JP2001093140A - カレンダー処理装置及びこれを用いる磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カレンダー処理装置の金属ロール周面に発生
する硬質クロムメッキのマイクロクラックの進行を遅ら
せることにより、金属ロールの清浄や交換のための製造
ライン停止頻度を下げ、生産性を向上させることを可能
とする、カレンダー処理装置及びこれを用いる磁気記録
媒体の製造方法を提供すること。 【解決手段】 複数個の金属ロール１ａ〜１ｄと弾性ロ
ール２ａ〜２ｃあるいは金属ロールと金属ロールとの間
に磁気記録媒体３を挿通することにより該磁気記録媒体
磁気層の鏡面化を行うカレンダー処理装置において、前
記金属ロール１ａ〜１ｄの表面に施す硬質クロムメッキ
を複層メッキ構造とし、各層のメッキ厚みを３０〜１０
０μｍの範囲としたことを特徴とするもの。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カレンダー処理装
置及びこれを用いる磁気記録媒体の製造方法に関し、よ
り詳細には、磁性層の表面平滑処理工程を改善すること
が可能な、カレンダー処理装置及びこれを用いる磁気記
録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体の製造工程の一つに、磁性
層表面の平滑性あるいは充填度を高めるために行うカレ
ンダー処理と呼ばれる表面平滑処理工程がある。このカ
レンダー処理は、加熱金属ロールと樹脂等の弾性体ある
いは金属ロール同士の間に、磁気記録媒体を加熱・加圧
しながら通す処理工程である。このカレンダー処理に関
しては、従来から、本処理工程実施中に、上記加熱金属
ロールに接触する磁性層表面の磁性層形成材料が脱落
し、金属ロールに付着して汚れが発生するという問題が
あった。

【０００３】上記金属ロールの表面は、硬さと耐磨耗性
向上の観点から、電解による硬質クロムメッキ（ビッカ
ース硬度７００以上）を施している。前述のような、金
属ロール周面に付着した汚れが磁性層表面に転写した状
態を光学顕微鏡で観察したところ、汚れは網目状に転写
していることが確認された。この網目は、硬質クロムメ
ッキ層に発生するマイクロクラックのパターンであると
考えられる。マイクロクラックの発生原因は、金属ロー
ルのメッキ時に、メッキ内部に残留応力があるため、メ
ッキ直後から非常に微細なクラックが内在しており、こ
の内在クラックが、磁気記録媒体をカレンダー処理する
際の加熱・加圧により拡大し、表面まで進行するためと
いわれている。

【０００４】図５（ａ）に、上述のマイクロクラックの
表面図を、また、図５（ｂ）には、その断面図を、いず
れも模式的に示した。このマイクロクラックは、メッキ
時の残留応力から生まれるため、金属ロール１０に施さ
れたメッキ層１３の厚みと相関があり、メッキ層１３の
厚みが厚いほど残留応力は大きいと考えられる。従来、
上記金属ロールのメッキは、カレンダー処理時の磨耗や
トラブルで発生するシワ押し傷の除去，マイクロクラッ
クの除去のために再研磨して再使用できるよう、２００
μｍ以上の厚みに施されている。

【０００５】ただし、上述のように発生するマイクロク
ラックは、金属ロールのメッキ層のかなり内部まで進行
しているため、マイクロクラックを除去するために金属
ロールの表面を再研磨した場合に、表面上はマイクロク
ラックが除去されたように見えても、クラックは実際は
図５（ｂ）に示すように内部まで進行しているため、再
使用中に、短時間で再びマイクロクラックが発生すると
いう問題がある。この場合には、メッキ層をすべて取り
除き、新たにメッキし直すことで対応する他に手だてが
ない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】金属ロール面に汚れが
蓄積する原因の一つとして、このマイクロクラックの微
細な凹凸が磁性層とのニップ時に磁性層表面を引き裂い
て蓄積させることがあげられる。このマイクロクラック
と汚れとの関係を調べた結果、クラック幅ｃが２μｍ以
上になると磁性層表面に転写し、製品の品質に影響する
ことが判明した。この汚れは、磁気記録媒体の磁性面に
転写されることにより磁気記録媒体のＳ／Ｎの低下を招
き、ドロップアウトの原因となる。従来のＶＨＳテープ
を代表とする製品では、このマイクロクラックは品質に
影響しないために問題はなかったが、近年のコンピュー
タバックアップテープを代表する高密度記録媒体（例え
ば、ＤＬＴ）では、このマイクロクラックが問題となっ
てきた。

【０００７】このような事態を回避するには、定期的に
金属ロール周面の汚れを除去する清浄化あるいは金属ロ
ールの交換が必要である。これらの作業に際しては、製
造ラインを停止しなければならず、生産性の低下を招く
ので、汚れの発生をできるだけ抑制することが望まし
い。また、マイクロクラックに蓄積した汚れは、有機溶
剤等による清浄作業で除去することは可能だが、頻繁に
行わなければならないため、生産性の大幅な低下を招
く。

【０００８】従来の技術では、汚れを抑制する方法とし
て、特開平９−７３６２７号公報に開示された技術（金
属ロールに潤滑剤を塗布して汚れを防止する方法），特
開平４−２５８８１２号公報に開示された技術（金属ロ
ールに潤滑剤を塗布して汚れを防止する方法），特開平
１−３１２７３２号公報に開示された技術（金属ロール
に界面活性皮膜を形成して汚れを防止する方法）及び特
開昭６１−１１５２４０号公報に開示された技術（ロー
ルに揮発性の離型成ガスを吹き付ける方法）において、
いずれも金属ロールに潤滑剤、界面活性剤、離型成ガス
を塗布または吹き付けてロール表面に吸着形成させ、汚
れを抑制する方法が開示されている。

【０００９】しかしながら、上記従来技術のうち、特開
平９−７３６２７号公報に開示された技術，特開平４−
２５８８１２号公報に開示された技術，特開平１−３１
２７３２号公報に開示された技術は、磁気記録媒体自体
の持つ研磨性により、金属ロール表面に吸着形成した物
質を短時間に脱離させるところから、頻繁に製造ライン
を停止し、吸着処理をしなければならないという欠点が
ある。また、特開昭６１−１１５２４０号公報に開示さ
れた離型成ガスを吹き付ける方法は、ガスを常に吹き付
け続ける必要があり、生産コストがかかり、実用的とは
いえない。

【００１０】また、もう一つの問題点としては、金属ロ
ールのメッキの磨耗が挙げられる。カレンダー加熱金属
ロールは、ロールとロールとの間で磁気記録媒体を加圧
しながら処理を行うため、接触せん断力により、ロール
表面に施した硬質クロムメッキが磨耗していく。この磨
耗は、ロール幅方向に一定ではなく、不均一に磨耗する
ために、ロール間の圧力の不均一を生ずることになり
（図６参照）、製品の平滑性や充填度に影響を与えると
いう問題が生じる。

【００１１】上述のロールの磨耗量は、当然のことなが
ら処理量と相関があり、例えば、処理量が約６４，８０
０，０００ｍ（これは平均的な処理時間では、約１２ヶ
月に相当する。）になると、磨耗により加圧不均一が無
視できなくなるため、それ以前にカレンダー処理時のト
ラブルでのシワ押し等の問題がなければ、従来は１２ヶ
月で定期的にロールの交換を行っている。

【００１２】本発明の目的は、従来の技術における上述
のような問題を解消し、カレンダー処理装置の金属ロー
ル周面に発生する硬質クロムメッキのマイクロクラック
の進行を遅らせることにより、汚れによる金属ロールの
清浄や交換のための製造ライン停止頻度を下げ、生産性
を向上させることを可能とする、カレンダー処理装置及
びこれを用いる磁気記録媒体の製造方法を提供すること
にある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係るカレンダー処理装置は、複数個の金属
ロールと弾性ロールあるいは金属ロールと金属ロールと
の間に磁気記録媒体を挿通することにより該磁気記録媒
体磁気層の鏡面化を行うカレンダー処理装置において、
前記金属ロールの表面に施す硬質クロムメッキを複層メ
ッキ構造とし、各層のメッキ厚みを３０〜１００μｍの
範囲としたことを特徴とするものである。

【００１４】また、本発明に係る磁気記録媒体の製造方
法は、非磁性層形成用塗布液と磁性層形成用塗布液と
を、乾燥後の非磁性層の厚さ及び磁性層の厚さが所定の
厚さになるように長尺状の支持体上に塗布し、前記両層
がまだ湿潤状態にあるうちに配向処理を行った後乾燥し
て非磁性層及び磁性層を設けた磁気記録媒体を、表面に
複層施された硬質クロムメッキの各層の厚みを３０〜１
００μｍの範囲とした金属ロールを含むカレンダー処理
装置によりカレンダー処理することを特徴とするとする
ものである。

【００１５】本発明においては、カレンダー処理装置に
用いる金属ロールの表面に施された硬質クロムメッキが
複層メッキ構造であるとともに、各層のメッキ厚みが３
０〜１００μｍの範囲となっており、硬質クロムメッキ
層におけるマイクロクラックの進行を遅らせることがで
きる。 したがって、クラック幅が品質に影響する２μ
ｍに達するまでの処理量を大幅に増加させることが可能
になり、生産性の向上に寄与することができる。また、
硬質クロムメッキを複層メッキ構造とすることで、最外
周の層を研磨し、研磨後の最外周に現れたメッキ層を使
用することが可能となる。すなわち、カレンダー処理時
のトラブルで発生するシワ押し傷が発生した場合でも、
再メッキ処理する必要がなく、短時間で補修できる研磨
での対応が可能となる。したがって、補修費の低減及び
生産性が向上する。また、予備ロールの確保も必要がな
くなる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、添
付図面に基づいて説明する。図１は、本発明の一実施形
態に係るカレンダー処理装置の構成の要部を示す断面図
である。

【００１７】図１に示すように、本実施形態では７段の
カレンダー処理装置を利用しており、１ａ〜１ｄは、内
部に加熱手段を備えた金属ロールであり、２ａ〜２ｃは
樹脂ロールである。また、３は磁気テープであり、３ａ
はその磁性面を示している。後述する実施例及び比較例
では、この７段のカレンダー処理装置における最上段の
加熱金属ロール１ａの表面に施す硬質クロムメッキを複
層メッキ構造とし、かつ、各層の厚みを２０〜２００μ
ｍの範囲内の種々の厚みに設定している。そして、この
カレンダー処理装置を用いて、実施例に説明するような
磁性層を有する磁気記録媒体のカレンダー処理を行う。

【００１８】なお、上記実施形態は本発明の一例を示す
ものであり、本発明はこれに限定されるべきものではな
い。例えば、上記実施形態においては、カレンダー処理
装置として、金属ロールと樹脂ロールからなる７段のロ
ール構成である例を示したが、本発明は、これ以外に
も、例えば金属ロールのみからなるもの、構成段数の異
なるもの、あるいは、金属ロールと樹脂ロールとの組み
合わせを変えたものなど、他の構成に係るカレンダー処
理装置及びこれを用いる磁気記録媒体の製造方法にも適
用可能である。さらに、上記実施形態においては、カレ
ンダー処理装置の最初の金属ロールのみのメッキ厚みを
変化させた例を示したが、他の加熱金属ロールについて
も、同様にメッキ厚みを調整しても良い。

【００１９】

【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
する。まず、磁気記録媒体の製造方法の概要について説
明する。 （１）非磁性層形成用塗布液及び磁性層形成用塗布液の調製 ａ．研磨剤を含む分散液の組成 α‐Ａl₂Ｏ₃ （アルミナ） １００部（重量部） 〔平均粒子サイズ：０．２μｍ〕 極性基（−ＳＯ₃Ｎａ基）含有塩化ビニル系共重合体 １２部 〔−ＳＯ₃Ｎａ基の含有量：５×１０^-5モル／ｇ、 重合度：３５０、エポキシ基含有量：モノマー単位で３．５重量％、 （ＭＲ−１１０、日本ゼオン（株）製）〕 メチルエチルケトン １００部 上記の成分をサンドミルを用いて分散させて研磨剤を含
む分散液を調整した。

【００２０】 ｂ．非磁性層形成用成分 非磁性粉末 二酸化チタンＴiＯ₂（ルチル型） １００部 〔ＴiＯ₂含有量：９０％以上 平均一次粒子径：０．０３５μｍ ＢＥＴ法による比表面積：４０ｍ²／ｇ pＨ：７．０ ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｇ／１００ｇ モース硬度：６．０ 表面処理剤（Ａl₂Ｏ₃）〕 磁性体表面処理剤 ０．３部 〔フェニルホスホン酸〕 極性基（−ＳＯ₃Ｎａ基）含有塩化ビニル系共重合体 １２部 〔−ＳＯ₃Ｎａ基含有量：５×１０^-5モル／ｇ、重合度：３５０、 エポキシ基含有量：モノマー単位で３．５重量％、 （ＭＲ−１１０、日本ゼオン（株）製）〕 極性基（−ＳＯ₃Ｎａ基）含有ポリエステルポリウレタン樹脂５部 〔ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ ＭＤＩ＝０．９／２．６／１（重量比） −ＳＯ₃Ｎａ基：１×１０^-4モル／ｇ含有〕 ポリイソシアネート ３部 〔（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）〕 上記の研磨剤（α−アルミナ）を含む分散液 １０部 カーボンブラック １０部 〔（平均粒子サイズ：０．１μｍ、旭カーボン（株）製）〕 プチルステアレート ０．１部 ステアリン酸 ０．２部 オレイン酸 ０．１部 メチルエチルケトン １５０部 シクロヘキサノン １５０部

【００２１】 ｃ．磁性層形成用成分 強磁性金属粉末 １００部 〔（組成／Ｆe：Ｃo：Ｙ：Ａl＝１００：１０：３：１１ 保磁力（Ｈc）：１８０エルステッド（Ｏe） ＢＥＴ法による比表面積：５７ｍ²／ｇ 結晶子サイズ：１７０Ａ 飽和磁化量（δs）：１３０ｅｍｕ／ｇ 粒子サイズ（平均長軸長）：０．１０μｍ pＨ：９．３〕 磁性体表面処理剤〔（フェニルスルホン酸）〕 ３部 極性基（−ＳＯ₃Ｎａ基）含有塩化ビニル系共重合体 １０部 〔−ＳＯ₃Ｎａ基の含有量：５×１０^-5モル／ｇ、 重合度：３５０、エポキシ基含有量：モノマー単位で３．５重量％、 （ＭＲ−１１０、日本ゼオン（株）製）〕 極性基（−ＳＯ₃Ｎａ基）含有ポリエステルポリウレタン樹脂２．５部 〔ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ ＭＤＩ＝０．９／２．６／１（重量比） −ＳＯ₃Ｎａ基含有量：１×１０^-4モル／ｇ含有〕 ポリイソシアネート ２．５部 〔（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）〕 上記の研磨剤（α−アルミナ）を含む分散液 １０部 カーボンブラック １部 〔（＃５０、平均粒子サイズ：０．１０μｍ、旭カーボン（株）製）〕 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン １５０部 シクロヘキサノン ５０部

【００２２】まず、上記磁性層形成用成分及び非磁性層
形成用成分のうち、研磨剤を含む分散液以外の各成分を
それぞれ連続ニーダ（オープンニーダ）で混練し、非磁
性層形成用塗布液及び磁性層形成用塗布液をそれぞれ調
整した。

【００２３】 （２）バックコート層形成用塗布液の調製 （バックコート層形成用成分） 微粒子状カーボンブラック粉末 １００部 〔（キャボット社製、ＢＰ−８００、平均粒子サイズ：１７μｍ）〕 粗粒子状カーボンブラック粉末 １０部 〔（カーボンカルプ社製、サーマルブラック、平均粒子サイズ：２７０μｍ） 〕 炭酸カルシウム（軟質無機粉末） ８０部 〔（白石工業（株）製、白艶華０、平均粒子サイズ：４０μｍ、 モース硬度：３）〕 α−アルミナ（硬質無機粉末） ５部 〔（平均粒子サイズ：２００μｍ、モース硬度：９）〕 ニトロセルロース樹脂 １４０部 ポリウレタン樹脂 １５部 ポリイソシアネート ４０部 ポリエステル樹脂 ５部 分散剤 ：オレイン酸銅 ５部 銅フタロシアニン ５部 硫酸バリウム ５部 メチルエチルケトン ２２００部 酢酸ブチル ３００部 トルエン ６００部

【００２４】上記バックコート層を形成する各成分を連
続ニーダで混練したのち、バックコート層形成用塗布液
を調製した。

【００２５】（３）磁気テープの作製 得られた非磁性層形成用塗布液と磁性層形成用塗布液
を、乾燥後の非磁性層の厚さが２．２μｍとなるよう
に、またこの上に乾燥後の磁性層の厚さが０．３μｍと
なるように長尺状のポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）支持体（厚さ：６．０μｍ）上に同時重層塗布を行
った。ついで、両層がまだ湿潤状態にあるうちに、３０
００ガウスの磁束密度を持つコバルト磁石と１５００ガ
ウスの磁束密度を持つソレノイドを用いて配向処理を行
った。その後乾燥を行い、非磁性層及び磁性層を設け
た。

【００２６】その後、支持体の他方の側（磁性層とは反
対側）に、上記バックコート層形成用塗布液を乾燥後の
厚さが０．５μｍとなるように塗布し、乾燥してバック
コート層を設け、支持体の一方の面に非磁性層と磁性層
とが、そして他方の面にバックコート層がそれぞれ設け
られた磁気記録積層体ロールを得た。得られた磁気記録
積層体ロールを、金属ロールのみから構成される図１に
示したような、金属ロールと樹脂ロールからなる７段構
成のカレンダー処理装置に通してカレンダー処理を行っ
た。

【００２７】カレンダー処理の条件は、以下の通りであ
る。 メッキ厚み変更ロール ：加熱金属ロール上段のロール１ａ 加熱金属ロール温度 ：９０℃ ニップ圧（線圧） ：３００ｋｇ／ｃｍ カレンダー処理速度 ：１５０m／ｍｉｎ 定期ロール清浄 ：約６０，０００m処理毎に実施

【００２８】マイクロクラック発生の判断は、複層メッ
キを施された加熱金属ロール１ａの表面変化とカレンダ
ー処理後の磁性層表面を定期的に観察してクラック幅を
測定し、クラック幅が品質に影響する２μｍに達した限
界処理量を判定・確認した。マイクロクラックの進行に
関しては、硬質クロムメッキの外周メッキ厚み又は再研
磨後の外周メッキ厚みとカレンダー処理量（処理時間）
との間に、図２及び図３に示すような相関があることが
確認された。全体の傾向としては、硬質クロムメッキ厚
みが薄いほど、マイクロクラックが限界幅２μｍに達す
るまでの処理量（処理時間）は長くなる。

【００２９】まず、図２に示すグラフ、すなわちマイク
ロクラック幅が２μｍに達するまでの、最外周メッキ厚
みとカレンダー処理量との関係について実施例１〜４及
び比較例１〜５を参照して説明する。

【００３０】〔実施例１〕上述の処理条件下で、外周メ
ッキ厚みを１００μｍに設定した２〜４層メッキ構造か
らなる金属ロール１ａを使用した場合、クラック幅が品
質に影響する２μｍに達したのは処理量が約６４，８０
０，０００ｍに達したときであった。なお、一番処理量
の多いものは３層メッキ、その次が４層メッキ、その次
が２層メッキを施したものであった。

【００３１】〔実施例２〕上述の処理条件下で、外周メ
ッキ厚みを７０μｍに設定した２〜４層メッキ構造から
なる金属ロールを使用した場合、クラック幅が品質に影
響する２μｍに達したのは、処理量が約８１，０００，
０００ｍに達したときであった。なお、一番処理量の多
いものは４層メッキ、その次がほぼ同じ処理量で２層及
び３層メッキを施したものであった。

【００３２】〔実施例３〕上述の処理条件下で、外周メ
ッキ厚みを５０μｍに設定した２〜４層メッキ構造から
なる金属ロールを使用した場合、クラック幅が品質に影
響する２μｍに達したのは、処理量が約９７，２００，
０００ｍに達したときであった。なお、一番処理量の多
いもののは２層メッキ、その次が４層メッキ、その次が
３層メッキを施したものであった。

【００３３】〔実施例４〕上述の処理条件下で、外周メ
ッキ厚みを３０μｍに設定した２〜４層メッキ構造から
なる金属ロールを使用した場合、クラック幅が品質に影
響する２μｍに達したのは、処理量が約１０２，６０
０，０００ｍに達したときであった。なお、一番処理量
の多いものは２層メッキ、その次がほぼ同じ処理量で３
層及び４層メッキを施したものであった。

【００３４】〔比較例１〕外周メッキ厚みを２０μｍに
設定した２〜４層メッキ構造からなる金属ロールを使用
した実験の結果は、メッキ前の鉄芯母材の加工精度は、
通常１／１００ｍｍ（１０μｍ）で加工されているた
め、金属ロール周面でメッキ厚みにばらつきが生まれ、
一部のメッキ厚みが薄いところでは使用時の磨耗により
メッキが無くなる事態が発生した。

【００３５】〔比較例２〕外周メッキ厚みを１０μｍに
設定した２〜４層メッキ構造からなる金属ロールを使用
した実験においても、比較例１と同様の現象がみられ
た。

【００３６】〔比較例３〕上述の処理条件下で、外周メ
ッキ厚みを１１０μｍに設定した２〜４層メッキ構造か
らなる金属ロールを使用した実験の結果、磨耗による１
２ヶ月ごとの定期ロール交換時期よりも前の約５９，４
００，０００ｍ処理後の時点で、マイクロクラックの幅
は品質に影響する２μｍに達した。なお、一番処理量の
多いものは３層メッキ、その次が２層メッキ、その次が
４層メッキを施したものであった。

【００３７】〔比較例４〕上述の処理条件下で、外周メ
ッキ厚みを１５０μｍに設定した２〜４層メッキ構造か
らなる金属ロールを使用した実験の結果、磨耗による１
２ヶ月ごとの定期ロール交換時期よりも前の約３７，８
００，０００ｍ処理後の時点で、マイクロクラックの幅
は品質に影響する２μｍに達した。なお、一番処理量の
多いものは４層メッキ、その次が２層メッキ、その次が
３層メッキを施したものであった。

【００３８】〔比較例５〕上述の処理条件下で、外周メ
ッキ厚みを２００μｍに設定した２〜４層メッキ構造か
らなる金属ロールを使用した実験の結果、磨耗による１
２ヶ月ごとの定期ロール交換時期よりも前の約２７，０
００，０００ｍ処理後の時点で、マイクロクラックの幅
は品質に影響する２μｍに達した。なお、一番処理量の
多いものは３層メッキ、その次が２層メッキ、その次が
４層メッキを施したものであった。

【００３９】以上の実施例１〜４及び比較例１〜５によ
り、金属ロールの硬質クロムメッキ厚みを３０μｍから
１００μｍの範囲内にすることで、品質に影響するマイ
クロクラックは磨耗による定期ロール交換以前には発生
せず、生産性の向上が実現されることが確認できた。ま
た、ロール清浄作業も頻繁に実施する必要が無くなるこ
とが確認できた。

【００４０】次に、図３に示すグラフ、すなわちマイク
ロクラック幅が２μｍに達するまでの、再研磨後の外周
メッキ厚みとカレンダー処理量との関係について実施例
５〜８及び比較例６〜１０を参照して説明する。

【００４１】〔実施例５〕上述の処理条件下で、再研磨
後の外周メッキ厚みを１００μｍに設定した２〜４層メ
ッキ構造からなる金属ロール１ａを使用した場合、クラ
ック幅が品質に影響する２μｍに達したのは処理量が約
６４，８００，０００ｍに達したときであった。なお、
一番処理量の多いものは３層メッキ、その次が２層メッ
キ、その次が４層メッキを施したものであった。

【００４２】〔実施例６〕上述の処理条件下で、再研磨
後の外周メッキ厚みを７０μｍに設定した２〜４層メッ
キ構造からなる金属ロールを使用した場合、クラック幅
が品質に影響する２μｍに達したのは、処理量が約８
１，０００，０００ｍに達したときであった。なお、一
番処理量の多いものはほぼ同じ処理量である２層及び４
層メッキ、その次が３層メッキを施したものであった。

【００４３】〔実施例７〕上述の処理条件下で、再研磨
後の外周メッキ厚みを５０μｍに設定した２〜４層メッ
キ構造からなる金属ロールを使用した場合、クラック幅
が品質に影響する２μｍに達したのは、処理量が約９
７，２００，０００ｍに達したときであった。なお、一
番処理量の多いものは２層メッキ、その次が３層メッ
キ、その次が４層メッキを施したものであった。

【００４４】〔実施例８〕上述の処理条件下で、再研磨
後の外周メッキ厚みを３０μｍに設定した２〜４層メッ
キ構造からなる金属ロールを使用した場合、クラック幅
が品質に影響する２μｍに達したのは、処理量が１０
２，６００，０００ｍに達したときであった。なお、一
番処理量の多いものは２層メッキ、その次が３層メッ
キ、その次が４層メッキを施したものであった。

【００４５】〔比較例６〕上述の処理条件下で、再研磨
後の外周メッキ厚みを２０μｍに設定した２〜４層メッ
キ構造からなる金属ロールを使用した実験の結果は、メ
ッキ前の鉄芯母材の加工精度は、通常１／１００ｍｍ
（１０μｍ）で加工されているため、金属ロール周面で
メッキ厚みにばらつきが生まれ、一部のメッキ厚みが薄
いところでは使用時の磨耗によりメッキが無くなる事態
が発生した。

【００４６】〔比較例７〕上述の処理条件下で、再研磨
後の外周メッキ厚みを１０μｍに設定した２〜４層メッ
キ構造からなる金属ロールを使用した実験においても、
比較例６と同様の現象がみられた。

【００４７】〔比較例８〕上述の処理条件下で、再研磨
後のメッキ厚みを１１０μｍに設定した２〜４層メッキ
構造からなる金属ロールを使用した実験の結果、磨耗に
よる１２ヶ月ごとの定期ロール交換時期よりも前の５
９，４００，０００ｍ処理後の時点で、マイクロクラッ
クの幅は品質に影響する２μｍに達した。なお、一番処
理量の多いものは３層メッキ、その次がほぼ同じ処理量
で２層及び４層メッキを施したものであった。

【００４８】〔比較例９〕上述の処理条件下で、再研磨
後のメッキ厚みを１５０μｍに設定した２〜４層メッキ
構造からなる金属ロールを使用した実験の結果、磨耗に
よる１２ヶ月ごとの定期ロール交換時期よりも前の３
７，８００，０００ｍ処理後の時点で、マイクロクラッ
クの幅は品質に影響する２μｍに達した。なお、一番処
理量の多いものは３層メッキ、その次がほぼ同じ処理量
で２層及び４層メッキを施したものであった。

【００４９】〔比較例１０〕上述の処理条件下で、再研
磨後のメッキ厚みを２００μｍに設定した２〜４層メッ
キ構造からなる金属ロールを使用した実験の結果、磨耗
による１２ヶ月ごとの定期ロール交換時期よりも前の２
７，０００，０００ｍ処理後の時点で、マイクロクラッ
クの幅は品質に影響する２μｍに達した。なお、一番処
理量の多いものは２層メッキ、その次が３層メッキ、そ
の次が４層メッキを施したものであった。

【００５０】以上の実施例５〜８及び比較例６〜１０に
より、再研磨で下流側のメッキ層を出した後に、再使用
した場合の金属ロールの硬質クロムメッキ厚みを３０μ
ｍから１００μｍの範囲内にすることで、品質に影響す
るマイクロクラックは磨耗による定期ロール交換以前に
は発生せず、生産性の向上が実現されることが確認でき
た。また、ロール清浄作業も頻繁に実施する必要が無く
なることが確認できた。

【００５１】なお、単層メッキであっても当然ながら同
様な効果を奏することができるが、上記実施例の場合、
何れの場合も複層メッキ構造の金属ロールで実験を行っ
た。複層メッキ構造の場合、クラックが連続すれば、従
来例、すなわちメッキ層が２００μｍ以上の厚みのもの
と変わらなく場合があるが、図４に示すように、複層メ
ッキ構造の断面を観察すると、各層６，７のメッキ面は
独立しており、メッキ層界面でクラックは結びつかない
ので、連続したクラックは生じない。したがって、従来
例のような問題は生じない。また、残留応力が小さい複
層メッキを組み合わせることで総厚みを厚くすることが
できる。

【００５２】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、金属ロールの表面に施す硬質クロムメッキを複
層メッキ構造とし、各層のメッキ厚みを３０〜１００μ
ｍの範囲としたので、金属ロール周面に発生する硬質ク
ロムメッキのマイクロクラックの進行を遅くし、金属ロ
ールの清浄や交換のための製造ラインの停止頻度を下げ
ることが可能になり、生産性の向上を実現できるという
顕著な効果を奏するものである。また、硬質クロムメッ
キが複層メッキ構造となっているので、最外周の層を研
磨し、その後に最外周に現れたメッキ層を使用すること
ができる。すなわち、例えカレンダー処理時にシワ押し
傷が発生した場合でも、再メッキ処理するのではなく、
短時間で補修できる研磨での対応が可能となるので、補
修費の低減及び生産性が向上する。また、予備ロールの
確保も必要がなくなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係るカレンダー処理装置
の構成の要部を示す断面図である。

【図２】マイクロクラック幅が２μｍに達するまでの、
最外周メッキ厚みとカレンダー処理量との相関を示す図
である。

【図３】マイクロクラック幅が２μｍに達するまでの、
再研磨後の外周メッキ厚みとカレンダー処理量との相関
を示す図である。

【図４】複層メッキ構造の断面図である。

【図５】硬質クロムメッキのマイクロクラック観察図で
あり、（ａ）は表面図、（ｂ）は断面図である。

【図６】加熱金属ロールの、導入時点と１２ヶ月後の定
期ロール交換時点での磨耗状況の一例を示す図である。

【符号の説明】

１ａ〜１ｄ 加熱金属ロール ２ａ〜２ｃ 樹脂ロール ３ 磁気テープ ３ａ 磁気テープの磁性面

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数個の金属ロールと弾性ロールあるい
   は金属ロールと金属ロールとの間に磁気記録媒体を挿通
   することにより該磁気記録媒体磁気層の鏡面化を行うカ
   レンダー処理装置において、 前記金属ロールの表面に施す硬質クロムメッキを複層メ
   ッキ構造とし、各層のメッキ厚みを３０〜１００μｍの
   範囲としたことを特徴とするカレンダー処理装置。
2. 【請求項２】 非磁性層形成用塗布液と磁性層形成用塗
   布液とを、乾燥後の非磁性層の厚さ及び磁性層の厚さが
   所定の厚さになるように長尺状の支持体上に塗布し、前
   記両層がまだ湿潤状態にあるうちに配向処理を行った後
   乾燥して非磁性層及び磁性層を設けた磁気記録媒体を、
   表面に複層施された硬質クロムメッキの各層の厚みを３
   ０〜１００μｍの範囲とした金属ロールを含むカレンダ
   ー処理装置によりカレンダー処理することを特徴とする
   磁気記録媒体の製造方法。