JP4188022B2 - Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them - Google Patents

Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them Download PDF

Info

Publication number
JP4188022B2
JP4188022B2 JP2002221522A JP2002221522A JP4188022B2 JP 4188022 B2 JP4188022 B2 JP 4188022B2 JP 2002221522 A JP2002221522 A JP 2002221522A JP 2002221522 A JP2002221522 A JP 2002221522A JP 4188022 B2 JP4188022 B2 JP 4188022B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
resin
polyvalent hydroxy
general formula
epoxy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2002221522A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2004059792A (en
Inventor
正史 梶
浩一郎 大神
和彦 中原
眞日止 副田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Original Assignee
Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Chemical Co Ltd filed Critical Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority to JP2002221522A priority Critical patent/JP4188022B2/en
Publication of JP2004059792A publication Critical patent/JP2004059792A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4188022B2 publication Critical patent/JP4188022B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、難燃性に優れるとともに、耐湿性、耐熱性、金属基材との接着性等にも優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂、その中間体、硬化剤及びそれらを用いたエポキシ樹脂組成物並びにその硬化物に関するものであり、プリント配線板、半導体封止等の電気電子分野の絶縁材料等に好適に使用される。
【0002】
【従来の技術】
近年、特に先端材料分野の進歩にともない、より高性能なベース樹脂の開発が求められている。例えば、半導体封止の分野においては、近年の高密度実装化に対応したパッケージの薄形化、大面積化、更には表面実装方式の普及により、パッケージクラックの問題が深刻化しており、これらのベース樹脂としては、耐湿性、耐熱性、金属基材との接着性等の向上が強く求められている。更に最近では、環境負荷低減の観点から、ハロゲン系難燃剤排除の動きがあり、より難燃性に優れたベース樹脂が求められている。
【0003】
しかしながら、従来より知られているエポキシ樹脂には、これらの要求を満足するものは未だ知られていない。例えば、周知のビスフェノール型エポキシ樹脂は、常温で液状であり、作業性に優れていることや、硬化剤、添加剤等との混合が容易であることから広く使用されているが、耐熱性、耐湿性の点で問題がある。また、耐熱性を改良したものとして、フェノールノボラック型エポキシ樹脂が知られているが、耐湿性や耐衝撃性に問題がある。また、特開昭63−238,122号には耐湿性、耐衝撃性の向上を目的に、フェノールアラルキル樹脂のエポキシ化合物が提案されているが耐熱性や難燃性の点で十分でない。
【0004】
ハロゲン系難燃剤を用いることなく、難燃性を向上させるための方策として、特開平9−235449号、特開平10−182792号公報等に、リン酸エステル系の難燃剤を添加する方法が開示されている。しかし、リン酸エステル系の難燃剤を用いる方法では、耐湿性が十分ではない。また、高温、多湿な環境下ではリン酸エステルが加水分解を起こし、絶縁材料としての信頼性を低下させる問題があった。
【0005】
リン原子、ハロゲン原子を含むことなく、難燃性を向上させるものとして、特開平11−140166号公報には、ビフェニル構造を有するアラルキル型エポキシ樹脂を半導体封止材料に応用した例が提案されているが、難燃性の点で十分ではない。更に、依然、耐熱性の点で十分ではない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、難燃性に優れるとともに、耐湿性、耐熱性、金属基材との接着性等にも優れた性能を有し、積層、成形、注型、接着等の用途に有用なエポキシ樹脂及びエポキシ樹脂硬化剤として有用な多価ヒドロキシ樹脂、更にはそれらの製造法並びにそれらを用いたエポキシ樹脂組成物、更にはその硬化物を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は下記一般式(1)で表される新規多価ヒドロキシ樹脂とエピクロルヒドリンを反応させることを特徴とする下記一般式(3)で表される新規エポキシ樹脂の製造方法である。
【化4】

Figure 0004188022
(但し、Aは炭素数1〜6のアルキル基で置換されていてもよいナフタレン環を示す。2つのメチレン基と結合するナフチレン基は1,5-ナフチレン基を60重量%以上含有する。また、nは1〜15の数を示し、mは1を示す
【0008】
上記新規多価ヒドロキシ樹脂は、フェノール性化合物と下記一般式(2)、
【化5】
Figure 0004188022
(但し、Xは水酸基、ハロゲン原子又は炭素数1〜6のアルコキシ基を示す)で表されるナフタレン系縮合剤を、前者1モルに対し後者0.05〜0.9モルの割合で反応させることにより得られる。
【0009】
更に、本発明は、下記一般式(3)で表される新規エポキシ樹脂である。
【化6】
Figure 0004188022
(但し、Aは炭素数1〜6のアルキル基で置換されていてもよいナフタレン環を示し、Gはグリシジル基を示す。2つのメチレン基と結合するナフチレン基は1,5-ナフチレン基を60重量%以上含有する。また、nは1〜15の数を示し、mは1を示す。)
【0010】
削除
【0011】
更にまた、本発明は、上記のエポキシ樹脂を、エポキシ樹脂成分として配合してなるエポキシ樹脂組成物であり、また、このエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物である。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の多価ヒドロキシ樹脂は、上記一般式(1)で表される。ここで、Aはベンゼン環又はナフタレン環を示し、これらの環は炭素数1〜6のアルキル基で置換されていてもよいが、好ましくは無置換若しくはメチル基で置換されたベンゼン環又はナフタレン環である。mは1〜3の整数であるが、好ましくは1又は2の整数である。nは平均の繰り返し数を示し、1〜15であるが、好ましくは1.1〜5である。このような多価ヒドロキシ樹脂は、フェノール性化合物と一般式(2)で表される縮合剤を反応させることにより得られる。
【0013】
ここでフェノール性化合物とは、炭素数1〜6のアルキル基置換又は未置換の1価、2価又は3価のフェノール類又はヒドロキシナフタレン類であり、具体的にはフェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、エチルフェノール類、イソプロピルフェノール類、ターシャリーブチルフェノール類、フェニルフェノール類、2,6−キシレノール、2,6−ジエチルフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロール、フロログルシノール、1−ナフトール、2−ナフトール、1,5−ナフタレンジオール、1,6−ナフタレンジオール、1,7−ナフタレンジオール、2,6−ナフタレンジオール、2,7−ナフタレンジオール、1,3,6−トリヒドロキシナフタレン、1,3,7−トリヒドロキシナフタレン、2,3,6−トリヒドロキシナフタレン等が挙げられる。耐熱性、耐湿性及び難燃性の観点から、これらのフェノール性化合物のなかではヒドロキシナフタレン類が好ましい。なかでも耐湿性及び難燃性の観点からは、特に1−ナフトール又は2−ナフトールが好ましく、耐熱性の点ではナフタレンジオール類が好ましい。上記のフェノール類又はナフトール類は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
【0014】
また、一般式(2)において、Xは水酸基、ハロゲン原子又は炭素数1〜6のアルコキシ基である。フェノール性化合物との反応性の観点からは、水酸基又はハロゲン原子が好ましい。ハロゲン原子としては塩素原子が望ましく、アルコキシ基としてはメトキシ基が好ましい。ナフタレン環に対する2つのCH2X基の置換位置は、同じベンゼン環上であっても、別々のベンゼン環上であっても良いが、好ましい置換位置は、1,4−位、1,5−位、1,6−位、2,6−位、2,7−位である。耐熱性、機械的強度及び靭性等の物性の観点からは、1,5−位及び2,6−位がより好ましく、難燃性の観点からは、特に1,5−位が好ましい。
【0015】
一般式(2)で表される縮合剤は、特に限定するものではないが、通常は、ナフタレンのクロロメチル化反応、又はジメチルナフタレン類のクロル化反応を経由して製造することができる。縮合剤中には、ナフタレン環に1つのCH2X基のみが置換したモノ置換ナフタレン類が含有されていてもよいが、モノ体の含有量は10wt%以下、好ましくは5wt%以下、更に好ましくは3wt%以下である。これよりモノ体の含有量が多いと樹脂を硬化させた場合の架橋密度が低下し、耐熱性の低下をもたらす場合がある。
【0016】
フェノール性化合物と縮合剤の反応においては、縮合剤に対して過剰量のフェノール性化合物が使用される。縮合剤の使用量は、フェノール性化合物1モルに対して0.05〜0.9モルの範囲であるが、好ましくは、0.1〜0.7モルの範囲である。これより多いと樹脂の軟化点が高くなり成形作業性に支障をきたす。また、これより少ないと反応終了後、過剰に用いたフェノール性化合物の除く量が多くなり、工業的に好ましくない。
【0017】
この反応は酸触媒の存在下に行うことがよく、この酸触媒としては、周知の無機酸、有機酸より適宜選択することができる。このような酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の鉱酸や、ギ酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、ジエチル硫酸等の有機酸や、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素等のルイス酸あるいは、活性白土、シリカ−アルミナ、ゼオライト等の固体酸等が挙げられる。また、一般式(2)で表される縮合剤としてビスクロロメチルナフタレンを用いる場合は、無触媒下で反応させることができる。
【0018】
通常、この反応は10〜250℃で1〜20時間行う。更に、反応溶媒として、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール類や、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等を使用することができる。
【0019】
反応終了後、場合により、中和、水洗等の方法により、触媒を除去し、必要に応じて残存する溶媒及び未反応フェノール性化合物を減圧留去等の方法により系外に除き、多価ヒドロキシ樹脂とする。未反応フェノール性化合物は、通常、3%以下、好ましくは1%以下とする。これより多いと硬化物とした場合の耐熱性が低下する。但し、反応に2価以上のフェノール性化合物を用いる場合は、反応後、残存するフェノール性化合物を除かなくてもよい。
【0020】
本発明には、上記一般式(1)で表される多価ヒドロキシ樹脂にナフチルメタン基が結合したものが含有されていても良い。例えば、フェノール性化合物と反応させる縮合剤中に、モノクロロメチルナフタレン、モノヒドロキシナフタレン又はモノアルコキシメチルナフタレンが含有されていた場合、一般式(1)の多価ヒドロキシ樹脂と、一般式(1)の多価ヒドロキシ樹脂の芳香族環にナフチルメタン基が1つ又はそれ以上付加した化合物との混合物となる。また例えば、フェノール性化合物として、2種類以上の混合物を反応に用いた場合、場合により、1分子中に2種類以上のフェノール性化合物を含有する多価ヒドロキシ樹脂が生成し、一般式(1)の新規多価ヒドロキシ樹脂との混合物となる。これらは混合物であっても、本発明の効果を発揮することに支障はなく、これらをエポキシ樹脂硬化剤として用いることができるし、また本発明のエポキシ樹脂の原料として使用することができる。
【0021】
本発明のエポキシ樹脂は、上記一般式(1)で表される多価ヒドロキシ樹脂をエピクロルヒドリンと反応させることにより得られる。この反応は、通常のエポキシ化反応と同様に行うことができる。
【0022】
例えば、上記一般式(1)で表される多価ヒドロキシ樹脂を過剰のエピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に、50〜150℃、好ましくは、60〜120℃の範囲で1〜10時間反応させる方法が挙げられる。この際、アルカリ金属水酸化物の使用量は、多価ヒドロキシ樹脂中の水酸基1モルに対して0.8〜2モル、好ましくは0.9〜1.2モルの範囲である。また、エピクロルヒドリンは多価ヒドロキシ樹脂中の水酸基に対して過剰に用いられるが、通常、多価ヒドロキシ樹脂中の水酸基1モルに対して、1.5〜15モル、好ましくは2〜8モルの範囲である。また、反応の際、四級アンモニウム塩等を添加することができる。四級アンモニウム塩としては、たとえばテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等があり、その添加量としては、多価ヒドロキシ樹脂に対して、0.1〜2.0wt%の範囲が好ましい。これより少ないと四級アンモニウム塩添加の効果が小さく、これより多いと難加水分解性塩素の生成が多くなり、高純度化が困難になる。更には、ジメチルスルホキシド、ジグライム等の極性溶媒を用いても良く、その添加量は、多価ヒドロキシ樹脂に対して、10〜200wt%の範囲が好ましい。これより少ないと添加の効果が小さく、これより多いと容積効率が低下し経済上好ましくない。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解、濾過した後、水洗して無機塩を除去し、次いで溶剤を留去することにより目的のエポキシ樹脂を得ることができる。このエポキシ樹脂は一般式(3)で表されるものを主成分とするが、一般式(1)の新規多価ヒドロキシ樹脂の芳香族環にナフチルメタン基が1つ又はそれ以上付加した化合物のグリシジルエーテル化物が含まれていてもよい。更に、本発明のエポキシ樹脂中のエポキシ基がエーテル結合としてオリゴマー化したものもが含まれていてもよい。
【0023】
本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂及び硬化剤よりなり、エポキシ樹脂成分として一般式(3)で表されるエポキシ樹脂又は硬化剤成分として上記一般式(1)で表される多価ヒドロキシ樹脂の少なくともいずれか一方を必須成分として配合したものである。
【0024】
一般式(3)で表されるエポキシ樹脂を必須成分とする場合の硬化剤としては、一般にエポキシ樹脂の硬化剤として知られているものはすべて使用できる。例えば、ジシアンジアミド、多価フェノール類、酸無水物類、芳香族及び脂肪族アミン類等がある。具体的に例示すれば、多価フェノール類としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、ナフトールノボラック、ポリビニルフェノール等に代表される3価以上のフェノール類、更にはフェノール類、ナフトール類又は、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類のホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−キシリレングリコール等の縮合剤により合成される多価フェノール性化合物、等があり、酸無水物としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイミック酸、無水ナジック酸、無水トリメリット酸等がある。また、アミン類としては、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、m−フェニレンジアミン、p−キシリレンジアミン等の芳香族アミン類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の脂肪族アミン類、あるいは一般式(1)で表される多価ヒドロキシ樹脂がある。本発明の樹脂組成物には、これら硬化剤の1種又は、2種以上を混合して用いることができるが、本発明に関わるエポキシ樹脂の配合量はエポキシ樹脂全体中、5〜100%の範囲である。
【0025】
一般式(1)で表される多価ヒドロキシ樹脂を硬化剤成分の必須成分とする場合のエポキシ樹脂としては、分子中にエポキシ基を2個以上有する通常のエポキシ樹脂はすべて使用できる。例を挙げれば、ビスフェノールA、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック等の3価以上のフェノール類、又は、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグルシジルエーテル化物、あるいは上記一般式(1)で表される多官能エポキシ樹脂等がある。これらのエポキシ樹脂は、1種又は、2種以上を混合して用いることができるが、本発明に関わる多価ヒドロキシ樹脂の配合量はエポキシ樹脂全体中、5〜100%の範囲である。
【0026】
また、一般式(3)で表されるエポキシ樹脂又は一般式(1)で表される多価ヒドロキシ樹脂又は両者を必須成分とする本発明のエポキシ樹脂組成物中には、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリウレタン、石油樹脂、インデンクマロン樹脂、フェノキシ樹脂等のオリゴマー又は高分子化合物を適宜配合してもよいし、無機充填剤、顔料、難然剤、揺変性付与剤、カップリング剤、流動性向上剤、等の添加剤を配合してもよい。無機充填剤としては、例えば、球状あるいは、破砕状の溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ粉末、アルミナ粉末、ガラス粉末、又はマイカ、タルク、炭酸カルシウム、アルミナ、水和アルミナ、等が挙げられ、顔料としては、有機系又は、無機系の体質顔料、鱗片状顔料等がある。揺変性付与剤としては、シリコン系、ヒマシ油系、脂肪族アマイドワックス、酸化ポリエチレンワックス、有機ベントナイト系、等を挙げることができる。更に必要に応じて、従来より公知の硬化促進剤を用いることができる。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等がある。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.2〜5重量部の範囲である。また更に必要に応じて、本発明の樹脂組成物には、カルナバワックス、OPワックス等の離型剤、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のカップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、シリコンオイル等の低応力化剤、ステアリン酸カルシウム等の滑剤等を使用できる。
【0027】
本発明の硬化物は、上記エポキシ樹脂組成物を注型、圧縮成形、トランスファー成形等の方法により、成形加工し得ることができる。生成する際の温度は、通常、120〜220℃の範囲である。
【0028】
【実施例】
以下、実施例及び比較例に基づき、本発明を具体的に説明する。
実施例1(多価ヒドロキシ樹脂の製造)
1Lの4口セパラブルフラスコに、1,6−ナフタレンジオール192g、ジクロロメチルナフタレン(1,5−ジクロロメチル体95.6%、その他のジクロロメチル体3.0%、モノクロロメチル体1.4%)81g及びトルエン550gを量り採り、窒素気流下、攪拌しながら徐々に昇温溶解させ、約116℃で還流させながらそのまま2時間反応させた。その後、トルエンを留去しながら180℃まで昇温し、そのまま1時間反応させた。反応後、減圧留去により溶媒を除去した後、褐色の樹脂236gを得た(多価ヒドロキシ樹脂A)。得られた多価ヒドロキシ樹脂Aの水酸基当量は114g/eq.であり、軟化点は102℃、150℃での溶融粘度は2.08Pa・sであった。GPCチャートを図1、赤外吸収スペクトルを図2に示す。ここで溶融粘度は、BROOKFIELD社製CAP2000Hを用い、GPC測定は、装置:HLC−802A(東ソー(株)製)及びカラム:TSK−GEL2000H×3本及びTSK−GEL4000H× 1本(何れも東ソー(株)製)を用い、溶媒:テトラヒドロフラン、流速:1.0ml/分、温度:38℃、検出器:RIの条件で行った。
【0029】
実施例2(多価ヒドロキシ樹脂の製造)
1Lの4口セパラブルフラスコに、1−ナフトール288g、1,5−ジクロロメチルナフタレン(1,5−ジクロロメチル体95.6%、その他のジクロロメチル体3.0%、モノクロロメチル体1.4%)135g及びトルエン840gを量り採り、窒素気流下、攪拌しながら徐々に昇温溶解させ、約116℃でそのまま還流させながら2時間反応させた。その後、トルエンを留去しながら180℃まで昇温し、そのまま1時間反応させた。反応後、200℃で減圧留去により未反応1−ナフトール及び溶媒を除去した後、褐色の樹脂224gを得た(多価ヒドロキシ樹脂B)。得られた多価ヒドロキシ樹脂Bの水酸基当量は230g/eq.であり、軟化点は137℃、180℃での溶融粘度は1.69Pa・sであった。GPCチャートを図3に示す。
【0030】
実施例3(多価ヒドロキシ樹脂の製造)
1Lの4口セパラブルフラスコに、フェノール188g、1,5−ジクロロメチルナフタレン(1,5−ジクロロメチル体95.6%、その他のジクロロメチル体3.0%、モノクロロメチル体1.4%)112.5g及びトルエン800gを量り採り、窒素気流下、攪拌しながら徐々に昇温溶解させ、約116℃でそのまま還流させながら2時間反応させた。その後、トルエンを留去しながら180℃まで昇温し、そのまま1時間反応させた。反応後、200℃で減圧留去により未反応フェノール及び溶媒を除去した後、褐色の樹脂142gを得た(多価ヒドロキシ樹脂C)。得られた多価ヒドロキシ樹脂Cの水酸基当量は191g/eq.であり、150℃での1.1Pa・sであった。
【0031】
実施例4(エポキシ樹脂の製造)
実施例1で得た多価ヒドロキシ樹脂A100gをエピクロルヒドリン812.1g及びジグライム162.4gに溶解し、減圧下(約100mmHg)、60℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液71gを4時間かけて滴下した。この間、生成する水はエピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、更に1時間反応を継続した。その後、エピクロルヒドリン及びジグライムを減圧留去し、メチルイソブチルケトン348.1gに溶解した後、濾過により生成した塩を除いた。その後、48%水酸化ナトリウム水溶液21gを加え、80℃で2時間反応させた。反応後、濾過、水洗を行った後、溶媒であるメチルイソブチルケトンを減圧留去し、褐色のエポキシ樹脂131.3gを得た(エポキシ樹脂A)。得られたエポキシ樹脂Aのエポキシ当量は175.3g/eq.であり、軟化点は62℃、加水分解性塩素は600ppm、150℃での溶融粘度は0.12Pa・s、であった。GPCチャートを図3、赤外吸収スペクトルを図4に示す。なお、ここで加水分解性塩素は、樹脂試料0.5gを1,4−ジオキサン30mlに溶解させたものを1N−KOH/メタノール溶液5mlで30分間煮沸還流したものを、硝酸銀溶液で電位差滴定を行うことにより求めた。
【0032】
実施例5(エポキシ樹脂の製造)
実施例2で得た多価ヒドロキシ樹脂B100gをエピクロルヒドリン402.9g及びジグライム80.6gに溶解し、48%水酸化ナトリウム水溶液35.2gを用いて実施例4と同様に反応を行い、褐色のエポキシ樹脂116gを得た(エポキシ樹脂B)。得られたエポキシ樹脂Bのエポキシ当量は315g/eq.であり、加水分解性塩素は500ppm、150℃での溶融粘度は11.5Pa・sであった。GPCチャートを図5に示す。
【0033】
実施例6(エポキシ樹脂の製造)
実施例3で得た多価ヒドロキシ樹脂C100gをエピクロルヒドリン484。3g及びジグライム96.9gに溶解し、48%水酸化ナトリウム水溶液42.3gを用いて実施例3と同様に反応を行い、褐色のエポキシ樹脂123gを得た(エポキシ樹脂C)。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は271g/eq.であり、加水分解性塩素は800ppm、150℃での溶融粘度は0.6Pa・sであった。
【0034】
実施例7〜14及び比較例1〜5
実施例1〜6で合成した多価ヒドロキシ樹脂又はエポキシ樹脂、1,6-ナフタレンジオールアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量175、軟化点74℃、150℃での溶融粘度0.35Pa・s;ESN-375、新日鐵化学製;エポキシ樹脂D)、2-ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ当量280、軟化点84℃、150℃での溶融粘度0.38Pa・s;ESN-185、新日鐵化学製;エポキシ樹脂E)、o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量 197、軟化点54℃、150℃での溶融粘度90mPa・s;EOCN-1020、日本化薬製;エポキシ樹脂F)、3,3’,5,5’‐テトラメチル‐4,4’‐ジヒドロキシビフェニルのエポキシ化物(エポキシ当量195、加水分解性塩素450ppm、融点105℃、150℃での溶融粘度11mPa・s;YX-4000HK、ジャパンエポキシレジン製;エポキシ樹脂G)、フェノールノボラック(OH当量104、軟化点46℃、150℃での溶融粘度20mPa・s;フェノール樹脂D)及びフェノールアラルキル樹脂(OH当量162、軟化点50℃、150℃での溶融粘度30mPa・s;MEH-7800-4L、明和化成製;フェノール樹脂E)、1-ナフトールアラルキル樹脂(OH当量208、軟化点74℃、150℃での溶融粘度35mPa・s;SN-475、新日鐵化学製;フェノール樹脂F)を用い、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを用い、表1〜2に示す配合で樹脂組成物とした後、成形(150℃、3分)し、硬化試験片を得た。試験片は180℃にて12時間ポストキュアを行った後、種々の物性試験に供した。結果を表3〜4に示す。
【0035】
このエポキシ樹脂組成物を用いて175℃で成形し、175℃で12時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。ガラス転移点は、熱機械測定装置により、昇温速度7℃/分の条件で求めた。曲げ試験は、240℃での高温曲げ強度、曲げ弾性率を3点曲げ法により行った。接着強度は、42アロイ板2枚の間に25mm×12.5mm×0.5mmの成形物を圧縮成型機により175℃で成形し、175℃、12時間ポストキュアを行った後、引張剪断強度を求めることにより評価した。吸水率は、本エポキシ樹脂組成物を用いて、直径50mm、厚さ3mmの円盤を成形し、ポストキュア後85℃、85%RHの条件で100時間吸湿させた時のものであり、クラック発生率は、QFP-80pin(14mm×20mm×2.5mm、194アロイ)を成形し、ポストキュア後、85℃、85%RHの条件で所定の時間吸湿後、260℃の半田浴に10秒間浸漬させた後、パッケージの状態を観察し求めた。難燃性は、厚さ1/16インチの試験片を成形し、UL94V-0規格によって評価し、n=5の試験での合計燃焼時間で表した。結果をまとめて表3〜4に示す。
【0036】
【表1】
Figure 0004188022
【0037】
【表2】
Figure 0004188022
【0038】
【表3】
Figure 0004188022
【0039】
【表4】
Figure 0004188022
【0040】
【発明の効果】
本発明のエポキシ樹脂又は多価ヒドロキシ樹脂から得られるエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物は、耐湿性、耐熱性に優れ、かつ耐衝撃性等の機械的特性に優れた性能を有し、積層、成形、注型、接着等の用途に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 ヒドロキシ化合物AのGPCチャート
【図2】 ヒドロキシ化合物AのIRスペクトル
【図3】 ヒドロキシ化合物BのGPCチャート
【図4】 エポキシ樹脂AのGPCチャート
【図5】 エポキシ樹脂AのIRスペクトル
【図6】 エポキシ樹脂BのGPCチャート[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention is an epoxy resin that gives a cured product that is excellent in flame retardancy and also excellent in moisture resistance, heat resistance, adhesion to a metal substrate, etc., an intermediate thereof, a curing agent, and an epoxy resin composition using them It is suitable for insulating materials in the electrical and electronic fields such as printed wiring boards and semiconductor encapsulation.
[0002]
[Prior art]
In recent years, particularly with the advancement of the advanced material field, development of higher performance base resins has been demanded. For example, in the field of semiconductor encapsulation, the problem of package cracking has become serious due to the thinning and large area of packages corresponding to recent high-density mounting and the spread of surface mounting methods. As a base resin, improvement in moisture resistance, heat resistance, adhesion to a metal substrate, and the like is strongly demanded. More recently, from the viewpoint of reducing environmental impact, there has been a movement to eliminate halogen-based flame retardants, and there is a demand for base resins that are more excellent in flame retardancy.
[0003]
However, no conventionally known epoxy resins satisfy these requirements. For example, the well-known bisphenol type epoxy resin is in a liquid state at room temperature and is widely used because it is excellent in workability and easy to mix with a curing agent, an additive, etc. There is a problem in terms of moisture resistance. Also, phenol novolac type epoxy resins are known as improved heat resistance, but there are problems with moisture resistance and impact resistance. JP-A-63-238,122 proposes an epoxy compound of a phenol aralkyl resin for the purpose of improving moisture resistance and impact resistance, but it is not sufficient in terms of heat resistance and flame retardancy.
[0004]
JP-A-9-235449, JP-A-10-182792 and the like disclose a method for adding a phosphate ester-based flame retardant as a measure for improving flame retardancy without using a halogen-based flame retardant. Has been. However, the method using a phosphate ester flame retardant does not have sufficient moisture resistance. In addition, the phosphoric acid ester is hydrolyzed under a high temperature and humidity environment, and there is a problem that the reliability as an insulating material is lowered.
[0005]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-140166 proposes an example in which an aralkyl epoxy resin having a biphenyl structure is applied to a semiconductor sealing material as one that improves flame retardancy without containing phosphorus atoms and halogen atoms. However, it is not sufficient in terms of flame retardancy. Furthermore, it is still not sufficient in terms of heat resistance.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, the object of the present invention is excellent in flame retardancy, and has excellent performance in moisture resistance, heat resistance, adhesion to a metal substrate, etc., for use in lamination, molding, casting, adhesion, etc. It is an object to provide a useful epoxy resin and a polyvalent hydroxy resin useful as an epoxy resin curing agent, a production method thereof, an epoxy resin composition using them, and a cured product thereof.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
That is, this invention is a manufacturing method of the novel epoxy resin represented by the following general formula (3) characterized by making the novel polyvalent hydroxy resin represented by the following general formula (1) react with epichlorohydrin.
[Formula 4]
Figure 0004188022
(However, A represents a naphthalene ring optionally substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms . The naphthylene group bonded to two methylene groups contains 1,5-naphthylene group in an amount of 60% by weight or more. , N represents a number from 1 to 15, m represents 1 )
[0008]
The novel polyvalent hydroxy resin comprises a phenolic compound and the following general formula (2),
[Chemical formula 5]
Figure 0004188022
(Wherein X represents a hydroxyl group, a halogen atom, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms) is reacted with a 0.05 to 0.9 mole of the latter with respect to 1 mole of the former. Can be obtained.
[0009]
Furthermore, this invention is a novel epoxy resin represented by following General formula (3).
[Chemical 6]
Figure 0004188022
(However, A represents a naphthalene ring which may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms , G represents a glycidyl group. A naphthylene group bonded to two methylene groups has a 1,5-naphthylene group of 60 (In addition, n represents a number from 1 to 15, and m represents 1. )
[0010]
Delete [0011]
Furthermore, this invention is an epoxy resin composition which mix | blends said epoxy resin as an epoxy resin component , and is a hardened | cured material formed by hardening | curing this epoxy resin composition.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The polyvalent hydroxy resin of the present invention is represented by the general formula (1). Here, A represents a benzene ring or a naphthalene ring, and these rings may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, but are preferably unsubstituted or substituted with a methyl group. It is. m is an integer of 1 to 3, but is preferably an integer of 1 or 2. n represents the average number of repetitions, and is 1 to 15, preferably 1.1 to 5. Such a polyvalent hydroxy resin is obtained by reacting a phenolic compound with a condensing agent represented by the general formula (2).
[0013]
Here, the phenolic compound is an alkyl group-substituted or unsubstituted monovalent, divalent or trivalent phenol or hydroxynaphthalene having 1 to 6 carbon atoms, specifically phenol, o-cresol, m -Cresol, p-cresol, ethylphenols, isopropylphenols, tertiary butylphenols, phenylphenols, 2,6-xylenol, 2,6-diethylphenol, hydroquinone, resorcin, catechol, pyrogallol, phloroglucinol, 1 -Naphthol, 2-naphthol, 1,5-naphthalenediol, 1,6-naphthalenediol, 1,7-naphthalenediol, 2,6-naphthalenediol, 2,7-naphthalenediol, 1,3,6-trihydroxy Naphthalene, 1,3,7-trihydroxyna Examples include phthalene and 2,3,6-trihydroxynaphthalene. Of these phenolic compounds, hydroxynaphthalenes are preferred from the viewpoints of heat resistance, moisture resistance and flame retardancy. Of these, 1-naphthol or 2-naphthol is particularly preferable from the viewpoint of moisture resistance and flame retardancy, and naphthalenediols are preferable from the viewpoint of heat resistance. Said phenols or naphthols may be used independently and may use 2 or more types together.
[0014]
Moreover, in General formula (2), X is a hydroxyl group, a halogen atom, or a C1-C6 alkoxy group. From the viewpoint of reactivity with the phenolic compound, a hydroxyl group or a halogen atom is preferred. The halogen atom is preferably a chlorine atom, and the alkoxy group is preferably a methoxy group. The substitution positions of the two CH 2 X groups on the naphthalene ring may be on the same benzene ring or on different benzene rings, but preferred substitution positions are 1,4-position, 1,5- Position, 1,6-position, 2,6-position, 2,7-position. From the viewpoint of physical properties such as heat resistance, mechanical strength and toughness, the 1,5-position and the 2,6-position are more preferable, and from the viewpoint of flame retardancy, the 1,5-position is particularly preferable.
[0015]
Although the condensing agent represented by General formula (2) is not specifically limited, Usually, it can manufacture via the chloromethylation reaction of naphthalene or the chlorination reaction of dimethylnaphthalene. The condensing agent may contain mono-substituted naphthalenes in which only one CH 2 X group is substituted on the naphthalene ring, but the mono-body content is 10 wt% or less, preferably 5 wt% or less, more preferably Is 3 wt% or less. If the content of the mono-body is larger than this, the crosslink density when the resin is cured may be lowered, and the heat resistance may be lowered.
[0016]
In the reaction of the phenolic compound and the condensing agent, an excessive amount of the phenolic compound is used with respect to the condensing agent. The amount of the condensing agent used is in the range of 0.05 to 0.9 mol, preferably in the range of 0.1 to 0.7 mol, with respect to 1 mol of the phenolic compound. If it exceeds the above range, the softening point of the resin becomes high, which hinders the molding workability. On the other hand, if the amount is less than this, the amount of the phenolic compound used excessively after the reaction is increased, which is not industrially preferable.
[0017]
This reaction is preferably carried out in the presence of an acid catalyst, and the acid catalyst can be appropriately selected from known inorganic acids and organic acids. Examples of such an acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, organic acids such as formic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, and diethylsulfuric acid, zinc chloride, aluminum chloride, Examples include Lewis acids such as iron chloride and boron trifluoride, and solid acids such as activated clay, silica-alumina, and zeolite. Moreover, when using bischloromethylnaphthalene as a condensing agent represented by General formula (2), it can be made to react in the absence of a catalyst.
[0018]
Usually, this reaction is performed at 10 to 250 ° C. for 1 to 20 hours. Furthermore, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, benzene, toluene, chlorobenzene, dichlorobenzene and the like can be used as the reaction solvent.
[0019]
After completion of the reaction, in some cases, the catalyst is removed by a method such as neutralization and water washing, and if necessary, the remaining solvent and unreacted phenolic compound are removed from the system by a method such as distillation under reduced pressure. Resin. The unreacted phenolic compound is usually 3% or less, preferably 1% or less. If it is more than this, the heat resistance in the case of a cured product is lowered. However, when a divalent or higher valent phenolic compound is used in the reaction, the remaining phenolic compound may not be removed after the reaction.
[0020]
In the present invention, the polyvalent hydroxy resin represented by the general formula (1) may contain a naphthylmethane group bonded thereto. For example, when monochloromethylnaphthalene, monohydroxynaphthalene or monoalkoxymethylnaphthalene is contained in the condensing agent to be reacted with the phenolic compound, the polyvalent hydroxy resin of the general formula (1) and the general formula (1) It becomes a mixture with a compound in which one or more naphthylmethane groups are added to the aromatic ring of the polyvalent hydroxy resin. For example, when two or more types of mixtures are used for the reaction as the phenolic compound, in some cases, a polyvalent hydroxy resin containing two or more types of phenolic compounds in one molecule is generated, and the general formula (1) It becomes a mixture with the novel polyvalent hydroxy resin. Even if it is a mixture, there is no hindrance to exhibiting the effect of the present invention, and these can be used as an epoxy resin curing agent, and can be used as a raw material for the epoxy resin of the present invention.
[0021]
The epoxy resin of the present invention can be obtained by reacting the polyvalent hydroxy resin represented by the general formula (1) with epichlorohydrin. This reaction can be performed in the same manner as a normal epoxidation reaction.
[0022]
For example, after the polyvalent hydroxy resin represented by the general formula (1) is dissolved in excess epichlorohydrin, it is preferably 50 to 150 ° C. in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. The method of making it react for 1 to 10 hours in the range of 60-120 degreeC is mentioned. Under the present circumstances, the usage-amount of an alkali metal hydroxide is 0.8-2 mol with respect to 1 mol of hydroxyl groups in polyhydric hydroxy resin, Preferably it is the range of 0.9-1.2 mol. Epichlorohydrin is used in excess with respect to the hydroxyl group in the polyvalent hydroxy resin, but is usually in the range of 1.5 to 15 mol, preferably 2 to 8 mol, relative to 1 mol of the hydroxyl group in the polyvalent hydroxy resin. It is. Moreover, a quaternary ammonium salt etc. can be added in the case of reaction. Examples of the quaternary ammonium salt include tetramethylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, and the addition amount thereof is in the range of 0.1 to 2.0 wt% with respect to the polyvalent hydroxy resin. Is preferred. If the amount is less than this, the effect of adding a quaternary ammonium salt is small, and if the amount is more than this, the production of hardly hydrolyzable chlorine increases and it becomes difficult to achieve high purity. Furthermore, you may use polar solvents, such as a dimethyl sulfoxide and a diglyme, and the addition amount has the preferable range of 10-200 wt% with respect to polyvalent hydroxy resin. If it is less than this, the effect of addition is small, and if it is more than this, the volumetric efficiency is lowered, which is not economical. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, the residue is dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the target epoxy is distilled off. A resin can be obtained. This epoxy resin is mainly composed of the compound represented by the general formula (3), but is a compound in which one or more naphthylmethane groups are added to the aromatic ring of the novel polyvalent hydroxy resin of the general formula (1). A glycidyl etherified product may be contained. Furthermore, what the epoxy group in the epoxy resin of this invention oligomerized as an ether bond may be contained.
[0023]
The epoxy resin composition of the present invention comprises an epoxy resin and a curing agent, and an epoxy resin represented by the general formula (3) as an epoxy resin component or a polyvalent hydroxy represented by the above general formula (1) as a curing agent component. At least one of the resins is blended as an essential component.
[0024]
As the curing agent when the epoxy resin represented by the general formula (3) is an essential component, any of those generally known as curing agents for epoxy resins can be used. Examples include dicyandiamide, polyhydric phenols, acid anhydrides, aromatic and aliphatic amines. Specifically, as polyhydric phenols, for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, etc. Divalent phenols, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolac, o-cresol novolak, naphthol novolak, polyvinylphenol, etc. Representative trihydric or higher phenols, further phenols, naphthols or bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone , Polyhydric phenolic compounds synthesized by condensing agents such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, p-xylylene glycol, etc. of divalent phenols such as resorcin, naphthalenediol, etc., and acid anhydrides Phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl hymic anhydride, nadic anhydride, trimellitic anhydride, and the like. Examples of amines include aromatic amines such as 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine, and p-xylylenediamine. Examples include aliphatic amines such as ethylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine, or polyvalent hydroxy resins represented by the general formula (1). In the resin composition of the present invention, one or two or more of these curing agents can be mixed and used, but the amount of the epoxy resin related to the present invention is 5 to 100% in the entire epoxy resin. It is a range.
[0025]
As the epoxy resin when the polyvalent hydroxy resin represented by the general formula (1) is an essential component of the curing agent component, all normal epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule can be used. Examples include divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, or tris- (4-hydroxyphenyl) methane. , 1,2,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, trivalent or higher phenols such as o-cresol novolak, or halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A Examples thereof include glycidyl etherified products and polyfunctional epoxy resins represented by the above general formula (1). These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more, but the blending amount of the polyvalent hydroxy resin according to the present invention is in the range of 5 to 100% in the whole epoxy resin.
[0026]
The epoxy resin represented by the general formula (3), the polyvalent hydroxy resin represented by the general formula (1), or the epoxy resin composition of the present invention containing both as essential components includes polyester, polyamide, and polyimide. , Polyethers, polyurethanes, petroleum resins, indene coumarone resins, phenoxy resins and other oligomers or polymer compounds may be blended as appropriate, inorganic fillers, pigments, refractory agents, thixotropic agents, coupling agents In addition, additives such as a fluidity improver may be blended. Examples of inorganic fillers include silica powder such as spherical or crushed fused silica and crystalline silica, alumina powder, glass powder, mica, talc, calcium carbonate, alumina, hydrated alumina, and the like, pigments As organic or inorganic extender pigments, scaly pigments, and the like. Examples of the thixotropic agent include silicon-based, castor oil-based, aliphatic amide wax, oxidized polyethylene wax, and organic bentonite-based. Furthermore, a conventionally well-known hardening accelerator can be used as needed. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids and the like. As addition amount, it is the range of 0.2-5 weight part normally with respect to 100 weight part of epoxy resins. Furthermore, if necessary, the resin composition of the present invention includes a release agent such as carnauba wax and OP wax, a coupling agent such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, a colorant such as carbon black, three A flame retardant such as antimony oxide, a low stress agent such as silicon oil, a lubricant such as calcium stearate, and the like can be used.
[0027]
The cured product of the present invention can be molded from the epoxy resin composition by a method such as casting, compression molding or transfer molding. The temperature at the time of production is usually in the range of 120 to 220 ° C.
[0028]
【Example】
Hereinafter, based on an Example and a comparative example, this invention is demonstrated concretely.
Example 1 (Production of polyvalent hydroxy resin)
In a 1 L 4-neck separable flask, 192 g of 1,6-naphthalenediol, dichloromethylnaphthalene (95.6% of 1,5-dichloromethyl, 3.0% of other dichloromethyl, 1.4% of monochloromethyl) ) 81 g and 550 g of toluene were weighed and gradually dissolved by heating while stirring under a nitrogen stream, and reacted for 2 hours while refluxing at about 116 ° C. Then, it heated up to 180 degreeC, distilling toluene, and was made to react as it was for 1 hour. After the reaction, the solvent was removed by distillation under reduced pressure, and then 236 g of a brown resin was obtained (polyvalent hydroxy resin A). The obtained polyvalent hydroxy resin A has a hydroxyl group equivalent of 114 g / eq. The softening point was 102 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 2.08 Pa · s. A GPC chart is shown in FIG. 1, and an infrared absorption spectrum is shown in FIG. Here, the melt viscosity is CAP2000H manufactured by BROOKFIELD, and the GPC measurement is performed by using an apparatus: HLC-802A (manufactured by Tosoh Corporation) and a column: TSK-GEL2000H × 3 and TSK-GEL4000H × 1 (both are Tosoh ( The product was manufactured under the conditions of solvent: tetrahydrofuran, flow rate: 1.0 ml / min, temperature: 38 ° C., detector: RI.
[0029]
Example 2 (Production of polyvalent hydroxy resin)
In a 1 L 4-neck separable flask, 288 g of 1-naphthol, 1,5-dichloromethylnaphthalene (95.6% of 1,5-dichloromethyl, 3.0% of other dichloromethyl, 1.4 of monochloromethyl) %) 135 g and 840 g of toluene were weighed and dissolved while gradually stirring while stirring under a nitrogen stream, and reacted at reflux at about 116 ° C. for 2 hours. Then, it heated up to 180 degreeC, distilling toluene, and was made to react as it was for 1 hour. After the reaction, unreacted 1-naphthol and the solvent were removed by distillation at 200 ° C. under reduced pressure to obtain 224 g of a brown resin (polyvalent hydroxy resin B). The obtained polyvalent hydroxy resin B has a hydroxyl group equivalent of 230 g / eq. The softening point was 137 ° C., and the melt viscosity at 180 ° C. was 1.69 Pa · s. A GPC chart is shown in FIG.
[0030]
Example 3 (Production of polyvalent hydroxy resin)
In a 1 L 4-neck separable flask, phenol 188 g, 1,5-dichloromethyl naphthalene (9,5.6% of 1,5-dichloromethyl, 3.0% of other dichloromethyl, 1.4% of monochloromethyl) 112.5 g and 800 g of toluene were weighed and gradually dissolved by heating while stirring under a nitrogen stream, and reacted for 2 hours while refluxing at about 116 ° C. Then, it heated up to 180 degreeC, distilling toluene, and was made to react as it was for 1 hour. After the reaction, unreacted phenol and solvent were removed by distillation under reduced pressure at 200 ° C., and 142 g of a brown resin was obtained (polyvalent hydroxy resin C). The obtained polyvalent hydroxy resin C has a hydroxyl group equivalent of 191 g / eq. It was 1.1 Pa · s at 150 ° C.
[0031]
Example 4 (Production of epoxy resin)
100 g of the polyvalent hydroxy resin A obtained in Example 1 was dissolved in 812.1 g of epichlorohydrin and 162.4 g of diglyme, and 71 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 60 ° C. over 4 hours under reduced pressure (about 100 mmHg). . During this time, the generated water was removed from the system by azeotropy with epichlorohydrin, and the distilled epichlorohydrin was returned to the system. After completion of dropping, the reaction was continued for another hour. Thereafter, epichlorohydrin and diglyme were distilled off under reduced pressure and dissolved in 348.1 g of methyl isobutyl ketone, and then the salt produced by filtration was removed. Thereafter, 21 g of a 48% aqueous sodium hydroxide solution was added and reacted at 80 ° C. for 2 hours. After the reaction, filtration and washing with water were performed, and then methyl isobutyl ketone as a solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 131.3 g of a brown epoxy resin (epoxy resin A). The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin A was 175.3 g / eq. The softening point was 62 ° C., hydrolyzable chlorine was 600 ppm, and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.12 Pa · s. A GPC chart is shown in FIG. 3, and an infrared absorption spectrum is shown in FIG. Here, the hydrolyzable chlorine is obtained by subjecting 0.5 g of a resin sample dissolved in 30 ml of 1,4-dioxane to boiling and refluxing with 5 ml of 1N KOH / methanol solution for 30 minutes, and performing potentiometric titration with a silver nitrate solution. Determined by doing.
[0032]
Example 5 (Production of epoxy resin)
100 g of the polyvalent hydroxy resin B obtained in Example 2 was dissolved in 402.9 g of epichlorohydrin and 80.6 g of diglyme, and reacted in the same manner as in Example 4 using 35.2 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution. 116 g of resin was obtained (epoxy resin B). The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin B was 315 g / eq. The hydrolyzable chlorine was 500 ppm, and the melt viscosity at 150 ° C. was 11.5 Pa · s. A GPC chart is shown in FIG.
[0033]
Example 6 (Production of epoxy resin)
100 g of the polyvalent hydroxy resin C obtained in Example 3 was dissolved in 48.4 g of epichlorohydrin and 96.9 g of diglyme, and the reaction was carried out in the same manner as in Example 3 using 42.3 g of 48% sodium hydroxide aqueous solution. 123 g of resin was obtained (epoxy resin C). The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin was 271 g / eq. The hydrolyzable chlorine was 800 ppm and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.6 Pa · s.
[0034]
Examples 7-14 and Comparative Examples 1-5
Polyhydric hydroxy resin or epoxy resin synthesized in Examples 1-6, 1,6-naphthalenediol aralkyl type epoxy resin (epoxy equivalent 175, softening point 74 ° C., melt viscosity at 150 ° C. 0.35 Pa · s; ESN − 375, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd .; epoxy resin D), 2-naphthol aralkyl type epoxy resin (epoxy equivalent 280, softening point 84 ° C., melt viscosity at 150 ° C. 0.38 Pa · s; ESN-185, Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Epoxy resin E), o-cresol novolak type epoxy resin (epoxy equivalent 197, softening point 54 ° C., melt viscosity 90 ° C. at 150 ° C .; EOCN-1020, Nippon Kayaku; epoxy resin F), 3, Epoxidized 3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxybiphenyl (epoxy equivalent 195, hydrolyzable chlorine 450 ppm Melting viscosity at 105 ° C. and 150 ° C. 11 mPa · s; YX-4000HK, made by Japan Epoxy Resin; Epoxy Resin G), phenol novolac (OH equivalent 104, softening point 46 ° C., melting viscosity at 150 ° C. 20 mPa · s) Phenol resin D) and phenol aralkyl resin (OH equivalent 162, softening point 50 ° C., melt viscosity at 150 ° C. 30 mPa · s; MEH-7800-4L, manufactured by Meiwa Kasei; phenol resin E), 1-naphthol aralkyl resin ( OH equivalent 208, softening point 74 ° C., melt viscosity 35 mPa · s at 150 ° C .; SN-475, manufactured by Nippon Steel Chemical; phenol resin F), triphenylphosphine as curing accelerator, γ as silane coupling agent -Glycidoxypropyltrimethoxysilane was used to form a resin composition with the formulation shown in Tables 1-2. Then, it was molded (150 ° C., 3 minutes) to obtain a cured test piece. The test piece was post-cured at 180 ° C. for 12 hours and then subjected to various physical property tests. The results are shown in Tables 3-4.
[0035]
The epoxy resin composition was molded at 175 ° C., post-cured at 175 ° C. for 12 hours to obtain a cured product test piece, and subjected to various physical property measurements. The glass transition point was calculated | required on the conditions of the temperature increase rate of 7 degree-C / min with the thermomechanical measuring apparatus. The bending test was performed by a three-point bending method for high temperature bending strength and bending elastic modulus at 240 ° C. The adhesive strength was 25 mm × 12.5 mm × 0.5 mm between two 42 alloy plates, molded at 175 ° C. with a compression molding machine, post-cured at 175 ° C. for 12 hours, and then tensile shear strength Was evaluated. The water absorption rate is obtained when a disk having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm is molded using this epoxy resin composition, and after being cured for 100 hours under conditions of 85 ° C. and 85% RH, cracks are generated. The rate is QFP-80pin (14 mm x 20 mm x 2.5 mm, 194 alloy), post-cured, moisture-absorbed for a specified time under the conditions of 85 ° C and 85% RH, and then immersed in a solder bath at 260 ° C for 10 seconds. Then, the state of the package was observed and determined. Flame retardance was measured by molding a 1/16 inch thick test piece, evaluated according to the UL94V-0 standard, and expressed as the total burning time in a test with n = 5. The results are summarized in Tables 3-4.
[0036]
[Table 1]
Figure 0004188022
[0037]
[Table 2]
Figure 0004188022
[0038]
[Table 3]
Figure 0004188022
[0039]
[Table 4]
Figure 0004188022
[0040]
【The invention's effect】
A cured product obtained by curing an epoxy resin composition obtained from the epoxy resin or polyvalent hydroxy resin of the present invention has excellent moisture resistance, heat resistance, and excellent mechanical properties such as impact resistance. And can be suitably used for applications such as lamination, molding, casting, and adhesion.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 GPC chart of hydroxy compound A FIG. 2 IR spectrum of hydroxy compound A FIG. 3 GPC chart of hydroxy compound B FIG. 4 GPC chart of epoxy resin A FIG. 5 IR spectrum of epoxy resin A Fig. 6 GPC chart of epoxy resin B

Claims (4)

下記一般式(3)、The following general formula (3),
Figure 0004188022
Figure 0004188022
(但し、Aは炭素数1〜6のアルキル基で置換されていてもよいナフタレン環を示し、Gはグリシジル基を示す。2つのメチレン基と結合するナフチレン基は1,5(However, A shows the naphthalene ring which may be substituted by the C1-C6 alkyl group, G shows a glycidyl group. The naphthylene group couple | bonded with two methylene groups is 1,5. -- ナフチレン基を60重量%以上含有する。また、nは1〜15の数を示し、mは1を示す)で表されるエポキシ樹脂。It contains 60% by weight or more of naphthylene groups. Moreover, n shows the number of 1-15, m shows the epoxy resin represented by 1).
下記一般式(1)、The following general formula (1),
Figure 0004188022
Figure 0004188022
(但し、Aは炭素数1〜6のアルキル基で置換されていてもよいナフタレン環を示す。2つのメチレン基と結合するナフチレン基は1,5(However, A represents a naphthalene ring which may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. A naphthylene group bonded to two methylene groups is 1,5. -- ナフチレン基を60重量%以上含有する。また、nは1〜15の数を示し、mは1を示す)で表される多価ヒドロキシ樹脂とエピクロルヒドリンを反応させることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂の製造方法。It contains 60% by weight or more of naphthylene groups. 2. The method for producing an epoxy resin according to claim 1, wherein n represents a number of 1 to 15 and m represents 1) and epichlorohydrin is reacted.
エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、請求項1に記載のエポキシ樹脂を必須成分として配合してなるエポキシ樹脂組成物。In the epoxy resin composition which consists of an epoxy resin and a hardening | curing agent, the epoxy resin composition formed by mix | blending the epoxy resin of Claim 1 as an essential component. 請求項3に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。Hardened | cured material formed by hardening | curing the epoxy resin composition of Claim 3.
JP2002221522A 2002-07-30 2002-07-30 Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them Expired - Fee Related JP4188022B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002221522A JP4188022B2 (en) 2002-07-30 2002-07-30 Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002221522A JP4188022B2 (en) 2002-07-30 2002-07-30 Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008200478A Division JP5139914B2 (en) 2008-08-04 2008-08-04 Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004059792A JP2004059792A (en) 2004-02-26
JP4188022B2 true JP4188022B2 (en) 2008-11-26

Family

ID=31941810

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002221522A Expired - Fee Related JP4188022B2 (en) 2002-07-30 2002-07-30 Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4188022B2 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103342876A (en) * 2006-04-28 2013-10-09 日立化成工业株式会社 Resin composition, prepreg, laminated board and wiring board
JP5139914B2 (en) * 2008-08-04 2013-02-06 新日鉄住金化学株式会社 Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them
CN102459397B (en) * 2009-06-22 2014-05-07 住友电木株式会社 Resin composition for sealing semiconductors, and semiconductor device
JP5209660B2 (en) * 2010-03-29 2013-06-12 新日鉄住金化学株式会社 Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them
MY156448A (en) * 2010-07-30 2016-02-26 Dainippon Ink & Chemicals Curable resin composition, cured product thereof, phenol resin, epoxy resin, and semiconductor encapsulating material
JP5672947B2 (en) * 2010-10-25 2015-02-18 住友ベークライト株式会社 Resin composition for sealing and electronic component device
JP5929068B2 (en) * 2011-09-21 2016-06-01 Dic株式会社 Curable resin, method for producing the same, and solder resist
MY169844A (en) 2012-02-23 2019-05-17 Nippon Steel Chemical & Mat Co Ltd Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, method for producing same, epoxy resin composition and cured product thereof
JP6406847B2 (en) 2014-03-26 2018-10-17 新日鉄住金化学株式会社 Modified polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004059792A (en) 2004-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5209660B2 (en) Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them
JP5931234B2 (en) Method for producing epoxy resin composition
JP5515058B2 (en) Epoxy resin, phenol resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JP5457304B2 (en) Phenolic resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JP4188022B2 (en) Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them
JPWO2008050879A1 (en) Epoxy resin composition and cured product
JP5139914B2 (en) Polyvalent hydroxy resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product using them
JP5166232B2 (en) Naphthol resin, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP4465257B2 (en) Naphthol resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition using the same, and cured product thereof
JP4088525B2 (en) Epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JP5734603B2 (en) Phenolic resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JPWO2003068837A1 (en) Indole resins, epoxy resins and resin compositions containing these resins
JP2004123859A (en) Polyhydric hydroxy resin, epoxy resin, method for producing the same, epoxy resin composition using the same and cured product
JP5841947B2 (en) Epoxy resin composition and cured product
JP2006348064A (en) Epoxy resin, method for producing the same, epoxy resin composition using the same and its cured material
JP4408978B2 (en) Production method of polyvalent hydroxy resin and epoxy resin
JP4667753B2 (en) Epoxy resin production method, epoxy resin composition and cured product
JPH11158255A (en) Novel polyhydroxy compound, novel epoxy resin, their production, and epoxy resin composition and cured article prepared by using them
JP3806217B2 (en) Novel polyvalent hydroxy compound, novel epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition using them, and cured product thereof
JPH11255688A (en) New polyhydric hydroxy compound, new epoxy compound, their production, epoxy resin composition and cured product using the same
JP2007297539A (en) Epoxy resin composition and cured product
JP2008231071A (en) New polyvalent hydroxy compound, and epoxy resin composition and its cured product
JP3978094B2 (en) Hydroxy compound, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JPH09255758A (en) New epoxy resin, its intermediate, production thereof, epoxy resin composition made using the same, and cured item thereof
JP4813201B2 (en) Indole skeleton-containing epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050720

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070726

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070814

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071015

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080115

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080317

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080603

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080804

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080811

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080909

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080910

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4188022

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140919

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140919

Year of fee payment: 6

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140919

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees