JP2001129383A - 基板処理装置の排気制御方法 - Google Patents
基板処理装置の排気制御方法Info
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- JP2001129383A JP2001129383A JP31222099A JP31222099A JP2001129383A JP 2001129383 A JP2001129383 A JP 2001129383A JP 31222099 A JP31222099 A JP 31222099A JP 31222099 A JP31222099 A JP 31222099A JP 2001129383 A JP2001129383 A JP 2001129383A
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- JP
- Japan
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- reaction chamber
- pump
- sub
- interior
- main pump
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- Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 主ポンプと副ポンプの同時稼働によるエネル
ギの浪費を緩和し、反応室内を大気に晒すことなく、省
エネルギ運転を行う。 【解決手段】 反応室内を真空排気する手段として、排
気経路に反応室側から順に主ポンプ及び副ポンプの２段
の排気ポンプが直列に接続されている基板処理装置にお
いて、反応室内を真空排気する排気運転モードとして、
主ポンプと副ポンプの両方を駆動して反応室内の真空排
気を行う第１の運転モードと、副ポンプのみを駆動して
反応室内の真空排気を行う第２の運転モードとを用意
し、基板処理時には第１の運転モードを選択し、それ以
外の非処理時には第２の運転モードを選択して、反応室
内の真空排気を行う。
ギの浪費を緩和し、反応室内を大気に晒すことなく、省
エネルギ運転を行う。 【解決手段】 反応室内を真空排気する手段として、排
気経路に反応室側から順に主ポンプ及び副ポンプの２段
の排気ポンプが直列に接続されている基板処理装置にお
いて、反応室内を真空排気する排気運転モードとして、
主ポンプと副ポンプの両方を駆動して反応室内の真空排
気を行う第１の運転モードと、副ポンプのみを駆動して
反応室内の真空排気を行う第２の運転モードとを用意
し、基板処理時には第１の運転モードを選択し、それ以
外の非処理時には第２の運転モードを選択して、反応室
内の真空排気を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、主ポンプと副ポン
プの２段の排気ポンプを備えた基板処理装置の排気制御
方法に関する。
プの２段の排気ポンプを備えた基板処理装置の排気制御
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体を製造する基板処理装置の中に、
基板を処理するための反応室内を真空排気する手段とし
て、排気経路に反応室側から順に、主ポンプ及び副ポン
プの２段の排気ポンプを直列に接続した構造のものが知
られている。
基板を処理するための反応室内を真空排気する手段とし
て、排気経路に反応室側から順に、主ポンプ及び副ポン
プの２段の排気ポンプを直列に接続した構造のものが知
られている。
【０００３】ここで使用する主ポンプは、到達真空度を
上げる目的で使用されるポンプであり、ある圧力から到
達真空圧力までを真空引きするときに使用できるよう
に、予め仕様が決められて製作されている。従って、あ
る圧力よりも高い圧力（大気圧近く）で稼働させると損
傷の原因になる。そこで、例えば反応室内が大気圧の場
合、主ポンプの排気側に接続した補助の副ポンプで、主
ポンプの許容範囲となるある圧力まで真空排気し、ある
所定圧になったところで主ポンプを稼働させて、更に真
空度を上げるようにしている。なお、主ポンプが稼働し
た後も副ポンプを稼働させるのは、主ポンプの排気側圧
力を低くして、主ポンプの性能維持に役立てるためであ
る。
上げる目的で使用されるポンプであり、ある圧力から到
達真空圧力までを真空引きするときに使用できるよう
に、予め仕様が決められて製作されている。従って、あ
る圧力よりも高い圧力（大気圧近く）で稼働させると損
傷の原因になる。そこで、例えば反応室内が大気圧の場
合、主ポンプの排気側に接続した補助の副ポンプで、主
ポンプの許容範囲となるある圧力まで真空排気し、ある
所定圧になったところで主ポンプを稼働させて、更に真
空度を上げるようにしている。なお、主ポンプが稼働し
た後も副ポンプを稼働させるのは、主ポンプの排気側圧
力を低くして、主ポンプの性能維持に役立てるためであ
る。
【０００４】ところで、この種の主ポンプと副ポンプを
排気系に備えた基板処理装置では、夜間等の待機時間帯
においても、反応室内を減圧状態に保って大気に晒さな
いようにするため、主ポンプと副ポンプの両方のポンプ
を稼働状態にすることが一般的に行われている。
排気系に備えた基板処理装置では、夜間等の待機時間帯
においても、反応室内を減圧状態に保って大気に晒さな
いようにするため、主ポンプと副ポンプの両方のポンプ
を稼働状態にすることが一般的に行われている。
【０００５】これは、もし反応室内を減圧状態にしてお
かないと、反応室内に排気側から気体や水分が入り込ん
だり、また、仮に排気側から気体が入り込まないように
バルブ等で閉じていても、ガス導入管や反応室、排気管
等の継ぎ目から気体や水分が反応室内に入り込んだり
し、その結果、反応室内が汚染されて、製造する半導体
の品質を保証できなくなるからである。また、例えば、
反応室内に加熱用ヒータを装備している場合には、反応
室内を大気に晒すことでヒータの電源を落とさなければ
ならなくなり、そうした場合、次回反応室を立ち上げる
際に、前回と同じ装置の状態を作り出すのに時間がかか
って効率が悪くなってしまうからである。そのために、
基板を処理する時以外の待機時間帯であっても、常時継
続的に反応室内を減圧しておき、大気に晒さないように
しているのである。
かないと、反応室内に排気側から気体や水分が入り込ん
だり、また、仮に排気側から気体が入り込まないように
バルブ等で閉じていても、ガス導入管や反応室、排気管
等の継ぎ目から気体や水分が反応室内に入り込んだり
し、その結果、反応室内が汚染されて、製造する半導体
の品質を保証できなくなるからである。また、例えば、
反応室内に加熱用ヒータを装備している場合には、反応
室内を大気に晒すことでヒータの電源を落とさなければ
ならなくなり、そうした場合、次回反応室を立ち上げる
際に、前回と同じ装置の状態を作り出すのに時間がかか
って効率が悪くなってしまうからである。そのために、
基板を処理する時以外の待機時間帯であっても、常時継
続的に反応室内を減圧しておき、大気に晒さないように
しているのである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来では、
基板処理を行っていない待機時間帯にも、主ポンプと副
ポンプの２台の排気ポンプを常時稼働しているので、エ
ネルギの浪費が大きかった。
基板処理を行っていない待機時間帯にも、主ポンプと副
ポンプの２台の排気ポンプを常時稼働しているので、エ
ネルギの浪費が大きかった。
【０００７】本発明は、上記事情を考慮し、主ポンプと
副ポンプの同時稼働によるエネルギの浪費を緩和し、反
応室内を大気に晒すことなく、省エネルギ運転ができる
排気制御方法を提供することを目的とする。
副ポンプの同時稼働によるエネルギの浪費を緩和し、反
応室内を大気に晒すことなく、省エネルギ運転ができる
排気制御方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板を処理す
るための反応室内を真空排気する手段として、排気経路
に反応室側から順に主ポンプ及び副ポンプの２段の排気
ポンプが直列に接続されている基板処理装置において、
基板処理時には前記主ポンプと副ポンプの両方を駆動し
て反応室内の真空排気を行い、それ以外の非処理時には
反応室内の真空排気を行うことを特徴とする。
るための反応室内を真空排気する手段として、排気経路
に反応室側から順に主ポンプ及び副ポンプの２段の排気
ポンプが直列に接続されている基板処理装置において、
基板処理時には前記主ポンプと副ポンプの両方を駆動し
て反応室内の真空排気を行い、それ以外の非処理時には
反応室内の真空排気を行うことを特徴とする。
【０００９】この発明では、反応室内で基板処理を行う
際には、主ポンプと副ポンプの同時駆動により、排気効
率を高めて反応室内の真空度を上げる。また、それ以外
の非処理時間帯には、主ポンプを停止し、副ポンプのみ
を稼働して真空排気を継続する。従って、非処理時間帯
に主ポンプを停止することにより、その分省エネルギ効
果を上げることができる。
際には、主ポンプと副ポンプの同時駆動により、排気効
率を高めて反応室内の真空度を上げる。また、それ以外
の非処理時間帯には、主ポンプを停止し、副ポンプのみ
を稼働して真空排気を継続する。従って、非処理時間帯
に主ポンプを停止することにより、その分省エネルギ効
果を上げることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１は、基板処理装置における反応
室と排気系の構成を示している。図において、反応室１
の上部に処理ガス導入経路が接続され、反応室１の底部
に排気経路が接続され、該排気経路に反応室１側から順
に、調圧バルブ２、排気メインバルブ３、主ポンプ４、
副ポンプ５が直列に接続されている。
基づいて説明する。図１は、基板処理装置における反応
室と排気系の構成を示している。図において、反応室１
の上部に処理ガス導入経路が接続され、反応室１の底部
に排気経路が接続され、該排気経路に反応室１側から順
に、調圧バルブ２、排気メインバルブ３、主ポンプ４、
副ポンプ５が直列に接続されている。
【００１１】主ポンプ３はメカニカルブースターポンプ
やターボ分子ポンプよりなり、副ポンプ４はドライポン
プよりなる。これらの主ポンプ３及び副ポンプ４はＯＮ
／ＯＦＦ制御され、反応室１内の圧力は調圧バルブ２に
よって制御される。
やターボ分子ポンプよりなり、副ポンプ４はドライポン
プよりなる。これらの主ポンプ３及び副ポンプ４はＯＮ
／ＯＦＦ制御され、反応室１内の圧力は調圧バルブ２に
よって制御される。
【００１２】主ポンプ３と副ポンプ４による排気モード
としては、主ポンプ３と副ポンプ４を同時駆動する第１
の運転モードと、主ポンプ３を停止し副ポンプ４のみを
駆動する第２の運転モードがあり、成膜等の基板処理時
には、第１の運転モードを選択して設定することによ
り、主ポンプ３と副ポンプ４の同時稼働により、反応室
１内の真空排気を行う。また、基板搬入出時や夜間等待
機時間帯には、第２の運転モードを選択して設定するこ
とにより、主ポンプ３を停止して、副ポンプ４のみの稼
働により、反応室１内の真空排気を行う。
としては、主ポンプ３と副ポンプ４を同時駆動する第１
の運転モードと、主ポンプ３を停止し副ポンプ４のみを
駆動する第２の運転モードがあり、成膜等の基板処理時
には、第１の運転モードを選択して設定することによ
り、主ポンプ３と副ポンプ４の同時稼働により、反応室
１内の真空排気を行う。また、基板搬入出時や夜間等待
機時間帯には、第２の運転モードを選択して設定するこ
とにより、主ポンプ３を停止して、副ポンプ４のみの稼
働により、反応室１内の真空排気を行う。
【００１３】図２は、ウェーハ（基板）に対する成膜処
理を繰り返し行うときの主ポンプ３と副ポンプ４の運転
状態を示すタイムチャートである。成膜処理の前後にウ
ェーハの搬入・搬出工程があり、成膜処理時には、その
前後のある時間幅を含む時間帯だけ主ポンプ３と副ポン
プ４を同時駆動するが、ウェーハの搬入・搬出工程の中
の主な時間帯には、主ポンプ３を停止し、副ポンプ４の
みを駆動する。このように、ウェーハの搬入・搬出時に
主ポンプ３を停止することにより、省エネルギ効果を得
ることができる。
理を繰り返し行うときの主ポンプ３と副ポンプ４の運転
状態を示すタイムチャートである。成膜処理の前後にウ
ェーハの搬入・搬出工程があり、成膜処理時には、その
前後のある時間幅を含む時間帯だけ主ポンプ３と副ポン
プ４を同時駆動するが、ウェーハの搬入・搬出工程の中
の主な時間帯には、主ポンプ３を停止し、副ポンプ４の
みを駆動する。このように、ウェーハの搬入・搬出時に
主ポンプ３を停止することにより、省エネルギ効果を得
ることができる。
【００１４】なお、待機時間帯に副ポンプ４のみ稼働し
て真空排気するときに、窒素ガス等の不活性ガスで反応
室１内をパージしてもよい。
て真空排気するときに、窒素ガス等の不活性ガスで反応
室１内をパージしてもよい。
【００１５】因みに、第１の運転モードを設定し、主ポ
ンプ３と副ポンプ４を同時駆動しているときには、反応
室１内を０．１Ｐａ程度の圧力に維持することができ
る。また副ポンプ４のみ駆動しているときには、反応室
１内を１Ｐａ程度の圧力に維持することができる。
ンプ３と副ポンプ４を同時駆動しているときには、反応
室１内を０．１Ｐａ程度の圧力に維持することができ
る。また副ポンプ４のみ駆動しているときには、反応室
１内を１Ｐａ程度の圧力に維持することができる。
【００１６】このように、待機時間帯や基板の搬入出時
間帯に主ポンプ３を停止することにより、実験例では
０．７ｋｗｈの省エネルギ効果を得ることができた。こ
れは装置全体の電力消費量の約２５％に当たる。また、
主ポンプ３を停止することにより、排気ポンプからの放
熱が減少するので、工場設備（冷却水、熱排気）の負荷
低減も可能になる。
間帯に主ポンプ３を停止することにより、実験例では
０．７ｋｗｈの省エネルギ効果を得ることができた。こ
れは装置全体の電力消費量の約２５％に当たる。また、
主ポンプ３を停止することにより、排気ポンプからの放
熱が減少するので、工場設備（冷却水、熱排気）の負荷
低減も可能になる。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板を処理していないときには、主ポンプを停止し、副
ポンプのみを稼働させて反応室を真空排気するので、消
費電力を低減し、結果的に製品の製造コストを低減する
ことができる。
基板を処理していないときには、主ポンプを停止し、副
ポンプのみを稼働させて反応室を真空排気するので、消
費電力を低減し、結果的に製品の製造コストを低減する
ことができる。
【図１】本発明を実施するための基板処理装置の概略構
成図である。
成図である。
【図２】本発明の実施形態の内容を示すタイムチャート
である。
である。
１反応室 ３ 主ポンプ ４ 副ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/203 Ｈ０１Ｌ 21/205 ５Ｆ１０３ 21/205 21/302 Ｂ Ｆターム(参考） 3H031 DA00 DA01 DA02 EA00 EA05 EA11 FA37 FA40 3H032 NA09 4K029 BD01 DA02 5F004 AA16 BC02 CA02 CA08 CA09 5F045 BB08 EG03 5F103 BB47 BB59
Claims (1)
- 【請求項１】 基板を処理するための反応室内を真空排
気する手段として、排気経路に反応室側から順に主ポン
プ及び副ポンプの２段の排気ポンプが直列に接続されて
いる基板処理装置において、 基板処理時には前記主ポンプと副ポンプの両方を駆動し
て反応室内の真空排気を行い、 それ以外の非処理時には反応室内の真空排気を行うこと
を特徴とする基板処理装置の排気制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31222099A JP2001129383A (ja) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | 基板処理装置の排気制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31222099A JP2001129383A (ja) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | 基板処理装置の排気制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001129383A true JP2001129383A (ja) | 2001-05-15 |
Family
ID=18026644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31222099A Pending JP2001129383A (ja) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | 基板処理装置の排気制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001129383A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012169643A (ja) * | 2004-06-07 | 2012-09-06 | Edwards Ltd | 処理システムのオペレーションを制御する方法 |
-
1999
- 1999-11-02 JP JP31222099A patent/JP2001129383A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012169643A (ja) * | 2004-06-07 | 2012-09-06 | Edwards Ltd | 処理システムのオペレーションを制御する方法 |
| US9081379B2 (en) | 2004-06-07 | 2015-07-14 | Edwards Limited | Evacuation system alerts based on process tool systems bus monitoring |
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