JP2001124526A - 光学式膜厚モニタ機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易な構成で、真空チャンバを開けることな
く、未成膜のモニタ用基板面を適宜供給可能とした直視
型の光学式膜厚モニタ機構を提供する。 【解決手段】 サンプル基板２１を所定の半径位置に保
持して回転するサンプルホルダ２２に、モニタ用基板２
４を保持したモニタ用基板ホルダ２３を搭載する。サン
プルホルダ２２のモニタ用基板ホルダ２３搭載部に窓２
８を形成する。回転シャフト３２を移動させてモニタ用
基板ホルダ２３を回動（自転）させることにより、窓２
８を介してモニタ用基板２４の一部が成膜面として順次
露出し、露出した成膜面に成膜された膜厚を光学的に測
定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明はスパッタリング装
置等の成膜装置において、成膜中の膜厚をモニタするた
めに設けられる光学式膜厚モニタ機構に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、取り扱う情報量の増大により、多
波長光通信の需要が非常に高くなっており、その中でも
大容量情報伝送を目的としたＤＷＤＭ（Dense Waveleng
th Division Multiplexing) の開発が盛んに行われてい
る。このＤＷＤＭにおいて使用される多層膜光学フィル
タ（ＤＷＤＭフィルタ）は非常に高い膜厚精度が要求さ
れるもので、このＤＷＤＭフィルタのように高い膜厚精
度が要求される薄膜の成膜においては成膜中の膜厚をモ
ニタし、その測定結果に基づき、膜厚を正確に制御する
といったことが必要となる。

【０００３】このような膜厚の測定には測定精度に優れ
た光学的な測定方法が一般に用いられ、膜に光を照射
し、膜の光の透過率もしくは反射率の変化を測定するこ
とによって成膜中の膜厚をモニタすることが行われてい
る。

【０００４】図７及び８はこのように光学的に膜厚を測
定するための膜厚モニタ機構の従来構成例を模式的に示
したものであり、図７は間接型を示し、図８Ａ及びＢは
直視型を示す。

【０００５】図７に示した間接型は薄膜を成膜すべきサ
ンプル基板１１を保持して回転するサンプルホルダ１２
とは別の場所にモニタ用基板１３を配置して、そのモニ
タ用基板１３に成膜された膜厚をモニタするものであ
る。図中、１４は測定のための入射光を示し、１５は透
過光、１６は反射光を示す。モニタ用基板１３は例えば
石英等の光透過性材料よりなる。なお、１７はサンプル
ホルダ１２を支持して回転させるための回転軸を示し、
１８はターゲットからスパッタアウトされるスパッタ粒
子のスパッタアウト方向を示す。

【０００６】一方、図８Ａに示した直視型はサンプルホ
ルダ１２にサンプル基板１１と同じ条件でモニタ用基板
１３を取り付けて、そのモニタ用基板１３の膜厚をモニ
タするものであり、図８Ｂに示した直視型はサンプルホ
ルダがなく、サンプル基板１１自体が回転軸１７に保持
された構成のもので、この例では成膜されるサンプル基
板１１自体が直接モニタされるものとなっている。

【０００７】このように光学式膜厚モニタ機構には大別
して間接型と直視型の二種類がある。しかるに、図７に
示したような間接型においては、モニタ用基板１３とサ
ンプル基板１１の真空チャンバ内における位置が異なる
ため、サンプル基板１１と異なる膜厚がモニタ用基板１
３に成膜され、よって実際のサンプル基板１１上の膜厚
を得るためには、前もってモニタ用基板１３上に成膜さ
れる膜厚とサンプル基板１１上に成膜される膜厚との関
係（換算係数）を求めておくことが必要となる。

【０００８】しかしながら、この換算係数は例えば材料
の表面状態などの諸条件によって、実際には長期にわた
って一定とは言えず、よってサンプル基板１１の膜厚が
所期の値（設定値）と異なってしまうという問題が発生
し、この点で間接型は測定精度の点で劣るものとなって
いる。

【０００９】これに対し、直視型では実際に製品となる
部分またはそれと完全に等しい膜厚が成膜された部分を
モニタするため、高精度の膜厚測定が可能であり、よっ
て高精度の膜厚制御が可能となる。

【００１０】また、図８Ａに示した構成においては、例
えばサンプルホルダ１２の基板取付け部（取り付け枠）
のうちの１箇所を基板なしとして、入射光１４が１００
％透過する穴１９とすることにより、あるいはこの穴１
９にミラーを配置して入射光１４が１００％反射される
ようにすることにより、１００％透過（反射）光をモニ
タすることが可能となり、よってこの１００％透過（反
射）光を基準とすることにより、成膜時の外乱などの測
定値に対する影響を排除することができ、つまり測定値
を補償することができるという利点がある。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、直視
型は高精度の膜厚測定を行うことができるものの、多層
膜の成膜においては、モニタ用基板１３（図８Ａ）上も
サンプル基板１１上と同様に、多層膜となり、よって膜
厚測定において累積誤差の問題が生じ、例えば複数キャ
ビティ構造を有する光学フィルタのように、層数が極め
て多く、成膜膜厚が非常に厚くなった場合にはこの累積
誤差の問題は測定精度上、大きな問題となる。

【００１２】この問題を回避するためには、モニタ用基
板１３を未成膜の新しいモニタ用基板１３と随時交換す
る必要がある。しかしながら、モニタ用基板１３を交換
するためには真空チャンバを開けなければならず、面倒
で工数がかかり、多層膜成膜に要する時間が大幅に増大
するという問題が生じる。

【００１３】一方、真空チャンバを開けることなく、未
成膜のモニタ用基板面を随時供給できるようにした装置
が特開平７−６３６７１号公報に記載されている。

【００１４】この装置は真空チャンバ内に配置したサン
プルホルダ（回転板）に薄膜を成膜すべきサンプル基板
とモニタ用基板とを取り付け、モニタ用基板に対する成
膜を阻止する遮蔽板を設け、この遮蔽板をサンプルホル
ダに対し同期回転させると共に、遮蔽板のサンプルホル
ダに対する位相を調整してモニタ用基板の遮蔽部分を順
次露出させ、この新たに露出された露出部に成膜された
単層膜の光学的特性を測定するというものである。

【００１５】しかしながら、この構成ではサンブルホル
ダと同様に、遮蔽板を高速回転させるための機構及び専
用の回転モータを別途必要とし、またその回転もサンプ
ルホルダの回転と連動させて厳密に制御しなければなら
ず、これらの点で構成が複雑で大がかりなものとなって
いた。

【００１６】この発明の目的はこれら問題に鑑み、簡易
な構成で、真空チャンバを開けることなく、未成膜のモ
ニタ用基板面を適宜供給できるようにした直視型の光学
式膜厚モニタ機構を提供することにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明によれ
ば、成膜用真空チャンバに設けられる光学式膜厚モニタ
機構は、薄膜を成膜すべきサンプル基板を所定の回転半
径位置に保持して回転するサンプルホルダに搭載された
モニタ用基板ホルダと、そのモニタ用基板ホルダに保持
されたモニタ用基板と、サンプルホルダに対してモニタ
用基板ホルダを回動させる回動手段とを備え、サンプル
基板とほぼ同じ回転半径位置に位置して、サンプルホル
ダのモニタ用基板ホルダ搭載部に窓が形成され、上記回
動手段によりモニタ用基板ホルダを回動させることによ
り、上記窓を介してモニタ用基板の一部が成膜面として
順次露出し、その露出した成膜面に成膜された膜厚を光
学的に測定する構造とされる。

【００１８】請求項２の発明では請求項１の発明におい
て、モニタ用基板が円形とされ、モニタ用基板ホルダの
回動により、モニタ用基板はその中心回りに回動される
構造とされる。

【００１９】請求項３の発明では請求項１の発明におい
て、モニタ用基板が円弧形をなす帯状とされ、モニタ用
基板ホルダの回動により、モニタ用基板はその円弧の中
心回りに回動される構造とされる。

【００２０】請求項４の発明では請求項１の発明におい
て、上記回動手段は移動可能とされた回転シャフトと、
その回転シャフトの一端とモニタ用基板ホルダとに設け
られた回転伝達機構とを具備し、回転シャフトはその他
端が真空チャンバの外部に位置され、回転シャフトの移
動により、上記回転伝達機構は接離可能とされる。

【００２１】請求項５の発明では請求項４の発明におい
て、上記回転伝達機構が歯車とされる。

【００２２】請求項６の発明では請求項１の発明におい
て、膜厚を光学的に測定するための入射光が完全に透過
する穴がサンプルホルダに設けられる。

【００２３】請求項７の発明では請求項１の発明におい
て、膜厚を光学的に測定するための入射光が完全に反射
されるミラーがサンプルホルダに取り付けられる。

【００２４】

【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図面を参
照して実施例により説明する。

【００２５】図１はこの発明の一実施例におけるサンプ
ルホルダ部分の構成概要を示したものであり、図はサン
プルホルダを上から、つまりターゲットと反対側から見
た状態を示している。

【００２６】この例では真空チャンバ内において、薄膜
を成膜すべきサンプル基板２１を所定の回転半径位置に
所定数保持して回転するサンプルホルダ２２にモニタ用
基板ホルダ２３が搭載される。モニタ用基板ホルダ２３
はこの例では浅い円筒状とされ、その内部に円形の、例
えば石英等の光透過性材料よりなるモニタ用基板２４を
保持したものとなっている。

【００２７】図２はこのモニタ用基板ホルダ２３搭載部
分の詳細を示したものであり、モニタ用基板ホルダ２３
は図に示したようにその底面側の外径が若干小とされて
おり、その底面には若干の周縁部２５を残して円形開口
２６を具備するものとなっている。モニタ用基板２４は
この周縁部２５にその板面の周縁が支持されてモニタ用
基板ホルダ２３に収容固定されており、即ち成膜面が開
口２６に臨むように保持されている。

【００２８】モニタ用基板ホルダ２３に対するモニタ用
基板２４の固定は図には示していないが、例えば円周上
２箇所（１８０°）の位置において、モニタ用基板２４
の外周面とモニタ用基板ホルダ２３の内周面との間にシ
リコンゴム等の弾性部材を挟み込ませることによって簡
易に行うことができる。また、例えばモニタ用基板２４
の外周面に切欠きを設け、その切欠きと係合する突起を
モニタ用基板ホルダ２３の内周面に設けて、それら切欠
きと突起の嵌め合いによって固定するようにしてもよ
い。

【００２９】サンプルホルダ２２のモニタ用基板ホルダ
２３搭載部には図２に示したように、凹部２７が形成さ
れ、この凹部２７にモニタ用基板ホルダ２３はその底面
側の略半部が位置決め収容されている。なお、モニタ用
基板ホルダ２３はこの例では凹部２７上に単に載置され
ているが、サンプルホルダ２２が回転しても、その自重
による摩擦力によってサンプルホルダ２２に対して相対
的に動かないものとなっている。

【００３０】凹部２７の底面には窓２８が形成されてお
り、この窓２８を介してモニタ用基板２４の成膜面の一
部がターゲット（図示せず）側に露出されている。窓２
８は図１に示したように、サンプルホルダ２２に対する
サンプル基板２１の取り付け半径位置と同じ半径位置に
形成され、その形状は円周に沿う長円形とされている。

【００３１】なお、この例では凹部２７の位置と対応し
てターゲット側に突出する段部２９がサンプルホルダ２
２に形成されており、これにより図２に示したように凹
部２７が深く形成されてモニタ用基板２４のターゲット
と対向する板面の高さ位置がサンプル基板２１の成膜面
の高さ位置とほぼ等しくなるようにされている。

【００３２】次に、上記のようにモニタ用基板２４を保
持してサンプルホルダ２２に搭載されたモニタ用基板ホ
ルダ２３を凹部２７内において回動（自転）させるため
の機構について説明する。

【００３３】図３に示したようにモニタ用基板ホルダ２
３の回動は真空チャンバ３１の壁面を挿通して設けられ
た回転シャフト３２を移動・回転させることによって行
われる。回転シャフト３２の内端にはこの例では歯車３
３が取り付けられており、この歯車３３とかみ合う歯車
３４がモニタ用基板ホルダ２３の、サンプルホルダ２２
の凹部２７より突出する外周面に形成されている。

【００３４】真空チャンバ３１の壁面開口部３５にはベ
ローズ３６が取り付けられ、その先端に取り付けられた
フランジ３７を挿通して回転シャフト３２の他端は真空
チャンバ３１の外部に導出されている。なお、この回転
シャフト３２のフランジ３７挿通部には磁気シール３８
が設けられている。

【００３５】回転シャフト３２を回転させるモータ３９
は図に示したようにフランジ３７上に設置されており、
このモータ３９はフランジ３７と一体に図中、矢印４１
で示した方向に変位可能なように構成され、これにより
回転シャフト３２が移動可能とされて歯車３３と３４と
よりなる回転伝達機構が接離可能とされている。

【００３６】回転シャフト３２を移動させ、歯車３３と
３４とをかみ合わせてモータ３９を駆動することによ
り、モニタ用基板ホルダ２３は凹部２７内において回動
し、モニタ用基板２４はその中心回りに回動される。従
って、モニタ用基板２４を所定の角度回動させることを
繰り返し行うことにより、モニタ用基板２４の成膜面の
新たな部分が窓２８を介して順次露出されることにな
る。なお、この窓２８に対向して成膜される部分以外の
部分はサンプルホルダ２２の凹部２７の底面に面してい
るため、サンプルホルダ２２によって遮蔽され、成膜が
防止される。

【００３７】上記のような構成によれば、成膜時は歯車
３３と３４とが離間され、モニタ用基板ホルダ２３はサ
ンプルホルダ２２の凹部２７に対する搭載角度位置を保
ったまま、サンプルホルダ２２の回転によってサンプル
基板２１と共に回転され、つまりモニタ用基板２４がサ
ンプル基板２１と同じ条件で回転される。

【００３８】従って、サンプル基板２１と同じ回転半径
位置に設けられている窓２８より露出しているモニタ用
基板２４の成膜面にはサンプル基板２１と完全に等しい
膜厚が成膜され、この膜厚を光学的にモニタすることに
より、膜厚を極めて高精度に測定することが可能とな
る。

【００３９】一方、モニタ用基板ホルダ２３の回動は多
層膜の成膜における層の変更などに際して、サンプルホ
ルダ２２の回転停止時に必要に応じて行われる。即ち、
成膜の停止時に回転シャフト３２を移動させ、歯車３３
と３４とを係合させてモニタ用基板ホルダ２３を所定の
角度回動させ、モニタ用基板２４の成膜面の新しい部分
を露出させる。この作業は真空チャンバを開けることな
く、行うことができ、回動が完了したら、回転シャフト
３２を元の位置に戻し、再びサンプルホルダ２２の回転
と成膜を始動する。このようにしてモニタ用基板２４の
成膜面を未成膜の新しい面に順次切り替えていくことが
可能となる。

【００４０】モニタ用基板２４の成膜面の切り替え可能
回数はモニタ用基板２４の大きさと窓２８の円周方向の
長さ（中心線をなす弧の長さ）とによって決定される。

【００４１】今、図１に示したようにサンプルホルダ２
２の回転軸４２の中心をＯ，モニタ用基板２４の中心を
Ｏ′，窓２８の中心をＯ″とし、Ｏ′−Ｏ″間の距離を
ｄ，窓２８の中心線をなす弧の長さ（即ち、入射光がス
キャンする弧の長さ）をＬとすると、モニタ用基板２４
の成膜面の切り替え可能回数は２πｄ／Ｌとなる。

【００４２】この場合、Ｏ−Ｏ′間の距離をＤとし、サ
ンプルホルダ２２の回転数をＮ（rpm)とすると、膜厚モ
ニタにおけるサンプリング時間は近似的に、６０Ｌ／
｛２π（Ｄ＋ｄ）Ｎ｝（sec)以下でなければならないこ
とになる。

【００４３】これらＬ，Ｄ，ｄは成膜する多層膜に対し
て必要なモニタ用基板２４の成膜面の切り替え回数やサ
ンプルホルダ２２の回転数Ｎ等を考慮して決定される。

【００４４】数値例の一例を示すと、例えばＤ＝８５(m
m)，ｄ＝４７(mm)，Ｌ＝１５(mm)，Ｎ＝２０（rpm)とし
た場合、モニタ用基板２４のモニタ面の切り替え可能回
数は１９回となり、サンプリング時間は５４msec以下が
要求される。この場合、仮に１９層以下の多層膜であれ
ば、各層毎にモニタ面を切り替えることができ、つまり
常に単層膜をモニタすることができることになる。

【００４５】また、数層毎にモニタ面を切り替えるよう
にしてもよく、累積誤差を考慮し、モニタ面一箇所当た
りの成膜層数を例えば１０層とすると、総層数１９０層
の多層膜を精度良く膜厚制御して成膜することが可能と
なる。なお、データサンプリングに関しても一般に市販
されているデータ収集機器で充分サンプリング可能であ
る。

【００４６】モニタ用基板２４の回動は上述したよう
に、成膜切り替え時に、サンプルホルダ２２の回転を停
止し、回転原点まで移動させ、そこで歯車３３，３４を
駆動して行われる。モニタ用基板２４の成膜面の切り替
え回数を２πｄ／Ｌで表した時、成膜面切り替えのため
にモニタ用基板２４を回動させる角度は、３６０Ｌ／２
πｄ（deg)で表され、切り替え回数を上記のように１９
回とした場合、この１回毎の回動角度は１８度となる。

【００４７】なお、この例では図１に示したように、膜
厚を測定するための入射光が完全に透過する穴４３がサ
ンプルホルダ２２に設けられており、１００％透過光を
モニタすることで成膜時の外乱などの測定値に対する影
響を排除でき、より高精度に膜厚測定を行えるものとな
っている。

【００４８】穴４３の形成位置は窓２８と同一半径の円
周上とされ、またその形状・寸法は窓２８と同一とされ
る。

【００４９】なお、成膜された膜厚のモニタを膜の光の
透過率ではなく、反射率によって行う場合には、この穴
４３にミラーを配し、このミラーによって入射光が完全
に反射されて１００％反射光をモニタすることができる
ようにする。

【００５０】上述した実施例では回転シャフト３２に取
り付けられた歯車３３と係合する歯車３４をモニタ用基
板ホルダ２３の外周面に形成したものとなっているが、
例えば図４に示したようにモニタ用基板ホルダ２３の中
心上に軸４４を設け、この軸４４に歯車３３と係合する
歯車４５を取り付けるようにしてもよい。この場合、軸
４４取り付け用として例えば支持部材４６が十字をなす
ようにモニタ用基板ホルダ２３の上面に設けられる。

【００５１】図５は回転シャフト３２の回転をモニタ用
基板ホルダ２３に伝達するための回転伝達機構の他の例
を示したものであり、この例では回転シャフト３２に周
の一箇所が切り欠かれた円筒状のクランプ４７が取り付
けられ、モニタ用基板ホルダ２３には上記と同様に軸４
４が取り付けられて、その軸４４に突起４８が設けられ
たものとなっている。

【００５２】この例では回転シャフト３２は矢印４９方
向に移動可能とされ、クランプ４７の切欠き５１に突起
４８が挿入係合されることにより、回転が伝達されるも
のとなっている。

【００５３】図６はモニタ用基板が円形ではなく、円弧
形をなす帯状とされた例を示したものであり、この例で
はモニタ用基板５２はいわゆる半ドーナツ型とされてい
る。モニタ用基板５２は円弧形枠状をなすモニタ用基板
ホルダ５３に収容固定されており、モニタ用基板ホルダ
５３の底面側の開口５４にその成膜面が臨むように保持
されている。

【００５４】サンプルホルダ２２には図に示したように
環状をなす凹部５５が形成されており、この凹部５５に
モニタ用基板ホルダ５３は搭載されている。凹部５５の
底面にはこの例では互いに１８０°をなす位置に一対の
長円形の窓５６，５７が形成されており、モニタ用基板
５２は一方の窓５６を介してターゲット側にその成膜面
の一部が露出するものとなっている。他方の窓５７は入
射光を１００％透過させるための、つまり測定補償用の
穴として使用される。

【００５５】モニタ用基板ホルダ５３の凹部５５より突
出する部分には図６Ａには示していないが、外周側（あ
るいは内周側）にその円弧の全長に渡って歯車が形成さ
れており、この歯車５８（図６Ｂ参照）は前述した図３
の構成と同様に回転シャフト３２に取り付けられた歯車
３３と係合されることにより、円弧の中心回りに、つま
り回転軸４２の中心Ｏ回りにモニタ用基板ホルダ５３は
回動されるものとなっている。

【００５６】即ち、この例ではモニタ用基板５２は中心
Ｏ回りに回動手段によって所定の角度順次回動され、成
膜面の新たな部分が順次露出されていくものとなってい
る。

【００５７】窓５６の中心をＯ″とし、Ｏ−Ｏ″間の距
離をｄ，窓５６の長さをＬとすると、この例ではモニタ
用基板５２の成膜面の切り替え可能回数は、πｄ／Ｌと
なる。また、サンプリング時間は６０Ｌ／２πｄＮ（se
c)以下が要求されることになる。

【００５８】ここで、Ｌ＝１５（mm），ｄ＝１２０（m
m），Ｎ＝２０（rpm)とすると、切り替え可能回数は２
５回、サンプリング時間は６０msec以下となる。また、
この場合、モニタ用基板５２は１４度ずつ回動させるこ
とになる。

【００５９】なお、サンプル基板２１はサンプルホルダ
２２のターゲット側において半径ｄの位置に所定数保持
されている。

【００６０】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
直視型の光学式膜厚モニタにおいて、簡易な構成で、真
空チャンバを開けることなく、適宜未成膜のモニタ用基
板面に切り替えていくことが可能となる。

【００６１】従って、多層膜の成膜において膜厚制御を
高精度に行うことができ、またモニタ用基板交換のため
に真空チャンバを開ける必要がないため、工数も増大せ
ず、よって多層膜成膜における歩留りの向上、工数の削
減が図られ、例えばＤＷＤＭフィルタ等の非常に高い膜
厚精度が要求される多層膜光学フィルタの製作に用いて
好適なものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例におけるサンプルホルダ部
分の構成概要を示す平面図。

【図２】図１の要部を説明するための部分断面図。

【図３】モニタ用基板ホルダを回動させるための構成を
説明するための図。

【図４】回転シャフト・モニタ用基板ホルダ間の回転伝
達機構の第２の例を示す部分断面図。

【図５】回転シャフト・モニタ用基板ホルダ間の回転伝
達機構の第３の例を示す部分断面図。

【図６】Ａはこの発明の他の実施例におけるサンプルホ
ルダ部分の構成概要を示す平面図、Ｂはその要部を説明
するための部分断面図。

【図７】従来の光学式膜厚モニタ機構（間接型）を示す
模式図。

【図８】従来の光学式膜厚モニタ機構（直視型）を示す
模式図、Ａはモニタ用基板を用いる場合、Ｂはモニタ用
基板がない場合。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 成膜用真空チャンバに設けられた光学式
   膜厚モニタ機構であって、 薄膜を成膜すべきサンプル基板を所定の回転半径位置に
   保持して回転するサンプルホルダに搭載されたモニタ用
   基板ホルダと、 そのモニタ用基板ホルダに保持されたモニタ用基板と、 上記サンプルホルダに対して上記モニタ用基板ホルダを
   回動させる回動手段とを備え、 上記サンプル基板とほぼ同じ回転半径位置に位置して、
   上記サンプルホルダの上記モニタ用基板ホルダ搭載部に
   窓が形成され、 上記回動手段により上記モニタ用基板ホルダを回動させ
   ることにより、上記窓を介して上記モニタ用基板の一部
   が成膜面として順次露出し、その露出した成膜面に成膜
   された膜厚を光学的に測定する構造とされていることを
   特徴とする光学式膜厚モニタ機構。
2. 【請求項２】 請求項１記載の光学式膜厚モニタ機構に
   おいて、 上記モニタ用基板が円形とされ、 上記モニタ用基板ホルダの回動により、上記モニタ用基
   板はその中心回りに回動されることを特徴とする光学式
   膜厚モニタ機構。
3. 【請求項３】 請求項１記載の光学式膜厚モニタ機構に
   おいて、 上記モニタ用基板が円弧形をなす帯状とされ、 上記モニタ用基板ホルダの回動により、上記モニタ用基
   板はその円弧の中心回りに回動されることを特徴とする
   光学式膜厚モニタ機構。
4. 【請求項４】 請求項１記載の光学式膜厚モニタ機構に
   おいて、 上記回動手段は移動可能とされた回転シャフトと、その
   回転シャフトの一端と上記モニタ用基板ホルダとに設け
   られた回転伝達機構とを具備し、 上記回転シャフトはその他端が上記真空チャンバの外部
   に位置され、 上記回転シャフトの移動により、上記回転伝達機構は接
   離可能とされていることを特徴とする光学式膜厚モニタ
   機構。
5. 【請求項５】 請求項４記載の光学式膜厚モニタ機構に
   おいて、 上記回転伝達機構が歯車とされていることを特徴とする
   光学式膜厚モニタ機構。
6. 【請求項６】 請求項１記載の光学式膜厚モニタ機構に
   おいて、 上記膜厚を光学的に測定するための入射光が完全に透過
   する穴が上記サンプルホルダに設けられていることを特
   徴とする光学式膜厚モニタ機構。
7. 【請求項７】 請求項１記載の光学式膜厚モニタ機構に
   おいて、 上記膜厚を光学的に測定するための入射光が完全に反射
   されるミラーが上記サンプルホルダに取り付けられてい
   ることを特徴とする光学式膜厚モニタ機構。