JP2001125235A - 補充液の補充方法及び感光材料処理装置の補充機構 - Google Patents

補充液の補充方法及び感光材料処理装置の補充機構

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JP2001125235A
JP2001125235A JP30909799A JP30909799A JP2001125235A JP 2001125235 A JP2001125235 A JP 2001125235A JP 30909799 A JP30909799 A JP 30909799A JP 30909799 A JP30909799 A JP 30909799A JP 2001125235 A JP2001125235 A JP 2001125235A
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stabilizing
tank
liquid
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replenishing
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JP30909799A
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Takekazu Yanagimoto
武和 柳本
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 同一の処理液を1つのセンサ、1つのヒータ
で温調するタイプの感光材料処理装置であっても、処理
液の温度を規制範囲内に抑えることを課題とする。 【解決手段】 安定槽22A、22B、22Cに安定液
L4が貯溜され、下流側の安定槽22Aへ補充された安
定液がオーバーフローして上流側の安定槽22Cへ流れ
る。各安定槽22は独立した循環パイプ56A、56
B、56Cを持っており、安定液を独立して循環させ
る。 循環パイプ56A、56B、56Cを循環する安
定液は、1つのヒータで同時に加熱される。送水管48
を流れる補充液は乾燥部44のダクト52で余熱され、
安定槽22Aへ補充される。このため、安定液の温度が
急激に下がりヒータ62がオンとなり、設定温度範囲で
ある上流側の安定槽22B、22Cの安定液をヒータ6
2が加熱することがないので、安定液が設定温度範囲を
越えることがない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光材料を現像処
理する処理液を処理槽に補充する補充液の補充方法及び
感光材料処理装置の補充機構に関する。
【0002】
【従来の技術】図7に示す感光材料処理装置70の定着
槽72、安定槽74には、カスケード方式が採用されて
おり、例えば、安定槽74で説明すると、最下流側の安
定槽74Aから上流側の安定槽74B、74Cと行くに
従い、槽壁が低くされ下流側の安定液L4が上流側の安
定槽へ順次オーバーフローし、最後に廃液タンク(図示
省略)へ自然落下するようになっている。
【0003】このような処理槽構成の場合、各安定槽毎
に独立してヒータ及び温度検知センサを配置して、独立
して安定液を温調すれば問題はないが、図8に示すよう
に、コストダウンを図るため、安定槽74A、74B、
74Cの循環路76A、76B、76Cを流れる安定液
L4を一つのヒータ78と、安定槽76Aに配置された
1つの温度検知センサ80で温調しようとすると、下記
のような問題が生じる。
【0004】すなわち、感光材料26による持ち出しや
蒸発により安定液L4が減少すると、補充タンク82か
ら補充液を補充するが、補充液が冷たいと安定槽74A
内の安定液の温度が下がる。この結果、温度検知センサ
80が検出する温度が下がるので、コントローラ84が
ヒータ78をオンし、循環路76A、76B、76Cを
循環する安定液を昇温させる。
【0005】しかし、安定槽74Aから安定槽74Bへ
オーバーフローする安定液は温調されているにも関わら
ず、循環路76Bを循環してオン状態のヒータ78でさ
らに昇温される。そして、昇温された安定液L4は、安
定槽74Bから安定槽74Cへオーバーフローし、循環
路76Cを循環して、さらにヒータ78で加熱される。
【0006】そして、感光材料を連続処理すると、常に
補充液が入っている状態となり、常にヒータ78がオン
状態となるので、安定槽74B、74Cの安定液L4
は、温度規制範囲を越えてしまい、これが乾燥部44の
乾燥風の影響でさらに安定液の昇温傾向が助長される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事実を考
慮し、同一の処理液を1つのセンサ、1つのヒータで温
調するタイプの感光材料処理装置であっても、処理液の
温度を規制範囲内に抑えることを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明で
は、感光材料が持ち出した処理液を補充するために、処
理槽へ補充液を補充して、処理液の処理能力を維持す
る。
【0009】ここで、補充液は感光材料処理装置の放熱
部で余熱され、処理槽へ補充される。このため、処理槽
内の処理液の温度を急激に下げることなく、特に循環す
る処理液を加熱し続けなくても、処理液を設定温度に維
持できる。
【0010】請求項2に記載の発明では、複数の処理槽
に同一処理液が貯溜され、下流側の処理槽へ補充された
処理液が順次オーバーフローして上流側の処理槽へ流れ
るカスケード方式とされている。各処理槽は独立した循
環路を持っており、処理槽内の処理液を独立して循環さ
せる。
【0011】この循環路を循環する処理液は、循環路に
配置された1つのヒータで同時に加熱される。また、制
御手段が、いずれかの処理槽内の処理液温度を検出して
ヒータをオンオフ制御する。このように、1つのヒータ
で複数の処理槽の処理液を同時に加熱することで、コス
トを削減できる。
【0012】また、感光材料処理装置の乾燥部で加熱さ
れる配管が設けられている。そして、補充手段が、配管
を通じて補充液を送ることで補充液を余熱して、下流側
の処理槽へ補充することができる。
【0013】このため、従来のように、補充液を補充す
る毎に処理液の温度が急激に下がりヒータがオンとな
り、設定温度範囲である上流側の処理槽の処理液をヒー
タが加熱することがないので、上流側の処理槽の処理液
が設定温度範囲を越えることがない。
【0014】請求項3に記載の発明では、配管が、乾燥
部のダクト外面へ押し当てられカバーで固定されてい
る。このため、既存のダクトにも簡単に配管を固定する
ことができ、製造コストを削減できる。
【0015】請求項4に記載の発明では、配管が、乾燥
部のダクトに埋設されている。このため、効率良く乾燥
部の熱を利用することができる。
【0016】請求項5に記載の発明では、配管ヘ付与さ
れる熱量が、乾燥部のダクトと接する配管の長さで調整
される。配管の長さを変えるという簡単な構成で、処理
槽へ補充する補充液の温度を自由に調整することができ
る。
【0017】
【発明の実施の形態】図1に示すように、感光材料処理
装置12のハウジング14内には、発色現像槽16、漂
白槽18、2つの定着槽20、及び3つの安定槽22が
配設されている。
【0018】発色現像槽16、漂白槽18、定着槽2
0、及び安定槽22の槽内には図示しない処理ラックに
軸支された搬送ローラ対24が配設されており、それぞ
れ発色現像液L1、漂白液L2、定着液L3、及び安定
液L4に漬浸されている。この搬送ローラ対24が、感
光材料26を上下に湾曲搬送して現像処理する。
【0019】一方、発色現像槽16の上流側には、感光
材料26を発色現像槽16内へ案内するガイドローラ2
8、30が配置されている。また、発色現像槽16と漂
白槽18との間には、クロスオーバーラック32が配設
されており、クロスオーバーローラ34が空気中に露出
している。このクロスオーバーローラ34は、発色現像
槽16から引き上げられた感光材料を隣の漂白槽18へ
案内する。
【0020】さらに、漂白槽18と定着槽20との間に
はクロスオーバーローラ36が、定着槽20間にもクロ
スオーバーローラ38が、定着槽20と安定槽22との
間にもクロスオーバーローラ40が、安定槽22間にも
クロスオーバーローラ42が配置されている。
【0021】そして、各処理槽で現像処理された感光材
料26は、乾燥部44で乾燥され、ハウジング14の外
へ排出される。
【0022】また、本形態では、定着槽20及び安定槽
22でカスケード方式が採用されている。すなわち、安
定槽22で説明すると、最下流側の安定槽22Aから最
上流側の安定槽22Cへ行くに従い槽壁が低くされ、下
流側の安定液L4が上流側の安定槽22B、22Cへオ
ーバーフローして流れ、最後に廃液タンク(図示省略)
へ自然落下する構成である。このため、上流側の安定液
L4の性能が安定し、また、安定槽22へ送る補充液の
液量を低減することができる。
【0023】次に、感光材料処理装置の補充機構を安定
槽を例に採って説明する。
【0024】図2に示すように、補充タンク46には、
図示しない水源から送水された水が貯留されている。補
充タンク46には、送水管48が接続されており、送水
ポンプ50により所定の水量(蒸発量、感光材料の処理
量に見合った量)が安定槽22Aへ送られる。
【0025】送水管48は、乾燥部44のダクト52の
外面に沿って立ち上っており、図3に示すように、断面
が略U字状のホルダ54でダクト52へ押し付けられる
ように固定されている。これにより、加熱したダクト5
2で送水管48が加熱され、送水管48を通る安定液L
4が余熱される。
【0026】このように、乾燥部44の熱を利用し、冷
たい安定液を余熱して補充することで、安定槽22A内
の安定液L4の温度を急激に下げることがない。このた
め、安定液を冷やし過ぎて、感光材料の乳剤面にヒビを
入るようなことがない。また、乾燥部44で安定液を暖
めながら補充することで、別途ヒータとバッファータン
クを設けて、昇温した安定液を貯留しておく必要もない
ので、コンパクトな感光材料処理装置とすることができ
る。
【0027】一方、安定槽22A、22B、22Cに
は、循環パイプ56A,56B,56Cが接続されてお
り、循環ポンプ58A、58B、58Cにより、フィル
タ60A、60B、60Cで洗浄された安定液L4が一
定の循環量で各安定槽へ戻される。
【0028】また、循環パイプ56A,56B,56C
を循環する安定液L4は、1つのヒータ62を通過して
温調される。このヒータ62は、安定槽22Aに配置さ
れた温度センサ64の検出結果に基づき、コントローラ
66でオンオフ制御される。
【0029】さらに、ヒータ62には、放熱フィン(図
示省略)が配設されており、コントローラ66で制御さ
れる冷却ファン68で冷却される。これにより、安定液
L4の温度上昇を抑え、感光材料26の乳剤面が柔らか
くなり傷付き易くなることを防止する。
【0030】次に、本形態に係る補充機構の作用を説明
する。
【0031】例えば、感光材料処理装置12が設置され
た場所の環境温度が10℃とすると、乾燥部44のダク
ト52に取付けられた送水管48を通過する補充液は、
20℃程度まで昇温される。そして、安定槽22Aで
は、温度センサ64からの信号でコントローラ66がヒ
ータ62をオンし、設定温度の38℃まで安定液の温度
を温調する。
【0032】しかし、補充された安定液は安定槽22A
に貯留された安定液と比較すると少量であるので、ヒー
タ62は通常のコントロール範囲内でありオンオフを繰
り返す程度である。そして、このとき、循環パイプ56
B、56Cを流れる安定槽22B、22Cの安定液L4
もヒータ62で昇温されることになるが、オンの時間が
短いので、3つの安定槽22A、22B、22Cに貯留
された安定液は、ほぼ設定温度に近いものとなる。
【0033】このように、本形態では、1つのヒータ6
2で3つの安定槽22A、22B、22Cの安定液L4
を設定温度範囲内とすることができる。
【0034】なお、本形態では、乾燥部44のダクト5
2の外面に送水管48を貼り付けたが、図4に示すよう
に、ダクト52の外面へ凹部52Aを形成して、送水管
48を埋め込んでもよい。これにより、効率良く乾燥部
の熱を利用することができる。また、図5に示すよう
に、ダクト52の外面に縦壁52Bを設け、この間に送
水管48を挟んで固定してもよい。
【0035】さらに、図6に示すように、感光材料の搬
送の邪魔にならなければ、送水管48を乾燥部44の中
へ配管してもよい。
【0036】また、本形態では、送水管48へ付与され
る熱量を、ダクト52と接する送管48の長さを変える
ことで簡単に調整することできる。例えば、補充液の温
度を上げる場合、ダクト52に巻き付くように配管して
もよい。
【0037】なお、送水管48を加熱する手段として
は、乾燥部だけでなく、ヒータ62の放熱板に這わせて
もよく、他の用途で熱源を使用する放熱部であれば、ど
こでもよい。
【0038】また、本形態では、温度センサ64を下流
側の安定槽22Aに設けたが、例えば、中間にある安定
槽22Bに設けることにより、各安定槽に貯溜された安
定液の温度変動を最小限とすることができる。
【0039】さらに、本形態では、安定槽を例に挙げて
説明したが、他の定着槽の補充機構にも適用できること
は無論である。
【0040】
【発明の効果】本発明は上記構成としたので、同一の処
理液を1つのセンサ、1つのヒータで温調するタイプの
感光材料処理装置であっても、処理液の温度を規制範囲
内に抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本形態に係る感光材料処理装置の補充機構を示
す全体図である。
【図2】補充機構の説明図である。
【図3】乾燥部のダクトに取付けられた送水管を示す断
面図である。
【図4】乾燥部のダクトに取付けられた送水管を示す断
面図である。
【図5】乾燥部のダクトに取付けられた送水管を示す断
面図である。
【図6】乾燥部のダクトに取付けられた送水管を示す断
面図である。
【図7】従来の感光材料処理装置の補充機構を示す全体
図である。
【図8】従来の補充機構の説明図である。
【符号の説明】
22 安定槽(処理槽) 44 乾燥部 48 送水管(配管) 52 ダクト 54 ホルダー(カバー) 56 循環パイプ(循環路) 62 ヒータ 64 温度センサ(制御手段) 66 コントローラ(制御手段)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 感光材料処理装置の処理槽に貯溜された
    処理液の能力を維持する補充液の補充方法において、 前記感光材料処理装置の放熱部で補充液を余熱して処理
    槽へ補充することを特徴とする補充液の補充方法。
  2. 【請求項2】 同一処理液が貯溜され、下流側の処理槽
    へ補充された処理液が順次オーバーフローして上流側の
    処理槽へ流れる複数の処理槽と、前記各処理槽内の処理
    液を独立して循環させる循環路と、前記循環路に配置さ
    れ独立して循環する処理液を同時に加熱する一つのヒー
    タと、いずれかの処理槽内の処理液温度を検出して前記
    ヒータをオンオフ制御する制御手段と、を備えた感光材
    料処理装置に用いられ、 前記感光材料処理装置の乾燥部で加熱される配管と、前
    記配管を通じて補充液を下流側の前記処理槽へ補充する
    補充手段と、を有することを特徴とする感光材料処理装
    置の補充機構。
  3. 【請求項3】 前記配管が、前記乾燥部のダクト外面へ
    押し当てられカバーで固定されていることを特徴とする
    請求項2に記載の感光材料処理装置の補充機構。
  4. 【請求項4】 前記配管が、前記乾燥部のダクトに埋設
    されていることを特徴とする請求項2に記載の感光材料
    処理装置の補充機構。
  5. 【請求項5】 前記配管ヘ付与される熱量が、前記乾燥
    部のダクトと接する配管の長さで調整されることを特徴
    とする請求項2〜請求項4の何れかに記載の感光材料処
    理装置の補充機構。
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