JP2006117790A - Indole skeleton-containing resin, epoxy resin composition and its cured product - Google Patents

Indole skeleton-containing resin, epoxy resin composition and its cured product Download PDF

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Hisafumi Yamada
尚史 山田
Masashi Kaji
正史 梶
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Tohto Kasei Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin useful as a curing agent, a modifier, etc., for epoxy resins, providing a cured product having excellent high heat resistance and moisture resistance and excellent in flame retardance and high adhesiveness between different kind of materials and suitable for applications such as sealing of electric/electronic parts and circuit board materials. <P>SOLUTION: The indole skeleton-containing resin is represented by general formula (1): H-L-(X-L)<SB>n</SB>-H [wherein L is a divalent group derived from indoles and phenols and existence ratio (molar ratio) of indoles to phenols is 1:9 to 9:1 and X is divalent group derived from a crosslinking agent such as an aldehyde, ketone, xylylene glycol or divinylbenzene; n is a number of 1 to 10]. The indole skeleton-containing resin is obtained by reacting 100 mol total of indoles and phenols with 10-90 mol crosslinking agent such as aldehyde and xylylene glycol. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、エポキシ樹脂の硬化剤、改質剤等として有用なインドール骨格含有樹脂、低吸湿性、耐熱性、密着性、及び難燃性等に優れた硬化物を与える電気・電子部品類の封止、回路基板材料等に有用なフェノール樹脂組成物、及びエポキシ樹脂組成物並びにその硬化物に関するものである。   The present invention relates to an indole skeleton-containing resin useful as an epoxy resin curing agent, modifier, etc., and electrical / electronic components that give cured products excellent in low moisture absorption, heat resistance, adhesion, flame retardancy, etc. The present invention relates to a phenol resin composition useful for sealing, circuit board materials, and the like, and an epoxy resin composition and a cured product thereof.

エポキシ樹脂は工業的に幅広い用途で使用されてきているが、その要求性能は近年ますます高度化している。例えば、エポキシ樹脂を主剤とする樹脂組成物の代表的分野に半導体封止材料があるが、半導体素子の集積度の向上に伴い、パッケージサイズは大面積化、薄型化に向かうとともに、実装方式も表面実装化への移行が進展しており、半田耐熱性に優れた材料の開発が望まれている。従って、封止材料としては、低吸湿化に加え、リードフレーム、チップ等の異種材料界面での接着性・密着性の向上が強く求められている。回路基板材料においても同様に、半田耐熱性向上の観点から低吸湿性、高耐熱性、高密着性の向上に加え、誘電損失低減の観点から低誘電性に優れた材料の開発が望まれている。これらの要求に対応するため、主剤となるエポキシ樹脂側から、様々な新規構造のエポキシ樹脂が検討されている。しかし、エポキシ樹脂側の改良だけでは、低吸湿化に伴う耐熱性の低下、密着性の向上に伴う硬化性の低下等が生じ、物性バランスを取ることは困難であった。更に最近では、環境負荷低減の観点から、ハロゲン系難燃剤排除の動きがあり、より難燃性に優れた硬化剤が求められている。   Epoxy resins have been used in a wide range of industrial applications, but their required performance has become increasingly sophisticated in recent years. For example, there is a semiconductor sealing material in a typical field of a resin composition mainly composed of an epoxy resin, but as the integration degree of semiconductor elements is improved, the package size is becoming larger and thinner, and the mounting method is also increased. The transition to surface mounting is progressing, and the development of materials with excellent solder heat resistance is desired. Therefore, as a sealing material, in addition to reducing moisture absorption, improvement in adhesion and adhesion at the interface between different materials such as lead frames and chips is strongly demanded. Similarly, for circuit board materials, in addition to improving low heat absorption, high heat resistance, and high adhesion from the viewpoint of improving solder heat resistance, it is desirable to develop materials with excellent low dielectric properties from the viewpoint of reducing dielectric loss. Yes. In order to meet these demands, various new structures of epoxy resins have been studied from the epoxy resin side as the main agent. However, only improvement on the epoxy resin side causes a decrease in heat resistance due to low moisture absorption, a decrease in curability due to an improvement in adhesion, and the like, and it has been difficult to balance physical properties. Furthermore, recently, from the viewpoint of reducing the environmental load, there is a movement to eliminate halogen-based flame retardants, and there is a demand for curing agents with better flame retardancy.

従って、上記背景から種々のエポキシ樹脂硬化剤が検討されている。その一例として、ナフタレン系樹脂が知られており、特許文献1にはナフトールアラルキル樹脂を半導体封止材へ応用することが示されている。但し、ナフトールアラルキル樹脂は、低吸湿性、低熱膨張性等に優れるものの、硬化性に劣る欠点があった。また、特許文献2にはビフェニル構造を有する硬化剤が提案され、難燃性向上に有効であることが記載されているが、硬化性に劣る欠点があった。更に、ナフタレン系樹脂、ビフェニル系樹脂ともに、炭化水素のみで構成される主骨格を有することから、難燃性の発現に十分ではなかった。また、特許文献3には芳香族オレフィンと共重合したインドール系オリゴマーが記載されている。   Therefore, various epoxy resin curing agents have been studied from the above background. As an example, a naphthalene-based resin is known, and Patent Document 1 shows that a naphthol aralkyl resin is applied to a semiconductor sealing material. However, although the naphthol aralkyl resin is excellent in low hygroscopicity, low thermal expansion property, etc., it has a defect of poor curability. Moreover, although the hardening | curing agent which has a biphenyl structure is proposed in patent document 2 and it describes that it is effective for a flame retardance improvement, there existed a fault which is inferior to curability. Furthermore, both the naphthalene-based resin and the biphenyl-based resin have a main skeleton composed only of hydrocarbons, and thus are not sufficient for the expression of flame retardancy. Patent Document 3 describes an indole oligomer copolymerized with an aromatic olefin.

特開平5−1099345号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-1093945 特開平11−140166号公報JP-A-11-140166 特開2004−46522号公報JP 2004-46522 A

本発明の目的は、エポキシ樹脂組成物の硬化剤、改質剤等に有用なインドール骨格含有樹脂を提供すること、優れた成形性を有するとともに、低吸湿性、耐熱性、密着性、及び難燃性等に優れた硬化物を与える電気・電子部品類の封止、回路基板材料等に有用なエポキシ樹脂組成物を提供すること、及びその硬化物を提供することにある。また、本発明の目的は、エポキシ樹脂の硬化剤等に有用なフェノール樹脂組成物を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an indole skeleton-containing resin useful as a curing agent, a modifier, and the like of an epoxy resin composition, and has excellent moldability, low moisture absorption, heat resistance, adhesion, and difficulty. An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition useful for sealing electrical and electronic parts, circuit board materials, and the like that provide a cured product having excellent flammability and the like, and to provide a cured product thereof. Moreover, the objective of this invention is providing the phenol resin composition useful for the hardening | curing agent etc. of an epoxy resin.

すなわち、本発明は、下記一般式(1)
H-L-(X-L)n-H (1)
(ここで、Lは下記式(2)及び式(3)

Figure 2006117790
で表される基のいずれかであり、R1は水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜7の炭化水素基を示し、Aは炭素数1〜6のアルキル基若しくは水酸基が置換してもよいベンゼン環又はナフタレン環からなる基を示し、式(2)と式(3)で表される基の存在割合(モル比)が1:9〜9:1の範囲であり、Xは下記(a)又は式(b)
Figure 2006117790
で表される架橋基であり、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示し、nは1〜10の数を示す。)で表されるインドール骨格含有樹脂である。このインドール骨格含有樹脂の軟化点は、40〜200℃の範囲にあることが好ましい。 That is, the present invention provides the following general formula (1)
HL- (XL) n -H (1)
(Where L is the following formula (2) and formula (3)
Figure 2006117790
R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, and A represents a group having 1 to 6 carbon atoms. A group consisting of a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted by an alkyl group or a hydroxyl group, wherein the abundance ratio (molar ratio) of the groups represented by the formulas (2) and (3) is 1: 9 to 9: 1, X is the following (a) or formula (b)
Figure 2006117790
R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and B represents a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring. N represents a number of 1 to 10. ) -Containing indole skeleton-containing resin. The softening point of the indole skeleton-containing resin is preferably in the range of 40 to 200 ° C.

また、本発明は、下記式(4)で表されるインドール類と下記式(5)で表されるフェノール類のモル比が1:9〜9:1の範囲であり、両者の合計100モルに対し、下記式(6)、(7)、(8)又は(9)で表される架橋剤10〜90モルとを反応させることを特徴とするインドール骨格含有樹脂の製造方法である。

Figure 2006117790
Figure 2006117790
(但し、R1は水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜7の炭化水素基を示し、Aは炭素数1〜6のアルキル基若しくは水酸基が置換してもよいベンゼン環又はナフタレン環からなる基を示し、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示し、Y及びZは独立にOH、OR又はハロゲンを示す。) In the present invention, the molar ratio of the indole represented by the following formula (4) and the phenol represented by the following formula (5) is in the range of 1: 9 to 9: 1, and the total of both is 100 mol. On the other hand, it is a method for producing an indole skeleton-containing resin characterized by reacting 10 to 90 mol of a crosslinking agent represented by the following formula (6), (7), (8) or (9).
Figure 2006117790
Figure 2006117790
(However, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, and A represents an alkyl group or hydroxyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted. And a group consisting of a benzene ring or a naphthalene ring, R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and B represents a benzene ring or biphenyl. A group consisting of a ring or a naphthalene ring, and Y and Z independently represent OH, OR or halogen.)

更に、本発明は、多価フェノール性化合物類100重量部に対して、前記のインドール骨格含有樹脂を2〜200重量部配合してなるフェノール樹脂組成物である。また、本発明は、エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、硬化剤の一部又は全部として、前記のインドール骨格含有樹脂を、エポキシ樹脂100重量部に対して2〜200重量部配合してなるエポキシ樹脂組成物である。更にまた、本発明は、このエポキシ樹脂組成物を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物である。   Furthermore, this invention is a phenol resin composition formed by blending 2 to 200 parts by weight of the indole skeleton-containing resin with respect to 100 parts by weight of polyhydric phenolic compounds. Further, the present invention provides an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, wherein 2 to 200 parts by weight of the indole skeleton-containing resin is blended as a part or all of the curing agent with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. It is the epoxy resin composition formed. Furthermore, this invention is an epoxy resin hardened | cured material formed by hardening | curing this epoxy resin composition.

上記一般式(1)において、Lは式(2)及び式(3)で表される基から選ばれる基であり、その存在割合は1:9〜9:1、好ましくは3:7〜7:3である。また、Xは式(a)又は式(b)で表される基であり、nは1〜10の数である。ここで、式(1)中のL及びXは同一であっても異なっていてもよいが、Lは樹脂中に上記存在割合で式(2)及び式(3)で表される基が存在する。しかし、樹脂は混合物であるため、平均として存在すればよい。なお、nについても、樹脂は混合物であるので、その平均(数平均)は上記範囲にあることがよい。   In the above general formula (1), L is a group selected from the groups represented by formula (2) and formula (3), and the abundance ratio is 1: 9 to 9: 1, preferably 3: 7 to 7 : 3. X is a group represented by formula (a) or formula (b), and n is a number from 1 to 10. Here, L and X in the formula (1) may be the same or different, but L is a group represented by the formula (2) and the formula (3) in the presence ratio in the resin. To do. However, since the resin is a mixture, it may be present as an average. As for n, since the resin is a mixture, the average (number average) is preferably in the above range.

式(2)及び式(3)において、R1は水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜7の炭化水素基を示し、Aはフェノール類(多価フェノール類や多環芳香族フェノール類であってもよい)から生じる基である。 In Formula (2) and Formula (3), R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, and A represents a phenol (polyvalent A group derived from phenols or polycyclic aromatic phenols).

Xは式(a)又は式(b)で表される架橋基であるが、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示す。なお、Bを構成するこれらの環は、炭素数1〜6の炭化水素基で置換されていてもよい。XはLを架橋するが、Lを構成する式(2)及び式(3)で表される基に対するXの置換位置は、特に限定するのもではなく、例えばインドール環の1位から7位の水素原子が架橋基で置換されて連結した構造をとり得るが、式(2)においてインドール環の1位の水素原子が残存していることが好ましい。すべてのインドール環の1位の水素原子が残存している必要はないが、すべてのインドール環の1位の水素原子が置換されていると、本発明のインドール骨格含有樹脂の硬化剤としての機能が発現されない。 X is a bridging group represented by formula (a) or formula (b), but R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. , B represents a group consisting of a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring. In addition, these rings constituting B may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. X bridges L, but the substitution position of X with respect to the groups represented by the formulas (2) and (3) constituting L is not particularly limited. For example, the 1-position to the 7-position of the indole ring In the formula (2), it is preferable that the hydrogen atom at the 1-position of the indole ring remains. The hydrogen atom at the 1-position of all indole rings does not need to remain, but if the hydrogen atom at the 1-position of all indole rings is substituted, the function of the indole skeleton-containing resin of the present invention as a curing agent Is not expressed.

本発明のインドール骨格含有樹脂の軟化点は40〜200℃であることがよく、好ましくは50〜160℃、より好ましくは60〜120℃の範囲である。ここで、軟化点は、JISK-6911の環球法に基づき測定される軟化点を指す。これより低いと、これをエポキシ樹脂に配合したとき、硬化物の耐熱性が低下し、これより高いと成形時の流動性が低下する。   The softening point of the indole skeleton-containing resin of the present invention is preferably 40 to 200 ° C, preferably 50 to 160 ° C, more preferably 60 to 120 ° C. Here, the softening point refers to a softening point measured based on the ring and ball method of JISK-6911. When lower than this, when this is mix | blended with an epoxy resin, the heat resistance of hardened | cured material will fall, and when higher than this, the fluidity | liquidity at the time of shaping | molding will fall.

本発明のインドール骨格含有樹脂は、それ自体をフェノール樹脂組成物又はエポキシ樹脂組成物の一成分とすることができるが、場合により、インドール骨格含有樹脂にハロゲン化アルキル化合物、ハロゲン化アルケニル化合物、エピハロヒドリン化合物等を反応させることにより、インドール骨格含有樹脂中の-NH-及び-OH-の水素原子の一部又は全部をアルキル基、アルケニル基、グリシジル基等に置換することができる。   The indole skeleton-containing resin of the present invention can itself be a component of a phenol resin composition or an epoxy resin composition. In some cases, the indole skeleton-containing resin is added to a halogenated alkyl compound, a halogenated alkenyl compound, an epihalohydrin. By reacting a compound or the like, part or all of the —NH— and —OH— hydrogen atoms in the indole skeleton-containing resin can be substituted with an alkyl group, an alkenyl group, a glycidyl group, or the like.

本発明のインドール骨格含有樹脂は、式(4)で表されるインドール類及び式(5)で表されるフェノール類と、式(6)、式(7)、(8)又は(9)で表される架橋剤を反応させることにより合成することができる。この場合の架橋剤の使用量は、インドール類及びフェノール類の合計1モルに対して、0.1〜0.9モルの範囲であるが、好ましくは0.2〜0.8モルの範囲である。これより小さいと合成の際、未反応のインドール類及びフェノール類が多くなり、インドール骨格含有樹脂の生産性が低下するとともに、合成されたインドール骨格含有樹脂の軟化点が低くなり、エポキシ樹脂硬化剤として使用した場合の硬化物の耐熱性が低下する。また、これより大きいとインドール骨格含有樹脂の軟化点が高くなり、場合により合成の際にインドール骨格含有樹脂がゲル化することがある。なお、インドール類及びフェノール類の使用割合は前記割合となるように調整されるが、インドール類の方が架橋剤との反応性が高いので、フェノール類を理論量よりいくらか多めとすることがよい場合がある。   The indole skeleton-containing resin of the present invention includes an indole represented by the formula (4) and a phenol represented by the formula (5), a formula (6), a formula (7), (8) or (9). It can synthesize | combine by making the represented crosslinking agent react. In this case, the amount of the crosslinking agent used is in the range of 0.1 to 0.9 mol, preferably in the range of 0.2 to 0.8 mol, with respect to a total of 1 mol of indoles and phenols. is there. If it is smaller than this, the unreacted indole and phenols increase during the synthesis, the productivity of the indole skeleton-containing resin is lowered, and the softening point of the synthesized indole skeleton-containing resin is lowered, and the epoxy resin curing agent As a result, the heat resistance of the cured product decreases. On the other hand, if it is larger than this, the softening point of the indole skeleton-containing resin is increased, and in some cases, the indole skeleton-containing resin may gel during synthesis. In addition, the use ratio of indoles and phenols is adjusted so as to be the above ratio, but since indoles are more reactive with a crosslinking agent, it is better to make phenols somewhat higher than the theoretical amount. There is a case.

この反応は無触媒又は酸触媒の存在下に行うことができる。この酸触媒としては、周知の無機酸、有機酸より適宜選択することができる。例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の鉱酸や、ギ酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、p-トルエンスルホン酸、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等の有機酸や、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素等のルイス酸あるいは、イオン交換樹脂、活性白土、シリカ-アルミナ、ゼオライト等の固体酸等が挙げられる。   This reaction can be carried out without a catalyst or in the presence of an acid catalyst. The acid catalyst can be appropriately selected from known inorganic acids and organic acids. For example, mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, organic acids such as formic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, dimethyl sulfuric acid, diethyl sulfuric acid, zinc chloride, aluminum chloride, iron chloride, trifluoride. Examples thereof include a Lewis acid such as boron fluoride or a solid acid such as an ion exchange resin, activated clay, silica-alumina, and zeolite.

また、この反応は通常、10〜250℃で1〜20時間行われる。更に、反応の際には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール類や、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族化合物等を溶媒として使用することができる。   Moreover, this reaction is normally performed at 10-250 degreeC for 1 to 20 hours. Further, during the reaction, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, Ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, aromatic compounds such as benzene, toluene, chlorobenzene, and dichlorobenzene can be used as the solvent.

原料として使用するインドール類としては、インドール以外に、置換基として水酸基、アルコキシ基、ハロゲン原子又は炭化水素基が置換したインドールがある。例えば、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子等があり、アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ビニルエーテル基、イソプロポキシ基、アリルオキシ基、プロパルギルエーテル基、プトキシ基、フェノキシ基が挙げられる。また、炭化水素基としてはメチル基、エチル基、ビニル基、エチン基、イソプロピル基、アリル基、プロパルギル基、ブチル基、アミル基、フェニル基、ベンジル基等を有する種々の置換インドール類を用いることができるが、好ましくはインドールである。   As indoles used as a raw material, in addition to indoles, there are indoles substituted with a hydroxyl group, an alkoxy group, a halogen atom or a hydrocarbon group as a substituent. For example, the halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and the like, and the alkoxy group includes a methoxy group, an ethoxy group, a vinyl ether group, an isopropoxy group, an allyloxy group, a propargyl ether group, a putoxy group, and a phenoxy group. . In addition, as the hydrocarbon group, various substituted indoles having a methyl group, an ethyl group, a vinyl group, an ethyne group, an isopropyl group, an allyl group, a propargyl group, a butyl group, an amyl group, a phenyl group, a benzyl group, etc. should be used. Indole is preferable.

フェノール類としては、フェノールの他、クレゾール類、キシレノール類等のアルキルフェノール類、ヒドロキノン等の多価フェノール類、ナフトール類、ナフタレンジオール類等の多環フェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のビスフェノール類、あるいはフェノールノボラック、フェノールアラルキル樹脂等の多官能性フェノール化合物が例示される。これらのモノマー類は、1種又は2種以上を混合して用いることができるが、インドール骨格含有樹脂を含有して得られる硬化物の物性面からは、インドール骨格含有樹脂のインドール類骨格の含有率が高いほどよいが特に制約はない。   Examples of phenols include phenols, alkylphenols such as cresols and xylenols, polyhydric phenols such as hydroquinone, polycyclic phenols such as naphthols and naphthalenediols, bisphenols such as bisphenol A and bisphenol F, Or polyfunctional phenol compounds, such as a phenol novolak and a phenol aralkyl resin, are illustrated. These monomers can be used singly or in combination of two or more. From the physical properties of the cured product obtained by containing an indole skeleton-containing resin, inclusion of the indole skeleton of the indole skeleton-containing resin is included. Higher rates are better, but there are no particular restrictions.

架橋剤としては、式(6)で表されるホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ブチルアルデヒド、アミルアルデヒド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド類が挙げられるが、ホルムアルデヒドが好ましい。反応に用いる際の好ましいホルムアルデヒドの原料形態としては、ホルマリン水溶液、パラホルムアルデヒド、トリオキサン等が挙げられる。また、式(7)で表されるアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン等のケトン類も架橋剤として使用できる。   Examples of the crosslinking agent include aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, propyl aldehyde, butyraldehyde, amyl aldehyde, and benzaldehyde represented by the formula (6), and formaldehyde is preferable. Preferred formaldehyde raw materials used in the reaction include an aqueous formalin solution, paraformaldehyde, trioxane and the like. In addition, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and acetophenone represented by the formula (7) can also be used as a crosslinking agent.

更に、式(8)で表される架橋剤としては、p-キシリレングリコール、p-キシリレングリコールジメチルエーテル、p-キシリレンジクロライド、4,4’-ジメトキシメチルビフェニル、4,4’-ジクロロメチルビフェニル、ジメトキシメチルナフタレン類、ジクロロメチルナフタレン類が挙げられる。
また、式(9)で表されるジビニルベンゼン類、ジビニルビフェニル類、ジビニルナフタレン類等も架橋剤として使用できる。
Furthermore, the crosslinking agent represented by the formula (8) includes p-xylylene glycol, p-xylylene glycol dimethyl ether, p-xylylene dichloride, 4,4′-dimethoxymethylbiphenyl, 4,4′-dichloromethyl. Biphenyl, dimethoxymethylnaphthalene and dichloromethylnaphthalene are mentioned.
In addition, divinylbenzenes, divinylbiphenyls, divinylnaphthalenes and the like represented by the formula (9) can also be used as a crosslinking agent.

反応終了後、場合により、得られたインドール骨格含有樹脂には、未反応のインドール類及びフェノール類が残存する。未反応の残存したインドール類及びフェノール類は、通常、減圧蒸留、あるいは溶剤分割等の方法により系外に除去される。インドール骨格含有樹脂に残存する未反応のインドール類及びフェノール類の量は少ない方が望ましく、通常は、5重量%以下であり、好ましくは3重量%以下、更に好ましくは1重量%以下である。残存するインドール類及びフェノール類の量が多いと、成形物を作成する際に揮発し、成形作業性を低下させるとともに成形物のボイドの原因になることがある。また、成形物の難燃性も低下する。   After completion of the reaction, in some cases, unreacted indoles and phenols remain in the obtained indole skeleton-containing resin. Unreacted remaining indoles and phenols are usually removed from the system by a method such as distillation under reduced pressure or solvent separation. The amount of unreacted indoles and phenols remaining in the indole skeleton-containing resin is desirably small, and is usually 5% by weight or less, preferably 3% by weight or less, more preferably 1% by weight or less. If the amount of the remaining indoles and phenols is large, it volatilizes during the production of the molded product, which may reduce molding workability and cause voids in the molded product. Moreover, the flame retardance of a molded product also falls.

本発明のフェノール樹脂組成物は、多価フェノール性化合物類中に上記インドール骨格含有樹脂を含有してなるフェノール樹脂組成物である。インドール骨格含有樹脂の含有率は、多価フェノール性化合物類100重量部に対し、2〜200重量部、好ましくは5〜100重量部、更に好ましくは10〜80重量部の範囲である。これより少ないと低吸湿性、耐熱性、密着性、及び難燃性等の改質効果が小さく、これより多いと粘度が高くなり成形性が低下する。   The phenol resin composition of the present invention is a phenol resin composition comprising the above indole skeleton-containing resin in polyhydric phenolic compounds. The content of the indole skeleton-containing resin is in the range of 2 to 200 parts by weight, preferably 5 to 100 parts by weight, and more preferably 10 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyphenolic compounds. If it is less than this, the modification effects such as low hygroscopicity, heat resistance, adhesion, and flame retardancy are small, and if it is more than this, the viscosity becomes high and the moldability deteriorates.

ここで言う多価フェノール性化合物類とは、1分子中にフェノール性水酸基を2個以上有するもの全てを指し、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’-ビフェノール、2,2’-ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類、あるいは、トリス-(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o-クレゾールノボラック、ナフトールノボラック、ポリビニルフェノール等に代表される3価以上のフェノール類がある。更には、フェノール類、ナフトール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’-ビフェノール、2,2’-ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p-ヒドロキシベンズアルデヒド、p-キシリレングリコール、p-キシリレングリコールジメチルエーテル、4,4’-ジメトキシメチルビフェニル、4,4’-ジメトキシメチルジフェニルエーテル、ジビニルベンゼン類、ジビニルビフェニル類、ジビニルナフタレン類等の架橋剤との反応により合成される多価フェノール性化合物等がある。以下、多価フェノール性化合物類を、フェノール樹脂で代表して述べることがある。   The polyhydric phenolic compounds mentioned here refer to all compounds having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, Divalent phenols such as 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, or tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, There are trivalent or higher phenols represented by phenol novolak, o-cresol novolak, naphthol novolak, polyvinylphenol and the like. Furthermore, divalent phenols such as phenols, naphthols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, Formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, p-xylylene glycol, p-xylylene glycol dimethyl ether, 4,4'-dimethoxymethylbiphenyl, 4,4'-dimethoxymethyldiphenyl ether, divinylbenzenes, divinylbiphenyls, There are polyhydric phenolic compounds synthesized by reaction with a crosslinking agent such as divinylnaphthalene. Hereinafter, the polyhydric phenolic compounds may be described as a phenol resin.

フェノール樹脂の軟化点は、通常、40〜200℃、好ましくは60〜150℃の範囲である。これより低いと、エポキシ樹脂の硬化剤として使用して得られた硬化物の耐熱性が低下する。またこれより高いとインドール骨格含有樹脂との混合性が低下する。   The softening point of the phenol resin is usually in the range of 40 to 200 ° C, preferably 60 to 150 ° C. When lower than this, the heat resistance of the hardened | cured material obtained by using as a hardening | curing agent of an epoxy resin will fall. On the other hand, if it is higher than this, the mixing property with the indole skeleton-containing resin is lowered.

本発明のフェノール樹脂組成物は、フェノール樹脂又はインドール骨格含有樹脂のいずれか一方の軟化点以上の温度で、撹袢、混練等により均一に混合する溶融混合法と、それぞれを溶解する溶媒に両者を溶解させて、撹袢、混練等により均一に混合する溶液混合法等の方法で得ることができる。溶液混合法に用いる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族系溶媒などを挙げることができる。なお、この組成物を得る際に、エポキシ樹脂、無機充填材、他のフェノール樹脂、その他の添加剤(材)を配合することもできる。   The phenol resin composition of the present invention includes both a melt mixing method in which mixing is performed uniformly by stirring, kneading, etc. at a temperature equal to or higher than the softening point of either one of the phenol resin or the indole skeleton-containing resin, and a solvent that dissolves each of them. Can be obtained by a method such as a solution mixing method in which the mixture is dissolved and mixed uniformly by stirring, kneading, or the like. Examples of the solvent used in the solution mixing method include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve, and ethyl cellosolve, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, dimethyl ether, diethyl ether, and diisopropyl ether. And ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, and aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene and dichlorobenzene. In addition, when obtaining this composition, an epoxy resin, an inorganic filler, another phenol resin, and another additive (material) can also be mix | blended.

本発明のフェノール樹脂組成物は、ヘキサメチルテトラミン等のフェノール樹脂成形材料に一般的に用いる硬化剤と併用することにより、フェノール樹脂硬化物とすることができる。   The phenol resin composition of this invention can be made into a phenol resin hardened | cured material by using together with the hardening | curing agent generally used for phenol resin molding materials, such as hexamethyltetramine.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、少なくともエポキシ樹脂及び硬化剤を含むものであるが、硬化剤の一部又は全部として前記インドール骨格含有樹脂を配合する。インドール骨格含有樹脂の配合量は、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して2〜200重量部、好ましくは5〜80重量部の範囲である。これより少ないと低吸湿性、密着性及び難燃性向上の効果が小さく、これより多いと成形性及び硬化物の強度が低下する問題がある。   The epoxy resin composition of the present invention contains at least an epoxy resin and a curing agent, and the indole skeleton-containing resin is blended as part or all of the curing agent. The amount of the indole skeleton-containing resin is usually in the range of 2 to 200 parts by weight, preferably 5 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. If it is less than this, the effect of improving low hygroscopicity, adhesion and flame retardancy is small, and if it is more than this, there is a problem that the moldability and the strength of the cured product are lowered.

硬化剤の全量として本発明のインドール骨格含有樹脂を用いる場合、通常、インドール骨格含有樹脂の配合量は、インドール骨格含有樹脂の-NH-基及び-OH-基とエポキシ樹脂中のエポキシ基の当量バランスを考慮して配合する。エポキシ樹脂及び硬化剤の当量比は、通常、0.2から5.0の範囲であり、好ましくは0.5から2.0の範囲である。これより大きくても小さくても、エポキシ樹脂組成物の硬化性が低下するとともに、硬化物の耐熱性、力学強度等が低下する。   When the indole skeleton-containing resin of the present invention is used as the total amount of the curing agent, the compounding amount of the indole skeleton-containing resin is usually equivalent to the —NH— group and —OH— group of the indole skeleton-containing resin and the epoxy group in the epoxy resin. Mix in consideration of balance. The equivalent ratio of epoxy resin and curing agent is usually in the range of 0.2 to 5.0, preferably in the range of 0.5 to 2.0. If it is larger or smaller than this, the curability of the epoxy resin composition is lowered, and the heat resistance, mechanical strength and the like of the cured product are lowered.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化剤として本発明のインドール骨格含有樹脂以外の硬化剤を併用することができる。その他の硬化剤の配合量は、インドール骨格含有樹脂の配合量が、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して2〜200重量部、好ましくは5〜80重量部の範囲が保たれる範囲内で決定される。インドール骨格含有樹脂の配合量がこれより少ないと低吸湿性、密着性及び難燃性向上の効果が小さく、これより多いと成形性及び硬化物の強度が低下する問題がある。   The epoxy resin composition of the present invention can be used in combination with a curing agent other than the indole skeleton-containing resin of the present invention as a curing agent. The blending amount of the other curing agent is such that the blending amount of the indole skeleton-containing resin is usually 2 to 200 parts by weight, preferably 5 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. It is determined. If the amount of the indole skeleton-containing resin is less than this, the effect of improving the low hygroscopicity, adhesion and flame retardancy is small, and if it is more than this, the moldability and the strength of the cured product are lowered.

インドール骨格含有樹脂以外の硬化剤としては、一般にエポキシ樹脂の硬化剤として知られているものはすべて使用でき、ジシアンジアミド、酸無水物類、多価フェノール類、芳香族及び脂肪族アミン類等がある。これらの中でも、半導体封止材等の高い電気絶縁性が要求される分野においては、多価フェノール類を硬化剤として用いることが好ましい。以下に、硬化剤の具体例を示す。   As the curing agent other than the indole skeleton-containing resin, any of those generally known as epoxy resin curing agents can be used, such as dicyandiamide, acid anhydrides, polyhydric phenols, aromatic and aliphatic amines. . Among these, polyhydric phenols are preferably used as a curing agent in a field where high electrical insulation properties such as a semiconductor sealing material are required. Below, the specific example of a hardening | curing agent is shown.

酸無水物硬化剤としては、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイミック酸、無水ドデシニルコハク酸、無水ナジック酸、無水トリメリット酸等がある。   Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl hymic anhydride, dodecynyl succinic anhydride, nadic anhydride, There are trimellitic anhydride and the like.

多価フェノール類としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’-ビフェノール、2,2’-ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類、あるいは、トリス-(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o-クレゾールノボラック、ナフトールノボラック、ポリビニルフェノール等に代表される3価以上のフェノール類がある。更には、フェノール類、ナフトール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’-ビフェノール、2,2’-ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p-ヒドロキシベンズアルデヒド、p-キシリレングリコール等の縮合剤により合成される多価フェノール性化合物等がある。また、前記の本発明のフェノール樹脂組成物を配合することもできる。   Examples of the polyhydric phenols include divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, and naphthalenediol, or , Tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o-cresol novolak, naphthol novolak, polyvinylphenol, There are phenols. Furthermore, divalent phenols such as phenols, naphthols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, There are polyhydric phenolic compounds synthesized by a condensing agent such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, p-xylylene glycol and the like. Moreover, the phenol resin composition of the present invention can be blended.

アミン類としては、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、m-フェニレンジアミン、p-キシリレンジアミン等の芳香族アミン類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の脂肪族アミン類がある。   Examples of amines include aromatic amines such as 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine, and p-xylylenediamine, ethylenediamine, There are aliphatic amines such as hexamethylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、これら硬化剤の1種又は2種以上を混合して用いることができる。   In the epoxy resin composition of the present invention, one or more of these curing agents can be mixed and used.

本発明のエポキシ樹脂組成物に使用されるエポキシ樹脂としては、1分子中にエポキシ基を2個以上有するもの中から選択される。例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’-ビフェノール、2,2’-ビフェノール、テトラブロモビスフェノールA、ハイドロキノン、レゾルシン等の2価のフェノール類、あるいは、トリス-(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)エタンや、フェノール、クレゾール、ナフトール等のノボラック樹脂、フェノール、クレゾール、ナフトール等のアラルキル樹脂等の3価以上のフェノール性化合物のグルシジルエーテル化物等がある。これらのエポキシ樹脂は1種又は2種以上を混合して用いることができる。   The epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention is selected from those having two or more epoxy groups in one molecule. For example, divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, tetrabromobisphenol A, hydroquinone, resorcin, or tris- (4 -Hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, novolak resins such as phenol, cresol and naphthol, and aralkyl resins such as phenol, cresol and naphthol There are glycidyl etherified compounds of the active compound. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

更に、本発明のエポキシ樹脂組成物中には、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリウレタン、石油樹脂、インデン樹脂、インデン・クマロン樹脂、フェノキシ樹脂等のオリゴマー又は高分子化合物を他の改質剤等として適宜配合してもよい。添加量は、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、2から30重量部の範囲である。   Furthermore, in the epoxy resin composition of the present invention, an oligomer or a polymer compound such as polyester, polyamide, polyimide, polyether, polyurethane, petroleum resin, indene resin, indene coumarone resin, phenoxy resin or the like is used as another modifier. Etc. may be blended as appropriate. The addition amount is usually in the range of 2 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、無機充填剤、顔料、難然剤、揺変性付与剤、カップリング剤、流動性向上剤等の添加剤を配合できる。無機充填剤としては、例えば、球状あるいは、破砕状の溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ粉末、アルミナ粉末、ガラス粉末、又はマイカ、タルク、炭酸カルシウム、アルミナ、水和アルミナ、等が挙げられ、半導体封止材に用いる場合の好ましい配合量は70wt%以上であり、更に好ましくは80wt%以上である。   In addition, the epoxy resin composition of the present invention can contain additives such as inorganic fillers, pigments, refractory agents, thixotropic agents, coupling agents, fluidity improvers and the like. Examples of the inorganic filler include spherical or crushed fused silica, silica powder such as crystalline silica, alumina powder, glass powder, mica, talc, calcium carbonate, alumina, hydrated alumina, and the like. A preferable blending amount when used for a sealing material is 70 wt% or more, and more preferably 80 wt% or more.

顔料としては、有機系又は、無機系の体質顔料、鱗片状顔料、等がある。揺変性付与剤としては、シリコン系、ヒマシ油系、脂肪族アマイドワックス、酸化ポリエチレンワックス、有機ベントナイト系、等を挙げることができる。   Examples of the pigment include organic or inorganic extender pigments, scaly pigments, and the like. Examples of the thixotropic agent include silicon-based, castor oil-based, aliphatic amide wax, oxidized polyethylene wax, and organic bentonite-based.

更に、本発明のエポキシ樹脂組成物には必要に応じて硬化促進剤を用いることができる。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等があり、具体的には、1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン-7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-へプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレートなどのテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2-エチル-4-メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N-メチルモルホリン・テトラフェニルボレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.2から5重量部の範囲である。   Furthermore, a curing accelerator can be used in the epoxy resin composition of the present invention as necessary. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, etc., specifically 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, Tertiary amines such as ethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2- Imidazoles such as heptadecylimidazole, triphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, organic phosphines such as phenylphosphine, tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium / ethyltrifer Ruboreto, tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate such as tetrabutylphosphonium-tetrabutyl borate, 2-ethyl-4-methylimidazole · tetraphenyl borate, and the like tetraphenyl boron salts such as N- methylmorpholine tetraphenylborate. The addition amount is usually in the range of 0.2 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

更に必要に応じて、本発明の樹脂組成物には、カルナバワックス、OPワックス等の離型剤、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のカップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、シリコンオイル等の低応力化剤、ステアリン酸カルシウム等の滑剤等を使用できる。   Further, if necessary, the resin composition of the present invention includes a release agent such as carnauba wax and OP wax, a coupling agent such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, a colorant such as carbon black, and trioxide. Flame retardants such as antimony, low stress agents such as silicone oil, lubricants such as calcium stearate, etc. can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、有機溶剤の溶解させたワニス状態とした後に、ガラスクロス、アラミド不織布、液晶ポリマー等のポリエステル不織布、等の繊維状物に含浸させた後に溶剤除去を行い、プリプレグとすることができる。また、場合により銅箔、ステンレス箔、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム等のシート状物上に塗布することにより積層物とすることができる。   The epoxy resin composition of the present invention is made into a varnish in which an organic solvent is dissolved, and then impregnated into a fibrous material such as glass cloth, aramid nonwoven fabric, polyester nonwoven fabric such as liquid crystal polymer, etc., and then the solvent is removed, It can be. Moreover, it can be set as a laminated body by apply | coating on sheet-like materials, such as copper foil, stainless steel foil, a polyimide film, and a polyester film depending on the case.

本発明のエポキシ樹脂組成物を加熱硬化させれば、エポキシ樹脂硬化物とすることができ、この硬化物は低吸湿性、高耐熱性、密着性、難燃性等の点で優れたものとなる。   If the epoxy resin composition of the present invention is cured by heating, an epoxy resin cured product can be obtained, and this cured product is excellent in terms of low hygroscopicity, high heat resistance, adhesion, flame retardancy, and the like. Become.

本発明のインドール骨格含有樹脂は、エポキシ樹脂の硬化剤、及び改質剤として有用であり、エポキシ樹脂組成物に応用した場合、優れた高耐熱性、耐湿性を有するとともに、難燃性及び異種材料との高密着性に優れた硬化物を与え、電気・電子部品類の封止、回路基板材料等の用途に好適に使用することが可能である。   The indole skeleton-containing resin of the present invention is useful as a curing agent and a modifier for epoxy resins, and when applied to an epoxy resin composition, has excellent high heat resistance and moisture resistance, flame retardancy, and different types. It can give a cured product with excellent adhesion to the material, and can be suitably used for applications such as sealing of electric and electronic parts, circuit board materials, and the like.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
ここで、粘度はB型粘度計を用い、軟化点はJIS K-6911に従い環球法で測定した。また、GPC測定条件は、装置;HLC-82A(東ソー(株)製)、カラム;TSK-GEL2000×3本及びTSK-GEL4000×1本(いずれも東ソー(株)製)、溶媒;テトラヒドロフラン、流量;1 ml/min、温度;38℃、検出器;RIであり、検量線にはポリスチレン標準液を使用した。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
Here, the viscosity was measured using a B-type viscometer, and the softening point was measured by the ring and ball method according to JIS K-6911. GPC measurement conditions are as follows: apparatus: HLC-82A (manufactured by Tosoh Corp.), column: TSK-GEL2000 × 3 and TSK-GEL4000 × 1 (both manufactured by Tosoh Corp.), solvent: tetrahydrofuran, flow rate 1 ml / min; temperature; 38 ° C .; detector; RI; polystyrene standard solution was used for the calibration curve.

実施例1
撹拌機、冷却管、窒素導入管のついた500mL、3口セパラブルフラスコに、インドール72.5g、フェノール233.1g、92%パラホルムアルデヒド27.9g、を仕込み、窒素を導入しながら90℃に加熱し溶解させた。その後、撹拌しながら130℃に昇温し3時間反応させた。この間、反応により生成する水は系外に除いた。その後、減圧下、180℃に昇温し、縮合水及び未反応フェノール、インドールを除去し、インドール骨格含有樹脂150gを得た(オリゴマーA)。得られた樹脂の軟化点は83℃、150℃における溶融粘度は0.12Pa・sであった。GPC測定により求めた残存モノマー量は0.5wt%であった。1H−NMRスペクトルを図1、赤外吸収スペクトルを図2、GPCチャート図3に示す。
Example 1
A 500 mL, 3-neck separable flask equipped with a stirrer, a condenser tube, and a nitrogen inlet tube was charged with 72.5 g of indole, 233.1 g of phenol, and 27.9 g of 92% paraformaldehyde, and the temperature was increased to 90 ° C. while introducing nitrogen. Heat to dissolve. Then, it heated up at 130 degreeC, stirring, and was made to react for 3 hours. During this time, water produced by the reaction was removed from the system. Thereafter, the temperature was raised to 180 ° C. under reduced pressure to remove condensed water, unreacted phenol and indole, thereby obtaining 150 g of an indole skeleton-containing resin (oligomer A). The resulting resin had a softening point of 83 ° C. and a melt viscosity at 150 ° C. of 0.12 Pa · s. The residual monomer amount determined by GPC measurement was 0.5 wt%. The 1 H-NMR spectrum is shown in FIG. 1, the infrared absorption spectrum is shown in FIG. 2, and the GPC chart is shown in FIG.

実施例2
インドール106.3g、フェノール199.2g、92%パラホルムアルデヒド27.2gを用いて実施例1と同様に反応を行い、インドール骨格含有樹脂130gを得た(オリゴマーB)。得られた樹脂の軟化点は135℃、180℃における溶融粘度は0.58Pa・sであった。GPC測定により求めた残存モノマー量は0.4wt%であった。
Example 2
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 using 106.3 g of indole, 199.2 g of phenol, and 27.2 g of 92% paraformaldehyde to obtain 130 g of an indole skeleton-containing resin (oligomer B). The resulting resin had a softening point of 135 ° C. and a melt viscosity at 180 ° C. of 0.58 Pa · s. The residual monomer amount determined by GPC measurement was 0.4 wt%.

実施例3
150℃に溶融させた100gのフェノールノボラック(軟化点82℃、OH当量103)中に、実施例1で得たオリゴマーA100gを加え、均一に溶融させてフェノール樹脂組成物200gを得た(樹脂組成物A)。得られたフェノール樹脂組成物の軟化点は82℃、150℃での溶融粘度は0.18Pa・sであった。
Example 3
In 100 g of phenol novolak (softening point 82 ° C., OH equivalent 103) melted at 150 ° C., 100 g of the oligomer A obtained in Example 1 was added and uniformly melted to obtain 200 g of a phenol resin composition (resin composition) Object A). The resulting phenol resin composition had a softening point of 82 ° C. and a melt viscosity at 150 ° C. of 0.18 Pa · s.

実施例4〜8及び比較例1〜2
エポキシ樹脂成分としてo-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量200、軟化点70℃)、硬化剤として実施例1,2で得たインドール骨格含有樹脂(オリゴマーA、B)、実施例3で得たフェノール樹脂組成物(樹脂組成物A)、フェノールノボラック(硬化剤A;OH当量103、軟化点82℃)、フェノールアラルキル樹脂(硬化剤B;三井化学製、XL-225-LL、OH当量172、軟化点74℃)を用い、充填剤としてシリカ(平均粒径22μm)、硬化促進剤として2-エチル-4-メチルイミダゾールを表1に示す配合で混練しエポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物を用いて175℃にて成形し、175℃にて12時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。
Examples 4-8 and Comparative Examples 1-2
The o-cresol novolak type epoxy resin (epoxy equivalent 200, softening point 70 ° C.) as the epoxy resin component, the indole skeleton-containing resins (oligomers A and B) obtained in Examples 1 and 2 as the curing agent, and obtained in Example 3. Phenol resin composition (resin composition A), phenol novolak (curing agent A; OH equivalent 103, softening point 82 ° C.), phenol aralkyl resin (curing agent B; manufactured by Mitsui Chemicals, XL-225-LL, OH equivalent 172, Using a softening point of 74 ° C., silica (average particle size 22 μm) as a filler and 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing accelerator were kneaded in the formulation shown in Table 1 to obtain an epoxy resin composition. This epoxy resin composition was molded at 175 ° C. and post-cured at 175 ° C. for 12 hours to obtain a cured product test piece, which was then subjected to various physical property measurements.

ガラス転移点は、熱機械測定装置により、昇温速度10℃/分の条件で求めた。吸水率は、本エポキシ樹脂組成物を用いて、直径50mm、厚さ3mmの円盤を成形し、ポストキュア後133℃、3atm、96時間吸湿させた時のものである。接着性の評価は、エポキシ樹脂組成物を用いて、銅箔上に175℃にて圧縮成形後、175℃にて12時間ポストキュアを行い、ピール強度を測定した。難燃性は、厚さ1/16インチの試験片を成形し、UL94V-0規格によって評価し、5本の試験片での合計の燃焼時間で表した。結果をまとめて表2に示す。   The glass transition point was calculated | required on the conditions of the temperature increase rate of 10 degree-C / min with the thermomechanical measuring apparatus. The water absorption is the value obtained when a disc having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm is molded using this epoxy resin composition, and after post-curing, the moisture is absorbed at 133 ° C. and 3 atm for 96 hours. Evaluation of adhesiveness was performed by compression-molding on a copper foil at 175 ° C. using an epoxy resin composition, post-curing at 175 ° C. for 12 hours, and measuring peel strength. Flame retardance was measured by molding a 1/16 inch thick test piece, evaluated according to the UL94V-0 standard, and expressed as the total burning time of 5 test pieces. The results are summarized in Table 2.

Figure 2006117790
Figure 2006117790

Figure 2006117790
Figure 2006117790

オリゴマーAの1H−NMRスペクトル 1 H-NMR spectrum of oligomer A オリゴマーAの赤外吸収スペクトルInfrared absorption spectrum of oligomer A オリゴマーAのGPCチャートGPC chart of oligomer A

Claims (6)

下記一般式(1)
H-L-(X-L)n-H (1)
(ここで、Lは下記式(2)及び式(3)
Figure 2006117790
で表される基のいずれかであり、R1は水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜7の炭化水素基を示し、Aは炭素数1〜6のアルキル基若しくは水酸基が置換してもよいベンゼン環又はナフタレン環からなる基を示し、式(2)と式(3)で表される基の存在割合(モル比)が1:9〜9:1の範囲であり、Xは下記(a)又は式(b)
Figure 2006117790
で表される架橋基であり、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示し、nは1〜10の数を示す。)で表されるインドール骨格含有樹脂。
The following general formula (1)
HL- (XL) n -H (1)
(Where L is the following formula (2) and formula (3)
Figure 2006117790
R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, and A represents a group having 1 to 6 carbon atoms. A group consisting of a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted by an alkyl group or a hydroxyl group, wherein the abundance ratio (molar ratio) of the groups represented by the formulas (2) and (3) is 1: 9 to 9: 1, X is the following (a) or formula (b)
Figure 2006117790
R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and B represents a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring. N represents a number of 1 to 10. ) -Containing indole skeleton-containing resin.
軟化点が40℃から200℃である請求項1に記載のインドール骨格含有樹脂。   The indole skeleton-containing resin according to claim 1, which has a softening point of 40 ° C to 200 ° C. 下記式(4)で表されるインドール類と下記式(5)で表されるフェノール類のモル比が1:9〜9:1の範囲であり、両者の合計100モルに対し、下記式(6)、(7)、(8)又は(9)で表される架橋剤10〜90モルとを反応させることを特徴とするインドール骨格含有樹脂の製造方法。
Figure 2006117790
Figure 2006117790
(但し、R1は水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜7の炭化水素基を示し、Aは炭素数1〜6のアルキル基若しくは水酸基が置換してもよいベンゼン環又はナフタレン環からなる基を示し、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示し、Y及びZは独立にOH、OR又はハロゲンを示す。)
The molar ratio of the indoles represented by the following formula (4) and the phenols represented by the following formula (5) is in the range of 1: 9 to 9: 1. 6), (7), (8) or a method for producing an indole skeleton-containing resin characterized by reacting 10 to 90 mol of the crosslinking agent represented by (9).
Figure 2006117790
Figure 2006117790
(However, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, and A represents an alkyl group or hydroxyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted. And a group consisting of a benzene ring or a naphthalene ring, R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and B represents a benzene ring or biphenyl. A group consisting of a ring or a naphthalene ring, and Y and Z independently represent OH, OR or halogen.)
多価フェノール性化合物類100重量部に対して、請求項1又は2に記載のインドール骨格含有樹脂を2から200重量部配合してなるフェノール樹脂組成物。   A phenol resin composition comprising 2 to 200 parts by weight of the indole skeleton-containing resin according to claim 1 or 2 based on 100 parts by weight of the polyhydric phenolic compounds. エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、硬化剤の一部又は全部として、請求項1又は2に記載のインドール骨格含有樹脂を、エポキシ樹脂100重量部に対して2から200重量部配合してなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。   In an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, the indole skeleton-containing resin according to claim 1 or 2 as a part or all of the curing agent is blended in an amount of 2 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. An epoxy resin composition characterized by comprising: 請求項5に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物。

An epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 5.

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