JP4813201B2 - Indole skeleton-containing epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof - Google Patents

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本発明は、難燃性に優れるとともに、耐湿性、耐熱性、金属基材との接着性等にも優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂、及びこれら用いたエポキシ樹脂組成物並びにその硬化物に関するものであり、プリント配線板、半導体封止等の電気電子分野の絶縁材料等に好適に使用される。   The present invention relates to an epoxy resin that gives a cured product that is excellent in flame retardancy and also has excellent moisture resistance, heat resistance, adhesion to a metal substrate, and the like, and an epoxy resin composition and a cured product thereof. And is suitably used for insulating materials in the electrical and electronic fields such as printed wiring boards and semiconductor encapsulation.

エポキシ樹脂は工業的に幅広い用途で使用されてきているが、その要求性能は近年ますます高度化している。例えば、エポキシ樹脂を主剤とする樹脂組成物の代表的分野に半導体封止材料があるが、半導体素子の集積度の向上に伴い、パッケージサイズは大面積化、薄型化に向かうとともに、実装方式も表面実装化への移行が進展しており、半田耐熱性に優れた材料の開発が望まれている。従って、封止材料としては、低吸湿化に加え、リードフレーム、チップ等の異種材料界面での接着性・密着性の向上が強く求められている。回路基板材料においても同様に、半田耐熱性向上の観点から低吸湿性、高耐熱性、高密着性の向上に加え、誘電損失低減の観点から低誘電性に優れた材料の開発が望まれている。これらの要求に対応するため、主剤となるエポキシ樹脂側から、様々な新規構造のエポキシ樹脂が検討されている。更に最近では、環境負荷低減の観点から、ハロゲン系難燃剤排除の動きがあり、より難燃性に優れたエポキシ樹脂が求められている。   Epoxy resins have been used in a wide range of industrial applications, but their required performance has become increasingly sophisticated in recent years. For example, there is a semiconductor sealing material in a typical field of a resin composition mainly composed of an epoxy resin, but as the integration degree of semiconductor elements is improved, the package size is becoming larger and thinner, and the mounting method is also increased. The transition to surface mounting is progressing, and the development of materials with excellent solder heat resistance is desired. Therefore, as a sealing material, in addition to reducing moisture absorption, improvement in adhesion and adhesion at the interface between different materials such as lead frames and chips is strongly demanded. Similarly, for circuit board materials, in addition to improving low heat absorption, high heat resistance, and high adhesion from the viewpoint of improving solder heat resistance, it is desirable to develop materials with excellent low dielectric properties from the viewpoint of reducing dielectric loss. Yes. In order to meet these demands, various new structures of epoxy resins have been studied from the epoxy resin side as the main agent. Furthermore, recently, from the viewpoint of reducing the environmental load, there has been a movement to eliminate halogen-based flame retardants, and there is a demand for epoxy resins with better flame retardancy.

しかしながら、従来より知られているエポキシ樹脂には、これらの要求を満足するものは未だ知られていない。例えば、周知のビスフェノール型エポキシ樹脂は、常温で液状であり、作業性に優れていることや、硬化剤、添加剤等との混合が容易であることから広く使用されているが、耐熱性、耐湿性の点で問題がある。また、耐熱性を改良したものとして、ノボラック型エポキシ樹脂が知られているが、耐湿性、接着性等に問題がある。更には、主骨格が炭化水素のみで構成される従来のエポキシ樹脂では、難燃性を全くもたない。   However, no conventionally known epoxy resins satisfy these requirements. For example, the well-known bisphenol type epoxy resin is in a liquid state at room temperature and is widely used because it is excellent in workability and easy to mix with a curing agent, an additive, etc. There is a problem in terms of moisture resistance. Further, novolak type epoxy resins are known as improved heat resistance, but there are problems in moisture resistance, adhesion and the like. Furthermore, the conventional epoxy resin whose main skeleton is composed of only hydrocarbons has no flame retardancy.

ハロゲン系難燃剤を用いることなく難燃性を向上させるための方策として、特開平9‐235449号公報、特開平10‐182792号公報等に、リン酸エステル系の難燃剤を添加する方法が開示されている。しかし、リン酸エステル系の難燃剤を用いる方法では、耐湿性が十分ではない。また、高温、多湿な環境下ではリン酸エステルが加水分解を起こし、絶縁材料としての信頼性を低下させる問題があった。   As a measure for improving flame retardancy without using a halogen flame retardant, a method of adding a phosphate ester flame retardant is disclosed in JP-A-9-235449, JP-A-10-182792, and the like. Has been. However, the method using a phosphate ester flame retardant does not have sufficient moisture resistance. In addition, the phosphoric acid ester is hydrolyzed under a high temperature and humidity environment, and there is a problem that the reliability as an insulating material is lowered.

特開平11−140166号公報JP-A-11-140166 特開2004−59792号公報JP 2004-57992 A 特開平4−173831号公報Japanese Patent Laid-Open No. 4-173831 特開2000−129092号公報JP 2000-129092 A 特開平3−90075号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-90075 特開平3−281623号公報JP-A-3-281623

リン原子やハロゲン原子を含むことなく、難燃性を向上させるものとして、特許文献1、3、4ではビフェニル構造を有するアラルキル型エポキシ樹脂を半導体封止材へ応用した例が開示されている。特許文献2には、ナフタレン構造を有するアラルキル型エポキシ樹脂を使用する例が開示されている。しかしながら、これらのエポキシ樹脂は難燃性や、耐湿性、耐熱性のいずれかにおいて性能が十分でない。なお、特許文献5及び6にはナフトール系アラルキル型エポキシ樹脂及びこれを含有する半導体封止材料が開示されているが、難燃性に着目したものはない。   Patent Documents 1, 3, and 4 disclose examples in which an aralkyl epoxy resin having a biphenyl structure is applied to a semiconductor encapsulant as a material that improves flame retardancy without containing phosphorus atoms or halogen atoms. Patent Document 2 discloses an example in which an aralkyl type epoxy resin having a naphthalene structure is used. However, these epoxy resins have insufficient performance in any of flame retardancy, moisture resistance, and heat resistance. Patent Documents 5 and 6 disclose a naphthol-based aralkyl epoxy resin and a semiconductor sealing material containing the naphthol-based aralkyl epoxy resin, but nothing focuses on flame retardancy.

本発明の目的は、難燃性に優れるとともに、耐湿性、耐熱性、金属基材との接着性等にも優れた性能を有し、積層、成形、注型、接着等の用途に有用なエポキシ樹脂、硬化剤及びそれらを用いたエポキシ樹脂組成物並びにその硬化物を提供することにある。   The object of the present invention is excellent in flame retardancy and also has excellent performance in moisture resistance, heat resistance, adhesion to a metal substrate, etc., and is useful for applications such as lamination, molding, casting and adhesion. An object is to provide an epoxy resin, a curing agent, an epoxy resin composition using them, and a cured product thereof.

すなわち、本発明は、下記一般式(1)
H-L-(X-L)n-H (1)
(ここで、Lは下記式(2)及び式(3)

Figure 0004813201
で表される基のいずれかであり、R1は水素原子、グリシジルオキシ基、炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を示し、Aは炭素数1〜8のアルキル基若しくはグリシジルオキシ基が置換してもよいベンゼン環からなる基、又は炭素数1〜8のアルキル基若しくはグリシジルオキシ基が置換してもよいナフタレン環からなる基を示し、式(2)と式(3)で表される基の存在割合(モル比)が1:9〜2:8の範囲であり、Xは下記式(a)又は式(b)
Figure 0004813201
で表される架橋基であり、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示し、nは1〜10の数を示し、Yは水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基又はグリシジル基を示し、Gはグリシジル基を示す。)で表されるインドール骨格含有エポキシ樹脂である。 That is, the present invention provides the following general formula (1)
HL- (XL) n -H (1)
(Where L is the following formula (2) and formula (3)
Figure 0004813201
R 1 represents a hydrogen atom, a glycidyloxy group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and A represents a carbon number of 1 A group consisting of a benzene ring which may be substituted by an alkyl group or a glycidyloxy group of ˜8 , or a group consisting of a naphthalene ring which an alkyl group or a glycidyloxy group having 1 to 8 carbon atoms may be substituted ; 2) and the ratio (molar ratio) of the groups represented by formula (3) is in the range of 1: 9 to 2: 8 , and X is the following formula (a) or formula (b):
Figure 0004813201
R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and B represents a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring. N represents a number of 1 to 10, Y represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a glycidyl group, and G represents a glycidyl group. ) -Containing epoxy resin containing indole skeleton.

また、本発明は、エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、前記のエポキシ樹脂を必須成分として配合してなるエポキシ樹脂組成物である。
更に、本発明は、前記エポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物である。
Moreover, this invention is an epoxy resin composition formed by mix | blending the said epoxy resin as an essential component in the epoxy resin composition which consists of an epoxy resin and a hardening | curing agent.
Furthermore, the present invention is a cured product obtained by curing the epoxy resin composition.

また、本発明は、請求項1に記載のエポキシ樹脂を製造する方法において、下記一般式(1')
H-L'-(X-L')n-H (1')
(ここで、L'は下記式(2')及び式(3')

Figure 0004813201
で表される基のいずれかであり、R'1は水素原子、水酸基、炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を示し、Aは炭素数1〜8のアルキル基若しくは水酸基が置換してもよいベンゼン環又はナフタレン環からなる基を示し、X及びnは式(1)〜(3)と同じ意味を有する。)で表されるインドール骨格含有ヒドロキシ樹脂と、エピクロルヒドリンを反応させることを特徴とする製造方法である。 Moreover, the present invention provides the method for producing an epoxy resin according to claim 1, wherein the following general formula (1 ′)
H-L '-(X-L') n -H (1 ')
(Here, L ′ is the following formula (2 ′) and formula (3 ′)
Figure 0004813201
R ′ 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and A represents a group having 1 to 1 carbon atoms. 8 represents a group consisting of a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted by an alkyl group or a hydroxyl group, and X and n have the same meanings as in the formulas (1) to (3). The indole skeleton-containing hydroxy resin represented by (II) is reacted with epichlorohydrin.

上記一般式(1)において、Lは式(2)及び式(3)で表される基から選ばれる基であり、その存在割合は1:9〜9:1、好ましくは3:7〜7:3である。また、Xは式(a)又は式(b)で表される基であり、nは1〜10の数である。ここで、式(1)中のn+1個のL及びn個のXは各々同一であっても異なっていてもよいが、Lは樹脂中に上記存在割合で式(2)及び式(3)で表される基が存在する。しかし、樹脂は混合物であるため、平均として存在すればよい。また、Yは水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基又はグリシジル基で表される基であり、これらは、同時に同一の基であってもよいし、水素原子、炭化水素基、グリシジル基が共存してもよい。グリシジル基の存在割合は0〜100%であり、耐熱性においては、グリシジル基の存在割合が高いほどよく、好ましくは50〜100%の範囲であることがよい。また、難燃性においては、グリシジル基の存在割合が低いほどよく、好ましくは0〜50%、さらに好ましくは全てが水素原子であることがよい。   In the above general formula (1), L is a group selected from the groups represented by formula (2) and formula (3), and the abundance ratio thereof is 1: 9 to 9: 1, preferably 3: 7 to 7 : 3. X is a group represented by formula (a) or formula (b), and n is a number from 1 to 10. Here, n + 1 L and n X in the formula (1) may be the same or different from each other, but L is the above-mentioned ratio in the resin in the formula (2) and the formula ( There is a group represented by 3). However, since the resin is a mixture, it may be present as an average. Y is a group represented by a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a glycidyl group, and these may be the same group at the same time, or a hydrogen atom, a hydrocarbon group, a glycidyl group. May coexist. The abundance ratio of glycidyl groups is 0 to 100%, and in heat resistance, the higher the abundance ratio of glycidyl groups, the better. In addition, in terms of flame retardancy, the lower the proportion of glycidyl groups, the better, preferably 0 to 50%, and even more preferably all hydrogen atoms.

式(2)及び式(3)において、R1は水素原子、炭素数1〜8のアルコキシ基、グリシジルオキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を示す。ここで、アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ビニルエーテル基、イソプロポキシ基、アリルオキシ基、プロパルギルエーテル基、プトキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基が挙げられ、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子等が例示される。また、炭化水素基としてはメチル基、エチル基、ビニル基、エチン基、n−プロピル基、イソプロピル基、アリル基、プロパルギル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−アミル基、sec−アミル基、tert−アミル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基等が挙げられる。また、Aはフェノール類(多価フェノール類や多環芳香族フェノール類であってもよい)をエポキシ化して生じる基であり、nは1〜10の数である。なお、樹脂は混合物であるが、その平均(数平均)のnも上記範囲にあることがよい。 In Formula (2) and Formula (3), R 1 represents a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a glycidyloxy group, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Here, examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a vinyl ether group, an isopropoxy group, an allyloxy group, a propargyl ether group, a putoxy group, a phenoxy group, and a benzyloxy group. The halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, Examples include bromine atoms. The hydrocarbon groups include methyl, ethyl, vinyl, ethyne, n-propyl, isopropyl, allyl, propargyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, n- Examples include amyl group, sec-amyl group, tert-amyl group, cyclohexyl group, phenyl group, benzyl group and the like. A is a group produced by epoxidizing phenols (which may be polyhydric phenols or polycyclic aromatic phenols), and n is a number of 1 to 10. In addition, although resin is a mixture, it is good for n of the average (number average) to also exist in the said range.

Xは式(a)又は式(b)で表される架橋基であるが、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示す。ここで、炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、アミル基、フェニル基等が挙げられる。式(a)の好ましい架橋基としては、メチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基、フェニルメチレン基が例示され、一般式(b)の好ましい架橋基としては、p−キシリレン基、m−キシリレン基、1,4−ビスエチリデンフェニレン基、1,3−ビスエチリデンフェニレン基、1,4−ビスイソプロピリデンフェニレン基、1,3−ビスイソプロピリデンフェニレン基、4,4’−ビスメチレンビフェニル基、3,4’−ビスメチレンビフェニル基、3,3’−ビスメチレンビフェニル基、4,4’−ビスエチリデンビフェニル基、3,4’−ビスエチリデンビフェニル基、3,3’−ビスエチリデンビフェニル基、4,4’−ビスイソプロピリデンビフェニル基、3,4’−ビスイソプロピリデンビフェニル基、3,3’−ビスイソプロピリデンビフェニル基、1,4−ビスメチレンナフタレン基、1,5−ビスメチレンナフタレン基、1,6−ビスメチレンナフタレン基、2,7−ビスメチレンナフタレン基、1,4−ビスエチリデンナフタレン基、1,5−ビスエチリデンナフタレン基、1,6−ビスエチリデンナフタレン基、2,7−ビスエチリデンナフタレン基、1,4−ビスイソプロピリデンナフタレン基、1,5−ビスイソプロピリデンナフタレン基、1,6−ビスイソプロピリデンナフタレン基、2,7−ビスイソプロピリデンナフタレン基が例示される。XはLを架橋するが、Lを構成する式(2)及び式(3)で表される基に対するXの置換位置は、特に限定するのもではなく、例えばインドール環の1位から7位の水素原子が架橋基で置換されて連結した構造をとり得るが、すべてのインドール環の1位の窒素原子が架橋基で置換されていると、硬化性の低下や耐熱性の低下が起こり、エポキシ樹脂としての機能が十分に発現されない。 X is a bridging group represented by formula (a) or formula (b), but R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. , B represents a group consisting of a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring. Here, examples of the hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an amyl group, and a phenyl group. Preferred examples of the crosslinking group of the formula (a) include a methylene group, an ethylidene group, an isopropylidene group, and a phenylmethylene group. Preferred examples of the crosslinking group of the general formula (b) include a p-xylylene group, an m-xylylene group, 1,4-bisethylidenephenylene group, 1,3-bisethylidenephenylene group, 1,4-bisisopropylidenephenylene group, 1,3-bisisopropylidenephenylene group, 4,4′-bismethylenebiphenyl group, 3, 4′-bismethylenebiphenyl group, 3,3′-bismethylenebiphenyl group, 4,4′-bisethylidenebiphenyl group, 3,4′-bisethylidenebiphenyl group, 3,3′-bisethylidenebiphenyl group, 4, 4'-bisisopropylidenebiphenyl group, 3,4'-bisisopropylidenebiphenyl group, 3,3'-bisisopropylide Biphenyl group, 1,4-bismethylenenaphthalene group, 1,5-bismethylenenaphthalene group, 1,6-bismethylenenaphthalene group, 2,7-bismethylenenaphthalene group, 1,4-bisethylidenenaphthalene group, 1, 5-bisethylidenenaphthalene group, 1,6-bisethylidenenaphthalene group, 2,7-bisethylidenenaphthalene group, 1,4-bisisopropylidenenaphthalene group, 1,5-bisisopropylidenenaphthalene group, 1,6-bis Examples thereof include isopropylidenenaphthalene group and 2,7-bisisopropylidenenaphthalene group. X bridges L, but the substitution position of X with respect to the groups represented by the formulas (2) and (3) constituting L is not particularly limited. For example, the 1-position to the 7-position of the indole ring The hydrogen atom is substituted with a bridging group to form a linked structure, but if the nitrogen atom at the 1-position of all indole rings is substituted with a bridging group, the curability and heat resistance are reduced, The function as an epoxy resin is not sufficiently exhibited.

本発明のエポキシ樹脂は、上記一般式(1')で表されるインドール骨格含有ヒドロキシ樹脂と、エピクロルヒドリンを反応させることより製造することが有利であるが、この反応に限らない。なお、上記一般式(1')で表されるインドール骨格含有ヒドロキシ樹脂は、エピクロルヒドリンでエポキシ化される部位の少なくとも一部、好ましくは全部はH又はOHとなっている樹脂であり、上記一般式(1)〜(3)において、グリシジルエーテル基となっている部位がOHであり、グリシジル基となっている部位がHである化合物に該当する。なお、一般式(1)において、Yの一部がHであり、一部がグリシジル基であるようにエポキシ化することは難燃性の点で有利である。
かかるインドール骨格含有ヒドロキシ樹脂をエピクロルヒドリンと反応させる反応の他、一般式(1')で表されるインドール骨格含有ヒドロキシ樹脂とハロゲン化アリルを反応させ、アリルエーテル化合物とした後、過酸化物と反応させる方法をとることもできる。上記インドール骨格含有ヒドロキシ樹脂をエピクロルヒドリンと反応させる反応は、通常のエポキシ化反応と同様に行うことができる。
The epoxy resin of the present invention is advantageously produced by reacting the indole skeleton-containing hydroxy resin represented by the general formula (1 ′) with epichlorohydrin, but is not limited to this reaction. The indole skeleton-containing hydroxy resin represented by the general formula (1 ′) is a resin in which at least a part, preferably all, of the site epoxidized with epichlorohydrin is H or OH. In (1) to (3), the site that is a glycidyl ether group is OH, and the site that is a glycidyl group is H. In addition, in general formula (1), it is advantageous in terms of flame retardancy to epoxidize such that a part of Y is H and a part is a glycidyl group.
In addition to the reaction of reacting the indole skeleton-containing hydroxy resin with epichlorohydrin, the indole skeleton-containing hydroxy resin represented by the general formula (1 ′) is reacted with an allyl halide to form an allyl ether compound, which is then reacted with a peroxide. You can also take the method. The reaction of reacting the indole skeleton-containing hydroxy resin with epichlorohydrin can be carried out in the same manner as a normal epoxidation reaction.

例えば、上記インドール骨格含有ヒドロキシ樹脂を過剰のエピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に、20〜150℃、好ましくは、30〜80℃の範囲で1〜10時間反応させる方法が挙げられる。この際のアルカリ金属水酸化物の使用量は、インドール骨格含有ヒドロキシ樹脂の水酸基1モルに対して、0.8〜1.5モル、好ましくは、0.9〜1.2モルの範囲である。また、エピクロルヒドリンはインドール骨格含有ヒドロキシ樹脂中の水酸基1モルに対して過剰に用いられるが、通常、インドール骨格含有ヒドロキシ樹脂中の水酸基1モルに対して、1.5〜30モル、好ましくは、2〜15モルの範囲である。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次いで溶剤を留去することにより目的のエポキシ樹脂を得ることができる。この反応によりヒドロキシ基の殆ど、好ましくは全部がエポキシ化されるが、反応性の乏しいNH基はその一部をエポキシ化することが好ましい。   For example, after the above indole skeleton-containing hydroxy resin is dissolved in excess epichlorohydrin, it is in the range of 20 to 150 ° C., preferably 30 to 80 ° C. in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. And reacting for 1 to 10 hours. The amount of alkali metal hydroxide used in this case is in the range of 0.8 to 1.5 mol, preferably 0.9 to 1.2 mol, based on 1 mol of the hydroxyl group of the indole skeleton-containing hydroxy resin. . Epichlorohydrin is used in an excess amount relative to 1 mol of hydroxyl group in the indole skeleton-containing hydroxy resin, but is usually 1.5 to 30 mol, preferably 2 to 1 mol of hydroxyl group in the indole skeleton-containing hydroxy resin. The range is ˜15 mol. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, the residue is dissolved in a solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the target epoxy is removed by distilling off the solvent. A resin can be obtained. Although most, preferably all, of the hydroxy groups are epoxidized by this reaction, it is preferable to epoxidize a part of the NH groups having poor reactivity.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物であって、エポキシ樹脂成分として上記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂を必須成分として配合したものである。   The epoxy resin composition of the present invention is an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, and contains an epoxy resin represented by the above general formula (1) as an essential component as an epoxy resin component.

上記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂を必須成分とする場合の硬化剤としては、一般にエポキシ樹脂の硬化剤として知られているものはすべて使用できる。例えば、ジシアンジアミド、多価フェノール類、酸無水物類、芳香族及び脂肪族アミン類等がある。具体的に例示すれば、多価フェノール類としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類;あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、ナフトールノボラック、ポリビニルフェノール等に代表される3価以上のフェノール類がある。更には、フェノール類、ナフトール類又は、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の1価又は2価のフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド、p−キシリレングリコール等の縮合剤により合成される多価フェノール性化合物等がある。また、上記一般式(1’)で表されるインドール骨格含有ヒドロキシ樹脂も好ましく例示される。   As the curing agent when the epoxy resin represented by the general formula (1) is an essential component, any of those generally known as curing agents for epoxy resins can be used. Examples include dicyandiamide, polyhydric phenols, acid anhydrides, aromatic and aliphatic amines. Specifically, as polyhydric phenols, for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, etc. Divalent phenols; or tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o-cresol novolak, naphthol novolak, polyvinylphenol, etc. There are representative trihydric or higher phenols. Furthermore, monovalent or divalent such as phenols, naphthols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, etc. Examples include phenols and polyhydric phenolic compounds synthesized by a condensing agent such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, salicylaldehyde, and p-xylylene glycol. In addition, an indole skeleton-containing hydroxy resin represented by the general formula (1 ') is also preferably exemplified.

酸無水物としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイミック酸、無水ナジック酸、無水トリメリット酸等がある。   Examples of the acid anhydride include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl hymic anhydride, nadic anhydride, and trimellitic anhydride.

また、アミン類としては、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、m−フェニレンジアミン、p−キシリレンジアミン等の芳香族アミン類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の脂肪族アミン類がある。
本発明の樹脂組成物には、これら硬化剤の1種又は2種以上を混合して用いることができる。
Examples of amines include aromatic amines such as 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine, and p-xylylenediamine. There are aliphatic amines such as ethylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine.
In the resin composition of the present invention, one or more of these curing agents can be mixed and used.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物中には、エポキシ樹脂成分として、一般式(1)で表される本発明のエポキシ樹脂以外に別種のエポキシ樹脂を配合してもよい。この場合のエポキシ樹脂としては、分子中にエポキシ基を2個以上有する通常のエポキシ樹脂はすべて使用できる。例を挙げれば、ビスフェノールA、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック等の3価以上のフェノール類、フェノール系アラルキル樹脂類、ナフトール系アラルキル樹脂類、又はテトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグルシジルエーテル化物等がある。これらのエポキシ樹脂は、1種又は2種以上を混合して用いることができる。そして、本発明のエポキシ樹脂を必須成分とする組成物の場合、本発明に関わる一般式(1)で表されるエポキシ樹脂の配合量はエポキシ樹脂全体中、5〜100%、好ましくは60〜100%の範囲であることがよい。   Moreover, you may mix | blend another kind of epoxy resin other than the epoxy resin of this invention represented by General formula (1) as an epoxy resin component in the epoxy resin composition of this invention. As the epoxy resin in this case, all ordinary epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule can be used. Examples include divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, or tris- (4-hydroxyphenyl) methane. , 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolac, o-cresol novolak, and more trivalent phenols, phenol-based aralkyl resins, naphthol-based aralkyl resins, or tetrabromobisphenol There are glycidyl ethers derived from halogenated bisphenols such as A. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more. And in the case of the composition which has the epoxy resin of this invention as an essential component, the compounding quantity of the epoxy resin represented by General formula (1) in connection with this invention is 5-100% in the whole epoxy resin, Preferably it is 60- A range of 100% is preferable.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリウレタン、石油樹脂、インデンクマロン樹脂、フェノキシ樹脂等のオリゴマー又は高分子化合物を適宜配合してもよいし、無機充填剤、顔料、難然剤、揺変性付与剤、カップリング剤、流動性向上剤、等の添加剤を配合してもよい。無機充填剤としては、例えば、球状あるいは、破砕状の溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ粉末、アルミナ粉末、ガラス粉末、又はマイカ、タルク、炭酸カルシウム、アルミナ、水和アルミナ、等が挙げられ、半導体封止材に用いる場合の好ましい配合量は70wt%以上であり、更に好ましくは80wt%以上である。   In addition, the epoxy resin composition of the present invention may be appropriately mixed with an oligomer or a polymer compound such as polyester, polyamide, polyimide, polyether, polyurethane, petroleum resin, indene coumarone resin, phenoxy resin, etc. You may mix | blend additives, such as a filler, a pigment, a refractory agent, a thixotropic agent, a coupling agent, and a fluidity improver. Examples of the inorganic filler include spherical or crushed fused silica, silica powder such as crystalline silica, alumina powder, glass powder, mica, talc, calcium carbonate, alumina, hydrated alumina, and the like. A preferable blending amount when used for a sealing material is 70 wt% or more, and more preferably 80 wt% or more.

顔料としては、有機系又は、無機系の体質顔料、鱗片状顔料、等がある。揺変性付与剤としては、シリコン系、ヒマシ油系、脂肪族アマイドワックス、酸化ポリエチレンワックス、有機ベントナイト系、等を挙げることができる。   Examples of the pigment include organic or inorganic extender pigments, scaly pigments, and the like. Examples of the thixotropic agent include silicon-based, castor oil-based, aliphatic amide wax, oxidized polyethylene wax, and organic bentonite-based.

更に必要に応じて、本発明の樹脂組成物には、カルナバワックス、OPワックス等の離型剤、γ‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のカップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、シリコンオイル等の低応力化剤、ステアリン酸カルシウム等の滑剤等を使用できる。   Further, if necessary, the resin composition of the present invention includes a release agent such as carnauba wax and OP wax, a coupling agent such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, a colorant such as carbon black, and trioxide. Flame retardants such as antimony, low stress agents such as silicone oil, lubricants such as calcium stearate, etc. can be used.

更に、本発明のエポキシ樹脂組成物には必要に応じて硬化促進剤を用いることができる。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等があり、具体的には、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類、有機ホスフィン類とキノン化合物との付加反応物、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレートなどのテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.2から5重量部の範囲である。   Furthermore, a curing accelerator can be used in the epoxy resin composition of the present invention as necessary. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, etc., specifically 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, Tertiary amines such as ethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2- Imidazoles such as heptadecylimidazole, organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine and phenylphosphine, addition reaction products of organic phosphines and quinone compounds, tetraphenylphosphine Tetra-substituted phosphonium / tetra-substituted borate such as phonium / tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium / ethyltriphenylborate, tetrabutylphosphonium / tetrabutylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole / tetraphenylborate, N-methylmorpholine / Examples include tetraphenylboron salts such as tetraphenylborate. The addition amount is usually in the range of 0.2 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、有機溶剤の溶解させたワニス状態とした後に、ガラスクロス、アラミド不織布、液晶ポリマー等のポリエステル不織布等の繊維状物に含浸させた後に溶剤除去を行い、プリプレグとすることができる。また、場合により銅箔、ステンレス箔、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム等のシート状物上に塗布することにより積層物とすることができる。   The epoxy resin composition of the present invention is made into a varnish in which an organic solvent is dissolved, and then impregnated into a fibrous material such as a glass cloth, an aramid nonwoven fabric, a polyester nonwoven fabric such as a liquid crystal polymer, and then the solvent is removed. can do. Moreover, it can be set as a laminated body by apply | coating on sheet-like materials, such as copper foil, stainless steel foil, a polyimide film, and a polyester film depending on the case.

本発明のエポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物は、上記エポキシ樹脂組成物を注型、圧縮成形、トランスファー成形等の方法により、成形加工し得ることができる。この際の温度は通常、120〜220℃の範囲である。   The cured product obtained by curing the epoxy resin composition of the present invention can be molded by a method such as casting, compression molding or transfer molding of the epoxy resin composition. The temperature at this time is usually in the range of 120 to 220 ° C.

本発明のエポキシ樹脂組成物を加熱硬化させれば、エポキシ樹脂硬化物とすることができ、この硬化物は難燃性、低吸湿性、高耐熱性、密着性等の点で優れたものを与え、電気・電子部品類の封止、回路基板材料等の用途に好適に使用することが可能である。   If the epoxy resin composition of the present invention is cured by heating, an epoxy resin cured product can be obtained. This cured product is excellent in terms of flame retardancy, low moisture absorption, high heat resistance, adhesion, and the like. It can be suitably used for applications such as sealing of electric / electronic parts, circuit board materials, and the like.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
ここで、粘度はB型粘度計を用い、軟化点はJIS K−6911に従い環球法で測定した。また、GPC測定条件は、装置;HLC−82A(東ソー(株)製)、カラム;TSK−GEL2000×3本及びTSK−GEL4000×1本(いずれも東ソー(株)製)、溶媒;テトラヒドロフラン、流量;1ml/min、温度;38℃、検出器;RIであり、検量線にはポリスチレン標準液を使用した。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
Here, the viscosity was measured using a B-type viscometer, and the softening point was measured by the ring and ball method according to JIS K-6911. The GPC measurement conditions were as follows: apparatus: HLC-82A (manufactured by Tosoh Corp.), column: TSK-GEL2000 × 3 and TSK-GEL4000 × 1 (both manufactured by Tosoh Corp.), solvent: tetrahydrofuran, flow rate 1 ml / min, temperature; 38 ° C., detector; RI; polystyrene standard solution was used for the calibration curve.

参考例1
撹拌機、冷却管、窒素導入管のついた500mL、3口セパラブルフラスコに、インドール72.5g、フェノール233.1g、92%パラホルムアルデヒド27.9g、を仕込み、窒素を導入しながら90℃に加熱し溶解させた。その後、撹拌しながら130℃に昇温し3時間反応させた。この間、反応により生成する水は系外に除いた。その後、減圧下、180℃に昇温し、縮合水及び未反応フェノール、インドールを除去し、インドール骨格含有ヒドロキシ樹脂(インドール樹脂A)150gを得た。得られた樹脂の軟化点は83℃、150℃における溶融粘度は0.12Pa・s、OH当量は208g/eq.であった。GPC測定により求めた残存モノマー量は0.5wt%であった。
Reference example 1
A 500 mL, 3-neck separable flask equipped with a stirrer, a condenser tube, and a nitrogen inlet tube was charged with 72.5 g of indole, 233.1 g of phenol, and 27.9 g of 92% paraformaldehyde, and the temperature was increased to 90 ° C. while introducing nitrogen. Heat to dissolve. Then, it heated up at 130 degreeC, stirring, and was made to react for 3 hours. During this time, water produced by the reaction was removed from the system. Thereafter, the temperature was raised to 180 ° C. under reduced pressure to remove condensed water, unreacted phenol and indole, thereby obtaining 150 g of an indole skeleton-containing hydroxy resin (indole resin A). The resulting resin had a softening point of 83 ° C., a melt viscosity at 150 ° C. of 0.12 Pa · s, and an OH equivalent of 208 g / eq. Met. The residual monomer amount determined by GPC measurement was 0.5 wt%.

参考例2
インドール40.0g、フェノール289.2g、4,4’−ビスクロロメチルビフェニル257.4g、モノクロロベンゼン147gを仕込み、窒素を導入しながら80℃に加熱し溶解させた。その後、減圧下にて撹拌しながら150℃まで昇温し1時間反応させた。この間、反応により生成する塩酸およびモノクロロベンゼンは系外に除いた。その後、減圧下180℃にて塩酸及び未反応フェノール、インドールを除去し、インドール骨格含有ヒドロキシ樹脂(インドール樹脂B)348.6gを得た。得られた樹脂の軟化点は94℃、150℃における溶融粘度は0.93Pa・sであった。GPC測定により求めた残存モノマー量は0.5wt%であった。
Reference example 2
40.0 g of indole, 289.2 g of phenol, 257.4 g of 4,4′-bischloromethylbiphenyl and 147 g of monochlorobenzene were charged and heated to 80 ° C. and dissolved while introducing nitrogen. Then, it heated up to 150 degreeC, stirring under reduced pressure, and was made to react for 1 hour. During this time, hydrochloric acid and monochlorobenzene produced by the reaction were removed from the system. Thereafter, hydrochloric acid, unreacted phenol and indole were removed at 180 ° C. under reduced pressure to obtain 348.6 g of an indole skeleton-containing hydroxy resin (indole resin B). The resulting resin had a softening point of 94 ° C. and a melt viscosity at 150 ° C. of 0.93 Pa · s. The residual monomer amount determined by GPC measurement was 0.5 wt%.

実施例1
参考例1で得たインドール樹脂A100gをエピクロルヒドリン178g、ジエチレングリコールジメチルエーテル36gに溶解した。その後、撹拌しながら50℃にて96%水酸化カリウム33.7gを3時間かけて添加し、添加終了後更に1時間反応を継続した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンを留去し、エポキシ樹脂110gを得た(エポキシ樹脂A)。得られたエポキシ樹脂の軟化点は78℃、溶融粘度は0.28Pa・s、エポキシ当量は278g/eq.であった。
Example 1
100 g of indole resin A obtained in Reference Example 1 was dissolved in 178 g of epichlorohydrin and 36 g of diethylene glycol dimethyl ether. Thereafter, 33.7 g of 96% potassium hydroxide was added over 3 hours at 50 ° C. with stirring, and the reaction was continued for another hour after the addition was completed. After completion of the reaction, the salt produced by filtration was removed, and after further washing with water, epichlorohydrin was distilled off to obtain 110 g of epoxy resin (epoxy resin A). The resulting epoxy resin had a softening point of 78 ° C., a melt viscosity of 0.28 Pa · s, and an epoxy equivalent of 278 g / eq. Met.

実施例2〜6及び比較例1〜3
エポキシ樹脂成分として、実施例1で合成したエポキシ樹脂、o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂B:日本化薬製、EOCN−1020−65;エポキシ当量 200、加水分解性塩素 400ppm、軟化点 65℃)、ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂C:ジャパンエポキシレジン製、YX4000HK;エポキシ当量 195、加水分解性塩素 450ppm、融点 105℃)を用い、硬化剤成分として、参考例1で合成したインドール樹脂A、フェノールノボラック(硬化剤A:群栄化学製、PSM−4261;OH当量103、軟化点 80℃)、1−ナフトールアラルキル型樹脂(硬化剤B:新日鐵化学製、SN−475;OH当量210、軟化点 77℃)を用いた。更に、充填剤として球状シリカ(平均粒径 18μm)、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィンを用い、表1に示す配合でエポキシ樹脂組成物を得た。表中の数値は配合における重量部を示す。
Examples 2-6 and Comparative Examples 1-3
As an epoxy resin component, the epoxy resin synthesized in Example 1, an o-cresol novolac type epoxy resin (epoxy resin B: Nippon Kayaku Co., Ltd., EOCN-1020-65; epoxy equivalent 200, hydrolyzable chlorine 400 ppm, softening point 65 Indole resin A synthesized in Reference Example 1 as a curing agent component using a biphenyl type epoxy resin (epoxy resin C: YE4000HK, epoxy equivalent 195, hydrolyzable chlorine 450 ppm, melting point 105 ° C.) , Phenol novolak (curing agent A: manufactured by Gunei Chemical Co., PSM-4261; OH equivalent 103, softening point 80 ° C.), 1-naphthol aralkyl type resin (curing agent B: manufactured by Nippon Steel Chemical Co., SN-475; OH equivalent) 210, softening point 77 ° C.). Furthermore, spherical silica (average particle size 18 μm) was used as a filler, triphenylphosphine was used as a curing accelerator, and an epoxy resin composition was obtained with the formulation shown in Table 1. The numerical value in a table | surface shows the weight part in a mixing | blending.

このエポキシ樹脂組成物を用いて175℃で成形し、更に180℃にて12時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。結果を表2に示す。
なお、ガラス転移点及び線膨張係数の測定は、熱機械測定装置を用いて10℃/分の昇温速度で求めた。また吸水率は、直径50mm、厚さ3mmの円形の試験片を用いて、85℃、85%RHの条件で100時間吸湿させた後の重量変化率とした。燃焼時間は、厚さ1/16インチの試験片を用い、UL94V−0規格に従い、5本の試験での合計燃焼時間で表した。接着強度は、銅板2枚の間に25mm×12.5mm×0.5mmの成形物を圧縮成形機により175℃で成形し、180℃にて12時間ポストキュアを行った後、引張剪断強度を求めることにより評価した。
This epoxy resin composition was molded at 175 ° C., and further post-cured at 180 ° C. for 12 hours to obtain a cured product test piece, which was then subjected to various physical property measurements. The results are shown in Table 2.
In addition, the measurement of the glass transition point and the linear expansion coefficient was calculated | required with the temperature increase rate of 10 degree-C / min using the thermomechanical measuring apparatus. Further, the water absorption rate was defined as the rate of change in weight after absorbing moisture for 100 hours at 85 ° C. and 85% RH using a circular test piece having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm. The burning time was expressed as the total burning time in five tests in accordance with UL94V-0 standard using a test piece having a thickness of 1/16 inch. The adhesive strength was obtained by molding a molded product of 25 mm × 12.5 mm × 0.5 mm between two copper plates at 175 ° C. with a compression molding machine, post-curing at 180 ° C. for 12 hours, and then adjusting the tensile shear strength. Evaluated by seeking.

Figure 0004813201
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Figure 0004813201
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実施例7
参考例2で得たインドール樹脂B150gをエピクロルヒドリン403g、ジエチレングリコールジメチルエーテル60gに溶解した。その後、撹拌しながら減圧下65℃にて48.9%水酸化ナトリウム44.3gを4時間かけて添加し、添加終了後更に70℃にて1時間反応を継続した。反応終了後、エピクロルヒドリンを減圧留去した後、MIBKに溶解させた。濾過により生成した塩を除き、更に水洗した後MIBKを減圧留去し、エポキシ樹脂D146gを得た。得られたエポキシ樹脂の軟化点は83℃、溶融粘度は0.97Pa・s、エポキシ当量は330g/eq.であった。
Example 7
150 g of indole resin B obtained in Reference Example 2 was dissolved in 403 g of epichlorohydrin and 60 g of diethylene glycol dimethyl ether. Then, 48.9 g of 48.9% sodium hydroxide was added over 4 hours at 65 ° C. under reduced pressure with stirring, and the reaction was continued at 70 ° C. for 1 hour after the addition. After completion of the reaction, epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure and then dissolved in MIBK. The salt produced by filtration was removed, and after further washing with water, MIBK was distilled off under reduced pressure to obtain 146 g of epoxy resin D. The resulting epoxy resin had a softening point of 83 ° C., a melt viscosity of 0.97 Pa · s, and an epoxy equivalent of 330 g / eq. Met.

実施例8〜11
エポキシ樹脂成分として、実施例7で合成したエポキシ樹脂Dを使用し、更に前記エポキシ樹脂B、エポキシ樹脂C、インドール樹脂B、硬化剤A、硬化剤Bを用いた。また、充填剤として球状シリカ(平均粒径 18μm)、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィンを用い、表3に示す配合でエポキシ樹脂組成物を得た。
Examples 8-11
As the epoxy resin component, the epoxy resin D synthesized in Example 7 was used, and the epoxy resin B, epoxy resin C, indole resin B, curing agent A, and curing agent B were further used. Moreover, the spherical resin (average particle diameter of 18 micrometers) was used as a filler, the triphenylphosphine was used as a hardening accelerator, and the epoxy resin composition was obtained by the mixing | blending shown in Table 3.

このエポキシ樹脂組成物を用いて175℃で成形し、更に180℃にて12時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。結果を表4に示す。   This epoxy resin composition was molded at 175 ° C., and further post-cured at 180 ° C. for 12 hours to obtain a cured product test piece, which was then subjected to various physical property measurements. The results are shown in Table 4.

Figure 0004813201
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Figure 0004813201
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エポキシ樹脂Aの1H−NMRスペクトル 1 H-NMR spectrum of epoxy resin A エポキシ樹脂Aの赤外吸収スペクトルInfrared absorption spectrum of epoxy resin A エポキシ樹脂AのGPCチャートGPC chart of epoxy resin A エポキシ樹脂Dの1H−NMRスペクトル 1 H-NMR spectrum of epoxy resin D エポキシ樹脂Dの赤外吸収スペクトルInfrared absorption spectrum of epoxy resin D エポキシ樹脂DのGPCチャートGPC chart of epoxy resin D

Claims (4)

下記一般式(1)
H-L-(X-L)n-H (1)
(ここで、Lは下記式(2)及び式(3)
Figure 0004813201
で表される基のいずれかであり、R1は水素原子、グリシジルオキシ基、炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を示し、Aは炭素数1〜8のアルキル基若しくはグリシジルオキシ基が置換してもよいベンゼン環からなる基、又は炭素数1〜8のアルキル基若しくはグリシジルオキシ基が置換してもよいナフタレン環からなる基を示し、式(2)と式(3)で表される基の存在割合(モル比)が1:9〜2:8の範囲であり、Xは下記式(a)又は式(b)
Figure 0004813201
で表される架橋基であり、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示し、nは1〜10の数を示し、Yは水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基又はグリシジル基を示し、Gはグリシジル基を示す。)で表されるインドール骨格含有エポキシ樹脂。
The following general formula (1)
HL- (XL) n -H (1)
(Where L is the following formula (2) and formula (3)
Figure 0004813201
R 1 represents a hydrogen atom, a glycidyloxy group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and A represents a carbon number of 1 A group consisting of a benzene ring which may be substituted by an alkyl group or a glycidyloxy group of ˜8 , or a group consisting of a naphthalene ring which an alkyl group or a glycidyloxy group having 1 to 8 carbon atoms may be substituted ; 2) and the ratio (molar ratio) of the groups represented by formula (3) is in the range of 1: 9 to 2: 8 , and X is the following formula (a) or formula (b):
Figure 0004813201
R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and B represents a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring. N represents a number of 1 to 10, Y represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a glycidyl group, and G represents a glycidyl group. An indole skeleton-containing epoxy resin represented by
エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、請求項1に記載のエポキシ樹脂を必須成分として配合してなるエポキシ樹脂組成物。   In the epoxy resin composition which consists of an epoxy resin and a hardening | curing agent, the epoxy resin composition formed by mix | blending the epoxy resin of Claim 1 as an essential component. 請求項2に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。   A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 2. 請求項1に記載のエポキシ樹脂を製造する方法において、下記一般式(1')
H-L'-(X-L')n-H (1')
(ここで、L'は下記式(2')及び式(3')
Figure 0004813201
で表される基のいずれかであり、R'1は水素原子、水酸基、炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を示し、Aは炭素数1〜8のアルキル基若しくは水酸基が置換してもよいベンゼン環からなる基、又は炭素数1〜8のアルキル基若しくは水酸基が置換してもよいナフタレン環からなる基を示し、X及びnは式(1)と同じ意味を有する。)で表されるインドール骨格含有ヒドロキシ樹脂と、エピクロルヒドリンを反応させることを特徴とするエポキシ樹脂の製造方法。
The method for producing an epoxy resin according to claim 1, wherein the following general formula (1 ')
H-L '-(X-L') n -H (1 ')
(Here, L ′ is the following formula (2 ′) and formula (3 ′)
Figure 0004813201
R ′ 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and A represents a group having 1 to 1 carbon atoms. 8 represents a group consisting of a benzene ring which may be substituted by an alkyl group or a hydroxyl group, or a group consisting of a naphthalene ring which may be substituted by an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a hydroxyl group, and X and n are the formulas (1) ) Has the same meaning. The method for producing an epoxy resin comprising reacting an indole skeleton-containing hydroxy resin represented by formula (II) with epichlorohydrin.
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