JP2001114863A - Epoxy resin composition and its cured material - Google Patents

Epoxy resin composition and its cured material

Info

Publication number
JP2001114863A
JP2001114863A JP29682299A JP29682299A JP2001114863A JP 2001114863 A JP2001114863 A JP 2001114863A JP 29682299 A JP29682299 A JP 29682299A JP 29682299 A JP29682299 A JP 29682299A JP 2001114863 A JP2001114863 A JP 2001114863A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
resin composition
aralkyl
weight
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29682299A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Yano
博之 矢野
Hisafumi Yamada
尚史 山田
Kazuhiko Nakahara
和彦 中原
Masashi Kaji
正史 梶
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Original Assignee
Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Chemical Co Ltd filed Critical Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority to JP29682299A priority Critical patent/JP2001114863A/en
Publication of JP2001114863A publication Critical patent/JP2001114863A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an epoxy resin composition capable of giving its cured product excellent in molding property, heat resistance, low moisture-absorbing property, solder reflow property, flame resistance, etc., suitable for an electronic part-sealing use. SOLUTION: This epoxy resin composition is obtained by using an aralkyl type epoxy resin A expressed by general formula 1 as the epoxy resin, and an aralkyl type polyhydric hydroxy resin B expressed by general formula 2, having 100-150 deg.C softening point and 1-20 Pa.s melt viscosity [in the formulae, A is benzene ring, naphthalene ring or biphenyl ring allowed to be substituted; B is naphthalene ring; R1 to R4 are each H or a 1-6C hydrocarbon; G is glycidyl group; (l), (n) are each 1 or 2 integer; and (n), (p) are each 1-15].

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、速硬化性、耐熱
性、低吸湿性、半田リフロ−性等に優れ、特に難燃性に
優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物及びこれを硬
化して得られる硬化物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition having excellent curability, heat resistance, low hygroscopicity, solder reflowability and the like, and which gives a cured product having particularly excellent flame retardancy, and a cured epoxy resin composition. And a cured product obtained by the above method.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂を主剤とする樹脂組成物
は、注型、封止、積層板等の電気・電子分野に広く使用
されている。特に、半導体の分野においては、プリント
基板への部品の実装の方法として、従来のピン挿入方式
から表面実装方式への移行が進展しているため、特に半
田リフロ−性に優れた電子部品封止用材料、プリント基
板用材料が望まれている。すなわち、表面実装方式にお
いては、パッケージ全体、プリント基板全体が半田温度
まで加熱されるため、熱衝撃によるパッケージクラッ
ク、プリント基板の信頼性不良が大きな問題点となって
きている。更に、近年、半導体素子の高集積化、素子サ
イズの大型化、配線幅の微細化も急速に進展しており、
これらの問題が一層深刻化してきている。
2. Description of the Related Art A resin composition containing an epoxy resin as a main component is widely used in electric and electronic fields such as casting, sealing, and laminates. In particular, in the field of semiconductors, since the transition from the conventional pin insertion method to the surface mounting method is progressing as a method of mounting components on a printed circuit board, electronic component encapsulation having particularly excellent solder reflow properties. Materials and printed circuit board materials are desired. That is, in the surface mounting method, since the entire package and the entire printed board are heated to the solder temperature, package cracks due to thermal shock and poor reliability of the printed board are becoming serious problems. Furthermore, in recent years, high integration of semiconductor devices, increase in device size, and miniaturization of wiring width are also rapidly progressing.
These problems are becoming more serious.

【0003】また電気・電子分野に使用されるエポキシ
樹脂組成物は、火災に対する安全性確保の観点から、世
界各国において難燃性に関する規格が定められており、
この難燃規格を満足するために、多種多様の難燃剤が使
用されている。昨今は、環境、安全面、更には材料とし
ての信頼性向上の観点から、ハロゲン系難燃剤及びアン
チモン化合物を用いない難燃化の手法、すなわち難燃剤
が望まれている。
[0003] In addition, from the viewpoint of ensuring safety against fire, epoxy resin compositions used in the electric and electronic fields have flame retardant standards in various countries around the world.
A wide variety of flame retardants are used to satisfy this flame retardant standard. In recent years, from the viewpoints of environment, safety, and improvement in reliability as a material, a flame-retarding method using no halogen-based flame retardant and antimony compound, that is, a flame retardant has been desired.

【0004】例えば、電子部品封止用材料では、半田リ
フロ−性向上の観点からフィラー高充填率化が指向さ
れ、低粘度型の二官能性エポキシ樹脂が広く検討されて
いる。そこで、特公平4−7365号にはビフェニル系
エポキシ樹脂、特開平6−345850号にはビスフェ
ノールF型固形エポキシ樹脂を主剤としたエポキシ樹脂
組成物が提案されているが、低硬化性、低ガラス転移点
の問題がある。近年、半導体パッケージの大面積化とB
GAパッケージ等の進展により、パッケージの反りの問
題が強く指摘されてきており、半田リフロ−性に優れ、
且つ高いガラス転移点を有するエポキシ樹脂組成物が望
まれている。
[0004] For example, in the case of materials for sealing electronic parts, a high filling rate of filler is aimed at from the viewpoint of improving solder reflow properties, and low-viscosity bifunctional epoxy resins are widely studied. Therefore, an epoxy resin composition containing a biphenyl epoxy resin as a main component in Japanese Patent Publication No. 4-73565 and a bisphenol F type solid epoxy resin as a main component in JP-A-6-345850 has been proposed. There is a transition point problem. In recent years, semiconductor packages have become larger and B
With the development of GA packages, etc., the problem of package warpage has been strongly pointed out, and it has excellent solder reflow properties.
An epoxy resin composition having a high glass transition point is desired.

【0005】高いガラス転移点を有するエポキシ樹脂と
して本発明に関わる一般式(1)に示されるエポキシ樹
脂は、特開平4-255714号において既に知られて
いるが、フェノールノボラックに代表される通常の硬化
剤を用いて硬化させると吸水率が高くなる欠点があり、
半田リフロ−性の向上は期待できない。また、硬化剤と
してアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂も公知であるが、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、o-クレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂等の通常のエポキシ樹脂と組み合わ
せた場合には、高いガラス転移点は期待できず、半田リ
フロ−性の向上も望めない。更に、硬化剤としてアラル
キル型多価ヒドロキシ樹脂を、本発明に関わる一般式
(1)に示されるエポキシ樹脂と組み合わせた例は、特
開平10−292032に示されてはいるが、耐熱性、
低吸湿性の両立、特に、ハロゲン系難燃剤及びアンチモ
ン化合物を用いない際の難燃性の点では、必ずしも十分
とはいえない。
The epoxy resin represented by the general formula (1) according to the present invention as an epoxy resin having a high glass transition point is already known in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-255714, but is usually represented by phenol novolak. There is a drawback that the water absorption increases when cured using a curing agent,
An improvement in solder reflowability cannot be expected. Also, an aralkyl polyhydric hydroxy resin is known as a curing agent,
When combined with ordinary epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin and o-cresol novolak type epoxy resin, a high glass transition point cannot be expected and an improvement in solder reflow properties cannot be expected. Further, an example in which an aralkyl-type polyvalent hydroxy resin as a curing agent is combined with an epoxy resin represented by the general formula (1) according to the present invention is disclosed in JP-A-10-292032, but heat resistance,
It is not always sufficient in terms of compatibility with low moisture absorption, particularly in terms of flame retardancy when a halogen-based flame retardant and an antimony compound are not used.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、速硬化性、流動性等の成形性、耐熱性、低吸湿性、
半田リフロ−性に優れ、特に、難燃性に優れた硬化物を
与えるエポキシ樹脂組成物を提供すること、特に表面実
装型の半導体素子等の電子部品封止用、プリント基板用
等に適したエポキシ樹脂組成物及びその硬化物を提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide moldability such as rapid curability and fluidity, heat resistance, low moisture absorption,
To provide an epoxy resin composition having excellent solder reflow properties and, in particular, providing a cured product having excellent flame retardancy, and is particularly suitable for sealing electronic parts such as surface-mounted semiconductor elements, and for printed circuit boards. An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition and a cured product thereof.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点に鑑み鋭意検討した結果、特定の多官能エポキシ樹脂
とアラルキル型の特定の硬化剤とを組み合わせることに
より、上記目的を達成し得ることを見いだし、本発明を
完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies in view of the above problems, and as a result, achieved the above object by combining a specific polyfunctional epoxy resin with a specific aralkyl type curing agent. We have found that we have completed the present invention.

【0008】すなわち、本発明は、エポキシ樹脂として
下記一般式(1)
That is, the present invention provides an epoxy resin represented by the following general formula (1):

【化3】 (式中、Aは炭素数1〜6の炭化水素基で置換されてい
てもよいベンゼン環、ナフタレン環又はビフェニル環を
示し、R1及びR2は水素原子又は炭素数1〜6の炭化水
素基を示し、Gはグリシジル基を示す。lは1又は2の
整数、nは1〜15の数を示す。)で表されるアラルキル
型エポキシ樹脂(A)を、硬化剤として下記一般式
(2)
Embedded image (Wherein, A represents a benzene ring, a naphthalene ring or a biphenyl ring which may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or a hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms. An aralkyl type epoxy resin (A) represented by the following general formula (A), wherein G is a glycidyl group, l is an integer of 1 or 2, and n is a number of 1 to 15. 2)

【化4】 (式中、Bは炭素数1〜6の炭化水素基で置換されてい
てもよいナフタレン環を示し、R3及びR4は水素原子又
は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、l及びmは1又は2
の整数、pは1〜15の数を示す。)で表され、且つ軟化
点が100〜150℃であり、150℃における溶融粘
度が1〜20Pa・sであるアラルキル型多価ヒドロキ
シ樹脂(B)を含有することを特徴とするエポキシ樹脂
組成物である。アラルキル型エポキシ樹脂(A)100
重量部に対し、アラルキル型多価ヒドロキシ樹脂(B)
は、40〜150重量部含有することが好ましい。ま
た、アラルキル型エポキシ樹脂(A)が全エポキシ樹脂
の10〜100重量%であり、アラルキル型多価ヒドロ
キシ樹脂(B)が全硬化剤の10〜100重量%である
ことが好ましい。更に、アラルキル型エポキシ樹脂
(A)が全エポキシ樹脂の80〜100重量%であり、
アラルキル型多価ヒドロキシ樹脂(B)が全硬化剤の8
0〜100重量%であることがより好ましい。また、本
発明は、前記エポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬
化物である。
Embedded image (Wherein B represents a naphthalene ring which may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, l and m is 1 or 2
And p represents a number of 1 to 15. And an aralkyl-type polyvalent hydroxy resin (B) having a softening point of 100 to 150 ° C and a melt viscosity at 150 ° C of 1 to 20 Pa · s. It is. Aralkyl epoxy resin (A) 100
Aralkyl-type polyhydroxy resin (B) based on parts by weight
Is preferably contained in an amount of 40 to 150 parts by weight. Further, the aralkyl type epoxy resin (A) preferably accounts for 10 to 100% by weight of the total epoxy resin, and the aralkyl type polyvalent hydroxy resin (B) preferably accounts for 10 to 100% by weight of the total curing agent. Furthermore, the aralkyl type epoxy resin (A) is 80 to 100% by weight of the total epoxy resin,
The aralkyl-type polyhydroxy resin (B) is the total hardener of 8
More preferably, it is 0 to 100% by weight. Further, the present invention is a cured product obtained by curing the epoxy resin composition.

【0009】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明のエポキシ樹脂組成物の必須成分である、上記一般
式(1)で表されるエポキシ樹脂(A)は、下記一般式
(a)で表される多価ヒドロキシ樹脂とエピクロロヒド
リンとを反応させることにより製造することができる。
そして、この多価ヒドロキシ樹脂は、二官能フェノ−ル
性化合物と芳香族架橋剤とを反応させることにより製造
することができる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The epoxy resin (A) represented by the above general formula (1), which is an essential component of the epoxy resin composition of the present invention, comprises a polyvalent hydroxy resin represented by the following general formula (a) and epichlorohydrin. Can be produced by reacting
The polyhydroxy resin can be produced by reacting a bifunctional phenolic compound with an aromatic crosslinking agent.

【化5】 (式中、Aは炭素数1〜6の炭化水素基で置換されてい
てもよいベンゼン環、ナフタレン環又はビフェニル環を
示す。また、R1及びR2は水素原子又は炭素数1〜6の
炭化水素基を示す。lは1又は2の整数、nは1〜15の
数を示す。)
Embedded image (Wherein, A represents a benzene ring, a naphthalene ring or a biphenyl ring which may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. In addition, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or a carbon atom having 1 to 6 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group, l is an integer of 1 or 2, and n is a number of 1 to 15.)

【0010】多価ヒドロキシ樹脂の合成原料の二官能フ
ェノール性化合物としては、例えば、カテコール、レゾ
ルシン、ヒドロキノン等のジヒドロキシベンゼン類、
1,4−ナフタレンジオール、1,5−ナフタレンジオ
ール、1,6−ナフタレンジオール、1,7−ナフタレ
ンジオール、2,6−ナフタレンジオール、2,7−ナ
フタレンジオール等のジヒドロキシナフタレン類、4,
4’−ジヒドロキシビフェニル、2,2’−ジヒドロキ
シビフェニル等のジヒドロキシビフェニル類などが挙げ
られる。これらの二官能フェノール性化合物は炭素数1
〜6の炭化水素基で置換されていてもよい。置換基とし
ては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ア
リル基、ターシャリーブチル基、アミル基、シクロヘキ
シル基、フェニル基などが挙げられ、その数は1〜2程
度である。また、これらの二官能フェノール性化合物
は、単独でもよいし、2種類以上を併用してもよい。必
要に応じて、本発明の目的を損なわない範囲で、フェノ
ール、クレゾール、キシレノール等の単官能フェノール
類を二官能フェノール性化合物と併用してもよい。この
場合、単官能フェノール類の使用量は、フェノール性化
合物全体に対して50重量%以下であることが好まし
い。
Examples of the bifunctional phenolic compound used as a raw material for synthesizing a polyhydric hydroxy resin include dihydroxybenzenes such as catechol, resorcin and hydroquinone;
Dihydroxynaphthalenes such as 1,4-naphthalene diol, 1,5-naphthalene diol, 1,6-naphthalene diol, 1,7-naphthalene diol, 2,6-naphthalene diol, and 2,7-naphthalene diol;
Dihydroxybiphenyls such as 4′-dihydroxybiphenyl and 2,2′-dihydroxybiphenyl; These bifunctional phenolic compounds have 1 carbon atom.
To 6 hydrocarbon groups. Examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an allyl group, a tertiary butyl group, an amyl group, a cyclohexyl group, and a phenyl group. In addition, these bifunctional phenolic compounds may be used alone or in combination of two or more. If necessary, monofunctional phenols such as phenol, cresol and xylenol may be used in combination with the bifunctional phenolic compound as long as the object of the present invention is not impaired. In this case, the amount of the monofunctional phenol used is preferably 50% by weight or less based on the whole phenolic compound.

【0011】また、芳香族架橋剤としては、例えば、下
記一般式(b)で表されるジグリコ−ル類又はジアルコ
キシ化合物や、下記一般式(c)で表されるジアルケニ
ル化合物がある。
The aromatic crosslinking agent includes, for example, diglycols or dialkoxy compounds represented by the following general formula (b) and dialkenyl compounds represented by the following general formula (c).

【化6】 Embedded image

【化7】 (式中、R1、R2、R5、R6及びR7は水素原子又は炭
素数1〜6の炭化水素基を示し、lは1又は2の整数を
示す。)
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 5 , R 6 and R 7 represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 represents an integer of 1 or 2.)

【0012】芳香族架橋剤としては、ベンゼン骨格を有
するものとビフェニル骨格を有するものがある。ベンゼ
ン骨格を有するものとしては、o−体、m−体、p−体
のいずれでもよいが、好ましくは、m−体、p−体であ
る。具体的には、p−キシリレングリコール、α,α’
−ジメトキシ−p−キシレン、α,α’−ジエトキシ−
p−キシレン、α,α’−ジイソプロポキシ−p−キシ
レン、α,α’−ジブトキシ−p−キシレン、m−キシ
リレングリコール、α,α’−ジメトキシ−m−キシレ
ン、α,α’−ジエトキシ−m−キシレン、α,α’−
ジイソプロポキシ−m−キシレン、α,α’−ジブトキ
シ−m−キシレン、1,4−ジ(2−ヒドロキシ−2−
エチル)ベンゼン、1,4−ジ(2−メトキシ−2−エ
チル)ベンゼン、1,4−ジ(2−エトキシ−2−エチ
ル)ベンゼン、1,4−ジ(2−イソプロポキシ−2−
エチル)ベンゼン、1,4−ジ(2−ヒドロキシ−2−
プロピル)ベンゼン、1,4−ジ(2−メトキシ−2−
プロピル)ベンゼン、1,4−ジ(2−エトキシ−2−
プロピル)ベンゼン、1,4−ジ(2−イソプロポキシ
−2−プロピル)ベンゼン、1,3−ジ(2−ヒドロキ
シ−2−エチル)ベンゼン、1,3−ジ(2−メトキシ
−2−エチル)ベンゼン、1,3−ジ(2−ヒドロキシ
−2−プロピル)ベンゼン、1,3−ジ(2−メトキシ
−2−プロピル)ベンゼン、1,2−ジビニルベンゼ
ン、1,3−ジビニルベンゼン、1,4−ジビニルベン
ゼン、1,2−ジ(2-プロペニル)ベンゼン、1,3
−ジ(2-プロペニル)ベンゼン、1,4−ジ(2-プロ
ペニル)ベンゼン等が挙げられる。
The aromatic crosslinking agent includes those having a benzene skeleton and those having a biphenyl skeleton. The compound having a benzene skeleton may be any of an o-form, an m-form and a p-form, but is preferably an m-form or a p-form. Specifically, p-xylylene glycol, α, α ′
-Dimethoxy-p-xylene, α, α'-diethoxy-
p-xylene, α, α′-diisopropoxy-p-xylene, α, α′-dibutoxy-p-xylene, m-xylylene glycol, α, α′-dimethoxy-m-xylene, α, α′- Diethoxy-m-xylene, α, α'-
Diisopropoxy-m-xylene, α, α′-dibutoxy-m-xylene, 1,4-di (2-hydroxy-2-
Ethyl) benzene, 1,4-di (2-methoxy-2-ethyl) benzene, 1,4-di (2-ethoxy-2-ethyl) benzene, 1,4-di (2-isopropoxy-2-
Ethyl) benzene, 1,4-di (2-hydroxy-2-
Propyl) benzene, 1,4-di (2-methoxy-2-
Propyl) benzene, 1,4-di (2-ethoxy-2-
Propyl) benzene, 1,4-di (2-isopropoxy-2-propyl) benzene, 1,3-di (2-hydroxy-2-ethyl) benzene, 1,3-di (2-methoxy-2-ethyl) ) Benzene, 1,3-di (2-hydroxy-2-propyl) benzene, 1,3-di (2-methoxy-2-propyl) benzene, 1,2-divinylbenzene, 1,3-divinylbenzene, 1,4-divinylbenzene, 1,2-di (2-propenyl) benzene, 1,3
-Di (2-propenyl) benzene, 1,4-di (2-propenyl) benzene and the like.

【0013】また、ビフェニル骨格を有するものとして
は、4,4’−ジヒドロキシメチルビフェニル、2,
4’−ジヒドロキシメチルビフェニル、2,2’−ジヒ
ドロキシメチルビフェニル、4,4’−ジメトキシメチ
ルビフェニル、2,4’−ジメトキシメチルビフェニ
ル、2,2’−ジメトキシメチルビフェニル、4,4’
−ジイソプロポキシメチルビフェニル、2,4’−ジイ
ソプロポキシメチルビフェニル、2,2’−ジイソプロ
ポキシメチルビフェニル、4,4’−ジブトキシメチル
ビフェニル、2,4’−ジブトキシメチルビフェニル、
2,2’−ジブトキシメチルビフェニル、4,4’−ジ
(2−ヒドロキシ−2−エチル)ビフェニル、4,4’
−ジ(2−メトキシ−2−エチル)ビフェニル、4,
4’−ジ(2−エトキシ−2−エチル)ビフェニル、
4,4’−ジ(2−イソプロポキシ−2−エチル)ビフ
ェニル、4,4’−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ビフェニル、4,4’−ジ(2−メトキシ−2−プ
ロピル)ビフェニル、4,4’−ジ(2−エトキシ−2
−プロピル)ビフェニル、4,4’−ジ(2−イソプロ
ポキシ−2−プロピル)ビフェニル、2,4’−ジ(2
−ヒドロキシ−2−エチル)ビフェニル、2,4’−ジ
(2−メトキシ−2−エチル)ビフェニル、2,4’−
ジ(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ビフェニル、2,
4’−ジ(2−メトキシ−2−プロピル)ビフェニル、
2,4’−ジビニルビフェニル、2,2’−ジビニルビ
フェニル、4,4’−ジビニルビフェニル、2,4’−
ジ(2-プロペニル)ビフェニル、2,2’−ジ(2-プ
ロペニル)ビフェニル、4,4’−ジ(2-プロペニ
ル)ビフェニル等が挙げられる。メチロール基等の官能
基のビフェニルに対する置換位置は、4,4’−位、
2,4’−位、又は2,2’−位のいずれでもよいが、
芳香族架橋剤として好ましい化合物は4,4’−体であ
り、全架橋剤中に4,4’−体が50重量%以上含まれ
たものが特に好ましい。これより少ないとエポキシ樹脂
を硬化させる際の硬化速度が低下したり、得られた硬化
物が脆くなるなどの欠点がある。
Further, those having a biphenyl skeleton include 4,4'-dihydroxymethylbiphenyl,
4'-dihydroxymethylbiphenyl, 2,2'-dihydroxymethylbiphenyl, 4,4'-dimethoxymethylbiphenyl, 2,4'-dimethoxymethylbiphenyl, 2,2'-dimethoxymethylbiphenyl, 4,4 '
-Diisopropoxymethylbiphenyl, 2,4'-diisopropoxymethylbiphenyl, 2,2'-diisopropoxymethylbiphenyl, 4,4'-dibutoxymethylbiphenyl, 2,4'-dibutoxymethylbiphenyl,
2,2'-dibutoxymethylbiphenyl, 4,4'-di (2-hydroxy-2-ethyl) biphenyl, 4,4 '
-Di (2-methoxy-2-ethyl) biphenyl, 4,
4′-di (2-ethoxy-2-ethyl) biphenyl,
4,4'-di (2-isopropoxy-2-ethyl) biphenyl, 4,4'-di (2-hydroxy-2-propyl) biphenyl, 4,4'-di (2-methoxy-2-propyl) Biphenyl, 4,4'-di (2-ethoxy-2
-Propyl) biphenyl, 4,4'-di (2-isopropoxy-2-propyl) biphenyl, 2,4'-di (2
-Hydroxy-2-ethyl) biphenyl, 2,4'-di (2-methoxy-2-ethyl) biphenyl, 2,4'-
Di (2-hydroxy-2-propyl) biphenyl, 2,
4′-di (2-methoxy-2-propyl) biphenyl,
2,4'-divinylbiphenyl, 2,2'-divinylbiphenyl, 4,4'-divinylbiphenyl, 2,4'-
Di (2-propenyl) biphenyl, 2,2′-di (2-propenyl) biphenyl, 4,4′-di (2-propenyl) biphenyl and the like. Substitution positions of a functional group such as a methylol group for biphenyl are 4,4′-positions,
2,4′-position or 2,2′-position,
The preferred compound as the aromatic cross-linking agent is the 4,4'-isomer, and particularly preferably the compound containing 50% by weight or more of the 4,4'-isomer in the total cross-linking agent. If the amount is less than this, there are disadvantages such as a decrease in curing speed when curing the epoxy resin and an obtained cured product becomes brittle.

【0014】二官能フェノール性化合物と芳香族架橋剤
との反応には、芳香族架橋剤に対して過剰量の二官能フ
ェノール性化合物を使用する。芳香族架橋剤の使用量
は、二官能フェノール性化合物1モルに対して0.1〜
0.9モル、好ましくは0.2〜0.7モルである。芳
香族架橋剤の使用量が0.9モルより多いと樹脂の軟化
点が高くなって成形作業性に支障をきたし、0.1モル
より少ないと反応終了後、過剰の二官能フェノール性化
合物の除く量が多くなり、工業的に好ましくない。
In the reaction between the bifunctional phenolic compound and the aromatic crosslinking agent, an excess amount of the bifunctional phenolic compound relative to the aromatic crosslinking agent is used. The amount of the aromatic cross-linking agent used is 0.1 to 0.1 mol per 1 mol of the bifunctional phenolic compound.
0.9 mole, preferably 0.2 to 0.7 mole. If the amount of the aromatic cross-linking agent is more than 0.9 mol, the softening point of the resin becomes high and the molding workability is hindered. The removal amount increases, which is not industrially preferable.

【0015】通常、この反応は、公知の無機酸、有機酸
等の酸触媒の存在下に行う。このような酸触媒として
は、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の鉱酸や、ギ酸、シュ
ウ酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸等の
有機酸や、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フ
ッ化ホウ素等のルイス酸や、活性白土、シリカ−アルミ
ナ、ゼオライト等の固体酸等が挙げられる。
Usually, this reaction is carried out in the presence of a known acid catalyst such as an inorganic acid or an organic acid. Examples of such an acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, organic acids such as formic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid, and p-toluenesulfonic acid, zinc chloride, aluminum chloride, and iron chloride. Examples include Lewis acids such as boron trifluoride, and solid acids such as activated clay, silica-alumina, and zeolite.

【0016】通常、この反応は10〜250℃で1〜2
0時間行う。更に、反応の際に溶媒として、例えば、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エ
チレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、ジグライム、トリグライム等のアルコール類や、ベ
ンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン
等の芳香族化合物などを使用することがよい。結晶性の
高い4,4’−ジヒドロキシビフェニル、1,5−ナフ
タレンジオール、2,6−ナフタレンジオールを用いる
ときの溶媒としては、エチルセロソルブ、ジグライム、
トリグライムなどが好ましい。反応終了後、得られた多
価ヒドロキシ樹脂は、減圧留去、水洗又は貧溶媒中での
再沈殿等の方法により溶媒を除去してもよいが、溶媒を
残したままエポキシ化反応の原料として用いてもよい。
Usually, this reaction is carried out at 10-250 ° C. for 1-2
Perform for 0 hours. Further, as a solvent at the time of the reaction, for example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, diglyme, triglyme, and aromatic compounds such as benzene, toluene, chlorobenzene, and dichlorobenzene It is better to use such as. When using 4,4′-dihydroxybiphenyl, 1,5-naphthalenediol, and 2,6-naphthalenediol having high crystallinity, the solvent used is ethyl cellosolve, diglyme,
Triglyme is preferred. After the completion of the reaction, the obtained polyvalent hydroxy resin may be removed by a method such as distillation under reduced pressure, washing with water or reprecipitation in a poor solvent, but as a raw material for the epoxidation reaction while leaving the solvent. May be used.

【0017】このようにして製造される多価ヒドロキシ
樹脂は、上記一般式(a)で表されるものであるが、好
ましくは、Aは無置換若しくはメチル基で置換されたベ
ンゼン環、ナフタレン環又はビフェニル環であり、平均
の繰り返し数nは1〜5である。
The polyhydric hydroxy resin thus produced is represented by the above general formula (a). Preferably, A is an unsubstituted or methyl-substituted benzene or naphthalene ring. Or a biphenyl ring, and the average number of repetitions n is 1 to 5.

【0018】本発明のエポキシ樹脂組成物に用いるエポ
キシ樹脂は、上記多価ヒドロキシ樹脂とエピクロルヒド
リンとを反応させることにより製造することができる。
この反応は、通常のエポキシ化反応と同様に行うことが
できる。例えば、多価ヒドロキシ樹脂を過剰のエピクロ
ルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に50〜15
0℃、好ましくは、60〜120℃で1〜10時間反応
させる方法が挙げられる。この際、アルカリ金属水酸化
物の使用量は、多価ヒドロキシ化合物中の水酸基1モル
に対し、0.8〜1.2モル、好ましくは0.9〜1.
0モルである。また、エピクロルヒドリンは多価ヒドロ
キシ樹脂中の水酸基に対して過剰に用いられるが、通
常、多価ヒドロキシ化合物中の水酸基1モルに対し、
1.5〜15モル、好ましくは、2〜8モルである。反
応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物
をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解
し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次いで溶剤を留
去することにより、一般式(1)で表されるエポキシ樹
脂(A)を得ることができる。なお、一般式(1)、
(2)、(a)、(b)及び(c)において、同一式中
に同一の記号が2以上ある場合、それは定義された基又
は原子である限り、同一の基又は原子であっても、異な
った基又は原子であってもよい。
The epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention can be produced by reacting the above polyhydroxy resin with epichlorohydrin.
This reaction can be performed in the same manner as a usual epoxidation reaction. For example, after dissolving a polyvalent hydroxy resin in an excess of epichlorohydrin, the solution is dissolved in an amount of 50 to 15 in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
A method in which the reaction is carried out at 0 ° C, preferably 60 to 120 ° C for 1 to 10 hours, may be mentioned. At this time, the amount of the alkali metal hydroxide to be used is 0.8 to 1.2 mol, preferably 0.9 to 1 mol, per 1 mol of the hydroxyl group in the polyhydroxy compound.
0 mol. Further, epichlorohydrin is used in excess with respect to the hydroxyl groups in the polyvalent hydroxy resin.
1.5 to 15 mol, preferably 2 to 8 mol. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, the residue is dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the solvent is distilled off to obtain a compound of the general formula The epoxy resin (A) represented by (1) can be obtained. In addition, the general formula (1),
In (2), (a), (b) and (c), when there are two or more identical symbols in the same formula, they may be the same groups or atoms as long as they are defined groups or atoms. , Different groups or atoms.

【0019】このエポキシ樹脂の純度、特に加水分解性
塩素量は、封止する電子部品の信頼性向上の観点より少
ないものがよい。特に限定するものではないが、100
0ppm以下がよい。なお、本発明でいう加水分解性塩
素とは、以下の方法により測定された値をいう。すなわ
ち、試料0.5gをジオキサン30mlに溶解させ、1
N−KOH水溶液10mlを加え30分間煮沸還流した
後、室温まで冷却し、更に80%アセトン水100ml
を加え、0.002N−AgNO3水溶液で電位差滴定
を行い、得られる値である。
The purity of the epoxy resin, particularly the amount of hydrolyzable chlorine, is preferably smaller than the viewpoint of improving the reliability of the electronic component to be sealed. Although not particularly limited, 100
0 ppm or less is good. In addition, the hydrolyzable chlorine referred to in the present invention refers to a value measured by the following method. That is, 0.5 g of a sample is dissolved in 30 ml of dioxane,
10 ml of an aqueous solution of N-KOH was added, and the mixture was boiled and refluxed for 30 minutes.
Is added, and potentiometric titration is performed with a 0.002 N-AgNO3 aqueous solution, and this is a value obtained.

【0020】また、このエポキシ樹脂の粘度及び軟化点
は、エポキシ樹脂原料である多価ヒドロキシ樹脂を合成
する際の二官能フェノール性化合物と架橋剤のモル比を
変えることにより容易に調整可能であるが、好ましい軟
化点範囲は60〜150℃である。軟化点範囲が60℃
より低いとエポキシ樹脂組成物としての耐熱性の低下を
招き、150℃より高いと粘度上昇により作業性の低下
を招く。
The viscosity and softening point of the epoxy resin can be easily adjusted by changing the molar ratio of the bifunctional phenolic compound and the crosslinking agent when synthesizing the polyhydroxy resin as the raw material of the epoxy resin. However, a preferable softening point range is 60 to 150 ° C. Softening point range is 60 ° C
If the temperature is lower than this, the heat resistance of the epoxy resin composition decreases, and if it is higher than 150 ° C., the workability decreases due to an increase in viscosity.

【0021】本発明のエポキシ樹脂組成物には、必須成
分である上記エポキシ樹脂(A)以外に分子中にエポキ
シ基を2個以上有する通常のエポキシ樹脂を配合しても
よい。このようなエポキシ樹脂としては、例えば、ビス
フェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、
フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、
2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン
等の2価のフェノール類、トリス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒ
ドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o
−クレゾールノボラック等の3価以上のフェノール類、
テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェ
ノール類から誘導されるグルシジルエーテル化物などが
挙げられる。これらのエポキシ樹脂は1種又は2種以上
を併用してもよいが、一般式(1)のエポキシ樹脂
(A)の配合割合は、全エポキシ樹脂中、10〜100
重量%、好ましくは50重量%以上、より好ましくは8
0重量%以上であることがよい。
The epoxy resin composition of the present invention may contain, in addition to the above-mentioned epoxy resin (A) which is an essential component, a general epoxy resin having two or more epoxy groups in a molecule. Examples of such an epoxy resin include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S,
Fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol,
Divalent phenols such as 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcin, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o
-Trivalent or more phenols such as cresol novolak,
Glucidyl ether compounds derived from halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A are exemplified. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. However, the mixing ratio of the epoxy resin (A) of the general formula (1) is 10 to 100 in all epoxy resins.
% By weight, preferably 50% by weight or more, more preferably 8% by weight or more.
The content is preferably 0% by weight or more.

【0022】次に、上記一般式(2)で表されるアラル
キル型多価ヒドロキシ樹脂(B)は、アルキル置換若し
くは未置換のナフタレン環を有するフェノール性水酸基
含有化合物と芳香族架橋剤とを反応させることにより製
造できる。
Next, the aralkyl polyhydroxy resin (B) represented by the general formula (2) is obtained by reacting a phenolic hydroxyl group-containing compound having an alkyl-substituted or unsubstituted naphthalene ring with an aromatic crosslinking agent. It can be manufactured by doing.

【0023】このアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂の合
成原料であるフェノール性水酸基含有化合物としては、
例えば、1-ナフトール、2-ナフトール、ナフタレンジ
オール類などが挙げられる。また、芳香族架橋剤は、前
記の多価ヒドロキシ樹脂の合成原料として用いる芳香族
架橋剤と同じもの、すなわち前記一般式(b)又は
(c)で表されるベンゼン骨格又はビフェニル骨格を有
するものを用いることができる。
Examples of the phenolic hydroxyl group-containing compound which is a raw material for synthesizing the aralkyl-type polyhydroxy resin include:
For example, 1-naphthol, 2-naphthol, naphthalene diols and the like can be mentioned. The aromatic cross-linking agent is the same as the aromatic cross-linking agent used as a raw material for synthesizing the polyvalent hydroxy resin, that is, the one having a benzene skeleton or a biphenyl skeleton represented by the general formula (b) or (c). Can be used.

【0024】このアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂
(B)は、一般式(2)において、平均の繰り返し数p
が1〜15、好ましくは1〜5である。pの値は、フェノ
ール性水酸基含有化合物と芳香族架橋剤とを反応させる
際の両者のモル比を変えることにより容易に調整でき
る。すなわち、フェノール性水酸基含有化合物を芳香族
架橋剤に対して、過剰に用いるほどpの値は小さくコン
トロールできる。pの値が大きいほど得られた樹脂の軟
化点及び粘度が高くなり、成形性が低下する。また、p
の値が小さいほど粘度が低下し成形性は向上するが、合
成時の未反応フェノール性水酸基含有化合物が多くな
り、樹脂の生産効率が低下する。両者のモル比は、実用
上、フェノール性水酸基含有化合物1モルに対し芳香族
架橋剤が1モル以下、好ましくは、0.1〜0.9モル
である。0.1モルより少ないと未反応のフェノール性
水酸基含有化合物量が多くなり、0.9モルを超えると
樹脂の軟化点が高くなり、成形作業性に支障をきたす。
The aralkyl-type polyhydroxy resin (B) is represented by the general formula (2)
Is 1 to 15, preferably 1 to 5. The value of p can be easily adjusted by changing the molar ratio of the phenolic hydroxyl group-containing compound and the aromatic crosslinking agent when they are reacted. That is, the more the phenolic hydroxyl group-containing compound is used relative to the aromatic crosslinking agent, the smaller the value of p can be controlled. The larger the value of p, the higher the softening point and viscosity of the obtained resin, and the lower the moldability. Also, p
The smaller the value, the lower the viscosity and the better the moldability, but the more unreacted phenolic hydroxyl group-containing compounds during the synthesis, the lower the production efficiency of the resin. The molar ratio of the two is practically 1 mol or less, preferably 0.1 to 0.9 mol of the aromatic crosslinking agent per 1 mol of the phenolic hydroxyl group-containing compound. If the amount is less than 0.1 mol, the amount of the unreacted phenolic hydroxyl group-containing compound increases, and if it exceeds 0.9 mol, the softening point of the resin increases, which impairs the molding workability.

【0025】このアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂
(B)の軟化点は100〜150℃であり、好ましくは
110〜130℃である。軟化点が100℃より低いと
エポキシ樹脂組成物としての耐熱性の低下を招き、更に
難燃性の向上効果も小さい。150℃より高いと粘度上
昇により作業性の低下を招く。
The softening point of the aralkyl-type polyhydroxy resin (B) is from 100 to 150 ° C., preferably from 110 to 130 ° C. When the softening point is lower than 100 ° C., the heat resistance of the epoxy resin composition is reduced, and the effect of improving the flame retardancy is small. If the temperature is higher than 150 ° C., the workability is lowered due to the increase in viscosity.

【0026】また、アラルキル型多価ヒドロキシ樹脂
(B)は、前記軟化点の範囲を具備すると共に、150
℃における溶融粘度が1〜20Pa・sであることが必
要である。この溶融粘度が1Pa・sより低いとエポキ
シ樹脂組成物としての耐熱性の低下を招き、更に難燃性
の向上効果も小さい。20Pa・sより高いと粘度上昇
により作業性の低下を招く。
The aralkyl polyhydric hydroxy resin (B) has the above softening point range and has a
It is necessary that the melt viscosity at ℃ is 1 to 20 Pa · s. If the melt viscosity is lower than 1 Pa · s, the heat resistance of the epoxy resin composition is reduced, and the effect of improving the flame retardancy is small. If it is higher than 20 Pa · s, the workability is lowered due to the increase in viscosity.

【0027】本発明に用いるアラルキル型多価ヒドロキ
シ樹脂(B)の好ましい例としては、ナフトール類と、
p−キシリレングリコール又はα,α’−ジメトキシ−
p−キシレンとを縮合して得られるナフトールアラルキ
ル型樹脂があり、具体例としては、新日鐵化学(株)製
SN-4115、SN-3120などが挙げられる。
Preferred examples of the aralkyl-type polyhydroxy resin (B) used in the present invention include naphthols,
p-xylylene glycol or α, α'-dimethoxy-
There is a naphthol aralkyl-type resin obtained by condensing with p-xylene. Specific examples include Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
SN-4115, SN-3120 and the like.

【0028】本発明のエポキシ樹脂組成物には、アラル
キル型多価ヒドロキシ樹脂(B)以外に、エポキシ樹脂
硬化剤として公知のフェノール性水酸基含有物質を配合
してもよい。このような硬化剤としては、例えば、ビス
フェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、
フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、
2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシ
ン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類や、ト
リス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,
2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタ
ン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラッ
ク、ナフトールノボラック、ポリビニルフェノール等に
代表される3価以上のフェノール類や、フェノール類、
ナフトール類又はビスフェノールA、ビスフェノール
F、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、
4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハ
イドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2
価のフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデ
ヒド、ジシクロペンタジエン等の縮合剤により合成され
る多価ヒドロキシ性化合物などが挙げられる。これらの
硬化剤は1種又は2種以上を併用してもよいが、一般式
(2)のアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂(B)の配合
割合は、全硬化剤中、10〜100重量%、好ましくは
50重量%以上、より好ましくは80重量%以上であ
る。
The epoxy resin composition of the present invention may contain a phenolic hydroxyl group-containing substance known as an epoxy resin curing agent, in addition to the aralkyl-type polyvalent hydroxy resin (B). Examples of such a curing agent include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S,
Fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol,
Divalent phenols such as 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcinol, naphthalene diol, and tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,
Trivalent or higher phenols represented by 2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o-cresol novolak, naphthol novolak, polyvinylphenol, etc., phenols,
Naphthols or bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol,
2, 4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcinol, naphthalene diol and the like
And polyhydric hydroxy compounds synthesized with a condensing agent such as a phenol having a valence and formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, dicyclopentadiene and the like. These curing agents may be used alone or in combination of two or more. However, the blending ratio of the aralkyl-type polyvalent hydroxy resin (B) of the general formula (2) is 10 to 100% by weight of the total curing agent. It is preferably at least 50% by weight, more preferably at least 80% by weight.

【0029】本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ
樹脂と硬化剤を含有するが、組成物中のエポキシ樹脂と
硬化剤の好ましい割合は、当量比が0.8〜1.2であ
り、より好ましくは0.9〜1.1である。この当量比
を外れると、本発明の目的とする耐熱性、低吸湿性、半
田リフロー性、難燃性、速硬化性、流動性を同時に発現
しづらくなる。また、アラルキル型エポキシ樹脂(A)
とアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂(B)の重量比
(B)/(A)は、0.4〜1.8であることが好まし
く、より好ましくは0.4〜1.50である。
The epoxy resin composition of the present invention contains an epoxy resin and a curing agent. A preferable ratio of the epoxy resin and the curing agent in the composition is an equivalent ratio of 0.8 to 1.2. Preferably it is 0.9-1.1. When the ratio is out of this range, it is difficult to simultaneously achieve the heat resistance, low moisture absorption, solder reflow properties, flame retardancy, fast curing property, and fluidity, which are the objects of the present invention. Also, aralkyl type epoxy resin (A)
The weight ratio (B) / (A) of the aralkyl-type polyvalent hydroxy resin (B) is preferably 0.4 to 1.8, and more preferably 0.4 to 1.50.

【0030】本発明の樹脂組成物には、従来より公知の
硬化促進剤を用いることができる。例を挙げれば、アミ
ン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等
があり、具体的には、1,8−ジアザビシクロ(5,4,
0)ウンデセン-7、トリエチレンジアミン、ベンジルジ
メチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノ
エタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノー
ルなどの三級アミン、2一メチルイミダゾール、2−フェ
ニルイミダゾール、2一フェニルー4一メチルイミダゾー
ル、2一へプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール
類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイ
ン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、
フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類、テトラフ
ェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラ
フェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、
テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレートなど
のテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2一
エチル一4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレ
ート、N一メチルモルホリン・テトラフェニルボレート
などのテトラフェニルボロン塩などがある。添加量とし
ては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.
2〜10重量部の範囲である。
Conventionally known curing accelerators can be used in the resin composition of the present invention. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, and the like. Specifically, 1,8-diazabicyclo (5,4,
0) Tertiary amines such as undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, and tris (dimethylaminomethyl) phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methyl Imidazoles, imidazoles such as 2-heptadecyl imidazole, tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine,
Organic phosphines such as phenylphosphine, tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium / ethyltriphenylborate,
Tetra-substituted phosphonium-tetra-substituted borates such as tetrabutylphosphonium-tetrabutyl borate; tetraphenylboron salts such as 2-ethyl-1-methylimidazole-tetraphenylborate; and N-methylmorpholine-tetraphenylborate. The amount of addition is usually 0.1 to 100 parts by weight of the epoxy resin.
It is in the range of 2 to 10 parts by weight.

【0031】本発明の樹脂組成物には、目的に応じて無
機充填剤を用いることができる。使用する無機充填材と
しては、シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウ
ム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホ
ウ素、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、ス
ピネル、ムライト、チタニアなどの粉体、又はこれらを
球形化したビーズなどが挙げられ、これらを単独で若し
くは2種類以上併用して用いることができる。
In the resin composition of the present invention, an inorganic filler can be used according to the purpose. Examples of the inorganic filler to be used include powders of silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, fosterite, steatite, spinel, mullite, titania, and the like. Spherical beads can be used, and these can be used alone or in combination of two or more.

【0032】本発明の目的の1つに、表面実装型の半導
体素子等の電子部品封止用途があるが、その場合には無
機充填材を高含有量含有させることが望ましい。無機充
填材の高充填化の観点からは、球状の溶融シリカが好適
に使用される。通常、シリカは、数種類の粒径分布を持
ったものを組み合わせて使用される。組み合わせるシリ
カの好ましい平均粒径は、0.5〜100ミクロン、更
に好ましくは、10〜50ミクロンの範囲である。エポ
キシ樹脂組成物中の無機充填材の配合量としては70wt
%以上が好ましく、更に好ましくは80wt%以上である。
これより少ないと、低吸湿性、半田リフロ−性、難燃性
の向上効果が小さい。
One of the objects of the present invention is to seal electronic components such as surface-mounted semiconductor elements. In such a case, it is desirable to contain an inorganic filler in a high content. From the viewpoint of increasing the filling of the inorganic filler, spherical fused silica is preferably used. Usually, silica is used in combination with one having several types of particle size distribution. The preferred average particle size of the combined silica ranges from 0.5 to 100 microns, more preferably 10 to 50 microns. 70 wt% of inorganic filler in epoxy resin composition
% Or more, more preferably 80% by weight or more.
If the amount is less than this, the effect of improving low moisture absorption, solder reflowability, and flame retardancy is small.

【0033】また、本発明の樹脂組成物には、成形時の
流動性改良及びリードフレーム、銅箔等、との密着性向
上の観点より、熱可塑性のオリゴマー類を添加すること
ができる。熱可塑性のオリゴマー類としては、C5系及
びC9系の石油樹脂、スチレン樹脂、インデン樹脂、イ
ンデン・スチレン共重合樹脂、インデン・スチレン・フ
ェノール共重合樹脂、インデン・クマロン共重合樹脂、
インデン・ベンゾチオフェン共重合樹脂等が例示され
る。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部
に対して、2〜30重量部の範囲である。更に必要に応
じて、本発明の樹脂組成物には、カルナバワックス、エ
ステル系ワックス等の離型剤、エポキシシラン、アミノ
シラン、ウレイドシラン、ビニルシラン、アルキルシラ
ン、有機チタネート、アルミニウムアルコレート等のカ
ップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、シリコン
オイル等の低応力化剤、高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩
等の滑剤等を使用できる。
In addition, thermoplastic oligomers can be added to the resin composition of the present invention from the viewpoint of improving the fluidity during molding and improving the adhesion to lead frames, copper foils and the like. As thermoplastic oligomers, C5 and C9 petroleum resins, styrene resins, indene resins, indene / styrene copolymer resins, indene / styrene / phenol copolymer resins, indene / coumarone copolymer resins,
An indene / benzothiophene copolymer resin is exemplified. The addition amount is usually in the range of 2 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. Further, if necessary, the resin composition of the present invention may contain a releasing agent such as carnauba wax or an ester-based wax, an epoxy silane, an amino silane, a ureido silane, a vinyl silane, an alkyl silane, an organic titanate, or a coupling such as aluminum alcoholate. Agents, coloring agents such as carbon black, low stress agents such as silicone oil, lubricants such as higher fatty acids and metal salts of higher fatty acids, and the like.

【0034】以上のような原材料を、一般的には、所定
の配合量の原材料をミキサー等によって十分混合した
後、ミキシングロール、押し出し機などによって混練
し、冷却、粉砕することによって、成形材料を調製する
ことができる。そして、本発明で得られる成形材料を用
いて、電子部品を封止するための方法としては、低圧ト
ランスファー成形法が最も一般的であるが、射出成形
法、圧縮成形法によっても可能である。
In general, the above-mentioned raw materials are sufficiently mixed with a predetermined amount of raw materials by a mixer or the like, and then kneaded by a mixing roll, an extruder, or the like, and cooled and pulverized to form a molding material. Can be prepared. As a method for sealing an electronic component using the molding material obtained in the present invention, a low-pressure transfer molding method is the most common, but an injection molding method or a compression molding method is also possible.

【0035】[0035]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明する。なお、参考例1、2はエポキシ樹脂(A)の合
成例であり、参考例3〜4は硬化剤となるアラルキル型
多価ヒドロキシ樹脂(B)の合成例であり、参考例5は
本発明の多価ヒドロキシ樹脂(B)には該当しないアラ
ルキル型多価ヒドロキシ樹脂の合成例である。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Reference Examples 1 and 2 are synthesis examples of epoxy resin (A), Reference Examples 3 and 4 are synthesis examples of aralkyl-type polyvalent hydroxy resin (B) as a curing agent, and Reference Example 5 is the present invention. This is an example of synthesizing an aralkyl-type polyvalent hydroxy resin not applicable to the polyvalent hydroxy resin (B).

【0036】参考例1 500mlの4口フラスコに、4,4’−ジヒドロキシ
ビフェニル186g(1.0モル)、p-キシリレングリ
コール41.4g(0.3モル)、ジグライム60ml
及びp−トルエンスルホン酸2.5gを仕込み、窒素気
流下に攪拌しながら160℃で4時間反応させた。その
間に生成する水は系外に除いた。反応後、反応液を4口
フラスコに移し、100℃以下に冷却後、エピクロロヒ
ドリン830gを加えた。その後、減圧下(約140m
mHg)65℃で48%水酸化ナトリウム水溶液163
gを4時間かけて滴下した。この間、水はエピクロルヒ
ドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロロ
ヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、更に30分間反
応を継続した。その後、系内に残存するジグライム及び
過剰のエピクロロヒドリンを減圧留去し、メチルイソブ
チルケトン1500mlに溶解した後、濾過により生成
した塩を除いた。その後、10%水酸化ナトリウム水溶
液15gを加え、80℃で2時間反応させた。更に水
洗、中和したのちメチルイソブチルケトンを留去し、エ
ポキシ樹脂274gを得た。エポキシ当量は173、融
点は110〜142℃であった。また、加水分解性塩素
は310ppmであった。
Reference Example 1 In a 500 ml four-necked flask, 186 g (1.0 mol) of 4,4'-dihydroxybiphenyl, 41.4 g (0.3 mol) of p-xylylene glycol, 60 ml of diglyme were added.
And 2.5 g of p-toluenesulfonic acid, and reacted at 160 ° C. for 4 hours while stirring under a nitrogen stream. Water generated during this time was removed from the system. After the reaction, the reaction solution was transferred to a four-necked flask, cooled to 100 ° C. or lower, and 830 g of epichlorohydrin was added. Then, under reduced pressure (about 140m
mHg) 48% sodium hydroxide aqueous solution 163 at 65 ° C.
g was added dropwise over 4 hours. During this time, water was removed from the system by azeotropic distillation with epichlorohydrin, and the distilled out epichlorohydrin was returned to the system. After the completion of the dropwise addition, the reaction was continued for another 30 minutes. Thereafter, diglyme remaining in the system and excess epichlorohydrin were distilled off under reduced pressure, dissolved in 1500 ml of methyl isobutyl ketone, and the generated salt was removed by filtration. Thereafter, 15 g of a 10% aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 2 hours. After further washing with water and neutralization, methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain 274 g of an epoxy resin. The epoxy equivalent was 173 and the melting point was 110 to 142 ° C. In addition, hydrolyzable chlorine was 310 ppm.

【0037】参考例2 500mlの4口フラスコに、1,6−ナフタレンジオ
ール160g(1.0モル)、p−キシリレングリコー
ル69.0g(0.5モル)及びシュウ酸1.6gを仕
込み、窒素気流下に攪拌しながら150℃で4時間反応
させた。この間に生成する水は系外に除き、OH当量1
10の褐色状樹脂203gを得た。この樹脂100gを
4口フラスコに移し、エピクロルヒドリン400gに溶
解し、減圧下(約140mmHg)65℃で48%水酸
化ナトリウム水溶液73gを4時間かけて滴下した。こ
の間、水はエピクロルヒドリンとの共沸により系外に除
き、留出したエピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下
終了後、更に30分間反応を継続した。その後、系内に
残存する過剰のエピクロロヒドリンを減圧留去し、メチ
ルイソブチルケトン700mlに溶解した後、濾過によ
り生成した塩を除いた。その後、10%水酸化ナトリウ
ム水溶液7.5gを加え、80℃で2時間反応させた。
更に水洗,中和したのちメチルイソブチルケトンを留去
し、エポキシ樹脂129gを得た。このエポキシ樹脂の
エポキシ当量は171、軟化点は78℃であった。ま
た、加水分解性塩素は、490ppmであった。
Reference Example 2 A 500 ml four-necked flask was charged with 160 g (1.0 mol) of 1,6-naphthalenediol, 69.0 g (0.5 mol) of p-xylylene glycol, and 1.6 g of oxalic acid. The reaction was carried out at 150 ° C. for 4 hours while stirring under a nitrogen stream. Water generated during this period is excluded from the system, and the OH equivalent is 1
203 g of 10 brown resins were obtained. 100 g of this resin was transferred to a four-necked flask, dissolved in 400 g of epichlorohydrin, and 73 g of a 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 65 ° C. under reduced pressure (about 140 mmHg) over 4 hours. During this time, water was removed from the system by azeotropic distillation with epichlorohydrin, and the distilled epichlorohydrin was returned to the system. After the completion of the dropwise addition, the reaction was continued for another 30 minutes. Thereafter, excess epichlorohydrin remaining in the system was distilled off under reduced pressure, dissolved in 700 ml of methyl isobutyl ketone, and the generated salt was removed by filtration. Thereafter, 7.5 g of a 10% aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 2 hours.
After further washing with water and neutralization, methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain 129 g of an epoxy resin. The epoxy resin had an epoxy equivalent of 171 and a softening point of 78 ° C. The content of hydrolyzable chlorine was 490 ppm.

【0038】参考例3 4口フラスコに、1−ナフトール288g(2.0モ
ル)、p−キシリレングリコールジメチルエーテル16
6g(1.0モル)及び48%硫酸0.23gを仕込
み、窒素気流下に攪拌しながら180℃で2時間反応さ
せた。この間に生成するメタノールは系外に除いた。そ
の後、水洗により硫酸を除去した。更に水蒸気蒸留によ
り未反応の1−ナフトールを除去し、褐色状樹脂304
gを得た。得られた樹脂のOH当量は235、軟化点は
115℃、150℃における溶融粘度は、4Pa・sで
あった。
Reference Example 3 288 g (2.0 mol) of 1-naphthol and p-xylylene glycol dimethyl ether 16 were placed in a four-necked flask.
6 g (1.0 mol) and 0.23 g of 48% sulfuric acid were charged and reacted at 180 ° C. for 2 hours while stirring under a nitrogen stream. Methanol generated during this time was removed from the system. Thereafter, sulfuric acid was removed by washing with water. Further, unreacted 1-naphthol is removed by steam distillation, and the brown resin 304 is removed.
g was obtained. The OH equivalent of the obtained resin was 235, the softening point was 115 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 4 Pa · s.

【0039】参考例4 4口フラスコに、1,6−ナフタレンジオール160g
(1.0モル)、p−キシリレングリコールジメチルエ
ーテル83g(0.5モル)及び50%p−トルエンス
ルホン酸0.73gを仕込み、窒素気流下に攪拌しなが
ら150℃で3時間反応させた。この間に生成するメタ
ノールは系外に除いた。その後、メチルイソブチルケト
ンに溶解した後、水洗をしてp−トルエンスルホン酸を
除去した。更に、減圧留去によりメチルイソブチルケト
ンを除去し、褐色状樹脂194gを得た。得られた樹脂
のOH当量は112、軟化点は121℃、150℃にお
ける溶融粘度は、6.5Pa・sであった。
REFERENCE EXAMPLE 4 160 g of 1,6-naphthalene diol was placed in a four-necked flask.
(1.0 mol), 83 g (0.5 mol) of p-xylylene glycol dimethyl ether and 0.73 g of 50% p-toluenesulfonic acid were reacted at 150 ° C. for 3 hours while stirring under a nitrogen stream. Methanol generated during this time was removed from the system. Then, after dissolving in methyl isobutyl ketone, it was washed with water to remove p-toluenesulfonic acid. Further, methyl isobutyl ketone was removed by distillation under reduced pressure to obtain 194 g of a brown resin. The OH equivalent of the obtained resin was 112, the softening point was 121 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 6.5 Pa · s.

【0040】参考例5 4口フラスコに、1−ナフトール288g(2.0モ
ル)、p−キシリレングリコールジメチルエーテル11
6.2g(0.7モル)及び48%硫酸0.20gを仕
込み、窒素気流下に攪拌しながら180℃で2時間反応
させた。この間に生成するメタノールは系外に除いた。
その後、水洗により硫酸を除去した。更に水蒸気蒸留に
より未反応の1−ナフトールを除去し、褐色状樹脂24
0gを得た。得られた樹脂のOH当量は208、軟化点
は87℃、150℃における溶融粘度は、0.2Pa・
sであった。
Reference Example 5 In a four-necked flask, 288 g (2.0 mol) of 1-naphthol and p-xylylene glycol dimethyl ether 11 were added.
6.2 g (0.7 mol) and 0.20 g of 48% sulfuric acid were charged and reacted at 180 ° C. for 2 hours while stirring under a nitrogen stream. Methanol generated during this time was removed from the system.
Thereafter, sulfuric acid was removed by washing with water. Further, unreacted 1-naphthol is removed by steam distillation, and the brown resin 24
0 g was obtained. The obtained resin has an OH equivalent of 208, a softening point of 87 ° C., and a melt viscosity at 150 ° C. of 0.2 Pa ·
s.

【0041】実施例1〜5及び比較例1〜5 電子部品等の用途でのエポキシ樹脂組成物としての特性
を評価するために、電子部品封止材料用の配合、評価に
より以下に示した評価を行った。エポキシ樹脂成分とし
て、参考例1、2のエポキシ樹脂、及びo−クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂(ECN:日本化薬製、EOCN
-1020-80;エポキシ当量200、加水分解性塩素 400ppm、
軟化点 80℃)を用い、硬化剤として、参考例3、4、
5のナフト−ルアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂、及び
フェノ−ルアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂(PA:三
井化学製、ミレックスXL-225-L;OH当量180、軟化点 85
℃、150℃溶融粘度 1Pa・s)フェノールノボラック(P
N:群栄化学製、PSM-4324;OH当量103、軟化点 100
℃、150℃溶融粘度 0.9Pa・s)を用いた。更に、充填剤
として球状シリカ(平均粒径 18μm)、硬化促進剤と
してトリフェニルホスフィン、着色剤としてカ−ボンブ
ラック、離型剤としてカルナバワックスを用い、表1に
示す配合で混練し、エポキシ樹脂組成物を得た。このエ
ポキシ樹脂組成物を用いて175℃にて成形し、175
℃にて12時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得
た後、各種物性測定に供した。結果を表2に示す。な
お、表2中の各種物性測定は以下の評価方法によるもの
である。
Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 In order to evaluate the properties as an epoxy resin composition for use in electronic parts and the like, the following evaluations were made by formulating and evaluating an electronic part sealing material. Was done. As the epoxy resin component, the epoxy resins of Reference Examples 1 and 2 and an o-cresol novolak type epoxy resin (ECN: Nippon Kayaku, EOCN
-1020-80; epoxy equivalent 200, hydrolyzable chlorine 400 ppm,
Softening point 80 ° C), and as a curing agent, Reference Examples 3, 4,
No. 5 naphthol aralkyl type polyhydroxy resin and phenol aralkyl type polyhydroxy resin (PA: manufactured by Mitsui Chemicals, Millex XL-225-L; OH equivalent 180, softening point 85)
℃, 150 ℃ melt viscosity 1Pa ・ s) phenol novolak (P
N: manufactured by Gunei Chemical Co., PSM-4324; OH equivalent: 103, softening point: 100
° C, 150 ° C melt viscosity 0.9 Pa · s) was used. Furthermore, spherical silica (average particle size: 18 μm) as a filler, triphenylphosphine as a curing accelerator, carbon black as a coloring agent, and carnauba wax as a release agent were kneaded in the composition shown in Table 1 and mixed with an epoxy resin. A composition was obtained. This epoxy resin composition was molded at 175 ° C.
After post-curing at 12 ° C. for 12 hours to obtain a cured product test piece, it was subjected to various physical property measurements. Table 2 shows the results. The various physical property measurements in Table 2 are based on the following evaluation methods.

【0042】(熱時硬度)熱時硬度は175℃にて90
秒成形を行った試験片を、バ−コル硬度計にて測定を行
った。 (ガラス転移点)ガラス転移点は、熱機械測定装置によ
り、昇温速度10℃/分の条件で求めた。 (吸水率)吸水率は、本エポキシ樹脂組成物を用いて5
0mmΦ×3mmの円盤を成形し、ポストキュア後85℃、
85%RHの条件で100時間吸湿させた時のものであ
る。 (難燃性)難燃性は、厚さ1/16インチの試験片を成
形し、UL94V−0規格によって評価した。また定量
的にはn=5の試験での合計フレ−ミング時間を指標と
して示した。 (クラック発生率)クラック発生率は、QFP−80p
in(14×20×2.5mm)を成形し、ポストキュア後、吸
水率と同条件の85℃、85%RHの条件で所定の時間
吸湿後、260℃の半田浴に10秒間浸漬させた後、パ
ッケージの状態を観察し求めた。
(Hot hardness) The hot hardness is 90 at 175 ° C.
The test piece that had been subjected to second molding was measured by a Barcol hardness tester. (Glass transition point) The glass transition point was determined by a thermomechanical measuring apparatus at a temperature rising rate of 10 ° C./min. (Water absorption) The water absorption was measured using the epoxy resin composition of 5%.
Form a disc of 0mmΦ × 3mm, post cure and 85 ℃,
This is the case when moisture is absorbed for 100 hours under the condition of 85% RH. (Flame Retardancy) Flame retardancy was evaluated by molding a test piece having a thickness of 1/16 inch according to UL94V-0 standard. Quantitatively, the total framing time in the test of n = 5 was shown as an index. (Crack occurrence rate) The crack occurrence rate was QFP-80p
In (14 × 20 × 2.5 mm), after post-curing, after absorbing moisture for 85 hours at 85 ° C. and 85% RH under the same conditions as water absorption, immersed in a 260 ° C. solder bath for 10 seconds And the state of the package was observed and determined.

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】[0044]

【表2】 [Table 2]

【0045】本発明で規定した条件を満たす実施例1〜
5はすべて、速硬化性、流動性等の成形性に優れ、特
に、耐熱性、低吸湿性、半田リフロ−性、難燃性等に優
れた硬化物を与えることがわかる。一方、本発明で規定
した条件を満たしていない比較例1〜5は、実施例ほど
これらの特性が同時には優れてはいない。
Examples 1 to 3 satisfying the conditions specified in the present invention
It can be seen that all Nos. 5 are excellent in moldability such as rapid curability and fluidity, and give cured products excellent in heat resistance, low hygroscopicity, solder reflowability, flame retardancy and the like. On the other hand, Comparative Examples 1 to 5, which do not satisfy the conditions specified in the present invention, are not simultaneously superior in these properties to Examples.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は、速硬化
性、流動性等の成形性に優れ、耐熱性、低吸湿性、半田
リフロ−性、難燃性等に優れ、特に、難燃性に優れた硬
化物を与え、これを表面実装型の半導体素子等の電子部
品の封止、又はプリント基板等に応用した場合、優れた
耐熱性、低吸湿性、半田リフロ−性、難燃性を示す。
The epoxy resin composition of the present invention is excellent in moldability such as rapid curability and fluidity, and is excellent in heat resistance, low hygroscopicity, solder reflowability, flame retardancy and the like. When a cured product with excellent heat resistance is provided and applied to encapsulation of electronic components such as surface mount type semiconductor elements or printed circuit boards, excellent heat resistance, low moisture absorption, solder reflowability, flame retardancy Shows sex.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中原 和彦 千葉県木更津市築地1番地 新日鐵化学株 式会社電子材料開発センター内 (72)発明者 梶 正史 千葉県木更津市築地1番地 新日鐵化学株 式会社電子材料開発センター内 Fターム(参考) 4J036 AE05 AJ08 FB08 JA07  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kazuhiko Nakahara 1st Tsukiji, Kisarazu-shi, Chiba Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Electronic Materials Development Center (72) Inventor Masafumi Kaji 1st Tsukiji, Kisarazu-shi, Chiba Nippon Steel F-term in Electronic Materials Development Center, Chemical Co., Ltd. (reference) 4J036 AE05 AJ08 FB08 JA07

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂として下記一般式(1) 【化1】 (式中、Aは炭素数1〜6の炭化水素基で置換されてい
てもよいベンゼン環、ナフタレン環又はビフェニル環を
示し、R1及びR2は水素原子又は炭素数1〜6の炭化水
素基を示し、Gはグリシジル基を示す。lは1又は2の
整数、nは1〜15の数を示す。)で表されるアラルキル
型エポキシ樹脂(A)を、硬化剤として下記一般式
(2) 【化2】 (式中、Bは炭素数1〜6の炭化水素基で置換されてい
てもよいナフタレン環を示し、R3及びR4は水素原子又
は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、l及びmは1又は2
の整数、pは1〜15の数を示す。)で表され、且つ軟化
点が100〜150℃であり、150℃における溶融粘
度が1〜20Pa・sであるアラルキル型多価ヒドロキ
シ樹脂(B)を含有することを特徴とするエポキシ樹脂
組成物。
An epoxy resin represented by the following general formula (1): (Wherein, A represents a benzene ring, a naphthalene ring or a biphenyl ring which may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or a hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms. An aralkyl type epoxy resin (A) represented by the following general formula (A), wherein G is a glycidyl group, l is an integer of 1 or 2, and n is a number of 1 to 15. 2) (Wherein B represents a naphthalene ring which may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, l and m is 1 or 2
And p represents a number of 1 to 15. And an aralkyl-type polyvalent hydroxy resin (B) having a softening point of 100 to 150 ° C and a melt viscosity at 150 ° C of 1 to 20 Pa · s. .
【請求項2】 アラルキル型エポキシ樹脂(A)100
重量部に対し、アラルキル型多価ヒドロキシ樹脂(B)
を40〜150重量部含有するエポキシ樹脂組成物。
2. Aralkyl type epoxy resin (A) 100
Aralkyl-type polyhydroxy resin (B) based on parts by weight
An epoxy resin composition containing 40 to 150 parts by weight of
【請求項3】 アラルキル型エポキシ樹脂(A)が全エ
ポキシ樹脂の10〜100重量%であり、アラルキル型
多価ヒドロキシ樹脂(B)が全硬化剤の10〜100重
量%である請求項1又は2記載のエポキシ樹脂組成物。
3. The aralkyl type epoxy resin (A) is 10 to 100% by weight of the total epoxy resin, and the aralkyl type polyvalent hydroxy resin (B) is 10 to 100% by weight of the total curing agent. 3. The epoxy resin composition according to 2.
【請求項4】 アラルキル型エポキシ樹脂(A)が全エ
ポキシ樹脂の80〜100重量%であり、アラルキル型
多価ヒドロキシ樹脂(B)が全硬化剤の80〜100重
量%である請求項1又は2記載のエポキシ樹脂組成物。
4. The aralkyl type epoxy resin (A) is 80 to 100% by weight of the total epoxy resin, and the aralkyl type polyhydroxy resin (B) is 80 to 100% by weight of the total curing agent. 3. The epoxy resin composition according to 2.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載のエポキ
シ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。
5. A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 1.
JP29682299A 1999-10-19 1999-10-19 Epoxy resin composition and its cured material Pending JP2001114863A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29682299A JP2001114863A (en) 1999-10-19 1999-10-19 Epoxy resin composition and its cured material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29682299A JP2001114863A (en) 1999-10-19 1999-10-19 Epoxy resin composition and its cured material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001114863A true JP2001114863A (en) 2001-04-24

Family

ID=17838613

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29682299A Pending JP2001114863A (en) 1999-10-19 1999-10-19 Epoxy resin composition and its cured material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001114863A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001261785A (en) * 2000-03-14 2001-09-26 Nippon Steel Chem Co Ltd Epoxy resin composition and cured product thereof
JP2004307545A (en) * 2003-04-02 2004-11-04 Kyocera Chemical Corp Epoxy resin composition and sealed semiconductor device
JP2015003972A (en) * 2013-06-20 2015-01-08 新日鉄住金化学株式会社 Epoxy resin, epoxy resin composition and hardened product of the composition
WO2015146670A1 (en) * 2014-03-26 2015-10-01 新日鉄住金化学株式会社 Epoxy resin composition, method for producing epoxy resin cured product and semiconductor device
JP2020045452A (en) * 2018-09-20 2020-03-26 日東シンコー株式会社 Resin composition
CN113614140A (en) * 2019-03-27 2021-11-05 日铁化学材料株式会社 Naphthol resin, epoxy resin composition, and cured product thereof

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04325514A (en) * 1991-04-25 1992-11-13 Mitsui Toatsu Chem Inc Resin composition
JPH05170875A (en) * 1991-12-24 1993-07-09 Mitsui Toatsu Chem Inc Epoxy resin composition
JPH06128361A (en) * 1992-10-20 1994-05-10 Nippon Steel Chem Co Ltd Epoxy resin curative and its production
JPH06234832A (en) * 1993-02-09 1994-08-23 Nippon Steel Chem Co Ltd Cured product of epoxy resin having high heat resistance
JPH10292032A (en) * 1997-04-18 1998-11-04 Nippon Steel Chem Co Ltd Epoxy resin composition and cured product thereof
JPH11158255A (en) * 1997-11-28 1999-06-15 Nippon Steel Chem Co Ltd Novel polyhydroxy compound, novel epoxy resin, their production, and epoxy resin composition and cured article prepared by using them

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04325514A (en) * 1991-04-25 1992-11-13 Mitsui Toatsu Chem Inc Resin composition
JPH05170875A (en) * 1991-12-24 1993-07-09 Mitsui Toatsu Chem Inc Epoxy resin composition
JPH06128361A (en) * 1992-10-20 1994-05-10 Nippon Steel Chem Co Ltd Epoxy resin curative and its production
JPH06234832A (en) * 1993-02-09 1994-08-23 Nippon Steel Chem Co Ltd Cured product of epoxy resin having high heat resistance
JPH10292032A (en) * 1997-04-18 1998-11-04 Nippon Steel Chem Co Ltd Epoxy resin composition and cured product thereof
JPH11158255A (en) * 1997-11-28 1999-06-15 Nippon Steel Chem Co Ltd Novel polyhydroxy compound, novel epoxy resin, their production, and epoxy resin composition and cured article prepared by using them

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001261785A (en) * 2000-03-14 2001-09-26 Nippon Steel Chem Co Ltd Epoxy resin composition and cured product thereof
JP2004307545A (en) * 2003-04-02 2004-11-04 Kyocera Chemical Corp Epoxy resin composition and sealed semiconductor device
JP2015003972A (en) * 2013-06-20 2015-01-08 新日鉄住金化学株式会社 Epoxy resin, epoxy resin composition and hardened product of the composition
WO2015146670A1 (en) * 2014-03-26 2015-10-01 新日鉄住金化学株式会社 Epoxy resin composition, method for producing epoxy resin cured product and semiconductor device
JP2020045452A (en) * 2018-09-20 2020-03-26 日東シンコー株式会社 Resin composition
WO2020059463A1 (en) * 2018-09-20 2020-03-26 日東シンコー株式会社 Resin composition
CN112739739A (en) * 2018-09-20 2021-04-30 日东新兴有限公司 Resin composition
JP7231363B2 (en) 2018-09-20 2023-03-01 日東シンコー株式会社 resin composition
CN113614140A (en) * 2019-03-27 2021-11-05 日铁化学材料株式会社 Naphthol resin, epoxy resin composition, and cured product thereof
US20220169781A1 (en) * 2019-03-27 2022-06-02 Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd. Naphthol resin, epoxy resin, epoxy resin composition, and cured products thereof
US11827739B2 (en) * 2019-03-27 2023-11-28 Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd. Naphthol resin, epoxy resin, epoxy resin composition, and cured products thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5170493B2 (en) Phenol polymer, its production method and its use
JP6073754B2 (en) Epoxy resin composition and cured product thereof
JP6605828B2 (en) Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product thereof
JP5457304B2 (en) Phenolic resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JP5548562B2 (en) Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product thereof
WO2003068837A1 (en) Indole resins, epoxy resins and resin compositions containing the same
JP4188022B2 (en) Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them
JP5139914B2 (en) Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them
JP2001114863A (en) Epoxy resin composition and its cured material
JPH111544A (en) Epoxy resin composition and electronic component
JP3806222B2 (en) Epoxy resin composition and cured product thereof
JP4067639B2 (en) Epoxy resin composition and cured product
JP5302147B2 (en) Epoxy resin composition for sealing and cured product
JP5734603B2 (en) Phenolic resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JP3933763B2 (en) Epoxy resin composition and electronic component
JP4493748B2 (en) Epoxy resin, method for producing the same, epoxy resin composition and cured product thereof
JP5721519B2 (en) Phenol polymer, its production method and its use
JP4667753B2 (en) Epoxy resin production method, epoxy resin composition and cured product
JP4163281B2 (en) Epoxy resin composition and cured product
JP3875775B2 (en) Epoxy resin composition and electronic component
JP2001151858A (en) Epoxy resin composition and its cured product
JP2008231071A (en) New polyvalent hydroxy compound, and epoxy resin composition and its cured product
JP3978094B2 (en) Hydroxy compound, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JPH1060088A (en) Epoxy resin composition for sealing electronic part and its cured substance
JPH0940755A (en) Resin composition for semiconductor sealing and semiconductor device sealed therewith

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061011

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090709

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091117

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100316