JP2001096461A - 研削砥石の目立て方法及び目立て装置 - Google Patents

研削砥石の目立て方法及び目立て装置

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JP2001096461A
JP2001096461A JP27623999A JP27623999A JP2001096461A JP 2001096461 A JP2001096461 A JP 2001096461A JP 27623999 A JP27623999 A JP 27623999A JP 27623999 A JP27623999 A JP 27623999A JP 2001096461 A JP2001096461 A JP 2001096461A
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Isao Yugawa
功 湯川
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 加工作業を中断することなく簡単に研削砥石
の目立てを行うことを可能とする。 【解決手段】 少なくとも研削遂行時に被加工物に接触
する作用部位、例えば砥石部11bに、噴射口12aか
ら高圧水を噴出して作用部位の目立てを行う研削砥石の
目立て方法及びそのための目立て装置12を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、研削装置、切削装
置等の加工装置に備えた研削砥石に目詰まりが生じた場
合に、その研削砥石の目立てを行う方法及びその方法に
より目立てを行う装置に関する。
【0002】
【従来の技術】研削砥石を用いて半導体ウェーハ等の被
加工物を研磨したり切削したりすると、研削砥石に目詰
まりが生じて研削能力が低下する場合がある。
【0003】そこで、例えば図9に示す切削装置60に
おいては、被加工物が載置されるチャックテーブル61
の近傍にドレッシング手段62を配設し、ここに備えた
ドレッシングボード63に研削砥石である切削砥石64
を回転させながら接触させて目立てを行うようにしてい
る。また、切削装置60以外の装置、例えば研磨装置に
おいても、研磨能力が低下したときには、研磨砥石の目
立てを行って研磨能力の向上を図っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図9の
ようにしてドレッシングボード63に切削砥石64を接
触させて目立てを行うためには、切削作業を中断しなけ
ればならないため、生産性が低下することになる。ま
た、切削砥石64をドレッシングボード63に接触させ
るための煩雑な制御が必要となる。
【0005】このように、研削砥石の目立てにおいて
は、加工作業を中断することなく簡単に行うことに課題
を有している。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の具体的手段として本発明は、研削砥石の目立て方法で
あって、少なくとも研削遂行時に被加工物に接触する砥
石部に高圧水を噴出して該砥石部の目立てを行う研削砥
石の目立て方法を提供する。
【0007】そして、この研削砥石の目立て方法におい
ては、研削砥石が研磨砥石または切削砥石であること、
高圧水は50気圧〜300気圧の圧力で噴出することを
付加的要件とする。
【0008】また本発明は、被加工物を保持するチャッ
クテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工
物を研削する研削砥石を備えた研削手段とから少なくと
も構成される研削装置における該研削砥石の目立て方法
であって、被加工物を研削手段を用いて研削することに
より研削砥石の研削能力が低下した場合に、少なくとも
研削遂行時に被加工物に接触する砥石部に高圧水を噴射
して該砥石部の目立てを行う研削砥石の目立て方法を提
供する。
【0009】そして、この研削砥石の目立て方法におい
ては、研削砥石が装着されたスピンドルの負荷電流が予
め設定した閾値を超えた際に、研削砥石の砥石部に高圧
水を噴射すること、研削砥石は研磨砥石または切削砥石
であること、高圧水は50気圧〜300気圧の圧力で噴
出することを付加的要件とする。
【0010】更に本発明は、噴射口が研削砥石の砥石部
に対向し、該噴射口から50気圧〜300気圧の高圧水
を該砥石部に噴射する高圧水噴射ノズルが配設されてい
る目立て装置を提供する。
【0011】本発明に係る研削砥石の目立て方法及び目
立て装置によれば、高圧水を砥石部に噴射するだけで、
研削を中断することなく簡単に研削砥石の目立てを行う
ことができる。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の第一の実施の形態とし
て、まず、図1に示す切削装置10に備えた研削砥石で
ある切削砥石11の目立て方法及びその方法の実施に用
いる目立て装置12について説明する。
【0013】切削装置10において、例えば半導体ウェ
ーハWのダイシングを行う場合は、ダイシング前の半導
体ウェーハWは、保持テープTを介してフレームFに保
持された状態でカセット13に複数収容される。そし
て、搬出入手段14によって搬出されてから搬送手段1
5によってチャックテーブル16に搬送され、吸引保持
される。
【0014】チャックテーブル16に吸引保持された半
導体ウェーハWは、チャックテーブル16のX軸方向に
移動によりアライメント手段17の直下に位置付けら
れ、ここで切削すべきストリートが検出された後、更に
チャックテーブル16が同方向に移動することによって
高速回転する切削砥石11の作用を受けて切削される。
また、切削砥石11を備えた研削手段である切削手段1
8がY軸方向に一定間隔割り出し送りされながらチャッ
クテーブル16がX軸方向に往復移動することにより、
順次ストリートが切削されていく。こうして同方向のス
トリートがすべて切削されると、次にチャックテーブル
16が90度回転し、上記と同様の切削が行われること
により、すべてのストリートが縦横に切削され(ダイシ
ングされ)、個々のチップが形成される。
【0015】図2に示すように、切削手段18は、スピ
ンドルハウジング19によって回転可能に支持されたス
ピンドル20に切削砥石11が装着され、更に切削砥石
11が上方から切削砥石カバー21によって覆われた構
成となっており、切削砥石カバー21には、切削砥石1
1を両側から挟むようにして、切削砥石11と半導体ウ
ェーハWとの接触部に切削水を供給する2つの切削水供
給ノズル22(図2においては片方だけを示す)が配設
されている。
【0016】切削砥石11は、円形基台11aの外周部
に砥石部11bが形成された構成となっており、半導体
ウェーハWの切削時は、切削砥石11が回転しながら砥
石部11bが半導体ウェーハWに接触して切り込んでい
く。即ち、砥石部11bが作用部位となる。
【0017】また、図3に示すように、切削砥石11の
砥石部11bの外周が対向する位置には、目立て装置1
2が配設されている。目立て装置12は、切削砥石11
に向けて高圧水を噴射することにより砥石部11bの目
立てを行う装置であり、切削砥石11の作用部位である
砥石部11bに対向する噴射口12aを備えた高圧水噴
射ノズル12bと、高圧水が流通する流路12cと、図
示しない高圧源生成手段とが連結された構成となってい
る。
【0018】半導体ウェーハ等の被加工物を切削するこ
とにより砥石部11bに目詰まりが生じて切削能力が低
下したときは、図4に示すように、高圧水噴射ノズル1
2bの噴射口12aから砥石部11bに向けて高圧水を
噴射することにより目立てを行う。切削砥石11の切削
能力が低下しているか否かは、例えばスピンドル20の
負荷電流が一定の値を超えているか否かにより判断する
ことができる。
【0019】このとき、切削砥石11の回転を止めるこ
となく高圧水を噴射することで、簡単に砥石部11b全
体を満遍なく目立てすることができる。従って、高圧水
の噴射は、切削作業を中断することなく、切削作業と並
行して行うことができる。即ち、切削作業の生産性を低
下させることなく目立てを行うことができる。
【0020】なお、高圧水を噴射するにあたっては、圧
力が弱すぎると目立てができず、圧力が強すぎると切削
砥石11を損傷させるおそれがあるため、50気圧〜3
00気圧の範囲とすることが望ましい。
【0021】次に、本発明の第二の実施の形態として、
図5に示す研磨装置30に備えた研削砥石である研磨砥
石31の目立て方法及びその方法の実施に用いる図6に
示す目立て装置32について説明する。
【0022】図5に示す研磨装置30においては、基台
33の端部から壁部34が起立して設けられており、こ
の壁部34の内側の面には一対のレール35が垂直方向
に配設され、スライド板36がレール35に摺動可能に
係合している。また、スライド板36には研削手段であ
る研磨手段37が固定されている。
【0023】また、図6に示すように、壁部34の外側
の面に沿って垂直方向にボールネジ38が配設され、ボ
ールネジ38の一端には第一のモータ39が連結され、
更にボールネジ38には上下動部40が螺合しており、
第一のモータ39の駆動によるボールネジ38の回動に
伴い、ボールネジ38に螺合した上下動部40が上下動
する構成となっている。
【0024】上下動部40は、壁部34を貫通してスラ
イド板36に連結されており、上下動部40の上下動に
伴い研磨手段37も上下動する。また、上下動部40の
上下方向の位置は、リニアスケール41によって計測さ
れて制御手段42に通知され、制御手段42は、リニア
スケール41による計測値に基づき、モータドライバ4
1aを介して第一のモータ39の駆動を制御する。
【0025】研磨手段37においては、垂直方向の軸心
を有するスピンドル43の先端にマウンタ44が装着さ
れ、更にその下部に研磨砥石31が装着されており、研
磨砥石31は、第二のモータ45に駆動されてスピンド
ル43が回転するのに伴って回転する構成となってい
る。また、第二のモータ45においてスピンドル43の
負荷電流の電流値が電流値検出手段46において検出さ
れ、その値が制御手段42に通知される。
【0026】ここで、研磨砥石31には、例えば図7に
示すように、円形基台31aの下部に複数のセグメント
砥石が円環状に配列されて固定された砥石部31bと、
各セグメント砥石に研磨水を供給する研磨水供給孔31
cとが形成されている。
【0027】図5に示したように、基台33上には、タ
ーンテーブル47が回転可能に配設され、更にターンテ
ーブル47上には半導体ウェーハWを保持するチャック
テーブル48が回転可能に複数配設されている。
【0028】また、研磨手段37の下方においては、図
6に示したように、基台33から上方に向けて高圧水噴
射ノズル49が突出しており、その噴射口50は研磨砥
石31の砥石部31bに対向している。高圧水噴射ノズ
ル49は、研磨装置30の内部において開閉弁51を介
して高圧水生成手段52に連結されており、上記電流値
検出手段46による検出値に基づき、制御手段42によ
って開閉弁51の開閉を制御することができる。そし
て、先端に噴射口50を備えた高圧水噴射ノズル49と
開閉弁51と高圧水生成手段52とで目立て装置32を
構成している。
【0029】例えば半導体ウェーハWの表面を研磨する
際は、チャックテーブル48に半導体ウェーハWが吸引
保持され、研磨砥石31を回転させながら研磨手段37
が下降し、研磨砥石31の砥石部31bが半導体ウェー
ハWの表面に接触して押圧力が加えられることにより研
磨が行われる。即ち、砥石部31bが作用部位となる。
【0030】このようにして研磨が行われることによ
り、砥石部31bに目詰まりが生じて研磨能力が低下し
た場合には、図8に示すように、高圧水噴射ノズル49
の噴射口50から高圧水を噴射して砥石部31bの目立
てを行う。砥石部31bに目詰まりが生じている場合
は、砥石部31bと半導体ウェーハWとの摩擦抵抗が大
きくなり、電流値検出手段46により検出した負荷電流
の電流値が大きくなるため、検出した電流値が制御手段
42において予め設定した閾値を超えたと判断した場合
には、研磨砥石31の研磨能力が低下したと判断するこ
とができる。
【0031】そして、検出した電流値が閾値を超えてい
る場合は、制御手段42の制御の下で開閉弁51を開く
ことにより、図7に示すようにして高圧水噴射ノズル4
9の噴射口50から高圧水を砥石部31bに噴射して目
立てを行う。図6に示したように、研磨中は、砥石部3
1bの全面が半導体ウェーハWの上方に位置しているわ
けではなく、一部は高圧水噴射ノズルの直上に位置する
ことになるため、研磨砥石31が回転しながら高圧水が
砥石部31bに噴射されることで、研磨を中断すること
なく、砥石部31bの目立てを満遍なく行うことができ
る。即ち、研磨の生産性を低下させることがなく、容易
に研磨砥石の目立てを行うことができる。なお、この場
合の高圧水は、切削砥石の目立ての場合と同様に50気
圧〜300気圧とすることが好ましい。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る研削
砥石の目立て方法及び目立て装置によれば、ドレッシン
グボードを使用する場合とは異なり、高圧水を砥石部に
噴射するだけで目立てを行うことができるため、作業性
が良い。
【0033】また、目立て装置を、噴射口が砥石部に対
向するように配設することで、研削を中断することなく
研削砥石の目立てを行うことができるため、研削の生産
性を低下させることなく研削能力を向上させることがで
きる。
【0034】更に、目立て機能のない研削装置において
は、本発明に係る目立て装置を搭載すれば、容易に目立
て機能を付加することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る研削砥石の目立て方法が適用され
る切削装置を示す斜視図である。
【図2】同切削装置を構成する切削手段を示す斜視図で
ある。
【図3】同切削手段を示す正面図である。
【図4】本発明に係る研削砥石の目立て方法により切削
砥石の目立てを行う様子を示す説明図である。
【図5】本発明に係る研削砥石の目立て方法が適用され
る研磨装置を示す斜視図である。
【図6】同研磨装置の構成を示す説明図である。
【図7】同研磨装置を構成する研磨砥石を示す斜視図で
ある。
【図8】本発明に係る研削砥石の目立て方法により同研
磨砥石の目立てを行う様子を示す説明図である。
【図9】従来の研削砥石の目立て方法を示す斜視図であ
る。
【符号の説明】
10…切削装置 11…切削砥石 11a…円形基台 11b…砥石部 12…目立て装置 12a…噴射口 12b…高圧水噴射ノズル 12c…流路 13…カセット 14…搬出入手段 15…搬送手段 16…チャックテーブル 17…アライメント手段 18…切削手段 19…スピンドルハウジング 20…スピンドル 21…切削砥石カバー 22…切削水供給ノズル 30…研磨装置 31…研磨砥石 31a…円形基台 31b…砥石部 31c…研磨水供給孔 32…目立て装置 33…基台 34…壁部 35…レール 36…スライド板 37…研磨手段 38…ボールネジ 39…第一のモータ 40…上下動部 41…リニアスケール 42…制御手段 42a…モータドライバ 43…スピンドル 44…マウンタ 45…第二のマウンタ 46…電流値検出手段 47…ターンテーブル 48…チャックテーブル 49…高圧水噴射ノズル 50…噴射口 51…開閉弁 52…高圧水生成手段 60…切削装置 61…チャックテーブル 62…ドレッシング手段 63…ドレッシングボード 64…切削砥石

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研削砥石の目立て方法であって、 少なくとも研削遂行時に被加工物に接触する砥石部に高
    圧水を噴出して該砥石部の目立てを行う研削砥石の目立
    て方法。
  2. 【請求項2】 研削砥石は、研磨砥石または切削砥石で
    ある請求項1に記載の研削砥石の目立て方法。
  3. 【請求項3】 高圧水は、50気圧〜300気圧の圧力
    で噴出する請求項1または2に記載の研削砥石の目立て
    方法。
  4. 【請求項4】 被加工物を保持するチャックテーブル
    と、該チャックテーブルに保持された被加工物を研削す
    る研削砥石を備えた研削手段とから少なくとも構成され
    る研削装置における該研削砥石の目立て方法であって、 該被加工物を研削手段を用いて研削することにより該研
    削砥石の研削能力が低下した場合に、少なくとも研削遂
    行時に被加工物に接触する砥石部に高圧水を噴射して該
    砥石部の目立てを行う研削砥石の目立て方法。
  5. 【請求項5】 研削砥石が装着されたスピンドルの負荷
    電流が予め設定した閾値を超えた際に、該研削砥石の砥
    石部に高圧水を噴射する請求項4に記載の研削砥石の目
    立て方法。
  6. 【請求項6】 研削砥石は、研磨砥石または切削砥石で
    ある請求項4または5に記載の研削砥石の目立て方法。
  7. 【請求項7】 高圧水は、50気圧〜300気圧の圧力
    で噴出する請求項4乃至6に記載の研削砥石の目立て方
    法。
  8. 【請求項8】 噴射口が研削砥石の砥石部に対向し、該
    噴射口から50気圧〜300気圧の高圧水を該砥石部に
    噴射する高圧水噴射ノズルが配設されている目立て装
    置。
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