JP2001129493A - 基板処理方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 構成を簡略化するとともに装置を小型化して
イニシャルコストを低減し、かつ、処理液の消費量を減
少してランニングコストも低減する。 【解決手段】 第１のシャワーノズル５から処理槽２内
の基板に第１の処理液を吐出供給するとともにその基板
処理後の第１の処理液を廃液処理する。次いで、貯留タ
ンク１４からの処理液を処理槽２内に供給し、清浄化用
のフィルター２３を通じて循環流動される処理槽２内の
第１の処理液中に基板を浸漬して処理する。その後、処
理槽２内の第１の処理液をフィルター２３を通じて貯留
タンク１４に回収して貯める。しかる後、未使用の第２
の処理液を基板に吐出供給するとともにその基板処理後
の第２の処理液を第１の処理液として貯留タンク１４に
回収して貯める。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶装置製造用のガラス基板などの電子部品製造用の基板
を、有機剥離液やリンス液などの処理液で洗浄処理する
基板処理方法およびその方法の実施に用いる基板処理装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述のような基板では、洗浄処理の開始
時には、基板に付着している多量のパーティクルが処理
液中に混入する。そのような処理液をフィルターに供給
すると、フィルターにおいて早期に目詰まりを発生し、
メンテナンスに多大な手間を要するとともに洗浄処理が
中断し、処理効率が低い。

【０００３】そのため、従来では、２個の第１および第
２の処理槽を設け、先ず、第１の処理槽で基板を浸漬処
理し、パーティクルの大半を除去してから第２の処理槽
で基板を浸漬処理するように構成している。そして、第
１の処理槽内の処理済み液は廃液処理し、第２の処理槽
内の処理液はフィルターを通じて循環流動させるように
している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
の場合、処理槽が２個必要なうえに、第１の処理槽から
第２の処理槽に基板を搬送する搬送系が必要であり、装
置全体が大型化するとともに高価になる欠点があった。

【０００５】また、２個の処理槽が上部開放型で、処理
液が常に空気と接触する状態にあり、処理液が揮発性の
ものの場合に、揮発に伴って処理液自体の濃度が変化し
やすく、処理液の交換頻度が高くなって処理液の消費量
が多くなって不経済になる欠点があった。

【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、合理的な構成の採用により、構成を簡
略化するとともに装置を小型化してイニシャルコストを
低減し、かつ、処理液の消費量を減少してランニングコ
ストも低減できるようにすることを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明の基板処理方法は、処理槽内
の基板に処理液を吐出供給する第１の工程と、貯留タン
クからの処理液を前記処理槽内に供給し、処理液を清浄
化するフィルターを通じて循環流動される前記処理槽内
の処理液中に前記基板を浸漬して処理する第２の工程
と、前記第２の工程の後、前記処理槽内の処理液を前記
貯留タンクに回収して貯める第３の工程と、を経て基板
を処理することを特徴とす。

【０００８】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載の基板処理方法の実施に用いる基板処理装置であ
って、基板を収容する処理槽と、前記処理槽内の前記基
板に処理液を吐出供給するシャワーノズルと、処理液を
前記処理槽内に供給する液供給管と、前記基板を浸漬処
理している状態で前記処理槽内からオーバーフローされ
る処理液を槽外に排出してから前記処理槽内に戻す循環
配管と、前記循環配管に介装されてオーバーフローされ
る処理液を清浄化するフィルターと、前記循環配管に接
続されて、前記処理槽内から排出される処理液を前記フ
ィルターに流動させる戻し管と、前記処理槽内から排出
される処理液を回収して貯める気密性の貯留タンクと、
を備えたことを特徴としている。

【０００９】また、請求項３に記載の発明の基板処理方
法は、処理槽内の基板に第１の処理液を吐出供給すると
ともにその基板処理後の第１の処理液を廃液処理する第
１の工程と、貯留タンクからの第１の処理液を前記処理
槽内に供給し、清浄化用のフィルターを通じて循環流動
される前記処理槽内の第１の処理液中に前記基板を浸漬
して処理する第２の工程と、前記第２の工程の後、前記
処理槽内の第１の処理液をフィルターを通じて前記貯留
タンクに回収して貯める第３の工程と、未使用の第２の
処理液を基板に吐出供給するとともにその基板処理後の
第２の処理液を第１の処理液として前記貯留タンクに回
収して貯める第４の工程と、を経て基板を処理すること
を特徴としている。

【００１０】また、請求項４に記載の発明は、請求項３
に記載の基板処理方法の実施に用いる基板処理装置であ
って、基板を収容する処理槽と、前記処理槽内の前記基
板に第１の処理液を吐出供給する第１のシャワーノズル
と、前記処理槽内の前記基板に未使用の第２の処理液を
吐出供給する第２のシャワーノズルと、第１の処理液を
前記処理槽内に供給する液供給管と、前記基板を浸漬処
理している状態で前記処理槽内からオーバーフローされ
る第１の処理液を槽外に排出してから前記処理槽内に戻
す循環配管と、前記循環配管に介装されて、オーバーフ
ローされる第１の処理液を清浄化するフィルターと、前
記循環配管に接続されて、前記処理槽内から排出される
第１および第２の処理液を前記フィルターに流動させる
戻し管と、前記フィルターを通った第１および第２の処
理液を供給して第１の処理液として貯留する気密性の貯
留タンクと、前記処理槽に接続されて、前記第１のシャ
ワーノズルから供給された処理後の第１の処理液を前記
処理槽内から排出する排液管と、を備えたことを特徴と
している。

【００１１】処理液としては、基板上のレジスト膜やア
ッシング後の滓など、基板上の不要物を除去する有機剥
離液とか、その有機剥離液で処理した後の基板を洗浄処
理するイソプロピルアルコール液などのリンス液が使用
される。

【００１２】有機剥離液としては、１−メチル−２ピロ
リドン、テトラヒドロチオフェン１．１−ジオキシド、
イソプロパノールアミン、ジメチルスルホシキド、モノ
エタノールアミン、２−（２アミノエトキシ）エタノー
ル、ヒドロキシアミン、カテコール、Ｎ−メチルピロリ
ドン、アロマテイックジオール、パーフレン、フェノー
ルを主成分とする薬液が使用される。

【００１３】より具体的な例としては、１−メチル−２
ピロリドンとテトラヒドロチオフェン１．１−ジオキシ
ドとイソプロパノールアミンとの混合液（第１例）と
か、ジメチルスルホシキドとモノエタノールアミンとの
混合液（第２例）とか、２−（２アミノエトキシ）エタ
ノールとヒドロキシアミンとカテコールとの混合液（第
３例）とか、２−（２アミノエトキシ）エタノールとＮ
−メチルピロリドンとの混合液（第４例）とか、モノエ
タノールアミンと水とアロマテイックジオールとの混合
液（第５例）とか、パーフレンとフェノールとの混合液
（第６例）とかが挙げられる。

【００１４】

【作用】本発明の作用は次のとおりである。すなわち、
請求項１に記載の発明の構成によれば、第１の工程で、
処理槽内の基板に処理液を吐出供給し、その吐出力によ
って大半のパーティクルを洗浄除去する。次いで、第２
の工程で、パーティクルが少なくなった基板を、貯留タ
ンクから前記処理槽内に供給した処理液中に浸漬して処
理し、残余のパーティクルを除去し、更に、第３の工程
で、処理槽内の処理液を貯留タンクに回収して再使用で
きるようにする。

【００１５】また、請求項２に記載の発明の構成によれ
ば、処理槽内に収容した基板にシャワーノズルから処理
液を吐出供給して第１の工程の処理を行うことができ
る。液供給管から処理槽内に処理液を供給するとともに
オーバーフローさせ、循環配管およびフィルターを通じ
て処理液を循環流動し、基板を浸漬処理する第２の工程
の処理を行うことができる。基板を浸漬処理した後の処
理液を、循環配管および戻し管を通じて処理液を気密性
の貯留タンクに供給して貯留し、第３の工程の処理を行
うことができる。

【００１６】また、請求項３に記載の発明の構成によれ
ば、第１の工程で、処理槽内の基板に第１の処理液を吐
出供給し、その吐出力によって大半のパーティクルを洗
浄除去するとともにその基板処理後の第１の処理液を廃
液処理する。次いで、第２の工程で、パーティクルの少
なくなった基板を、貯留タンクから前記処理槽内に供給
した第１の処理液中に浸漬して処理し、残余のパーティ
クルを除去し、更に、第３の工程で、処理槽内の第１の
処理液をフィルターを通じて貯留タンクに回収して蓄
え、再使用できるようにする。その後、第４の工程で、
残余のパーティクルを除去処理した基板に未使用の第２
の処理液を吐出供給し、その吐出力によって、より良好
にパーティクルを洗浄除去するとともにその基板処理後
の第２の処理液を第１の処理液として貯留タンクに回収
して貯め、再使用できるようにする。

【００１７】また、請求項４に記載の発明の構成によれ
ば、処理槽内に収容した基板に第１のシャワーノズルか
ら第１の処理液を吐出供給するとともに、その第１の処
理液を排液管を通じて廃液処理し、第１の工程の処理を
行うことができる。液供給管から処理槽内に第１の処理
液を供給するとともにオーバーフローさせ、循環配管お
よびフィルターを通じて第１の処理液を循環流動し、基
板を浸漬処理する第２の工程の処理を行うことができ
る。基板を浸漬処理した後の第１の処理液を循環配管お
よび戻し管を通じてフィルターに流動させ、そのフィル
ターを通った第１の処理液を気密性の貯留タンクに供給
して貯留し、第３の工程の処理を行うことができる。浸
漬処理後の処理槽内に収容した基板に第２のシャワーノ
ズルから未使用の第２の処理液を吐出供給し、その基板
処理後の第２の処理液を循環配管および戻し管を通じて
フィルターに流動させ、そのフィルターを通った第２の
処理液を第１の処理液として貯留タンクに回収して貯
め、第４の工程の処理を行うことができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例を図面を用
いて詳細に説明する。図１は、本発明に係る第１実施例
の基板処理方法の実施のために用いる基板処理装置を示
す縦断正面図、図２は縦断側面図である。

【００１９】これらの図において、１はケーシングを示
し、このケーシング１内の下方に処理槽２が設けられて
いる。処理槽２は、槽本体３の上部の周囲にオーバーフ
ロー用の溝４を設けて構成されている。

【００２０】処理槽２の上部に近い位置に、第１の処理
液としての、後述する使用済みの有機剥離液を吐出供給
するパイプ状の第１のシャワーノズル５が設けられ、そ
の第１のシャワーノズル５のやや上部に、第２の処理液
としての未使用の有機剥離液を吐出供給するパイプ状の
第２のシャワーノズル６が設けられている。

【００２１】ケーシング１には、最上部箇所と上下方向
中間の第２のシャワーノズル６の上方箇所それぞれに上
部シャッター７と中間シャッター８とが設けられ、両シ
ャッター７，８を閉じた状態で乾燥ゾーンが形成される
ように構成されている。その乾燥ゾーン内において、ケ
ーシング１の側壁に、加熱装置としてのパネルヒータ９
と、揮発したイソプロピルアルコール蒸気を排出する排
気管１０とが設けられている。図示しないが、排気管１
０にはブロワーが接続されている。

【００２２】ケーシング１の上方箇所と処理槽２内とに
わたって昇降可能に、多数の基板Ｗを立姿勢で水平方向
に所定間隔を隔てて保持する基板リフター１１が設けら
れている。この基板リフター１１と、ケーシング１外に
設けられた昇降装置１２とが、ケーシング１に鉛直方向
に摺動可能に設けられたリフトロッド１３を介して連動
連結され、基板リフター１１を駆動昇降するように構成
されている。

【００２３】図３の概略配管構成図に示すように、第１
のシャワーノズル５と、第１の処理液としての一度使用
した後の有機剥離液を再使用のために貯留する気密性の
貯留タンク１４とが、第１のポンプＰ１と第１の開閉弁
Ｖ１とを介装した第１の配管１５を介して接続されてい
る。また、第２のシャワーノズル６と、第２の処理液と
しての未使用の新しい有機剥離液を貯留する有機剥離液
タンク１６とが、第２のポンプＰ２と第２の開閉弁Ｖ２
とを介装した第２の配管１７を介して接続されている。

【００２４】第１の配管１５の、第１の開閉弁Ｖ１と第
１のポンプＰ１との間の箇所と、処理槽２の底部とが、
第３のポンプＰ３を介装した液供給管１８を介して接続
されている。また、液供給管１８の、第１の配管１５と
の接続箇所と第３のポンプＰ３との間の箇所と、新しい
イソプロピルアルコール液を貯留するＩＰＡタンク１９
とが、第４の開閉弁Ｖ４を介装した第３の配管２０を介
して接続されている。

【００２５】処理槽２の底部には、第５の開閉弁Ｖ５を
介装した排液管２１が接続されている。また、処理槽２
の底部と溝４とが、三方弁２２と第４のポンプＰ４とフ
ィルター２３と第６の開閉弁Ｖ６とを介装した循環配管
２４を介して接続されている。

【００２６】循環配管２４の、三方弁２２と第４のポン
プＰ４との間の箇所と、第６の開閉弁Ｖ６と処理槽２の
底部との間の箇所とが、第７の開閉弁Ｖ７を介装した戻
し管２５を介して接続されている。また、循環配管２４
の、フィルター２３と第６の開閉弁Ｖ６との間の箇所
と、貯留タンク１４とが、第８の開閉弁Ｖ８を介装した
第４の配管２６を介して接続されている。更に、三方弁
２２と排液管２１とが第５の配管２７を介して接続され
ている。

【００２７】以上の構成により、有機剥離液とイソプロ
ピルアルコール液による一連の処理を基板Ｗに施すよう
になっており、その基板処理方法について、次に説明す
る。（以下、図４から図８までの概略配管構成図におい
て、白抜きの開閉弁は開き状態を、中黒の開閉弁は閉じ
状態をそれぞれ示している。また、白抜きのポンプは駆
動状態を、中黒のポンプは駆動を停止している状態をそ
れぞれ示している。更に、三方弁２２では、部分的に中
黒にしている場合、その中黒部分に接続している第５の
配管２７側あるいは第４のポンプＰ４側が閉じられてい
ることを示している。）

【００２８】先ず、基板リフター１１を下降して基板Ｗ
を処理槽２内に収容する。図４の概略配管構成図に示す
ように、第１の開閉弁Ｖ１と第５の開閉弁Ｖ５とを開く
とともに第１のポンプＰ１のみを駆動し、第１のシャワ
ーノズル５から基板Ｗに第１の処理液である有機剥離液
の再使用液（以下、第１の処理液と称する）を吐出供給
し、その流下液は排液管２１を通じて排出する（処理時
間は約30秒程度である）。これにより、基板Ｗ上のレジ
スト膜やアッシング後の滓など、基板Ｗ上の不要物の大
半を洗浄除去し、それらが混入した第１の処理液は廃液
として排出する。この工程が請求項３の第１の工程に該
当する。

【００２９】次いで、図５の概略配管構成図に示すよう
に、第１のポンプＰ１の駆動を停止して第３および第４
のポンプＰ３，Ｐ４を駆動状態に切り換え、第１の開閉
弁Ｖ１と第６の開閉弁Ｖ６とを開くとともに、三方弁２
２を、第５の配管２７側のみ閉じる状態に切り換え、第
１の処理液を処理槽２内に供給してオーバーフローさ
せ、そのオーバーフローした液をフィルター２３で清浄
化してから処理槽２内に戻し、基板Ｗをフィルター２３
を通じて循環流動される第１の処理液によって浸漬処理
する（処理時間は約２分程度である）。この工程が請求
項３の第２の工程に該当する。これにより、基板Ｗ上に
付着した不要な膜をも洗浄除去する。

【００３０】その後、図６の概略配管構成図に示すよう
に、第３のポンプＰ３の駆動を停止して、第４のポンプ
Ｐ４のみ駆動状態にし、第７および第８の開閉弁Ｖ７，
Ｖ８を開くとともに、三方弁２２を、第５の配管２７側
が閉じる状態に切り換え、処理槽２および溝４内の第１
の処理液をフィルター２３で清浄化してから、第４の配
管２６を通じて貯留タンク１４に回収して貯める。この
工程が請求項３の第３の工程に該当する。

【００３１】その後、図７の概略配管構成図に示すよう
に、第５の開閉弁Ｖ５を閉じ、第２、第７および第８の
開閉弁Ｖ２，Ｖ７，Ｖ８を開くとともに第２および第４
のポンプＰ２，Ｐ４を駆動状態に切り換え、第２のシャ
ワーノズル６から基板Ｗに、第２の処理液としての新し
い未使用の有機剥離液（以下、第２の処理液と称する）
を吐出供給し、その流下液を戻し管２５を通じフィルタ
ー２３で清浄化してから、第４の配管２６を通じて貯留
タンク１４に回収して貯める（処理時間は約15秒程度で
ある）。この工程が請求項３の第４の工程に該当する。
これにより、基板Ｗに付着した第１の処理液を除去し、
第２の処理液に置換する。

【００３２】上述の有機剥離液による処理の後、図８の
概略配管構成図に示すように、第３および第４のポンプ
Ｐ３，Ｐ４を駆動状態に切り換え、第４および第６の開
閉弁Ｖ４，Ｖ６を開くとともに、三方弁２２を、第５の
配管２７側のみ閉じる状態に切り換え、イソプロピルア
ルコール液を処理槽２内に供給してオーバーフローさ
せ、そのオーバーフローしたイソプロピルアルコール液
をフィルター２３で清浄化してから処理槽２内に戻し、
基板Ｗをイソプロピルアルコール液によって浸漬処理す
る。これにより、基板Ｗに付着した有機剥離液をイソプ
ロピルアルコール液に置換する。

【００３３】しかる後、図９の概略構成図に示すよう
に、昇降装置１２を駆動して基板リフター１１を乾燥ゾ
ーンまで上昇させ、中間シャッター８を閉じてからパネ
ルヒータ９を起動し、イソプロピルアルコール液の揮発
を加熱によって促進し、排気管１０を通じてイソプロピ
ルアルコールの蒸気をケーシング１外に排出し、乾燥処
理する。このとき、図示しないが、前述した有機剥離液
の廃液としての排出処理と同様に、処理槽２内のイソプ
ロピルアルコール液は、第５の開閉弁Ｖ５を開くととも
に、三方弁２２を、第５の配管２７側が開く状態に切り
換え、廃液として排出する。

【００３４】乾燥処理が終了すると、図１０の概略構成
図に示すように、パネルヒータ９の起動を停止し、上部
シャッター７を開いてから昇降装置１２を駆動して基板
リフター１１をケーシング１の上方まで上昇させ、ケー
シング１外に取り出し、一連の処理を終了する。

【００３５】上記第１実施例の処理において、第１、第
２および第４の工程それぞれにおいて、処理槽２内から
排出される第１の処理液（第２の処理液を吐出供給した
後のものも含む）中に含まれるパーティクルの量、すな
わち、パーティクルの除去量の変化について考察したと
ころ、図１１のパーティクルの除去量の経時的変化のグ
ラフに示すような結果が得られた。

【００３６】第１の工程（30秒間）において、全パーテ
ィクルの90％が除去され、第２の工程（ 120秒間）にお
いて、残余のパーティクルの大半が除去され、更に、第
４の工程（15秒間）において、残余のパーティクルの大
半が除去されていた。

【００３７】上述の結果、第１の工程で使用されたパー
ティクルの含有量の多い第１の処理液のみ廃液として処
理し、第２および第４の工程で使用された第１の処理液
は再使用するため、全体として、処理液の消費量を極力
減少させながら、洗浄処理を良好に行えることが明らか
である。

【００３８】本発明としては、上記第１実施例の変形例
として次のように構成して実施するものでも良い。装置
構成としては、上記第１実施例における第２のシャワー
ノズル６を無くし、未使用の第２の処理液を適宜貯留タ
ンク１４に補充するように構成する。

【００３９】そして、次の手順を経て基板Ｗを処理する
ように構成する。先ず、基板リフター１１を下降して基
板Ｗを処理槽２内に収容し、第１の開閉弁Ｖ１と第５の
開閉弁Ｖ５とを開くとともに第１のポンプＰ１のみを駆
動し、第１のシャワーノズル５から基板Ｗに処理液であ
る有機剥離液の再使用液を吐出供給し、その流下液は排
液管２１を通じて排出する（図４参照）。これにより、
基板Ｗ上のレジスト膜やアッシング後の滓など、基板Ｗ
上の不要物の大半を洗浄除去し、それらが混入した処理
液は廃液として排出する。この工程が請求項１の第１の
工程に該当する。第１の工程に要する時間は30秒程度で
ある。

【００４０】次いで、第１のポンプＰ１の駆動を停止し
て第３および第４のポンプＰ３，Ｐ４を駆動状態に切り
換え、第１の開閉弁Ｖ１と第６の開閉弁Ｖ６とを開くと
ともに、三方弁２２を、第５の配管２７側のみ閉じる状
態に切り換え、処理液を貯留タンク１４内から処理槽２
内に供給してオーバーフローさせ、そのオーバーフロー
した液をフィルター２３で清浄化してから処理槽２内に
戻し、基板Ｗを処理液によって浸漬処理する（図５参
照）。この工程が請求項１の第２の工程に該当する。第
２の工程に要する時間は 120秒程度である。ここで、貯
留タンク１４内での処理液の量が不足すれば、適宜、未
使用の処理液を補充すれば良い。これにより、基板Ｗ上
に付着した不要な膜をも洗浄除去する。

【００４１】その後、第３のポンプＰ３の駆動を停止し
て、第４のポンプＰ４のみ駆動状態にし、第７および第
８の開閉弁Ｖ７，Ｖ８を開くとともに、三方弁２２を、
第５の配管２７側が閉じる状態に切り換え、処理槽２お
よび溝４内の処理液をフィルター２３で清浄化してか
ら、第４の配管２６を通じて貯留タンク１４に回収して
貯める（図６参照）。この工程が請求項１の第３の工程
に該当する。この別の実施例の第１の工程においては、
処理液として未使用の有機剥離液を第１のシャワーノズ
ル５から基板Ｗに吐出供給するようにしても良い。

【００４２】図１２は、本発明に係る第２実施例の基板
処理方法の実施のために用いる基板処理装置の概略配管
構成図である。槽本体５１の上部の周囲にオーバーフロ
ー用の溝５２を設けた処理槽５３の上部にシャワーノズ
ル５４が設けられている。シャワーノズル５４と、一度
使用した後の有機剥離液を再使用のために貯留する第１
１の再使用液タンク５５とが、第１１の開閉弁Ｖ１１と
第１１のポンプＰ１１と第１１のフィルター５６と第１
２の開閉弁Ｖ１２とを介装した第１１の配管５７を介し
て接続され、一度使用した後の有機剥離液をシャワーノ
ズル５４から基板Ｗに吐出供給できるように構成されて
いる。

【００４３】第１１の配管５７の、第１１の開閉弁Ｖ１
１と第１１のポンプＰ１１との間の箇所と、新しい有機
剥離液を貯留する有機剥離液タンク５８とが、第１３の
開閉弁Ｖ１３を介装した第１２の配管５９を介して接続
され、新しい有機剥離液をシャワーノズル５４から基板
Ｗに吐出供給できるように構成されている。

【００４４】第１１の配管５７の、第１２の開閉弁Ｖ１
２と第１１のフィルター５６との間の箇所と、槽本体５
１の底部とが第１４の開閉弁Ｖ１４を介装した第１３の
配管６０を介して接続され、第１１の再使用液タンク５
５内の有機剥離液を処理槽５３の底部から供給できるよ
うに構成されている。

【００４５】槽本体５１の底部と第１１の再使用液タン
ク５５とが、第１５の開閉弁Ｖ１５および第１６の開閉
弁Ｖ１６を介装した第１４の配管６１を介して接続され
ている。また、第１４の配管６１の、第１５の開閉弁Ｖ
１５と第１６の開閉弁Ｖ１６との間の箇所と、処理槽５
３の溝５２とが第１５の配管６２を介して接続されてい
る。これらの構成により、基板Ｗを浸漬処理した後の有
機剥離液を第１１の再使用液タンク５５に回収して貯留
できるように構成されている。

【００４６】第１１の配管５７の、第１２の開閉弁Ｖ１
２と第１１のフィルター５６との間の箇所と、第１１の
再使用液タンク５５とが、第１７の開閉弁Ｖ１７を介装
した第１６の配管６３を介して接続され、第１１の再使
用液タンク５５に回収した一度使用した後の有機剥離液
を第１１のフィルター５６を介して循環させ、混入した
不要物を除去できるように構成されている。

【００４７】第１４の配管６１の、第１５の開閉弁Ｖ１
５と第１６の開閉弁Ｖ１６との間の箇所に、第１８の開
閉弁Ｖ１８を介装した排液管６４が接続され、シャワー
ノズル５４から基板Ｗに吐出供給した有機剥離液などの
廃液を処理槽５３の底部から排出できるように構成され
ている。

【００４８】第１１の配管５７の、第１２の開閉弁Ｖ１
２とシャワーノズル５４との間の箇所と、一度使用した
後のイソプロピルアルコール液を再使用のために貯留す
る第１２の再使用液タンク６５とが、第１９の開閉弁Ｖ
１９と第１２のポンプＰ１２と第１２のフィルター６６
と第２０の開閉弁Ｖ２０とを介装した第１７の配管６７
を介して接続され、一度使用した後のイソプロピルアル
コール液をシャワーノズル５４から基板Ｗに吐出供給で
きるように構成されている。

【００４９】第１３の配管６０の、第１４の開閉弁Ｖ１
４と槽本体５１の底部との間の箇所と、第１７の配管６
７の、第１２のフィルター６６と第２０の開閉弁Ｖ２０
との間の箇所とが、第２１の開閉弁Ｖ２１を介装した第
１８の配管６８を介して接続され、第１２の再使用液タ
ンク６５内のイソプロピルアルコール液を処理槽５３の
底部から供給できるように構成されている。

【００５０】第１４の配管６１の、第１５の配管６２と
の連通接続箇所と第１６の開閉弁Ｖ１６との間の箇所
と、第１２の再使用液タンク６５とが、第２２の開閉弁
Ｖ２２を介装した第１９の配管６９を介して接続され、
基板Ｗを浸漬処理した後のイソプロピルアルコール液を
第１２の再使用液タンク６５に回収して貯留できるよう
に構成されている。

【００５１】第１７の配管６７の、第１８の配管６８と
の連通接続箇所と第１２のフィルター６６との間の箇所
と、第１２の再使用液タンク６５とが、第２３の開閉弁
Ｖ２３を介装した第２０の配管７０を介して接続され、
第１２の再使用液タンク６５に回収した一度使用した後
のイソプロピルアルコール液を第１２のフィルター６６
を介して循環させ、混入した不要物を除去できるように
構成されている。

【００５２】第１７の配管６７の、第１９の開閉弁Ｖ１
９と第１２のフィルター６６との間の箇所と、新しいイ
ソプロピルアルコール液を貯留するイソプロピルアルコ
ール液タンク７１とが、第２４の開閉弁Ｖ２４を介装し
た第２１の配管７２を介して接続されている。

【００５３】次に、上記第２実施例による有機剥離液と
イソプロピルアルコール液とによる一連の処理について
説明する。（以下、図１３から図２１までの概略配管構
成図において、白抜きの開閉弁は開き状態を、中黒の開
閉弁は閉じ状態をそれぞれ示している。また、白抜きの
ポンプは駆動状態を、中黒のポンプは駆動を停止してい
る状態をそれぞれ示している。）

【００５４】先ず、基板リフター１１（図１参照）を下
降して基板Ｗを処理槽５３の槽本体５１内に収容する。
図１３の概略配管構成図に示すように、第１１、第１
２、第１５および第１８の開閉弁Ｖ１１，Ｖ１２，Ｖ１
５，Ｖ１８を開くとともに第１１のポンプＰ１１のみを
駆動し、シャワーノズル５４から基板Ｗに有機剥離液の
再使用液を吐出供給し、その流下液は排液管６４を通じ
て排出する（処理時間は約30秒程度である）。これによ
り、基板Ｗ上のレジスト膜やアッシング処理後の滓な
ど、基板Ｗ上の不要物の大半を洗浄除去し、それらが混
入した有機剥離液の再使用液は廃液として排出する。

【００５５】次いで、図１４の概略配管構成図に示すよ
うに、第１１、第１４および第１６の開閉弁Ｖ１１，Ｖ
１４，Ｖ１６を開くとともに第１１のポンプＰ１１のみ
を駆動し、有機剥離液の再使用液を第１３の配管６０を
通じて槽本体５１内に供給してオーバーフローさせ、そ
のオーバーフローした液を第１１の再使用液タンク５５
内に戻し、基板Ｗを有機剥離液の再使用液によって浸漬
処理する（処理時間は約２分程度である）。これによ
り、基板Ｗ上に付着した不要な膜をも洗浄除去する。

【００５６】その後、図１５の概略配管構成図に示すよ
うに、第１１、第１３、第１５および第１６の開閉弁Ｖ
１１，Ｖ１３，Ｖ１５，Ｖ１６を開くとともに第１１の
ポンプＰ１１のみを駆動し、槽本体５１および溝５２内
の有機剥離液を、第１４および第１５の配管６１，６２
を通じて第１１の再使用液タンク５５内に戻すととも
に、第１１のフィルター５６と循環用の第１６の配管６
３を介して循環させ、混入した不要物を除去する。

【００５７】しかる後、図１６の概略配管構成図に示す
ように、第１２、第１５、第１６および第１７の開閉弁
Ｖ１１，Ｖ１５，Ｖ１６，Ｖ１７を開くとともに第１１
のポンプＰ１１のみを駆動し、第１２および第１１の配
管５９，５７を通じて、有機剥離液タンク５８内の新し
い有機剥離液をシャワーノズル５４から槽本体５１内の
基板Ｗに吐出供給し、第１４の配管６１を通じて再使用
液タンク５５内に回収して貯留する。

【００５８】次に、図１７の概略構成図に示すように、
第１５、第１８、第１９および第２０の開閉弁Ｖ１５，
Ｖ１８，Ｖ１９，Ｖ２０を開くとともに第１２のポンプ
Ｐ１２のみを駆動し、再使用液タンク６５内から第１７
および第１１の配管６７，５７を通じてシャワーノズル
５４から槽本体５１内の基板Ｗに第１の処理液であるイ
ソプロピルアルコール液の再使用液を吐出供給するとと
もに、その供給されたイソプロピルアルコール液を第１
４の配管６１および排液管６４を通じ、廃液として排出
する。これにより、基板Ｗに付着した有機剥離液の大半
をイソプロピルアルコール液に置換する。この工程が請
求項３の第１の工程に該当する。

【００５９】次いで、図１８の概略配管構成図に示すよ
うに、第１９、第２１および第２２の開閉弁Ｖ１９，Ｖ
２１，Ｖ２２を開くとともに第１２のポンプＰ１２のみ
を駆動し、イソプロピルアルコール液の再使用液を第１
７の配管６７および第１２のフィルター６６を通じて槽
本体５１内に供給してオーバーフローさせ、そのオーバ
ーフローしたイソプロピルアルコール液を第１５および
第１９の配管６２，６９を通じて第１２の再使用液タン
ク６５内に戻し、基板Ｗを第１２のフィルター６６を通
じて循環流動されるイソプロピルアルコール液の再使用
液によって浸漬処理する（処理時間は約２分程度であ
る）。これにより、基板Ｗに残存付着している有機剥離
液をイソプロピルアルコール液に置換する。この工程が
請求項３の第２の工程に該当する。

【００６０】このとき、図１９の概略配管構成図に示す
ように、第１５、第１９、第２２および第２３の開閉弁
Ｖ１５，Ｖ１９，Ｖ２２，Ｖ２３を開くとともに第１２
のポンプＰ１２のみを駆動し、イソプロピルアルコール
液の再使用液を第１５および第１９の配管６２，６９を
通じて第１２の再使用液タンク６５内に戻すとともに、
第１２のフィルター６６と第１７および第２０の配管６
７，７０を介して循環させ、混入した不要物を除去す
る。これにより、処理槽５３内のイソプロピルアルコー
ル液の再使用液を第１２のフィルター６６を通じて再使
用液タンク６５内に回収して貯める。この工程が請求項
３の第３の工程に該当する。

【００６１】しかる後、図２０の概略構成図に示すよう
に、第１５、第２０、第２２および第２４の開閉弁Ｖ１
５，Ｖ２０，Ｖ２２，Ｖ２４を開くとともに第１２のポ
ンプＰ１２のみを駆動し、第２１、第１７および第１１
の配管７２，６７，５７を通じて、シャワーノズル５４
から槽本体５１内の基板Ｗに、イソプロピルアルコール
液タンク７１からの第２の処理液としての新しい未使用
のイソプロピルアルコール液を吐出供給し、その基板処
理後のイソプロピルアルコール液を第１４および第１９
の配管６１，６９を通じて第１２の再使用液タンク６５
内に戻し、一度使用した第１の処理液として回収して貯
める。この工程が請求項３の第４の工程に該当する。

【００６２】この後、槽本体５１内に基板Ｗを所定時間
留置するなどにより、基板Ｗに残存付着した有機剥離液
をイソプロピルアルコール液に良好に置換した後に、基
板Ｗに付着したイソプロピルアルコール液を揮発させて
乾燥処理する。

【００６３】一方、図２１の概略構成図に示すように、
第１９および第２３の開閉弁Ｖ１９，Ｖ２３を開くとと
もに第１２のポンプＰ１２のみを駆動し、第１２のフィ
ルター６６と第１７および第２０の配管６７，７０を介
して循環させ、混入した不要物を除去して清浄化した状
態でイソプロピルアルコール液を再使用液タンク６５内
に回収貯留する。

【００６４】上記第２実施例では、有機剥離液およびイ
ソプロピルアルコール液の吐出供給を、同じシャワーノ
ズル５４や共通配管部分（第１１の配管５７の一部）を
用いて行っているが、それぞれ別の配管で構成するよう
にしても良い。

【００６５】上記第２実施例において、第１１および第
１２の再使用液タンク５５，６５それぞれが特許請求の
範囲に記載の貯留タンクに相当する。また、第１１およ
び第１７の配管５７，６７がそれぞれが特許請求の範囲
に記載の液供給管に相当する。また、第１６および第２
０の配管６３，７０がそれぞれが特許請求の範囲の循環
配管に相当する。また、有機剥離液における第１４の配
管６１、ならびに、イソプロピルアルコール液における
第１４、第１５および第１９の配管６１，６２，６９か
ら成る構成それぞれが特許請求の範囲に記載の戻し管に
相当する。

【００６６】また、上記実施例では、有機剥離液による
処理とイソプロピルアルコール液による処理とを同じ処
理槽２，５３で行うように構成しているが、本発明とし
ては、有機剥離液およびイソプロピルアルコールそれぞ
れよる処理を専用の処理槽で行うように構成するもので
も良い。

【００６７】上記実施例では、多数枚の基板Ｗを処理す
るように構成しているが、本発明としては、基板Ｗを１
枚づつ処理する場合にも適用できる。

【００６８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、処理液を吐出供給し、その吐
出力を利用して基板に付着した大半のパーティクルを洗
浄除去し、その同一の処理槽内で、貯留タンクに回収し
て貯められている処理液を用いて、パーティクルが少な
くなった基板を浸漬処理するから、１個の処理槽を設け
るだけで済むとともに従来のような２個の処理槽間で基
板を搬送する搬送系を不用にでき、構成を簡略化すると
ともに装置を小型化してイニシャルコストを低減でき
る。しかも、パーティクルが少なくなった基板の浸漬処
理に用いた処理液を、貯留タンクに回収して再使用する
から、処理液の消費量を減少してランニングコストも低
減できる。更に、貯留タンクが気密性であるので、処理
液が揮発性のものであっても、揮発による濃度変化を抑
えることができ、処理品質の低下を回避できる。

【００６９】また、請求項２に記載の発明によれば、第
１、第２および第３の工程に必要な装置構成を備えるか
ら、請求項１に記載の方法を良好に実施できる装置を提
供できる。

【００７０】また、請求項３に記載の発明によれば、第
１の処理液を吐出供給し、その吐出力を利用して基板に
付着した大半のパーティクルを洗浄除去し、その同一の
処理槽内で、貯留タンクに回収して貯められている第１
の処理液を用いて、パーティクルが少なくなった基板を
浸漬処理するから、１個の処理槽を設けるだけで済むと
ともに従来のような２個の処理槽間で基板を搬送する搬
送系を不用にでき、構成を簡略化するとともに装置を小
型化してイニシャルコストを低減できる。しかも、大半
のパーティクルの洗浄除去に用いた第１の処理液は廃液
処理し、パーティクルが少なくなった基板の浸漬処理に
用いた処理液を、フィルターを通じて貯留タンクに回収
して再使用するから、処理液の消費量を減少してランニ
ングコストも低減できる。そのうえ、残余のパーティク
ルを除去処理した基板に未使用の第２の処理液を吐出供
給するから、その吐出力によってより良好にパーティク
ルを洗浄除去でき、かつ、基板処理後の第２の処理液を
第１の処理液として貯留タンクに回収して貯めるから、
処理液の消費量を減少してランニングコストも低減でき
る。更に、貯留タンクが気密性であるので、処理液が揮
発性のものであっても、揮発による濃度変化を抑えるこ
とができ、処理品質の低下を回避できる。

【００７１】また、請求項４に記載の発明によれば、第
１、第２、第３および第４の工程に必要な装置構成を備
えるから、請求項３に記載の方法を良好に実施できる装
置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る第１実施例の基板処理方法の実施
のために用いる基板処理装置を示す縦断正面図である。

【図２】図１の縦断側面図である。

【図３】基板処理装置の概略配管構成図である。

【図４】基板処理方法の説明に供する概略配管構成図で
ある。

【図５】基板処理方法の説明に供する概略配管構成図で
ある。

【図６】基板処理方法の説明に供する概略配管構成図で
ある。

【図７】基板処理方法の説明に供する概略配管構成図で
ある。

【図８】基板処理方法の説明に供する概略配管構成図で
ある。

【図９】基板処理方法の説明に供する概略構成図であ
る。

【図１０】基板処理方法の説明に供する概略構成図であ
る。

【図１１】パーティクルの除去量の経時的変化を示すグ
ラフである。

【図１２】本発明に係る第２実施例の基板処理方法の実
施のために用いる基板処理装置の概略配管構成図であ
る。

【図１３】基板処理方法の説明に供する概略構成図であ
る。

【図１４】基板処理方法の説明に供する概略配管構成図
である。

【図１５】基板処理方法の説明に供する概略配管構成図
である。

【図１６】基板処理方法の説明に供する概略配管構成図
である。

【図１７】基板処理方法の説明に供する概略配管構成図
である。

【図１８】基板処理方法の説明に供する概略配管構成図
である。

【図１９】基板処理方法の説明に供する概略配管構成図
である。

【図２０】基板処理方法の説明に供する概略構成図であ
る。

【図２１】基板処理方法の説明に供する概略構成図であ
る。

【符号の説明】

２…処理槽 ５…第１のシャワーノズル ６…第２のシャワーノズル １４…貯留タンク １８…液供給管 ２１…排液管 ２３…フィルター ２４…循環配管 ２５…戻し管 ５５…貯留タンクとしての第１１の再使用液タンク ５６…第１１のフィルター ５７…液供給管としての第１１の配管 ６１…戻し管としての第１４の配管 ６３…循環配管としての第１６の配管 ６４…排液管 ６５…貯留タンクとしての第１２の再使用液タンク ６６…第１１のフィルター ６７…液供給管としての第１７の配管 ７０…循環配管としての第２０の配管 Ｗ…基板

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理槽内の基板に処理液を吐出供給する
   第１の工程と、貯留タンクからの処理液を前記処理槽内
   に供給し、処理液を清浄化するフィルターを通じて循環
   流動される前記処理槽内の処理液中に前記基板を浸漬し
   て処理する第２の工程と、 前記第２の工程の後、前記処理槽内の処理液を前記貯留
   タンクに回収して貯める第３の工程と、 を経て基板を処理することを特徴とする基板処理方法。
2. 【請求項２】 基板を収容する処理槽と、 前記処理槽内の前記基板に処理液を吐出供給するシャワ
   ーノズルと、 処理液を前記処理槽内に供給する液供給管と、 前記基板を浸漬処理している状態で前記処理槽内からオ
   ーバーフローされる処理液を槽外に排出してから前記処
   理槽内に戻す循環配管と、 前記循環配管に介装されてオーバーフローされる処理液
   を清浄化するフィルターと、 前記循環配管に接続されて、前記処理槽内から排出され
   る処理液を前記フィルターに流動させる戻し管と、 前記処理槽内から排出される処理液を回収して貯める気
   密性の貯留タンクと、 を備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板処理方
   法の実施に用いる基板処理装置。
3. 【請求項３】 処理槽内の基板に第１の処理液を吐出供
   給するとともにその基板処理後の第１の処理液を廃液処
   理する第１の工程と、 貯留タンクからの第１の処理液を前記処理槽内に供給
   し、清浄化用のフィルターを通じて循環流動される前記
   処理槽内の第１の処理液中に前記基板を浸漬して処理す
   る第２の工程と、 前記第２の工程の後、前記処理槽内の第１の処理液をフ
   ィルターを通じて前記貯留タンクに回収して貯める第３
   の工程と、 未使用の第２の処理液を基板に吐出供給するとともにそ
   の基板処理後の第２の処理液を第１の処理液として前記
   貯留タンクに回収して貯める第４の工程と、 を経て基板を処理することを特徴とする基板処理方法。
4. 【請求項４】 基板を収容する処理槽と、 前記処理槽内の前記基板に第１の処理液を吐出供給する
   第１のシャワーノズルと、 前記処理槽内の前記基板に未使用の第２の処理液を吐出
   供給する第２のシャワーノズルと、 第１の処理液を前記処理槽内に供給する液供給管と、 前記基板を浸漬処理している状態で前記処理槽内からオ
   ーバーフローされる第１の処理液を槽外に排出してから
   前記処理槽内に戻す循環配管と、 前記循環配管に介装されて、オーバーフローされる第１
   の処理液を清浄化するフィルターと、 前記循環配管に接続されて、前記処理槽内から排出され
   る第１および第２の処理液を前記フィルターに流動させ
   る戻し管と、 前記フィルターを通った第１および第２の処理液を供給
   して第１の処理液として貯留する気密性の貯留タンク
   と、 前記処理槽に接続されて、前記第１のシャワーノズルか
   ら供給された処理後の第１の処理液を前記処理槽内から
   排出する排液管と、 を備えたことを特徴とする請求項３に記載の基板処理方
   法の実施に用いる基板処理装置。