．５９ｃｍ^-1における吸光度との関係を示す図であ
る。

【図７】従来の標準ガス発生装置を概略的に示す図であ
る。

【符号の説明】

１…気化装置、２…液体材料供給ライン、３…第１希釈
ガスライン、４…発生ガスライン、８…液体用流量計、
１４…ガス流量制御器、１６…気体用流量計、１９…ガ
ス流量制御器、２０…第２希釈ガスライン、２３…ガス
流量制御器、２７…ガス導出路、４１…気液混合部、４
４…ノズル部、ＬＭ…液体材料、ＤＧ₁，ＤＧ₂…希釈
ガス、Ｇ…気化ガス。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】液体を気化する気化装置に対して、液体
材料の流量を測定する液体用流量計を備えた液体材料供
給ラインと、キャリアガスとしての機能をも有する希釈
ガスの流量を制御するガス流量制御器を備えた第１希釈
ガスラインとを並列的に接続するとともに、前記気化装
置に、それにおいて発生したガスが前記希釈ガスととも
に流れる発生ガスラインを接続し、この発生ガスライン
にガス流量制御器を設け、さらに、この発生ガスライン
のガス流量制御器より下流側に、希釈ガスの流量を制御
するガス流量制御器を備えた第２希釈ガスラインを接続
したことを特徴とする標準ガス発生装置。
【請求項２】気化装置が、その内部に気液混合部およ
びノズル部が互いに近接して形成され、前記気液混合部
において液体材料を流量制御しながら希釈ガスと混合
し、このときの気液混合体を前記ノズル部から噴霧状態
で放出して液体材料を気化し、この気化によって発生し
たガスを希釈ガスとともに前記ノズル部の下流側のガス
導出路から取り出すようにしてある請求項１に記載の標
準ガス発生装置。
【請求項３】気化装置に導入される液体材料の流量
が、液体用流量計の出力または発生ガスラインに設けら
れる気体用流量計の出力に基づいて制御されるようにし
てある請求項１または２に記載の標準ガス発生装置。