JP2001124517A - 撮像空間の幾何学的歪み解消方法 - Google Patents

撮像空間の幾何学的歪み解消方法

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    • G06T5/80

Abstract

(57)【要約】 【課題】 撮像空間の幾何学的歪みを所定の許容誤差値
内で容易に解消できる方法を提供する。 【解決手段】 複数の参照図形が設定された参照空間
と、これを撮像して得られた撮像空間とから、参照図形
の図芯に撮像図形の図芯を写すアフィン変換列を決定
し、変換後の位置誤差が許容誤差値内に収まらない場合
には参照空間を分割して、以下、許容誤差値内に収まら
ない分割空間について歪み評価値が許容誤差値内に収ま
るまでアフィン変換と空間分割を繰り返す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、被計測空間をC
CDカメラ等により撮像して得られた画像により平面形
状測定を行う場合等において、撮像空間に生じる幾何学
的歪みを解消する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、撮像空間に生じる幾何学的歪みを
解消する方法として、参照空間として格子状の図形を利
用して、区分的多項式による近似を行う方法、全空
間的なアフィン変換を施す方法、レンズ収差等の歪み
の原因に対する調査のステップを踏み、関数近似する方
法、等が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、の区分的多
項式による近似を行う方法では、高次多項式を利用すれ
ば高精度が期待できるが、これは計算コストが高くな
る。の全空間的なアフィン変換を行う方法は、非線形
な歪みに対応できず、高精度が期待できない。の関数
近似する方法は、関数を求めるのが容易ではなく、局所
的に大きく曲率が変化するような歪みに対しては高精度
が期待できない。従って従来、任意の指定許容誤差内で
撮像空間の歪みを容易に解消できるような実用的な方法
はなかった。
【0004】この発明は、撮像空間の幾何学的歪みを所
定の許容誤差値内で容易に解消できる方法を提供するこ
とを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明は、被計測空間
を撮像して得られる撮像空間の幾何学的歪みを解消する
方法であって、被計測空間と同等の位置に設置された、
各参照図形の図芯と参照図形全体の参照原図芯の座標値
位置が予めわかっている複数の参照図形を有する参照空
間を準備し、前記被計測空間を撮像して得られる撮像空
間内の前記複数の参照図形に対応する複数の撮像図形全
体の図芯である転写原図芯を、前記参照空間の参照原図
芯に重ね、前記複数の参照図形の図芯である参照図芯群
にそれぞれ、前記複数の撮像図形の図芯である転写図芯
群を写す第1次アフィン変換を行い、前記参照空間を複
数個の第1次分割空間に分ける空間分割を施し、前記各
第1次分割空間について前記第1次アフィン変換後の各
転写図芯とそれに対応する参照図芯との位置誤差を歪み
評価値として求め、前記第1次分割空間を、前記歪み評
価値が所定の許容誤差値内に収まる分割空間と収まらな
い分割空間とに分類し、前記許容誤差値内に収まらない
分割空間に対してその内部の参照図芯群に、対応する撮
像空間の転写図芯群の第1次アフィン変換後の位置を写
す第2次アフィン変換を行い、前記第1次及び第2次ア
フィン変換後の前記許容誤差値内に収まらない第1次分
割空間に対しては、複数個の第2次分割空間に分ける空
間分割を施し、以下、前記許容誤差値内に収まらない分
割空間について前記歪み評価値が前記許容誤差値内に収
まるまでアフィン変換と空間分割を繰り返すことを特徴
とする。
【0006】この発明によると、被計測空間をCCDカ
メラ等により撮像して得られる撮像空間の幾何学的歪み
を、アフィン変換と空間分割の繰り返しにより容易に解
消することができる。
【0007】この発明において、前記歪み評価値は好ま
しくは、前記参照図芯と前記アフィン変換後の転写図芯
との位置誤差のノルムの最大値とする。或いはまた、前
記歪み評価値は、前記参照図芯に最寄りの転写図芯を求
め、その最寄りの転写図芯と前記参照図芯に対応する転
写図芯との位置誤差のノルムの最大値とすることもでき
る。またこの発明における各アフィン変換においては例
えば、変換後の位置とこれに対応する参照図芯との位置
誤差に対する最小二乗法によりアフィン変換子を決定す
る。更にこの発明において、空間分割は例えば、縦横共
に略1/2分割による空間の4分割とする。またこの発
明において、複数の参照図形は例えば、その参照図芯の
一部が前記参照空間或いは前記参照空間を分割した時の
各分割空間のいずれかの境界上に配置される。更にこの
発明において、参照空間或いは参照空間を分割して得ら
れる各参照領域のいずれかの境界は例えば矩形、三角
形、円弧のいずれかを描くものとする。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
を説明する。具体的な実施の形態に先立ち、この発明に
よる撮像空間の幾何学的歪み解消のアルゴリズムを、
(1)参照空間と撮像空間、(2)アフィン変換式の決
定と歪み評価値、(3)歪み評価値に基づいて全ての位
置誤差を許容誤差値内に収めるための空間分割、の順に
説明する。
【0009】(1)参照空間と撮像空間 図1に示すように、複数の参照図形1が設定された参照
空間4を準備する。各参照図形1は、予め座標位置が正
確にわかっている図芯である参照図芯2(bk(k=
1,2,…,n))を有する。また参照図形1全体の芯
は原図芯3(bg)であり、これも予め座標値がわかっ
ているものとする。これに対して、参照図形1をCCD
で撮像した撮像空間8について、参照図形1に対応する
図形を撮像図形5とし、参照図芯2に対応する芯を転写
図芯6(a k(k=1,2,…,n))とし、参照原図
芯3に対応する撮像図形全体の芯を転写原図芯7
(ag)とする。なお参照空間4の各参照図形1は、そ
の参照図芯2の一部が、後に説明する空間分割を行った
ときの分割空間の境界上に配置されるようになってい
る。
【0010】この様な参照空間4と撮像空間8の関係に
おいて、図2に示すように、原図芯3(bg)と転写原
図芯7(ag)を重ね合わせて、参照図芯2に転写図芯
6を写すアフィン変換を行う。このとき、全ての転写図
芯6に対して、アフィン変換後の位置とその対応する参
照図芯2との位置誤差の最大値を歪み評価値εとして、
この歪み評価値εが所定の許容誤差値δに収まるか否か
の検証を行う。ここで、参照空間4を二次元格子状にn
分割した時の最小空間(隣り合う4点で囲まれる四角形
領域)においては、アフィン変換を施したとき、必ず指
定の許容誤差値に収まるような参照図芯2の群と転写図
芯6の群が予め選ばれていると仮定する。
【0011】(2)アフィン変換式と歪み評価値ε n個の転写図芯ak=(ak x,ak yTに対する参照図芯
を、bk=(bk x,bk yTとし、アフィン変換子を下記
数1とする。
【0012】
【数1】
【0013】ここで、各図芯の座標値は、転写原図芯a
g、原図芯bgを原点とする座標系の座標値にそれぞれ変
換されていると仮定する。各kに対して、bk−Aak
考えて、関数f(x1,x2,x3,x4)を下記数2とお
く。
【0014】
【数2】
【0015】そして、最小二乗法によりアフィン変換子
Aを決定する。即ち、δf/δx1=δf/δx2=δf
/δx3=δf/δx4=0より、下記数3の線形方程式
を解いてアフィン変換子Aを求める。
【0016】
【数3】
【0017】数3を解くと、下記数4となる。
【0018】
【数4】
【0019】このとき、撮像空間におけるアフィン変換
子Aは、撮像空間の座標値を(X,Y)とし、参照空間
の座標値を(x,y)として、下記数5で表される。
【0020】
【数5】
【0021】前述のように、参照図芯2と変換後の転写
図芯6との位置誤差量を歪み評価値εとする。例えば、
撮像空間Sの歪み評価値εは、参照図芯とアフィン変換
後の転写図芯との位置誤差のノルムの最大値として、下
記数6で定義する。
【0022】
【数6】 ε=sup‖Aa−b‖ a∈S
【0023】ここで、ノルム‖・‖は次のように定義す
る。
【0024】
【数7】
【0025】また、bを転写図芯a∈Sに対応する参照
空間の参照図芯とする。なお歪み評価値εの他の例で
は、上記と同様にbを参照図芯、aを転写図芯として、
次のような定義も考えられる。即ち、a,x∈Sなるx
が、‖Ax−b‖を最小とする参照図芯に最寄りの転写
位置を考えて、この最寄りの転写位置と参照図芯に対応
する先の転写図芯と位置誤差の最大値として、次のよう
に定義する場合である。
【0026】
【数8】
【0027】但し、ここでの議論は、数6に示す歪み評
価値εを用いるものとする。この歪み評価値εが所定の
許容誤差値δ内に入るか否かを判定し、入らなければ撮
像空間(参照空間)の分割を行って、分割された撮像空
間に対して次のアフィン変換を施す。以下、歪み評価値
εが所定の許容誤差値δ内に入るまで同様の処理を繰り
返しを行い、幾何学的歪みを解消する。
【0028】(3)位置誤差εを許容誤差値δ内に収め
るための空間分割 前述のように、n個の転写図芯ak=(ak x,ak yT
対する参照図芯を、bk=(bk x,bk yTとし、アフィ
ン変換子を数1で表し、且つ撮像空間の転写図芯を
g、参照空間における原図芯の位置をagとおいて、空
間分割のステップは次のようになる。
【0029】(第1ステップ)図1に示すように、参照
空間4の全空間Sの参照図芯2:bk=(bk x,bk y
とその対応する転写図芯6:ak=(ak x,ak y)とか
ら、上述した方法により第1次アフィン変換子A0を求
める。
【0030】(第2ステップ)図3Aに示すように、参
照空間4の第1次分割による分割空間を、S1,S2,S
3,S4とする。この例では空間分割は、参照図芯2上を
分割境界線が通るように、縦横共に略1/2分割してな
る空間の4分割である。このとき参照図芯2の一部は、
各分割空間(参照領域或いは参照空間)の境界上にあ
り、各参照領域の境界は矩形(正方形又は或いは長方
形)を描き、その最外枠が参照空間4を構成する。但
し、参照空間或いは参照空間内の各参照領域の境界が円
弧或いは三角形を描くような参照空間の設定も可能であ
る。この参照空間4の第1次分割空間S 1〜S4に対応す
る撮像空間8の分割空間は、図3Bに示すように、
1’〜S4’である。これらの分割空間は一対一に対応
するので、以下参照空間の分割空間に着目して説明す
る。
【0031】これらの分割空間のそれぞれに対して、変
換後の転写図芯とこれに対応する参照図芯との位置誤差
の最大値を歪み評価値εk(k=1,2,3,4)とし
て、分割空間を、所定の許容誤差値δに収まる分割空間
と収まらない分割空間とに1次分類する。図3の例で
は、4分割した空間S1〜S4のうち、分割空間S1では
歪み評価値εが許容誤差値δ内に収まっているので、第
1次アフィン変換子A0で歪み補正が可能である。即
ち、分割空間S1では、更なる分割は必要がなく、次の
アフィン変換式により、位置誤差が指定許容誤差値δ内
に収まる補正が可能になる。
【0032】
【数9】
【0033】歪み評価値εが許容誤差値δ内に収まらな
い残りの分割空間S2,S3,S4については、次のステ
ップに進む。 (第3ステップ)これらの分割空間S2,S3,S4につ
いても、既に第1次アフィン変換子A0で変換されてい
る。このとき、アフィン変換式の決定と歪みの評価で
は、転写図芯の転写図芯は、aではなく、A0aを用い
る。以下の議論では、分割空間S2を例にとる。即ちア
フィン変換式の決定には、bk−Aakに代わって、bk
−A(A0k)を用いて、関数f(x1,x2,x3
4)を下記数10とおいて、最小二乗法でアフィン変
換子Aを決定する。
【0034】
【数10】
【0035】また、歪み評価値εは、下記数11により
求める。
【0036】
【数11】 ε=sup‖A(A0a)−b‖ a∈S2
【0037】こうして得られたアフィン変換子AをA1
とすると、分割空間S2におけるアフィン変換子A
(2)は、次式で表される。
【0038】
【数12】
【0039】従って、A(2)=A10が成立する。この
アフィン変換子A(2)は、撮像全空間における第1次ア
フィン変換子A0と、第1次分割された分割空間S2にお
ける第2次アフィン変換子A1の二つの変換子の合成で
ある。ここで、図3A,Bに示すように、分割空間S2
を更に第2次分割(この場合も、縦横共に略1/2分割
による空間の4分割であり、分割境界上に参照図芯2が
並ぶ)し、得られた第2次分割空間S21〜S24を、第1
次及び第2次の合成変換後の歪み評価値εk(k=1,
2,3,4)が指定許容誤差値δ内に収まる分割空間S
21,S24と収まらない分割空間S22,S23に分類する。
許容誤差値δ内に収まる分割空間S21,S24では、アフ
ィン変換子A(2)によって歪み補正が可能である。許容
誤差値δ内に収まらない分割空間S22,S23に対して
は、以下更に同様の分割を繰り返す。以上により、一般
に、第n次分割された空間Sx1x2,,xn(xk=1,
2,3,4,k=1,2,…,n)におけるアフィン変
換子A(n)は、次式のようになる。
【0040】
【数13】
【0041】このアフィン変換子A(n)を作用させるこ
とにより、歪みを解消させる。以上の第1から第3のス
テップを踏むことにより、撮像空間の全ての点で位置誤
差を指定許容誤差値δ内に収めることが可能になる。
【0042】具体的に上述したアルゴリズムを平面形状
測定システムに適用した実施の形態を説明する。図4
は、複数(図の場合3個)のCCDカメラ412a,4
12b,412cを用いて干渉縞画像を撮像して平面形
状を計測する位相シフト法による干渉縞計測装置を示し
ている。このような位相シフト干渉縞の同時計測装置の
原理は、特開平2−287107号公報等に提案されて
いる。レーザ光源401からのコヒーレント光束はレン
ズ402によりビームが拡大され、無偏光ビームスプリ
ッタ403を介して、コリメートレンズ404によりコ
リメートされて参照面405に照射される。参照面40
5は一部反射、一部透過であり、その透過光束は更に1
/4波長板406を介して被検面407に照射される。
【0043】参照面405と被検面407の反射光は、
1/4波長板406により偏光が直交する(即ち位相差
180度)の無干渉光束として重ね合わせられて、ビー
ムスプリッタ406で反射される。この無干渉光束は、
参照面405からの反射光(参照光)の位相に対する被
検面407の反射光(試料光)の位相の差という形で被
検面407の平面形状情報を持つ円偏光光束である。こ
の無干渉光束は二つの無偏光ビームスプリッタ408
a,408bと全反射ミラー408cにより順次1/2
ずつ分割されて3つの分光光学系40a,40b,40
cに入る。
【0044】分光光学系40aと40bは、3つの無干
渉光束に90度ずつ位相差を与えるための例えば1/4
波長板409aと1/2波長板409bを有し、また各
分光光学系40a,40b,40cは、各分光光束の位
相差情報を干渉縞強度情報にするための偏光板410
a,410b,410cを有する。これらの偏光板41
0a,410b,410cは偏光方向が45度ずつ傾斜
している。これにより、各分光光学系40a,40b,
40cのCCDカメラ412a,412b,412cに
より、90ずつ位相シフトした、試料光と参照光の3つ
の干渉画像が撮像される。なお減衰板411a,411
bは各分光光学系40a,40b,40cでの受光強度
を等しく保つために挿入されている。
【0045】CCDカメラ412a,412b,412
cにより撮像された位相の異なる3つの干渉縞情報は、
画像処理装置413に入力され、制御コンピュータ41
4とモニター415により制御されて所定の演算により
被検面407の形状情報を算出する。具体的にこの実施
の形態の場合、3つのCCDカメラ412a,412
b,412cから、撮像空間の各位置(x,y)に対し
てそれぞれ干渉縞情報Il(x,y)が得られるが、各
CCDカメラ412a,412b,412cとそれらに
前置される光学要素により撮像空間に幾何学的歪みが生
じるので、撮像空間の各位置(x,y)の干渉縞情報I
l(x,y)は必ずしも同じ位置に対する干渉情報では
ない。そこで幾何学的な歪みを解消して、撮像画像の各
位置(x,y)の干渉縞情報Il(x,y)が被検面4
07の同じ位置に対する干渉情報となるように補正を加
えることが必要になる。
【0046】そこで、上述した(1)〜(3)のアルゴ
リズムを適用する。得られた3つの撮像空間l=1,
2,3の分割空間をSl k(k=1,…,nl)として、
各分割空間におけるアフィン変換式を下記式のようにお
く。
【0047】
【数14】
【0048】数14において、bl g k,al g k はそれぞ
れ、Sl k(k=1,…,nl)における原図芯,転写原
図芯を表す。次に、参照空間の各座標値(x,y)に対
応する3つの撮像空間lのそれぞれの座標値(Xl
l)は、下記式で与えられる。
【0049】
【数15】
【0050】従って被検面407の各位置(x,y)に
対応する3つの撮像空間lの干渉情報は、上で求められ
た座標値(Xl,Yl)における干渉縞情報Il(Xl,Y
l)で与えられる。以上のようにして、CCD撮像画像
の幾何学的歪みを解消した、被検面の同じ位置に対応す
る3つの撮像装置の干渉縞情報(光強度値)が得られ
る。
【0051】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、被
計測空間とCCD撮像空間との幾何学的歪みを所定の許
容誤差値内で容易に解消することができ、複数の光学系
と対応するCCDカメラを利用する平面形状計測や座標
位置計測等の高精度化が期待できる。またこの発明によ
ると、光学系や撮像系を変更しない限り、領域毎に最終
的なアフィン変換子を作用させる準備をしておき、撮像
画像情報を得る度にそのアフィン変換子を画像情報の処
理の最初の段階で各領域に作用させればよいので、時間
的にも計算コストが少なくて済む。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明における参照空間と撮像空間の関係
を示す図である。
【図2】 この発明におけるアフィン変換と許容誤差値
の関係を示す図である。
【図3A】 この発明における参照空間の空間分割の例
を示す図である。
【図3B】 同じく撮像空間の空間分割の例を示す図で
ある。
【図4】 この発明が適用される干渉縞画像撮像システ
ムを示す図である。
【符号の説明】
1…参照図形、2…参照図芯、3…参照原図芯、4…参
照空間、5…撮像図形、6…転写図芯、7…転写原図
芯、8…撮像空間。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA04 DD00 DD03 FF04 JJ03 JJ16 JJ26 QQ08 QQ25 QQ29 RR07 5B056 AA04 BB01 BB11 BB64 HH03 5B057 AA20 BA02 CA12 CA16 CB12 CB16 CD12 DA07 DB02 DC33

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被計測空間を撮像して得られる撮像空間
    の幾何学的歪みを解消する方法であって、 被計測空間と同等の位置に設置された、各参照図形の図
    芯と参照図形全体の参照原図芯の座標値位置が予めわか
    っている複数の参照図形を有する参照空間を準備し、 前記被計測空間を撮像して得られる撮像空間内の前記複
    数の参照図形に対応する複数の撮像図形全体の図芯であ
    る転写原図芯を、前記参照空間の参照原図芯に重ね、 前記複数の参照図形の図芯である参照図芯群にそれぞ
    れ、前記複数の撮像図形の図芯である転写図芯群を写す
    第1次アフィン変換を行い、 前記参照空間を複数個の第1次分割空間に分ける空間分
    割を施し、 前記各第1次分割空間について前記第1次アフィン変換
    後の各転写図芯とそれに対応する参照図芯との位置誤差
    を歪み評価値として求め、 前記第1次分割空間を、前記歪み評価値が所定の許容誤
    差値内に収まる分割空間と収まらない分割空間とに分類
    し、 前記許容誤差値内に収まらない分割空間に対してその内
    部の参照図芯群に、対応する撮像空間の転写図芯群を写
    す第2次アフィン変換を行い、 前記第1次及び第2次アフィン変換後の前記許容誤差値
    内に収まらない第1次分割空間に対しては、複数個の第
    2次分割空間に分ける空間分割を施し、 以下、前記許容誤差値内に収まらない分割空間について
    前記歪み評価値が前記許容誤差値内に収まるまでアフィ
    ン変換と空間分割を繰り返すことを特徴とする撮像空間
    の幾何学的歪み解消方法。
  2. 【請求項2】 前記歪み評価値は、前記参照図芯と前記
    アフィン変換後の転写図芯との位置誤差のノルムの最大
    値とすることを特徴とする請求項1記載の撮像空間の幾
    何学的歪み解消方法。
  3. 【請求項3】 前記歪み評価値は、前記参照図芯に最寄
    りの転写図芯を求め、その最寄りの転写図芯と前記参照
    図芯に対応する転写図芯との位置誤差のノルムの最大値
    とすることを特徴とする請求項1記載の撮像空間の幾何
    学的歪み解消方法。
  4. 【請求項4】 前記各アフィン変換においては、変換後
    の位置とこれに対応する参照図芯との位置誤差に対する
    最小二乗法によりアフィン変換子を決定することを特徴
    とする請求項1記載の撮像空間の幾何学的歪み解消方
    法。
  5. 【請求項5】 前記各空間分割は、縦横共に略1/2分
    割による空間の4分割とすることを特徴とする請求項1
    記載の撮像空間の幾何学的歪み解消方法。
  6. 【請求項6】 前記複数の参照図形は、その参照図芯の
    一部が前記参照空間或いは前記参照空間を分割した時の
    各分割空間のいずれかの境界上に配置されることを特徴
    とする請求項1記載の撮像空間の幾何学的歪み解消方
    法。
  7. 【請求項7】 前記参照空間或いは前記参照空間を分割
    して得られる各参照領域のいずれかの境界が矩形、三角
    形、円弧のいずれかを描くことを特徴とする請求項1記
    載の撮像空間の幾何学的歪み解消方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100483393B1 (ko) * 2001-11-30 2005-04-15 산요덴키가부시키가이샤 2차원 바코드의 판독 방법
US7352915B2 (en) 2003-01-30 2008-04-01 Sony Corporation Image processing method, image processing apparatus and image pickup apparatus and display apparatus suitable for the application of image processing method
JP2012177697A (ja) * 2003-12-19 2012-09-13 Sri Internatl サンプル媒体上のレチクルマークを用いて、希少細胞のスキャナ画像座標を顕微鏡座標に変換する方法
KR20180102509A (ko) * 2017-03-07 2018-09-17 일루미나, 인코포레이티드 이미지화된 샘플들에 대한 광학적 왜곡 보정

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060210192A1 (en) * 2005-03-17 2006-09-21 Symagery Microsystems Inc. Automatic perspective distortion detection and correction for document imaging
EP1696383B1 (en) * 2005-02-25 2008-06-18 Psion Teklogix Systems Inc. Automatic perspective distortion detection and correction for document imaging
US7653264B2 (en) 2005-03-04 2010-01-26 The Regents Of The University Of Michigan Method of determining alignment of images in high dimensional feature space
JP5642960B2 (ja) * 2006-05-18 2014-12-17 ヤサー エイ. ザグロウル、 光に基づいた論理レベル表現を有する光論理素子およびその設計方法
US8004734B2 (en) * 2006-05-18 2011-08-23 Zaghloul Yasser A Optical logic devices having polarization-based logic level representation and method of designing the same
CN110966939B (zh) * 2018-09-28 2021-10-01 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种干涉测量装置、测量方法及光刻设备

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5448053A (en) * 1993-03-01 1995-09-05 Rhoads; Geoffrey B. Method and apparatus for wide field distortion-compensated imaging
US5929991A (en) * 1997-03-07 1999-07-27 Litel Instruments Single plate corrector for stepper lens train
US6130959A (en) * 1997-07-16 2000-10-10 Cognex Corporation Analyzing an image of an arrangement of discrete objects
JPH11211425A (ja) * 1998-01-22 1999-08-06 Asahi Glass Co Ltd 透明板状体の歪の評価方法および評価装置

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100483393B1 (ko) * 2001-11-30 2005-04-15 산요덴키가부시키가이샤 2차원 바코드의 판독 방법
US7352915B2 (en) 2003-01-30 2008-04-01 Sony Corporation Image processing method, image processing apparatus and image pickup apparatus and display apparatus suitable for the application of image processing method
US7418155B2 (en) 2003-01-30 2008-08-26 Sony Corporation Image processing method, image processing apparatus and image pickup apparatus and display apparatus suitable for the application of image processing method
US7424172B2 (en) 2003-01-30 2008-09-09 Sony Corporation Image processing method, image processing apparatus and image pickup apparatus and display apparatus suitable for the application of image processing method
JP2012177697A (ja) * 2003-12-19 2012-09-13 Sri Internatl サンプル媒体上のレチクルマークを用いて、希少細胞のスキャナ画像座標を顕微鏡座標に変換する方法
KR20180102509A (ko) * 2017-03-07 2018-09-17 일루미나, 인코포레이티드 이미지화된 샘플들에 대한 광학적 왜곡 보정
KR102072232B1 (ko) 2017-03-07 2020-01-31 일루미나, 인코포레이티드 이미지화된 샘플들에 대한 광학적 왜곡 보정
KR20200012006A (ko) * 2017-03-07 2020-02-04 일루미나, 인코포레이티드 이미지화된 샘플들에 대한 광학적 왜곡 보정
TWI685653B (zh) * 2017-03-07 2020-02-21 美商伊路米納有限公司 用於修正成像樣品中的光學失真的方法、用於修正包含複數個光點之圖案化樣品的影像中之光學失真的方法以及非暫時性電腦可讀媒體
US10909666B2 (en) 2017-03-07 2021-02-02 Illumina, Inc. Optical distortion correction for imaged samples
KR102455926B1 (ko) 2017-03-07 2022-10-17 일루미나, 인코포레이티드 이미지화된 샘플들에 대한 광학적 왜곡 보정
US11568522B2 (en) 2017-03-07 2023-01-31 Illumina, Inc. Optical distortion correction for imaged samples
US11816816B2 (en) 2017-03-07 2023-11-14 Illumina, Inc. Optical distortion correction for imaged samples

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