JP2001083692A - Original plate for heat sensitive planographic printing plate - Google Patents

Original plate for heat sensitive planographic printing plate

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Publication number
JP2001083692A
JP2001083692A JP25450899A JP25450899A JP2001083692A JP 2001083692 A JP2001083692 A JP 2001083692A JP 25450899 A JP25450899 A JP 25450899A JP 25450899 A JP25450899 A JP 25450899A JP 2001083692 A JP2001083692 A JP 2001083692A
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JP
Japan
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layer
plate
printing plate
heat
ink
Prior art date
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Pending
Application number
JP25450899A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Kita
信行 喜多
Keiji Akiyama
慶侍 秋山
Hidekazu Ohashi
秀和 大橋
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Priority to EP00115024A priority patent/EP1072402B1/en
Priority to AT00115024T priority patent/ATE278550T1/en
Priority to US09/626,490 priority patent/US6397749B1/en
Publication of JP2001083692A publication Critical patent/JP2001083692A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an original plate for heat sensitive planographic printing plate which suppresses the flying of residue on the ablation of the heat sensitive layer in laser exposure without causing the deterioration of performance as a printing plate such as the lowering of sensitivity and hardly contaminates an exposure device and an optical system. SOLUTION: A three-dimensionally crosslinked hydrophilic layer whose heated part is easily removed with dampening water or ink in printing and a water-soluble overcoat layer are successively disposed on a substrate having an ink receiving surface or coated with an ink receiving layer to obtain the objective original plate for a heat sensitive planographic printing plate. A photothermal converting agent is contained in the crosslinked hydrophilic layer and/or the ink receiving layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要で耐刷性
に優れたオフセット印刷用のダイレクト感熱性平版印刷
版用原板に関する。より詳しくは、ディジタル信号に基
づいた走査露光による画像記録が可能であり、画像記録
したものは従来のような液体による現像工程を経ること
なしに、そのまま印刷機に装着し印刷することが可能な
平版印刷版用原板に関する。
The present invention relates to a direct heat-sensitive lithographic printing plate precursor for offset printing which does not require development and has excellent printing durability. More specifically, it is possible to record an image by scanning exposure based on a digital signal, and the recorded image can be directly attached to a printing machine and printed without going through a conventional liquid developing process. It relates to a lithographic printing plate precursor.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
クを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とからなる。このような平版印刷板として
は、従来から、親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層
を設けたPS版が広く用いられている。その製版方法と
して、通常は、リスフイルムなどの原画を通して露光を
行った後、非画像部を現像液によって溶解除去する方法
であり、この方法により所望の印刷版を得ている。
2. Description of the Related Art In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area for receiving ink during a printing process and a hydrophilic non-image area for receiving fountain solution. As such a lithographic printing plate, a PS plate in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support has been widely used. As a plate making method, usually, after exposing through an original such as a lith film, a non-image portion is dissolved and removed with a developing solution, and a desired printing plate is obtained by this method.

【0003】従来のPS版に於ける製版工程は、露光の
後、非画像部を溶解除去する操作が必要であり、このよ
うな付加的な湿式の処理を不要化又は簡易化すること
が、従来技術に対して改善が望まれてきた一つの課題で
ある。特に近年は、地球環境への配慮から湿式処理に伴
って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事
となっているので、この面での改善の要請は一層強くな
っている。
[0003] The plate making process in the conventional PS plate requires an operation of dissolving and removing a non-image portion after exposure, and it is necessary to eliminate or simplify such additional wet processing. This is one problem that has been desired to be improved over the conventional technology. In particular, in recent years, the disposal of waste liquid discharged from wet processing has become a major concern of the entire industry due to consideration for the global environment, and the demand for improvement in this aspect has been further increased.

【0004】この要望に応じた簡易な製版方法の一つと
して、印刷版用原板の非画像部の除去を通常の印刷過程
の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機
上で現像し、最終的な印刷版を得る方法が提案されてい
る。このような方法による平版印刷版の製版方式は機上
現像方式と呼ばれる。具体的方法としては、例えば、湿
し水やインク溶剤に可溶な画像記録層の使用、印刷機中
の圧胴やブランケット胴との接触による力学的除去を行
う方法等が挙げられる。しかしながら、従来の紫外線や
可視光を利用した画像記録方式の機上現像法は、露光後
も、画像記録層が定着されないため、例えば、印刷機に
装着するまでの間、原板を完全に遮光状態又は恒温条件
で保存する、といった手間のかかる方法をとる必要があ
った。
[0004] As one of the simple plate making methods responding to this demand, an image recording layer is used which enables the non-image portion of a printing plate to be removed in a normal printing process. And a method for obtaining a final printing plate has been proposed. The lithographic printing plate making method by such a method is called an on-press development method. Specific examples of the method include a method of using an image recording layer soluble in a fountain solution or an ink solvent, and a method of mechanically removing the image recording layer by contact with an impression cylinder or a blanket cylinder in a printing press. However, in the conventional on-press developing method of an image recording method using ultraviolet light or visible light, since the image recording layer is not fixed even after exposure, for example, the original plate is completely shielded from light until it is mounted on a printing press. Alternatively, it was necessary to take a time-consuming method such as preservation under constant temperature conditions.

【0005】一方、近年のこの分野のもう一つの動向と
しては、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処
理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く普及して
きており、このような、ディジタル化技術に対応した、
新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきて
いる。これに伴い、レーザ光のような高収斂性の輻射線
にディジタル化された画像情報を担持してこの光で原板
を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接印
刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注
目されている。それに伴ってこの目的に適応した印刷版
用原板を得ることが重要な技術課題となっている。した
がって、製版作業の簡素化、乾式化、無処理化は、上記
した環境面と、ディジタル化への適合化の両面から、従
来にも増して、強く望まれるようになっている。
On the other hand, another trend in this field in recent years is that digitization technology for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer has become widespread. In response to technology,
Various new image output methods have come into practical use. Along with this, a computer that carries digitized image information in high-convergent radiation such as laser light, scans and exposes the original plate with this light, and directly manufactures a printing plate without passing through a lith film. Attention has been focused on to-plate technology. Accordingly, obtaining an original plate for a printing plate adapted to this purpose has become an important technical problem. Therefore, simplification, drying, and non-processing of plate making operations are more and more desired than ever in view of both the above-mentioned environmental aspects and adaptation to digitization.

【0006】デジタル化技術に組み込みやすい走査露光
による印刷版の製造方法として、最近、半導体レーザ、
YAGレーザ等の固体レーザで高出力のものが安価に入
手できるようになってきたことから、特に、これらのレ
ーザを画像記録手段として用いる製版方法が有望視され
るようになっている。従来方式の製版方法では、感光性
原板に低〜中照度の像様露光を与えて光化学反応による
原板面の像様の物性変化によって画像記録を行っている
が、高出力レーザを用いた高パワー密度の露光を用いる
方法では、露光領域に瞬間的な露光時間の間に大量の光
エネルギーを集中照射して、光エネルギーを効率的に熱
エネルギーに変換し、その熱により化学変化、相変化、
形態や構造の変化などの熱変化を起こさせ、その変化を
画像記録に利用する。つまり、画像情報はレーザー光な
どの光エネルギーによって入力されるが、画像記録は熱
エネルギーによる反応によって記録される。通常、この
ような高パワー密度露光による発熱を利用した記録方式
はヒートモード記録と呼び、光エネルギーを熱エネルギ
ーに変えることを光熱変換と呼んでいる。
Recently, as a method of manufacturing a printing plate by scanning exposure which is easy to incorporate into digital technology, semiconductor lasers,
Since high-power solid-state lasers such as YAG lasers have become available at low cost, plate-making methods using these lasers as image recording means have become particularly promising. In the conventional plate-making method, image recording is performed by applying imagewise exposure of the photosensitive original plate at low to medium illuminance and changing the image-like physical properties of the original plate surface by a photochemical reaction. In the method using density exposure, a large amount of light energy is intensively irradiated onto an exposure area during an instantaneous exposure time, the light energy is efficiently converted into heat energy, and the heat causes chemical change, phase change,
A thermal change such as a change in form or structure is caused, and the change is used for image recording. That is, image information is input by light energy such as laser light, while image recording is recorded by a reaction by heat energy. Usually, a recording method utilizing heat generated by such high power density exposure is called heat mode recording, and converting light energy into heat energy is called photothermal conversion.

【0007】ヒートモード記録手段を用いる製版方法の
大きな長所は、室内照明のような通常の照度レベルの光
では感光せず、また高照度露光によって記録された画像
は定着が必須ではないことにある。つまり、画像記録に
ヒートモード感材を利用すると、露光前には、室内光に
対して安全であり、露光後にも画像の定着は必須ではな
い。従って、例えば、ヒートモード露光により不溶化若
しくは可溶化する画像記録層を用い、露光した画像記録
層を像様に除去して印刷版とする製版工程を機上現像方
式で行えば、現像(非画像部の除去)は、画像露光後あ
る時間、たとえ室内の環境光に暴露されても、画像が影
響を受けないような印刷システムが可能となる。従って
ヒートモード記録を利用すれば、機上現像方式に望まし
い平版印刷版用原板を得ることも可能となると期待され
る。
The major advantages of the plate making method using the heat mode recording means are that the plate making method is not sensitive to light having a normal illuminance level such as room illumination, and that an image recorded by high illuminance exposure does not require fixing. . In other words, if a heat mode photosensitive material is used for image recording, it is safe against room light before exposure, and it is not essential to fix an image after exposure. Therefore, for example, if an image recording layer that is insolubilized or solubilized by heat mode exposure is used, and a plate-making process of removing the exposed image recording layer imagewise to form a printing plate is performed by an on-press development method, development (non-image Part removal) enables a printing system in which the image is unaffected for some time after image exposure, even if exposed to room ambient light. Therefore, if heat mode recording is used, it is expected that a lithographic printing plate precursor that is desirable for an on-press development system can be obtained.

【0008】ヒートモード記録に基づく平版印刷版の好
ましい製造法の一つとして、親水性の基板上に疎水性の
画像記録層を設け、画像状にヒートモード露光し、疎水
性層の溶解性・分散性を変化させ、必要に応じ、湿式現
像により非画像部を除去する方法が提案されている。こ
のような原板の例として、例えば、特公昭46−279
19号には、親水性支持体上に、熱により溶解性が向上
するいわゆるポジ作用を示す記録層、具体的には糖類や
メラミンホルムアルデヒド樹脂等の特定の組成を有する
記録層を設けた原板をヒートモード記録することによっ
て、印刷版を得る方法が開示されている。
[0008] As one of the preferred methods for producing a lithographic printing plate based on heat mode recording, a hydrophobic image recording layer is provided on a hydrophilic substrate, and is subjected to heat mode exposure in the form of an image. A method has been proposed in which the dispersibility is changed and, if necessary, the non-image areas are removed by wet development. As an example of such an original plate, for example, Japanese Patent Publication No. 46-279
No. 19 discloses an original plate provided with a recording layer having a so-called positive action in which solubility is improved by heat, specifically a recording layer having a specific composition such as a saccharide or a melamine formaldehyde resin, on a hydrophilic support. A method for obtaining a printing plate by performing heat mode recording is disclosed.

【0009】また、WO98/40212号公報には、
遷移金属酸化物コロイドからなる親水層を、光熱変換剤
を含有するインキ受容性層を塗布した基板上に設け、現
像することなしに製版することが可能な平版印刷原板が
開示されている。これは露光部において光熱変換剤によ
り発生した熱により、遷移金属酸化物コロイドからなる
親水層がアブレーション(飛散)して除去されるもので
ある。その他特開昭55−105560号公報やWO9
4/18005号公報には、前記と同様にアブレーショ
ンする親水層が、親油性の光熱変換層が塗布された基板
上に設けられた平版印刷原板が開示されている。
[0009] WO 98/40212 discloses that
There is disclosed a lithographic printing plate precursor in which a hydrophilic layer composed of a transition metal oxide colloid is provided on a substrate coated with an ink-receiving layer containing a photothermal conversion agent, and plate making can be performed without development. This is that the hydrophilic layer made of the transition metal oxide colloid is ablated (scattered) and removed by the heat generated by the photothermal conversion agent in the exposed portion. In addition, JP-A-55-105560 and WO9
No. 4/18005 discloses a lithographic printing plate in which a hydrophilic layer to be ablated in the same manner as described above is provided on a substrate coated with a lipophilic light-to-heat conversion layer.

【0010】更に、WO99/19143号公報やWO
99/19144公報には上記のアブレーションする感
熱性平版印刷用原板の高感度化を目的として、上層のコ
ロイドからなる親水層に光熱変換剤が添加された平版印
刷原板が開示されている。
Further, WO99 / 19143 and WO99 / 19143
JP-A-99 / 19144 discloses a lithographic printing plate precursor in which a photothermal conversion agent is added to a hydrophilic layer composed of an upper colloid for the purpose of increasing the sensitivity of the heat-sensitive lithographic printing plate to be ablated.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のアブレ
ーションを利用したこれらの感熱性平版印刷用原板は、
アブレーションカスの飛散によってレーザー露光装置や
光学系を汚染して解像力を低下させたり、装置外にカス
を飛散させる問題があった。
However, these heat-sensitive lithographic printing plates utilizing conventional ablation are:
The laser exposure apparatus and the optical system are contaminated by scattering of the ablation debris, thereby reducing the resolving power and scattering the debris outside the apparatus.

【0012】EP0816070には、アブレーション
の抑制に関する記載がある。すなわち、親水性支持体上
に、疎水性熱可塑性ポリマー粒子と光熱変換剤を親水性
バインダー中に分散した画像形成層、さらにその上に親
水性ポリマーからなる水溶性又は水膨潤性保護層を設け
た感熱記録要素において、この保護層がアブレーション
を抑制するとの記載である。しかし、この特許は、レー
ザー照射による発熱で疎水性熱可塑性ポリマー粒子を熱
溶融させて画像形成層を水不溶性とし、水又は水溶液に
よる現像でレーザ非照射部を溶解除去し照射部を画像部
とする方式であり、照射部におけるポリマー粒子の熱溶
融と平行して起こる副次的なアブレーションが画像部を
損傷し印刷品質悪化を起こすことから、保護層でアブレ
ーションを抑制するものである。この特許とは異なり、
レーザー照射でアブレーションを起こさせ照射部分を除
去する「アブレーション法」では、カスの発生は不可避
で、カス飛散対策は発生したカスを露光装置にアブレー
ションカス捕捉装置を設けることで行われてきている。
ただし、捕捉装置を設けても汚染を完全に取り除くこと
は困難であった。
[0012] EP0816070 describes ablation suppression. That is, on a hydrophilic support, an image forming layer in which hydrophobic thermoplastic polymer particles and a photothermal conversion agent are dispersed in a hydrophilic binder, and a water-soluble or water-swellable protective layer made of a hydrophilic polymer are further provided thereon. It is described that in a heat-sensitive recording element, the protective layer suppresses ablation. However, this patent discloses that the image forming layer is made water-insoluble by heat-melting the hydrophobic thermoplastic polymer particles by the heat generated by laser irradiation. In this method, secondary ablation that occurs in parallel with the thermal melting of the polymer particles in the irradiation section damages the image area and deteriorates the print quality, so that the protection layer suppresses ablation. Unlike this patent,
In the “ablation method” in which ablation is caused by laser irradiation to remove an irradiated portion, generation of scum is inevitable, and measures against scattering of scum have been performed by providing an ablation scum trapping device in the exposure device for the generated scum.
However, it was difficult to completely remove the contamination even if a capturing device was provided.

【0013】ヒートモードの画像記録を利用する製版・
印刷方法は、版下からフィルムを介することなく直接に
刷版を作ることができ、したがって機上で製版すること
も可能であり、現像操作を省くこともできるなどの利点
を持ちながら、上記のような欠点を多かれ少なかれ有し
ている。
Plate making using heat mode image recording
The printing method has the advantages that the printing plate can be made directly from under the plate without the use of a film, so that the plate can be made on-press, and the developing operation can be omitted. It has more or less such disadvantages.

【0014】本発明の目的は、従来のレーザー露光を用
いるヒートモードの製版方法の欠点を解決することであ
る。すなわち、短時間での走査露光が可能で、その上現
像処理を行うことなく直接に印刷機に装着して印刷する
ことが可能であり、耐刷性にすぐれ、印刷での汚れもな
い感熱性平版印刷版用原板を提供することにある。本発
明の他の目的は、アブレーションを画像形成の手段とし
ながら、感度低下などの印刷版としての性能を劣化させ
ることなく、レーザー露光時の感熱層のアブレーション
カスの飛散を抑え、露光装置や光学系の汚染が少ない感
熱性平版印刷版用原板を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the drawbacks of the conventional heat mode plate making method using laser exposure. In other words, it is possible to perform scanning exposure in a short time, and furthermore, it is possible to directly mount and print on a printing press without performing a developing process, and it is excellent in printing durability and heat-sensitive without contamination in printing. To provide a lithographic printing plate precursor. Another object of the present invention is to suppress scattering of ablation scum of a heat-sensitive layer during laser exposure without deteriorating performance as a printing plate such as a decrease in sensitivity while using ablation as a means of image formation, and to provide an exposure device or an optical device. It is an object of the present invention to provide a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with less system contamination.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
に対して、加熱部のみが印刷時湿し水あるいはインキに
よって容易に除去される三次元架橋した親水層の上に水
溶性のオーバーコートを設けることで、感度、耐刷力、
印刷適性さらに機上現像処理性を損うことなしに、親水
層のアブレーションによるカスの飛散を抑制できること
発見し、本発明を完成するに至った。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor has solved the above-mentioned problem, in which only the heating section is provided with a water-soluble layer on a three-dimensionally crosslinked hydrophilic layer which is easily removed by fountain solution or ink during printing. By providing an overcoat, sensitivity, printing durability,
The present inventors have discovered that scattering of scum due to ablation of the hydrophilic layer can be suppressed without impairing printability and on-press development processing properties, and completed the present invention.

【0016】1.インキ受容性表面を有するか又はイン
キ受容層が塗布されている基板上に、加熱部のみが印刷
時湿し水あるいはインキによって容易に除去される三次
元架橋した親水層及び水溶性オーバーコート層を順次設
けた感熱性平版印刷版用原板であって、光熱変換剤を架
橋した親水層及び/又はインキ受容層に含有する感熱性
平版印刷版用原板。
1. On a substrate having an ink receptive surface or an ink receptive layer coated, a three-dimensionally cross-linked hydrophilic layer and a water-soluble overcoat layer in which only a heating portion is easily removed by a fountain solution or ink during printing are provided. A heat-sensitive lithographic printing plate precursor which is sequentially provided, wherein the heat-sensitive lithographic printing plate precursor contains a photothermal conversion agent in a crosslinked hydrophilic layer and / or ink receiving layer.

【0017】2.架橋した親水層がベリリウム、マグネ
シウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニ
ウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモ
ン及び遷移金属の酸化物又は水酸化物から選択される少
なくとも1つの化合物のコロイドを含有することを特徴
とする前記1記載の感熱性平版印刷版用原板。
2. The crosslinked hydrophilic layer contains a colloid of at least one compound selected from oxides or hydroxides of beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony and transition metals. 2. The heat-sensitive lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein

【0018】3.架橋した親水層がベリリウム、マグネ
シウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニ
ウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモ
ン及び遷移金属の酸化物又は水酸化物から選択される少
なくとも1つの化合物のコロイドと親水性樹脂を含有す
ることを特徴とする前記1記載の感熱性平版印刷版用原
板。
3. The crosslinked hydrophilic layer is hydrophilic with a colloid of at least one compound selected from oxides or hydroxides of beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony and transition metals. 2. The heat-sensitive lithographic printing plate precursor as described in 1 above, further comprising a hydrophilic resin.

【0019】4.親水性樹脂がヒドロキシアルキルアク
リレート又はヒドロキシアルキルメタクリレートの単独
又は共重合体である前記3記載の感熱性平版印刷版用原
板。
4. 4. The heat-sensitive lithographic printing plate precursor as described in 3 above, wherein the hydrophilic resin is a homo- or copolymer of hydroxyalkyl acrylate or hydroxyalkyl methacrylate.

【0020】本発明では、レーザー露光によって、イン
キ受容層及び/又は架橋した親水層中の光熱変換剤の発
熱によって、架橋した親水層が、その上層に存在するオ
ーバーコート層によってアブレーション(飛散)まで起
らないが、その後の湿し水又はインキによって容易に除
去される状態になり、更に下層のインキ受容層から剥離
することによって画像部が形成させる。この機構の詳細
については定かではないが、本発明では、上記の如き現象
を、親水層が「アブレーション的」に除去又は剥離され
ると称する。実際には親水層は上層のオーバーコート層
によってアブレーション(飛散)は抑えられ、見た目に
は、下層のインキ受容層との接着の低下によって印刷時
画像形成されるように観察される。
In the present invention, the crosslinked hydrophilic layer is ablated (scattered) by the overcoat layer present thereon due to the heat generated by the photothermal conversion agent in the ink receiving layer and / or the crosslinked hydrophilic layer by laser exposure. Although it does not occur, it is easily removed by the subsequent fountain solution or ink, and the image portion is formed by peeling off from the lower ink receiving layer. Although the details of this mechanism are not clear, in the present invention, the phenomenon described above is referred to as "ablation-like" removal or peeling of the hydrophilic layer. In practice, the hydrophilic layer is suppressed from ablation (scattering) by the upper overcoat layer, and is visually observed to form an image during printing due to a decrease in adhesion to the lower ink receiving layer.

【0021】本発明では、アブレーション的にインキ受
容層から剥離された親水層は、印刷時、湿し水あるいは
インキによって除去される。当然その前に、上層のオー
バーコート層は湿し水によって除去されるが、この除去
時にアブレーション的に剥離した状態にある親水層が除
去されることによって下層のインキ受容層が現れ、画像
部になる。未露光部は親水性を保持したまま水を受付け
インキを反撥する。この様にして印刷機上で現像される
と同時に印刷が可能になる。従来の平版印刷版のような
現像液による湿式処理を必要としない。すなわち露光
後、無処理のまま印刷機に架けられる平版印刷版が作成
される。
In the present invention, the hydrophilic layer that has been ablated and removed from the ink receiving layer is removed by a fountain solution or ink during printing. Before that, of course, the upper overcoat layer is removed by a dampening solution. At this time, the lower ink receiving layer appears due to the removal of the hydrophilic layer that has been ablated and removed, and the image portion is removed. Become. The unexposed portion receives water while maintaining hydrophilicity and repels the ink. In this manner, printing can be performed simultaneously with development on the printing press. There is no need for wet processing with a developing solution as in conventional lithographic printing plates. That is, after exposure, a lithographic printing plate to be hung on a printing machine without processing is created.

【0022】この様に感度、耐刷力、印刷適性に悪影響
を及ぼすことなく、親水層のアブレーションによる飛散
を抑えることが可能である。アブレーションによる飛散
を抑えることによって、レーザー露光装置の光学系の汚
染や装置外へのアブレーションカスの飛散がなくなり、
装置に特別なアブレーションカスを集塵する装置を取付
ける必要がなくなる。
As described above, scattering due to ablation of the hydrophilic layer can be suppressed without adversely affecting sensitivity, printing durability, and printability. By suppressing scattering due to ablation, contamination of the optical system of the laser exposure device and scattering of ablation spill outside the device are eliminated,
It is not necessary to attach a device for collecting a special ablation dust to the device.

【0023】また、印刷版は、露光後印刷機に取付ける
までの間、空気中に長時間放置されたり、インキの付着
した手で取り扱われ、版上に親油性物質が付着すること
がしばしば起こる。従来の現像処理を行うシステムで
は、処理の最後のガム引き工程で版面を水溶性物質で覆
って保護することにより、親油性物質の付着汚染対策を
している。一方、無処理の印刷板では、このような汚染
対策がないため、親水性表面層が直接汚染され、印刷汚
れが発生しやすい問題がある。しかし、本発明のごとく
最上層に水溶性のオーバーコート層を設けることによっ
て非画像部となる親水層への親油性物質の付着が防止さ
れ、印刷時の汚れを防止する。この様に、オーバーコー
ト層を設けることで無処理ダイレクト刷版が抱える基本
的な問題も同時に解決される。
Further, the printing plate is often left in the air for a long period of time or is handled by hand with ink on it until it is mounted on a printing press after exposure, and lipophilic substances often adhere to the plate. . In a conventional development processing system, the plate surface is covered and protected with a water-soluble substance in the last gumming step of the processing to prevent the lipophilic substance from adhering and contaminating. On the other hand, in the case of an untreated printing plate, since there is no such a countermeasure against contamination, the hydrophilic surface layer is directly contaminated, and there is a problem that printing stain is easily generated. However, by providing a water-soluble overcoat layer on the uppermost layer as in the present invention, adhesion of the lipophilic substance to the hydrophilic layer serving as a non-image portion is prevented, and stain during printing is prevented. As described above, the provision of the overcoat layer solves the basic problem of the unprocessed direct printing plate at the same time.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail.

【0025】本発明に使用される水溶性オーバーコート
層は印刷時容易に除去できるものであり、水溶性の有機
又は無機の高分子化合物から選ばれた樹脂を含有する。
ここで用いる水溶性の有機又は無機の高分子化合物とし
ては、塗布乾燥によってできた被膜がフィルム形成能を
有するもので、具体的には、ポリ酢酸ビニル(但し加水
分解率65%以上のもの)、ポリアクリル酸及びそのア
ルカリ金属塩あるいはアミン塩、ポリアクリル酸共重合
体及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリメタクリ
ル酸及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリメタク
リル酸共重合体及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩、
ポリアクリルアミド及びその共重合体、ポリヒドロキシ
エチルアクリレート、ポリビニルピロリドン及びその共
重合体、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルメチル
エーテル/無水マレイン酸共重合体、ポリ−2−アクリ
ルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸及びそ
のアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリ−2−アクリルア
ミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸共重合体及
びそのアルカリ金属塩あるいはアミン塩、アラビアガ
ム、繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルロー
ズ、カルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ
等)及びその変性体、ホワイトデキストリン、プルラ
ン、酵素分解エーテル化デキストリン等を挙げることが
できる。また、目的に応じて、これらの樹脂を二種以上
混合して用いることもできる。
The water-soluble overcoat layer used in the present invention can be easily removed at the time of printing and contains a resin selected from water-soluble organic or inorganic polymer compounds.
As the water-soluble organic or inorganic polymer compound used here, a film formed by coating and drying has a film-forming ability, specifically, polyvinyl acetate (having a hydrolysis rate of 65% or more). , Polyacrylic acid and its alkali metal salt or amine salt, polyacrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid and its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid copolymer and its alkali metal Salt or amine salt,
Polyacrylamide and its copolymer, polyhydroxyethyl acrylate, polyvinylpyrrolidone and its copolymer, polyvinyl methyl ether, polyvinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, poly-2-acrylamide-2-methyl-1-propanesulfone Acid and its alkali metal salt or amine salt, poly-2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, gum arabic, cellulose derivative (for example, carboxymethyl cellulose, (Carboxyethyl cellulose, methyl cellulose, etc.) and modified products thereof, white dextrin, pullulan, enzymatically decomposed etherified dextrin, and the like. Further, according to the purpose, two or more of these resins can be used in combination.

【0026】その他、オーバーコート層には塗布の均一
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には主に非イオ
ン系界面活性剤を添加することができる。この様な非イ
オン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタント
リオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非イオ
ン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占める
割合は、0.05〜5重量%が好ましく、より好ましく
は1〜3重量%である。
In addition, a nonionic surfactant can be mainly added to the overcoat layer in the case of aqueous solution application for the purpose of ensuring uniformity of application. Specific examples of such a nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene dodecyl ether, and the like. . The proportion of the nonionic surfactant in the total solid content of the overcoat layer is preferably 0.05 to 5% by weight, and more preferably 1 to 3% by weight.

【0027】本発明に用いるオーバーコート層の厚みは
0.05μmから4.0μmが好ましく、更に好ましい
範囲は0.1μmから1.0μmである。厚すぎると、
印刷時オーバーコート層を除去するのに時間がかかり、
また多量に溶けだした水溶性樹脂が湿し水に影響を与
え、印刷時ローラストリップが発生したり、インキが画
像部に着肉しない等の悪影響が出てくる。また薄すぎる
と皮膜性が損なわれる場合がある。
The thickness of the overcoat layer used in the present invention is preferably from 0.05 μm to 4.0 μm, and more preferably from 0.1 μm to 1.0 μm. If it is too thick,
It takes time to remove the overcoat layer during printing,
In addition, a large amount of dissolved water-soluble resin affects the dampening solution, causing adverse effects such as the occurrence of roller strips during printing and the insufficiency of ink on the image area. If it is too thin, the film properties may be impaired.

【0028】本発明に使用される3次元架橋した親水層
は、水及び/又はインキを使用する平版印刷で、湿し水
に溶けない層であり、下記のコロイドからなることが望
ましい。ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪
素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウ
ム、鉄、バナジウム、アンチモン又は遷移金属の酸化物
又は水酸化物のゾルゲル変換系からなるコロイドであ
る。場合によってはこれらの元素の複合体からなるコロ
イドであっても良い。これらのコロイドは、上記の元素
が酸素原子を介して網目状構造を形成すると同時に未結
合の水酸基やアルコキシキ基を有していて、これらが混
在した構造となっている。活性なアルコキシ基や水酸基
が多い初期加水分解縮合段階から、反応が進行するにつ
れ粒子径は大きくになり不活性になる。コロイドの粒子
は一般的には2nmから500nmで、シリカの場合5
nmから100nmの球形のものが本発明では好適であ
る。アルミニウムのコロイドのように100×10nm
のような羽毛状のものも有効である。更には、10nm
から50nmの球状粒子が50nmから400nmの長
さに連なったパールネック状のコロイドも用いることが
できる。
The three-dimensionally crosslinked hydrophilic layer used in the present invention is a layer which is insoluble in fountain solution by lithographic printing using water and / or ink, and preferably comprises the following colloids. Beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony or a transition metal oxide or hydroxide is a colloid comprising a sol-gel conversion system. In some cases, a colloid composed of a complex of these elements may be used. These colloids have a structure in which the above elements form a network structure via an oxygen atom and have an unbonded hydroxyl group or alkoxy group at the same time, and these are mixed. From the initial hydrolysis-condensation stage, which is rich in active alkoxy groups and hydroxyl groups, the particle size increases and becomes inactive as the reaction proceeds. Colloidal particles are generally between 2 nm and 500 nm, 5% for silica.
Spherical ones of nm to 100 nm are preferred in the present invention. 100 × 10nm like aluminum colloid
Such a feather-like material is also effective. Furthermore, 10 nm
A pearl neck-shaped colloid in which spherical particles having a length of 50 to 400 nm are connected in a length of 50 to 400 nm can also be used.

【0029】コロイドはそのもの単独で用いてもよく、
更には親水性の樹脂と混合して用いることも可能であ
る。また、架橋を促進させるために、コロイドの架橋剤
を添加しても良い。
The colloid may be used alone,
Furthermore, it is also possible to mix and use with a hydrophilic resin. Further, a colloidal crosslinking agent may be added to promote crosslinking.

【0030】通常、コロイドは安定剤によって安定化さ
れている場合が多い。カチオンに荷電しているコロイド
ではアニオン基を有する化合物、逆にアニオンに荷電し
ているコロイドではカチオン基を有する化合物が安定剤
として添加されている。たとえば、珪素のコロイドでは
アニオンに荷電しているので、安定剤としてアミン系の
化合物が添加され、アルミニウムのコロイドではカチオ
ンに荷電しているので、塩酸や酢酸等の強酸が添加され
ている。この様なコロイドを基板上に塗布すると常温で
透明な皮膜を形成するものが多いが、コロイドの溶媒が
蒸発しただけではゲル化は不完全で、安定剤を除去でき
る温度に加熱することによって、強固な3次架橋を行
い、本発明に好ましい親水層となる。
Usually, the colloid is often stabilized by a stabilizer. In a colloid charged with a cation, a compound having an anionic group is added as a stabilizer, and in a colloid charged with an anion, a compound having a cationic group is added as a stabilizer. For example, a silicon colloid is charged with an anion, so an amine compound is added as a stabilizer, and an aluminum colloid is charged with a cation, so a strong acid such as hydrochloric acid or acetic acid is added. When such a colloid is applied on a substrate, it often forms a transparent film at room temperature, but gelation is incomplete only by evaporation of the colloid solvent, and by heating to a temperature at which the stabilizer can be removed, By performing strong tertiary crosslinking, a hydrophilic layer preferable in the present invention is obtained.

【0031】上記のような安定化剤を用いずに、出発物
質(例えば、ジ、トリ及び/又はテトラアルコキシシラ
ン)から直接加水分解縮合反応を行わせ、適当なゾル状
態を作りだしそのまま基板上に塗布し、乾燥させ反応を
完了させても良い。この場合、安定化剤を含む場合より
も低温で三次元架橋させることが出来る。
Without using the above-mentioned stabilizer, a hydrolysis and condensation reaction is directly carried out from a starting material (for example, di-, tri- and / or tetraalkoxysilane) to form an appropriate sol state and directly onto a substrate. The reaction may be completed by coating and drying. In this case, three-dimensional crosslinking can be performed at a lower temperature than when a stabilizer is included.

【0032】この他、適当な加水分解縮合反応物を有機
溶媒に分散安定化させたコロイドも本発明には好適であ
る。溶媒が蒸発するだけで、三次元架橋した皮膜が得ら
れる。これらの溶媒にはメタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルやメ
チルエチルケトンのような低沸点の溶媒を選択すると、
常温での乾燥が可能となる。特に本発明では、メタノー
ルやエタノール溶媒のコロイドが低温での硬化が容易で
あり有用である。
In addition, a colloid prepared by dispersing and stabilizing an appropriate hydrolysis-condensation reaction product in an organic solvent is also suitable for the present invention. Only by evaporation of the solvent, a three-dimensionally crosslinked film is obtained. If these solvents are low boiling solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether and methyl ethyl ketone,
Drying at normal temperature becomes possible. In particular, in the present invention, a colloid of a methanol or ethanol solvent is easily cured at a low temperature and is useful.

【0033】上記のコロイドと共に用いる親水性樹脂と
しては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキ
シエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチ
ル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を
有するものが好ましい。具体的な親水性樹脂として、ア
ラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボ
キシメチルセルロース及びそれらのNa塩、セルロースア
セテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイ
ン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー
類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル
酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレート
のホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアク
リレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプ
ロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、
ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコ
ポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリ
マー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートの
ホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール
類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアル
コール類、ならびに加水分解度が少なくとも60重量
%、好ましくは少なくとも80重量%の加水分解ポリビ
ニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホ
モポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポ
リマー及びポリマー、N−メチロールアクリルアミドの
ホモポリマー及びコポリマー等を挙げることができる。
As the hydrophilic resin used together with the above colloid, those having a hydrophilic group such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl and carboxymethyl are preferred. Specific hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and their Na salts, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids And salts thereof, polymethacrylic acids and salts thereof, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate,
Hydroxypropyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl acrylate homopolymers and copolymers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and a degree of hydrolysis of at least 60% by weight; Preferably at least 80% by weight of hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, homopolymers and copolymers of acrylamide, homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylol acrylamide and the like. it can.

【0034】特に好ましい親水性樹脂は水溶性でない水
酸基含有ポリマーで、具体的には、ヒドロキシエチルメ
タクリレートのホモポリマー及びコポリマーとヒドロキ
シエチルアクリレートのコポリマーである。
Particularly preferred hydrophilic resins are non-water soluble hydroxyl group-containing polymers, specifically, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers and hydroxyethyl acrylate copolymers.

【0035】これらの親水性樹脂はコロイドと共に用い
られるが、その添加割合は親水性樹脂が水溶性の場合、
親水層の全固形分の40重量%以下が好ましく、水溶性
でない親水性樹脂の場合は全固形分の20重量%以下が
好ましい。
These hydrophilic resins are used together with a colloid, and the proportion of the hydrophilic resin is determined when the hydrophilic resin is water-soluble.
The total solid content of the hydrophilic layer is preferably 40% by weight or less, and in the case of a non-water-soluble hydrophilic resin, the total solid content is preferably 20% by weight or less.

【0036】これらの親水性樹脂はそのまま用いること
もできるが、印刷時の耐刷力を増加させる目的で、コロ
イド以外の親水性樹脂の架橋剤を添加してもよい。この
様な親水性樹脂の架橋剤としては、ホルムアルデヒド、
グリオキザール、ポリイソシアネート及びテトラアルコ
キシシランの初期加水分解・縮合物、ジメチロール尿素
やヘキサメチロールメラミンを挙げることができる。
These hydrophilic resins can be used as they are, but a crosslinking agent of a hydrophilic resin other than colloid may be added for the purpose of increasing the printing durability during printing. Formaldehyde, crosslinking agent for such a hydrophilic resin,
Examples include initial hydrolysis and condensate of glioxal, polyisocyanate and tetraalkoxysilane, dimethylol urea and hexamethylol melamine.

【0037】本発明の親水層には上記の酸化物又は水酸
化物のコロイドと親水性樹脂以外に、コロイドの架橋を
促進する架橋剤を添加してもよい。その様な架橋剤とし
てはテトラアルコキシシランの初期加水分解縮合物、ト
リアルコキシシリルプロピル−N,N,N−トリアルキ
ルアンモニウムハライド又はアミノプロピルトリアルコ
キシシランが好ましい。その添加割合は親水層の全固形
分の5重量%以下であることが好ましい。
The hydrophilic layer of the present invention may contain, in addition to the above-mentioned oxide or hydroxide colloid and the hydrophilic resin, a crosslinking agent which promotes the crosslinking of the colloid. As such a crosslinking agent, an initial hydrolysis condensate of tetraalkoxysilane, trialkoxysilylpropyl-N, N, N-trialkylammonium halide or aminopropyltrialkoxysilane is preferable. It is preferable that the addition ratio is 5% by weight or less of the total solid content of the hydrophilic layer.

【0038】更に本発明の親水層には、感熱感度を高め
るために光熱変換剤を添加してもよい。光熱変換剤とし
ては700nm以上の光を吸収する物質であればよく、
種々の顔料や染料を用いる事ができる。顔料としては、
市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便
覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977
年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986
年刊)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年
刊)に記載されている顔料が利用できる。
Further, a light-to-heat converting agent may be added to the hydrophilic layer of the present invention in order to increase the heat sensitivity. The photothermal conversion agent may be any substance that absorbs light of 700 nm or more,
Various pigments and dyes can be used. As a pigment,
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977)
Annual Publication), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986)
Pigments described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984).

【0039】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。
Examples of the type of pigment include black pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, and polymer-bound pigment. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like.

【0040】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シ
リカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポ
キシ化合物、イソシアネート化合物等)を顔料表面に結
合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、
「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技
術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用
技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されてい
る。これらの顔料中、赤外光、もしくは近赤外光を吸収
するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光するレーザ
での利用に適する点で特に好ましい。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The method of surface treatment is a method of surface coating a hydrophilic resin or lipophilic resin,
A method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (for example, silica sol, alumina sol, a silane coupling agent, an epoxy compound, an isocyanate compound, and the like) to the surface of the pigment are considered. The above surface treatment method,
It is described in "Properties and Applications of Metallic Soaps" (Koshobo), "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986). Among these pigments, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use with lasers that emit infrared light or near-infrared light.

【0041】そのような赤外光又は近赤外光を吸収する
顔料としてはカーボンブラック、親水性樹脂でコートさ
れたカーボンブラックやシリカゾルで変性されたカーボ
ンブラックが好適に用いられる。これらの中でも特に水
溶性の樹脂と分散しやすく、かつ親水性を損わないもの
として、親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされた
カーボンブラックが有用である。
As such a pigment absorbing infrared light or near infrared light, carbon black, carbon black coated with a hydrophilic resin, and carbon black modified with silica sol are preferably used. Among them, carbon black whose surface is coated with a hydrophilic resin or silica sol is useful as a material which is easily dispersed in a water-soluble resin and does not impair hydrophilicity.

【0042】顔料の粒径は0.01μm〜1μmの範囲
にあることが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範
囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 1 μm, and more preferably in the range of 0.01 μm to 0.5 μm. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. As the disperser, an ultrasonic disperser,
Sand mills, attritors, pearl mills, super mills, ball mills, impellers, dispersers, KD mills, colloid mills, dynatrons, three-roll mills, pressure kneaders and the like can be mentioned. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0043】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。これらの染料中、赤外
光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外光もしく
は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に
好ましい。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, "Senryo Binran" edited by Organic Synthetic Chemistry Association, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. Among these dyes, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.

【0044】赤外光又は近赤外光を吸収する染料として
は例えば特開昭58−125246号、特開昭59−8
4356号、特開昭60−78787号等に記載されて
いるシアニン染料、特開昭58−173696号、特開
昭58−181690号、特開昭58−194595号
等に記載されているメチン染料、特開昭58−1127
93号、特開昭58−224793号、特開昭59−4
8187号、特開昭59−73996号、特開昭60−
52940号、特開昭60−63744号等に記載され
ているナフトキノン染料、特開昭58−112792号
等に記載されているスクワリリウム染料、英国特許43
4,875号記載のシアニン染料や米国特許第4,75
6,993号明細書中に式(I)、(II)として記載さ
れている染料を挙げることができる。
Dyes which absorb infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-8.
4356, a cyanine dye described in JP-A-60-78787, a methine dye described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc. JP-A-58-1127
No. 93, JP-A-58-224793, and JP-A-59-4
No. 8187, JP-A-59-73996, JP-A-60-
No. 52940, JP-A-60-63744 and the like; naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792 and the like; British Patent 43
And cyanine dyes described in U.S. Pat.
The dyes described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 6,993 can be exemplified.

【0045】[0045]

【化1】 Embedded image

【0046】[式中、R1 、R2 、R3、R4、R5及び
6は置換又は未置換のアルキル基;Z1及びZ2は置換
もしくは未置換のベンゼン環又はナフタレン環を形成す
る原子団;Lは置換又は未置換のメチン基で、該置換基
は、炭素数8以下のアルキル基、ハロゲン原子又はアミ
ノ基であるか、該メチン基がその2つのメチン炭素上の
置換基が相互に結合して形成された置換基を有していて
も良いシクロヘキセン環又はシクロペンテン環を含むも
のであってもよく、該置換基は炭素数6以下のアルキル
基又はハロゲン原子;Xはアニオン基;nは1又は2;
そしてR1 、R2、R3、R4、R5、R6、Z1及びZ2
少なくとも一つは酸性基又は酸性基のアルカリ金属塩基
又はアミン塩基を有する置換基を示す。
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are a substituted or unsubstituted alkyl group; and Z 1 and Z 2 are a substituted or unsubstituted benzene ring or naphthalene ring. An atomic group to be formed; L is a substituted or unsubstituted methine group, and the substituent is an alkyl group having 8 or less carbon atoms, a halogen atom or an amino group, or the methine group is substituted on the two methine carbons. X may be a cyclohexene ring or a cyclopentene ring which may have a substituent formed by bonding the groups to each other, and the substituent is an alkyl group having 6 or less carbon atoms or a halogen atom; An anionic group; n is 1 or 2;
At least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , Z 1 and Z 2 represents an acidic group or a substituent having an alkali metal base or an amine base of the acidic group.

【0047】[0047]

【化2】 Embedded image

【0048】[式中、R11は置換もしくは未置換のアル
キル基、置換もしくは未置換のアリール基又は置換もし
くは未置換のヘテロ環基;R12及びR15は水素原子又は
水素原子の代りに置換できる基:R13及びR14は水素原
子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換のアルコキシ基
又は置換もしくは未置換のアルキル基、但しR13及びR
14は同時に水素原子ではない:R16及びR17は置換もし
くは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリー
ル基、アシル基又はスルホニル基、又はR16とR17で非
金属5員環もしくは6員環の形成を示す。]
[Wherein, R 11 is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group; R 12 and R 15 are hydrogen atoms or substituted in place of hydrogen atoms; Possible groups: R 13 and R 14 are a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkoxy group or a substituted or unsubstituted alkyl group, provided that R 13 and R 14
14 are not hydrogen atoms at the same time: R 16 and R 17 are a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, an acyl group or a sulfonyl group, or R 16 and nonmetallic 5- or 6 R 17 3 illustrates the formation of a member ring. ]

【0049】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン染料、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、エポリン社製Epolig
ht III−178、Epolight III−130、E
polight III−125等は特に好ましく用いられ
る。これらの染料の中で特に好ましいものは上記の式
(I)の水溶性のシアニン染料である。下記に具体的な
化合物を列記する。
As a dye, US Pat. No. 5,156,
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4.
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt and the like, and pyrilium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-135514 and 5-19702, Epolig manufactured by Eporin Co.
ht III-178, Epollight III-130, E
Pollite III-125 and the like are particularly preferably used. Particularly preferred among these dyes are the water-soluble cyanine dyes of the above formula (I). Specific compounds are listed below.

【0050】[0050]

【化3】 Embedded image

【0051】[0051]

【化4】 Embedded image

【0052】[0052]

【化5】 Embedded image

【0053】[0053]

【化6】 Embedded image

【0054】[0054]

【化7】 Embedded image

【0055】[0055]

【化8】 Embedded image

【0056】顔料又は染料は、親水層の全固形分中の1
〜40重量%、好ましくは2〜20重量%の割合であ
る。顔料又は染料の添加量が上記範囲より少なすぎると
感度が低くなり、また上記範囲より多すぎると層の親水
性が損なわれたり、層の耐久性が悪くなる。
The pigment or the dye accounts for 1% of the total solid content of the hydrophilic layer.
It is a proportion of 4040% by weight, preferably 2-20% by weight. If the amount of the pigment or dye is less than the above range, the sensitivity is lowered, and if it is more than the above range, the hydrophilicity of the layer is impaired or the durability of the layer is deteriorated.

【0057】本発明の三次元架橋した親水層の塗布厚み
は0.1μmから3μmであることが好ましい。より好
ましくは、0.5μmから2μmである。薄すぎると、
親水層の耐久性が劣り、印刷時の耐刷力が劣る。また厚
すぎると、親水層をアブレーション的に下層のインキ受
容層から剥離させるのに、多大なエネルギーを要し、レ
ーザーで露光する場合長時間の描画時間が必要になり、
刷版を製造する生産性が低下する。一般的な市販の半導
体レーザーを用いて描画した場合に、約0.5μmの厚
さで300〜400mJ/cm2のエネルギーを、約
1.5μmの厚さで400〜500mJ/cm2のエネ
ルギーを要する。
The coating thickness of the three-dimensionally crosslinked hydrophilic layer of the present invention is preferably from 0.1 μm to 3 μm. More preferably, it is 0.5 μm to 2 μm. If it ’s too thin,
The durability of the hydrophilic layer is poor, and the printing durability during printing is poor. If it is too thick, a large amount of energy is required to separate the hydrophilic layer from the lower ink receiving layer in an ablation manner, and a long drawing time is required when exposing with a laser,
The productivity of printing plates decreases. When writing is performed using a general commercially available semiconductor laser, energy of 300 to 400 mJ / cm 2 is applied at a thickness of about 0.5 μm, and energy of 400 to 500 mJ / cm 2 is applied at a thickness of about 1.5 μm. It costs.

【0058】本発明に使用するインキ受容性表面を有す
るか又はインキ受容層が塗布されている基板としては、
寸度的に安定な板状物が用いられる。紙、親油性のプラ
スチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例え
ば、アルミニウム、亜鉛、銅、ニッケル、ステンレス鋼
板等)、インキ受容性の有機高分子樹脂が塗布されてい
る上記金属板、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等)、インキ受容性の有機高分子樹脂
が塗布されている上記プラスチックフィルム、上記のイ
ンキ受容性の金属がラミネート又は蒸着された紙もしく
はプラスチックフィルム等が含まれる。
The substrate having an ink receptive surface or the ink receptive layer to be used in the present invention includes:
A dimensionally stable plate is used. Paper, paper laminated with lipophilic plastics (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, nickel, stainless steel plate, etc.), and ink-receptive organic polymer resin applied Metal plates, plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.) The above-mentioned plastic film coated with an ink-receiving organic polymer resin, paper or a plastic film on which the above-mentioned ink-receiving metal is laminated or vapor-deposited, and the like are included.

【0059】好ましい基板は、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリカーボネイトフィルム、インキ受容
性の有機高分子樹脂が塗布されているアルミニウム又は
鋼鈑、もしくは親油性のプラスチックフィルムがラミネ
ートされているアルミニウム又は鋼鈑である。
A preferred substrate is a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, an aluminum or steel plate coated with an ink-receptive organic polymer resin, or an aluminum or steel plate laminated with a lipophilic plastic film.

【0060】本発明に使用される好適なアルミニウム板
は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板であり、更にはアルミニ
ウムの表面にはインキ受容性の高分子化合物が塗布され
ていか又はインキ受容性のプラスチックがラミネートさ
れているものである。アルミニウム合金に含まれる異元
素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、ク
ロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。
合金中の異元素の含有量は高々10重量%以下である。
しかし、本発明に適用されるアルミニウム板は、従来よ
り公知公用の素材のアルミニウム板をも適宜に利用する
ことができる。
The aluminum plate suitable for use in the present invention is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element. Is applied or an ink-receptive plastic is laminated. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium.
The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less.
However, as the aluminum plate applied to the present invention, an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used.

【0061】アルミニウム板を使用するに先立ちその表
面を粗面化することが好ましい。粗面化により有機高分
子からなるインキ受容層と塗布した場合、基板との接着
性が容易に確保できる。粗面化は先ずアルミニウム基板
表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機
溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行わ
れる。
It is preferable to roughen the surface of the aluminum plate before using it. When applied to the ink receiving layer made of an organic polymer by roughening, adhesion to the substrate can be easily secured. For roughening, first, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface of the aluminum substrate.

【0062】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。化学的方法としては、特開昭54−3118
7号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩
の飽和水溶液に浸漬する方法が適している。また、電気
化学的な粗面化法としては塩酸または硝酸などの酸を含
む電解液中で交流または直流により行う方法がある。ま
た、特開昭54−63902号に開示されているように
混合酸を用いた電解粗面化方法も利用することができ
る。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically roughening the surface. Is selectively dissolved. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. The chemical method is described in JP-A-54-3118.
No. 7, a method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in JP-A No. 7 is suitable. As an electrochemical surface roughening method, there is a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Also, an electrolytic surface roughening method using a mixed acid as disclosed in JP-A-54-63902 can be used.

【0063】上記の如き方法による粗面化は、アルミニ
ウム板の表面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.
0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。粗
面化されたアルミニウム板は必要に応じて水酸化カリウ
ムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を用いてアルカリエ
ッチング処理がされ、さらに中和処理された後、所望に
より耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質とし
ては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が
可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、クロム酸あるい
はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は
電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理
条件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定
し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量%
溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2
電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれ
ば適当である。形成される酸化皮膜量は、1.0〜5.
0g/m2、特に1.5〜4.0g/m2であることが好
ましい。
The surface roughening by the above-mentioned method is performed when the center line surface roughness (Ha) of the surface of the aluminum plate is 0.3-1.
It is preferable that the coating be performed within a range of 0 μm. The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide or sodium hydroxide as necessary, and further neutralized, and then, if necessary, anodized to enhance abrasion resistance. Processing is performed.
As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used and cannot be specified unconditionally, but generally the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight.
Solution, liquid temperature is 5 to 70 ° C, current density is 5 to 60 A / dm 2 ,
A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. The amount of the formed oxide film is 1.0-5.
0 g / m 2, it is particularly preferably 1.5 to 4.0 g / m 2.

【0064】本発明で用いられる上記の基板の厚みはお
よそ0.05mm〜0.6mm程度、好ましくは0.1
mm〜0.4mm、特に好ましくは0.15mm〜0.
3mmである。
The thickness of the substrate used in the present invention is about 0.05 mm to 0.6 mm, preferably about 0.1 mm to 0.6 mm.
mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.15 mm to 0.4 mm.
3 mm.

【0065】本発明の基板の表面にインキ受容層として
塗布される有機高分子としては、溶媒に可溶であり、か
つ親油性の被膜を形成能を有するものである。更には、
上層の親水層を形成する塗布溶媒に不溶であることが望
ましいが、場合によっては一部上層の塗布溶媒に膨潤す
るものが、上層との接着性に優れ望ましい場合がある。
その他、上層の塗布溶媒で可溶な有機高分子を用いる場
合には、予め架橋剤を添加する等の工夫をして硬化させ
ておくことが望ましい。
The organic polymer applied as an ink receiving layer on the surface of the substrate according to the present invention is soluble in a solvent and capable of forming a lipophilic film. Furthermore,
It is desirable that it is insoluble in the coating solvent for forming the upper hydrophilic layer, but in some cases, one that swells in the upper layer coating solvent has excellent adhesiveness to the upper layer and may be desirable.
In addition, when an organic polymer that is soluble in the upper layer coating solvent is used, it is desirable to cure it in advance by adding a crosslinking agent or the like.

【0066】有用な有機高分子としては、ポリエステ
ル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポシシロ
キサン、ポリカーボネート、フェノキシ樹脂、エポキシ
樹脂、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ポリビニルアセテー
ト、アクリル樹脂及びその共重合体、ポリビニルフェノ
ール、ポリビニルハロゲン化フェノール、メタクリル樹
脂及びその共重合体、アクリルアミド共重合体、メタク
リルアミド共重合体、ポリビニルフォルマール、ポリア
ミド、ポリビニルブチラール、ポリスチレン、セルロー
スエステル樹脂、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン
等を挙げることができる。これらの中で、より好ましい
化合物として、側鎖に水酸基、カルボキシ基、スルホン
アミド基やトリアルコキシシリル基を有する樹脂が基板
や上層の親水層との接着性に優れ、かつ場合によって架
橋剤で容易に硬化するので望ましい。その他、アクロニ
トリル共重合体、ポリウレタン、側鎖にスルホンアミド
基を有する共重合体や側鎖に水酸基を有する共重合体を
ジアゾ樹脂によって光硬化させたものが好ましい。
Examples of useful organic polymers include polyester, polyurethane, polyurea, polyimide, posisiloxane, polycarbonate, phenoxy resin, epoxy resin, phenol / formaldehyde resin, alkylphenol / formaldehyde resin, polyvinyl acetate, acrylic resin and copolymers thereof. Polyvinyl phenol, polyvinyl halogenated phenol, methacrylic resin and its copolymer, acrylamide copolymer, methacrylamide copolymer, polyvinyl formal, polyamide, polyvinyl butyral, polystyrene, cellulose ester resin, polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride Can be mentioned. Among these, as a more preferred compound, a resin having a hydroxyl group, a carboxy group, a sulfonamide group or a trialkoxysilyl group in a side chain is excellent in adhesiveness to a substrate or an upper hydrophilic layer, and is easy to use with a crosslinking agent in some cases. It is desirable because it hardens to In addition, an acrylonitrile copolymer, polyurethane, a copolymer having a sulfonamide group in a side chain or a copolymer having a hydroxyl group in a side chain is preferably photocured with a diazo resin.

【0067】その他フェノール、クレゾール(m−クレ
ゾール、p−クレゾール、m/p混合クレゾール)、フ
ェノール/クレゾール(m−クレゾール、p−クレゾー
ル、m/p混合クレゾール)、フェノール変性キシレ
ン、tert−ブチルフェノール、オクチルフェノー
ル、レゾルシノール、ピロガロール、カテコール、クロ
ロフェノール(m−Cl、p−Cl)、ブロモフェノー
ル(m−Br、p−Br)、サリチル酸、フロログルシ
ノールなどのホルムアルデヒドとの縮合のノボラック樹
脂及びレゾール樹脂、さらに上記フェノール類化合物と
アセトンとの縮合樹脂などが有用である。
Other phenol, cresol (m-cresol, p-cresol, m / p mixed cresol), phenol / cresol (m-cresol, p-cresol, m / p mixed cresol), phenol-modified xylene, tert-butylphenol, A novolak resin and a resole resin of condensation with formaldehyde such as octylphenol, resorcinol, pyrogallol, catechol, chlorophenol (m-Cl, p-Cl), bromophenol (m-Br, p-Br), salicylic acid, and phloroglucinol; Further, a condensation resin of the above phenol compound and acetone is useful.

【0068】その他の好適な高分子化合物として以下
(1)〜(12)に示すモノマーをその構成単位とする
通常1万〜20万の分子量を持つ共重合体を挙げること
ができる。 (1)芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エ
ステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまたはN−(4
−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−
およびp−ヒドロキシスチレン、o−、m−およびp−
ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレー
ト、(2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類
およびメタクリル酸エステル類、例えば、2−ヒドロキ
シエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、(3)アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、アク
リル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレー
ト、N−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの(置
換)アクリル酸エステル、
Other suitable high molecular compounds include copolymers having a molecular weight of usually 10,000 to 200,000, having the following structural units as monomers (1) to (12). (1) Acrylamides, methacrylamides, acrylates, methacrylates and hydroxystyrenes having an aromatic hydroxyl group, for example, N- (4
-Hydroxyphenyl) acrylamide or N- (4
-Hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m-
And p-hydroxystyrene, o-, m- and p-
Hydroxyphenyl acrylate or methacrylate, (2) acrylates and methacrylates having an aliphatic hydroxyl group, for example, 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, (3) methyl acrylate, ethyl acrylate, acryl Propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, glycidyl acrylate, N- (Substituted) acrylates such as dimethylaminoethyl acrylate,

【0069】(4)メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−
2−クロロエチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチ
ル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエ
チルメタクリレートなどの(置換)メタクリル酸エステ
ル、(5)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルア
ミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチルメタクリ
ルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−ヘキシル
メタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミ
ド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N−ヒドロ
キシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアク
リルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−フェニ
ルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N
−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェニルアク
リルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルアミド、N
−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよびN−エチ
ル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアクリルアミ
ドもしくはメタクリルアミド、
(4) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate,
Amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid
(Substituted) methacrylates such as 2-chloroethyl, 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl methacrylate, (5) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N- Ethyl acrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-hexyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-cyclohexyl methacrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N- Phenyl methacrylamide, N-benzylacrylamide, N
-Benzyl methacrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-nitrophenyl methacrylamide, N
Acrylamide or methacrylamide such as -ethyl-N-phenylacrylamide and N-ethyl-N-phenylmethacrylamide,

【0070】(6)エチルビニルエーテル、2−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類、(7)ビニルアセテート、ビニル
クロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル
などのビニルエステル類、(8)スチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、(9)
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビ
ニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン
類、(10)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブ
タジエン、イソプレンなどのオレフィン類、(11)N
−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビ
ニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
など、
(6) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether,
Vinyl ethers such as octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether; (7) vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate; (8) styrenes such as styrene, methyl styrene and chloromethyl styrene; 9)
Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone; (10) olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene; (11) N
-Vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc.

【0071】(12)N−(o−アミノスルホニルフェ
ニル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニル
フェニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノス
ルホニル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミ
ノスルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルア
ミド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホ
ニル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノ
スルホニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリル
アミド類、また、o−アミノスルホニルフェニルアクリ
レート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、
p−アミノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3
−アミノスルホニルフェニルナフチル)アクリレートな
どのアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミ
ド、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m
−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−アミ
ノスルホニルフェニルナフチル)メタクリレートなどの
メタクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。
(12) N- (o-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) Naphthyl] acrylamide, acrylamides such as N- (2-aminosulfonylethyl) acrylamide, N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonyl) Methacrylamides such as phenyl) methacrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] methacrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide, and o-aminosulfonylphenyl acrylate, m-amino Sulfo sulfonyl phenyl acrylate,
p-aminosulfonylphenyl acrylate, 1- (3
-Aminosulfonylphenylnaphthyl) unsaturated sulfonamides such as acrylates such as acrylate, o-aminosulfonylphenylmethacrylate, m
Unsaturated sulfonamides such as methacrylic esters such as -aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate and 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) methacrylate;

【0072】これらの有機高分子を適当な溶媒に溶解さ
せて、基板上に塗布乾燥させインキ受容層を基板上に設
けることができる。有機高分子単独を溶媒に溶解させ用
いることもできるが、通常は架橋剤、接着助剤、着色
剤、無機あるいは有機の微粒子、塗布面状改良剤あるい
は可塑剤と共に用いる。その他、このインキ受容層に
は、感度を高めるための光熱変換剤や露光後のプリント
アウト画像を形成させるための加熱発色系あるいは消色
系が添加されてもよい。
These organic polymers can be dissolved in an appropriate solvent, applied to a substrate and dried to form an ink receiving layer on the substrate. The organic polymer alone can be used by dissolving it in a solvent, but it is usually used together with a crosslinking agent, an adhesion aid, a coloring agent, inorganic or organic fine particles, a coating surface condition improving agent, or a plasticizer. In addition, a light-to-heat conversion agent for increasing the sensitivity or a heating color-developing system or a decoloring system for forming a printout image after exposure may be added to the ink receiving layer.

【0073】具体的な有機高分子を架橋させる架橋剤と
して、ジアゾ樹脂、芳香族アジド化合物、エポキシ樹
脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化
合物、テトラアルコキシ珪素の初期加水分解縮合物、グ
リオキザール、アルデヒド化合物やメチロール化合物を
挙げることができる。
Specific crosslinking agents for crosslinking organic polymers include diazo resins, aromatic azide compounds, epoxy resins, isocyanate compounds, blocked isocyanate compounds, initial hydrolyzed condensates of tetraalkoxy silicon, glyoxal, aldehyde compounds and methylol. Compounds can be mentioned.

【0074】接着助剤としては、上記のジアゾ樹脂が基
板及び親水層との接着に優れるが、この他にシランカッ
プリング剤、イソシアネート化合物、チタン系カップリ
ング剤も有用である。
As the adhesion aid, the above-mentioned diazo resin is excellent in adhesion to a substrate and a hydrophilic layer. In addition, a silane coupling agent, an isocyanate compound, and a titanium coupling agent are also useful.

【0075】着色剤としては、通常の染料や顔料が用い
られるが、特にローダミン6G塩化物、ローダミンB塩
化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーンシ
ュウ酸塩、オキサジン4パークロレート、キニザリン、
2−(α−ナフチル)−5−フェニルオキサゾール、ク
マリン−4が挙げられる。他の染料として具体的には、
オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックB
Y、オイルブラックBS、オイルブラックT−505
(以上、オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、エチル
バイオレット、メチレンブルー(CI52015)、パ
テントピュアブルー(住友三国化学社製)、ブリリアン
トブルー、メチルグリーン、エリスリシンB、ベーシッ
クフクシン、m−クレゾールパープル、オーラミン、4
−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シア
ノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリドなどに
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の染料あるい
は特開昭62−293247号公報、特願平7−335
145号に記載されている染料を挙げることができる。
上記色素は、インキ受容層中に添加される場合は受容層
の全固形分に対し、通常約0.02〜10重量%、より
好ましくは約0.1〜5重量%の割合ある。
As the coloring agent, ordinary dyes and pigments can be used. In particular, rhodamine 6G chloride, rhodamine B chloride, crystal violet, malachite green oxalate, oxazine 4 perchlorate, quinizarin,
2- (α-naphthyl) -5-phenyloxazole and coumarin-4. Specifically, as other dyes,
Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black B
Y, oil black BS, oil black T-505
(The above are manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI4255)
5), methyl violet (CI42535), ethyl violet, methylene blue (CI52015), patent pure blue (manufactured by Sumitomo Sangoku Chemical Co., Ltd.), brilliant blue, methyl green, erythricin B, basic fuchsin, m-cresol purple, auramine, 4
Triphenylmethane-based, diphenylmethane-based, oxazine-based, xanthene-based, iminonaphthoquinone-based, azomethine-based or anthraquinone-based dyes such as -p-diethylaminophenyliminaphthoquinone and cyano-p-diethylaminophenylacetanilide; -293247, Japanese Patent Application No. 7-335.
No. 145 can be mentioned.
When the above dye is added to the ink receiving layer, it is usually present in an amount of about 0.02 to 10% by weight, more preferably about 0.1 to 5% by weight, based on the total solid content of the receiving layer.

【0076】更に塗布面状改良剤としてよく知られた化
合物であるフッ素系界面活性剤やシリコン系界面活性剤
も用いることができる。具体的にはパーフルオロアルキ
ル基やジメチルシロキサン基を有する界面活性剤が塗布
面上を整えることで有用である。
Further, fluorine-based surfactants and silicon-based surfactants, which are well-known compounds as coating surface condition improvers, can also be used. Specifically, a surfactant having a perfluoroalkyl group or a dimethylsiloxane group is useful for preparing the coated surface.

【0077】本発明で用いることができる無機又は有機
の微粉末としては10nmから100nmまでのコロイ
ダルシリカやコロイダルアルミニウム、更にはこれらの
コロイドより大きい粒径の不活性粒子、例えば、シリカ
粒子、表面疎水化したシリカ粒子、アルミナ粒子、二酸
化チタン粒子、その他重金属粒子、クレーやタルク等を
挙げることができる。これらの無機又は有機の微粉末を
インキ受容層中に添加することによって、上層の三次元
架橋した親水層との接着性を改良し、印刷における耐刷
力を増加させる効果がある。インキ受容層中におけるこ
れらの微粉末の添加割合は、全量の80重量%以下で好
ましくは40重量%以下である。
Examples of the fine inorganic or organic powder that can be used in the present invention include colloidal silica and colloidal aluminum having a diameter of 10 nm to 100 nm, and inert particles having a particle size larger than those of colloids such as silica particles and surface hydrophobic particles. Silica particles, alumina particles, titanium dioxide particles, other heavy metal particles, clay and talc. The addition of these inorganic or organic fine powders to the ink receiving layer has the effect of improving the adhesion to the upper three-dimensionally crosslinked hydrophilic layer and increasing the printing durability in printing. The proportion of these fine powders in the ink receiving layer is 80% by weight or less, preferably 40% by weight or less of the total amount.

【0078】更に、本発明のインキ受容層中には必要に
応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えら
れる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリ
ブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フクル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル
酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
Further, a plasticizer may be added to the ink receiving layer of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid And polymers.

【0079】更に、本発明のインキ受容層中には露光し
たとき画像部と非画像部を鮮明にするため発色系又は消
色系の化合物が添加されることが好ましい。例えば、ジ
アゾ化合物やジフェニルヨードニウム塩のような熱酸発
生剤と共にロイコ染料(ロイコマラカイトグリーン、ロ
イコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレット
のラクトン体等)やPH変色染料(例えば、エチルバイ
オレット、ビクトリアプアーブルーBOH等の染料)が
用いられる。その他、EP897134号明細書に記載
されているような、酸発色染料と酸性バインダーの組合
わせも有効である。この場合、加熱によって染料を形成
している会合状態の結合が切れ、ラクトン体が形成して
有色から無色に変化する。これらの発色系の添加割合は
受容層中の全量に対し10重量%以下好ましくは5重量
%以下である。
Further, it is preferable to add a coloring or decoloring compound to the ink receiving layer of the present invention in order to sharpen an image area and a non-image area when exposed. For example, together with thermal acid generators such as diazo compounds and diphenyliodonium salts, leuco dyes (leucomalachite green, leuco crystal violet, lactones of crystal violet, etc.) and PH discoloration dyes (eg, ethyl violet, Victoria Poor Blue BOH, etc.) Dye) is used. In addition, a combination of an acid coloring dye and an acidic binder as described in EP 897134 is also effective. In this case, the bond in the associated state forming the dye is broken by heating, and a lactone is formed to change from colored to colorless. The addition ratio of these coloring systems is 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less based on the total amount in the receiving layer.

【0080】更に、本発明のインキ受容層には感熱感度
を高めるために、光熱変換剤を添加してもよい。光熱変
換剤としては、前記の赤外線吸収染料や顔料であっても
よいが、この場合には親油性の染料や顔料が好ましい。
特に好ましいものは、カーボンブラックや前記の式
(I)で示されたシアニン染料のうちの親油性のもので
ある。下にその親油性シアニン染料の具体的な化合物を
挙げる。
Further, a light-to-heat converting agent may be added to the ink receiving layer of the present invention in order to increase the heat sensitivity. The photothermal conversion agent may be the above-mentioned infrared absorbing dye or pigment, but in this case, a lipophilic dye or pigment is preferable.
Particularly preferred are lipophilic ones of carbon black and the cyanine dyes represented by the above formula (I). Specific compounds of the lipophilic cyanine dye are listed below.

【0081】[0081]

【化9】 Embedded image

【0082】インキ受容層への光熱変換剤の添加割合
は、インキ受容層の全量の20重量%以下が好適で、1
5重量%以下である。顔料又は染料の添加量が上記範囲
より多すぎると層の耐久性が低下する。
The proportion of the photothermal conversion agent to the ink receiving layer is preferably 20% by weight or less of the total amount of the ink receiving layer.
5% by weight or less. If the amount of the pigment or dye added is more than the above range, the durability of the layer decreases.

【0083】上記インキ受容層を塗布する溶媒としては
アルコール類(メタノール、エタノール、プロピルアル
コール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、
プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル等)、エーテル類(テトラヒドロフラン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコ
ールジメチルエーテル、テトラヒドロピラン等)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセト
ン等)、エステル類(酢酸メチル、エチレングリコール
モノメチルモノアセテート等)、アミド類(ホルムアミ
ド、N−メチルホルムアミド、ピロリドン、N−メチル
ピロリドン等)、ガンマーブチロラクトン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル等を用いることができる。これらの溶媒
は単独あるいは混合状態で使用される。塗布液を調製す
る場合、溶媒中の上記インキ受容層構成成分(添加剤を
含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%で
ある。その他、上記のような有機溶媒からの塗布ばかり
でなく、水性エマルジョンからも被膜を形成させること
ができる。この場合の濃度は5重量%から50重量%が
好ましい。
As the solvent for coating the ink receiving layer, alcohols (methanol, ethanol, propyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol,
Propylene glycol, dipropylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, etc.), ethers (tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, tetrahydropyran, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, Acetylacetone, etc.), esters (methyl acetate, ethylene glycol monomethyl monoacetate, etc.), amides (formamide, N-methylformamide, pyrrolidone, N-methylpyrrolidone, etc.), gamma-butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate, etc. it can. These solvents are used alone or in a mixed state. When preparing a coating solution, the concentration of the components of the ink receiving layer (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. In addition, a film can be formed not only from the above-mentioned application from an organic solvent but also from an aqueous emulsion. In this case, the concentration is preferably 5% by weight to 50% by weight.

【0084】本発明でのインキ受容層の塗布乾燥後の厚
みは、特に限定的ではないが0.1μm以上あればよ
い。金属板上に設ける場合には断熱層としての役目をも
有するので0.5μm以上が望ましい。インキ受容層が
薄すぎると発熱した熱が金属板の方に発散し、感度が低
下する。その上親水性の金属板の場合には、インキ受容
層に耐摩耗性が要求されるため、耐刷力を確保できなく
なる。親油性のプラスチックフィルムを基板として使用
する場合には、インキ受容層は上層との接着層としての
役目を果せればよいので、その塗布量は金属板の時より
少なくてもよく、0.05μm以上が好ましい。
The thickness of the ink-receiving layer in the present invention after coating and drying is not particularly limited, but may be 0.1 μm or more. When it is provided on a metal plate, it has a role as a heat insulating layer, so that it is preferably 0.5 μm or more. If the ink receiving layer is too thin, the heat generated will dissipate toward the metal plate, lowering the sensitivity. In addition, in the case of a hydrophilic metal plate, the ink receiving layer is required to have abrasion resistance, so that the printing durability cannot be ensured. When a lipophilic plastic film is used as the substrate, the ink receiving layer only has to function as an adhesive layer with the upper layer, so the coating amount may be smaller than that of the metal plate, and may be 0.05 μm. The above is preferred.

【0085】次に、この感熱性平版印刷用原板の製版方
法について説明する。この平版印刷版用原板は、例え
ば、熱記録ヘッド等により直接画像様に感熱記録を施し
たり、波長700〜1200nmの赤外線を放射する固
体レーザー又は半導体レーザー、キセノン放電灯などの
高照度フラッシュ光や赤外線ランプ露光などの光熱変換
型の露光も用いることができる。画像の書き込みは、面
露光方式、走査方式のいずれでもよい。前者の場合は、
赤外線照射方式や、キセノン放電灯の高照度の短時間光
を原板上に照射して光・熱変換によって熱を発生させる
方式である。赤外線灯などの面露光光源を使用する場合
には、その照度によっても好ましい露光量は変化する
が、通常は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が
0.1〜10J/cm2の範囲であることが好ましく、
0.1〜1J/cm2の範囲であることがより好ましい。
支持体が透明である場合は、支持体の裏側から支持体を
通して露光することもできる。その露光時間は、0.0
1〜1msec、好ましくは0.01〜0.1msec
の照射で上記の露光強度が得られるように露光照度を選
択するのが好ましい。照射時間が長い場合には、熱エネ
ルギーの生成速度と生成した熱エネルギーの拡散速度の
競争関係から露光強度を増加させる必要が生じる。
Next, a method of making a heat-sensitive planographic printing plate will be described. The lithographic printing plate precursor may be, for example, directly subjected to image-wise thermal recording by a thermal recording head or the like, or a solid laser or semiconductor laser emitting infrared rays having a wavelength of 700 to 1200 nm, or a high-intensity flash light such as a xenon discharge lamp. Light-to-heat conversion type exposure such as infrared lamp exposure can also be used. Writing of an image may be performed by either a surface exposure method or a scanning method. In the former case,
This is an infrared irradiation method or a method of irradiating the original plate with high-intensity short-time light of a xenon discharge lamp to generate heat by light-heat conversion. When a surface exposure light source such as an infrared lamp is used, the preferable exposure amount varies depending on the illuminance, but usually, the surface exposure intensity before modulation with a print image is 0.1 to 10 J / cm 2 . Preferably within the range,
More preferably, it is in the range of 0.1 to 1 J / cm 2 .
When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support. The exposure time is 0.0
1-1 msec, preferably 0.01-0.1 msec
It is preferable to select the exposure illuminance so that the above-mentioned exposure intensity can be obtained by the irradiation. When the irradiation time is long, it is necessary to increase the exposure intensity due to the competition between the heat energy generation rate and the generated heat energy diffusion rate.

【0086】後者の場合には、赤外線成分を多く含むレ
ーザー光源を使用して、レーザービームを画像で変調し
て原板上を走査する方式が行われる。レーザー光源の例
として、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、ヘ
リウムカドミウムレーザー、YAGレーザーを挙げるこ
とができる。レーザー出力が0.1〜300Wのレーザ
ーで照射をすることができる。また、パルスレーザーを
用いる場合には、ピーク出力が1000W、好ましくは
2000Wのレーザーを照射するのが好ましい。この場
合の露光量は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が
0.1〜10J/cm2の範囲であることが好ましく、
0.3〜1J/cm2の範囲であることがより好ましい。
In the latter case, a method is used in which a laser light source containing a large amount of infrared components is used to modulate a laser beam with an image and scan the original plate. Examples of the laser light source include a semiconductor laser, a helium neon laser, a helium cadmium laser, and a YAG laser. Irradiation can be performed with a laser having a laser output of 0.1 to 300 W. When a pulse laser is used, it is preferable to irradiate a laser having a peak output of 1000 W, preferably 2000 W. In this case, the exposure amount is preferably such that the surface exposure intensity before modulation with the image for printing is in the range of 0.1 to 10 J / cm 2 ,
More preferably, it is in the range of 0.3 to 1 J / cm 2 .

【0087】本発明の印刷用原板は、画像露光された印
刷用原板をそれ以上の処理なしに印刷機に装着すること
ができる。インキと水を用いて印刷を開始すると、オー
バーコート層は湿し水によって除去されると同時に露光
部の親水層も除去される。その下のインキ受容層にイン
キが着肉し印刷が開始される。
The printing original plate of the present invention can be mounted on a printing press without further processing the image-exposed printing original plate. When printing is started using ink and water, the overcoat layer is removed by the dampening solution, and at the same time the hydrophilic layer in the exposed area is removed. The ink is deposited on the ink receiving layer below the ink receiving layer, and printing is started.

【0088】[0088]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0089】実施例1 (アルミニウム基板の作製)99.5重量%アルミニウ
ムに、銅を0.01重量%、チタンを0.03重量%、
鉄を0.3重量%、ケイ素を0.1重量%含有するJI
SA1050アルミニウム材の厚み0.24mm圧延板
を、400メッシュのパミストン(共立窯業製)の20
重量%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6,10−
ナイロン)とを用いてその表面を砂目立てした後、よく
水で洗浄した。これを15重量%水酸化ナトリウム水溶
液(アルミニウム4.5重量%含有)に浸漬してアルミ
ニウムの溶解量が5g/m2になるようにエッチングした
後、流水で水洗した。更に、1重量%硝酸で中和し、次
に0.7重量%硝酸水溶液(アルミニウム0.5重量%
含有)中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧
9.3ボルトの矩形波交番波形電圧(電流比r=0.9
0、特公昭58−5796号公報実施例に記載されてい
る電流波形)を用いて160クローン/dm2の陽極時電
気量で電解粗面化処理を行った。水洗後、35℃の10
重量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミニ
ウム溶解量が1g/m2になるようにエッチングした後、
水洗した。次に、50℃、30重量%の硫酸水溶液中に
浸漬し、デスマットした後、水洗した。さらに、35℃
の硫酸20重量%水溶液(アルミニウム0.8重量%含
有)中で直流電流を用いて、多孔性陽極酸化皮膜形成処
理を行った。即ち電流密度13A/dm2で電解を行い、電
解時間の調節により陽極酸化皮膜重量2.7g/m2とし
た。この支持体を水洗後、70℃のケイ酸ナトリウムの
0.2重量%水溶液に30秒間浸漬処理し、水洗乾燥し
た。以上のようにして得られたアルミニウム基板は、マ
クベスRD920反射濃度計で測定した反射濃度は0.
30で、中心線平均粗さは0.58μmであった。
Example 1 (Preparation of aluminum substrate) 0.01% by weight of copper, 0.03% by weight of titanium,
JI containing 0.3% by weight of iron and 0.1% by weight of silicon
A roll of a 0.24 mm-thick sheet of SA1050 aluminum material was converted to a 400 mesh pumice stone (Kyoritsu Ceramics) 20
Weight percent aqueous suspension and a rotating nylon brush (6,10-
(Nylon) and the surface was grained, and then washed well with water. This was immersed in a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (containing 4.5% by weight of aluminum), etched so that the amount of aluminum dissolved was 5 g / m 2 , and washed with running water. Further, the mixture is neutralized with 1% by weight nitric acid, and then a 0.7% by weight aqueous nitric acid solution (0.5% by weight of aluminum)
), The voltage at the time of anode was 10.5 volts, and the voltage at the time of cathodes was 9.3 volts.
0, a current waveform described in Examples of JP-B-58-5796), and an electrolytic surface roughening treatment was carried out at an anode electricity amount of 160 clones / dm 2 . After washing with water,
After being immersed in an aqueous solution of sodium hydroxide by weight and etched so that the amount of aluminum dissolved becomes 1 g / m 2 ,
Washed with water. Next, it was immersed in a 30% by weight aqueous sulfuric acid solution at 50 ° C., desmutted, and washed with water. In addition, 35 ° C
A porous anodic oxide film was formed in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by weight of aluminum) using a direct current. That is, electrolysis was performed at a current density of 13 A / dm 2 , and the anodic oxide film weight was adjusted to 2.7 g / m 2 by adjusting the electrolysis time. The support was washed with water, immersed in a 0.2% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried. The aluminum substrate obtained as described above has a reflection density of 0,0 measured with a Macbeth RD920 reflection densitometer.
At 30, the center line average roughness was 0.58 μm.

【0090】(インキ受容層用有機高分子の合成)攪拌
機、冷却管、滴下ロートを備えた200ml三ツ口フラ
スコに、N−(p−アミノスルホニルフエニル)メタク
リルアミド4.61g(0.0192モル)、メタクリ
ル酸エチル2.94g(0.0258モル)、アクリロ
ニトリル0.80g(0.015モル)及びN,N−ジメチ
ルアセトアミド20gを入れ、湯水浴により65℃に加
熱しながら攪拌した。この混合物にV−65(和光純薬
(株)製)0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気
流下2時間攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p
−アミノスルホニルフエニル)メタクリルアミド4.6
1g、メタクリル酸エチル2.94g、アクリロニトリ
ル0.80g、N,N−ジメチルアセトアミド及び重合開
始剤V−65(和光純薬(株)製)0.15gの混合物
を2時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後
さらに65℃で2時間攪拌した。反応終了後メタノール
40gを加え冷却し、水2Lに攪拌下投入し、30分間
攪拌した後ろ過乾燥する事により15gの白色固体を得
た。ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフイーによりこ
のN−(p−アミノスルホニルフエニル)メタクリルア
ミド共重合体の重量平均分子量(ポリスチレン標準)を
測定したところ53,000であった。
(Synthesis of Organic Polymer for Ink-Receiving Layer) In a 200 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, and a dropping funnel, 4.61 g (0.0192 mol) of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed. , 2.94 g (0.0258 mol) of ethyl methacrylate, 0.80 g (0.015 mol) of acrylonitrile, and 20 g of N, N-dimethylacetamide, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. 0.15 g of V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to the mixture, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 65 ° C. The reaction mixture was further charged with N- (p
-Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.6
A mixture of 1 g, 2.94 g of ethyl methacrylate, 0.80 g of acrylonitrile, 0.15 g of N, N-dimethylacetamide and polymerization initiator V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dropped by a dropping funnel over 2 hours. did. After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 40 g of methanol was added, and the mixture was cooled, poured into 2 L of water with stirring, stirred for 30 minutes, and filtered and dried to obtain 15 g of a white solid. The weight average molecular weight (polystyrene standard) of this N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide copolymer was measured by gel permeation chromatography and found to be 53,000.

【0091】(インキ受容性の基板の作製)上記のN−
(p−アミノスルホニルフエニル)メタクリルアミド共
重合体3gをガンマーブチロラクトン9.5g/乳酸メ
チル3g/メチルエチルケトン22.5g/プロピレン
グリコールモノメチルエーテル22gからなる混合溶液
に溶解させた後、上記のアルミニウム基板に塗布液量が
24ml/m2になるようバーコーターで塗布した。そ
の後、100℃、1分間加熱乾燥させ、乾燥塗布量約1
g/m2のインキ受容層を有するアルミニウム基板を作
製した。
(Preparation of Ink-Receiving Substrate)
After dissolving 3 g of (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide copolymer in a mixed solution consisting of 9.5 g of gamma-butyrolactone / 3 g of methyl lactate / 22.5 g of methyl ethyl ketone / 22 g of propylene glycol monomethyl ether, Coating was performed with a bar coater so that the coating liquid amount was 24 ml / m 2 . After that, it is dried by heating at 100 ° C. for 1 minute, and the dry coating amount is about 1
An aluminum substrate having a g / m 2 ink receiving layer was prepared.

【0092】(感熱性平版印刷用原板の作製)次ぎに、
2−ヒドロキシエチルメタクリレートホモポリマー(重
量平均分子量250,000)のエチレングリコールモ
ノメチルエーテル10%溶液1g、メタノールシリカ
(日産化学製:10nm〜20nmのシリカ粒子を30
重量%含有するメタノール溶液からなるコロイド)3
g、本明細書に記載のシアニン染料(I−31)0.0
8g及びメタノール16gからなる溶液を上記のインキ
受容層を塗布した基板上に塗布し、100℃、1分間乾
燥させて、乾燥塗布重量約1g/m2の三次元架橋した
親水層をインキ受容層の上に設けた。その上に、ポリア
クリル酸(重量平均分子量25,000)の5%水溶液
20g、及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ール0.025gからなる水溶液を塗布し、100℃、
2分間乾燥させて、乾燥塗布重量約0.6g/m2のオ
ーバーコート層を親水層の上に設けた感熱性平版印刷用
原板を作製した。
(Preparation of a heat-sensitive lithographic printing plate)
1 g of a 10% solution of 2-hydroxyethyl methacrylate homopolymer (weight average molecular weight 250,000) in ethylene glycol monomethyl ether, methanol silica (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd .: 30 to 10 nm to 20 nm silica particles)
Colloid consisting of methanol solution containing 3% by weight) 3
g, the cyanine dye (I-31) 0.0 described in the specification.
A solution consisting of 8 g and 16 g of methanol was applied on the substrate coated with the ink receiving layer, and dried at 100 ° C. for 1 minute to form a three-dimensionally crosslinked hydrophilic layer having a dry coating weight of about 1 g / m 2. It was provided above. An aqueous solution consisting of 20 g of a 5% aqueous solution of polyacrylic acid (weight average molecular weight: 25,000) and 0.025 g of polyoxyethylene nonylphenyl ether was applied thereon,
After drying for 2 minutes, a heat-sensitive planographic printing plate having an overcoat layer having a dry coating weight of about 0.6 g / m 2 provided on the hydrophilic layer was prepared.

【0093】(平版印刷版の作製)上記の平版印刷用原
板をカナダCREO社の40Wトレンドセッター(40
Wの830nm半導体レーザーを搭載プレートセッタ
ー)に取付け、300mJ/cm2のエネルギーを照射し
た。照射後の版表面を観察した結果、エネルギー照射部
がアブレーションにより飛び散った形跡はほとんどなか
った。照射した原板をハリス印刷機に取付け、エッチ液
含有10容量%イソプロピルアルコール水溶液からなる
湿し水とインキを用いて印刷したところ、10,000
部の汚れのない良好な印刷物が得られた。
(Preparation of lithographic printing plate) The above lithographic printing plate was used as a 40 W trend setter (40
A 830 nm W semiconductor laser was mounted on a mounting plate setter) and irradiated with an energy of 300 mJ / cm 2 . As a result of observing the plate surface after irradiation, there was almost no trace of the energy irradiation part scattered by ablation. The irradiated original plate was attached to a Harris printing machine, and printed with a dampening solution and ink containing a 10% by volume aqueous solution of isopropyl alcohol containing an etchant.
Good printed matter without stains on the prints was obtained.

【0094】比較例1 実施例1の親水層を塗布し、オーバーコート層を塗布す
る前の原板を比較のための感熱性印刷版原板とした。こ
の原板を実施例1と同様にレーザー照射し、次いで同じ
印刷機に取り付け同様に印刷を行った。レーザー照射後
の版面観察では、アブレーションによって照射部の親水
層が明らかに飛散していることが観察された。印刷にお
いては10,000部の印刷が行えたが、印刷機に版を
取り付けるときにインキで汚れた指先が触った跡と思わ
れる指紋跡汚れが発生した。
Comparative Example 1 A heat-sensitive printing plate precursor for comparison was prepared by applying the hydrophilic layer of Example 1 and before applying the overcoat layer. This original plate was irradiated with a laser in the same manner as in Example 1, and then attached to the same printing machine to perform printing in the same manner. Observation of the plate surface after laser irradiation revealed that the hydrophilic layer of the irradiated portion was scattered clearly by ablation. In printing, 10,000 copies could be printed, but fingerprint marks, which were thought to have been touched by fingertips stained with ink when the plate was attached to the printing press, were generated.

【0095】実施例2 実施例1のメタノールシリカ3gの代りにグラスカ40
1(日板研究所製:ZrO2・SiO2からなる20重量
%のメタノールコロイド溶液)4.5gに代えた以外は
実施例1と同様にして感熱性平版印刷用原板を得た。こ
の原板を実施例1と同様にして露光した。露光後の版面
観察で、アブレーションにより飛散した形跡はほとんど
見られなかった。次いでハリス印刷機に取付け印刷した
ところ、10,000部の汚れのない良好な印刷物が得
られた。
Example 2 In place of 3 g of the methanol silica of Example 1, Glasca 40 was used.
1 (manufactured by Nissita Laboratories: a 20% by weight methanol colloid solution composed of ZrO 2 · SiO 2 ) was prepared in the same manner as in Example 1 except that 4.5 g of a heat-sensitive lithographic printing plate was obtained. This original plate was exposed in the same manner as in Example 1. Observation of the plate surface after exposure showed almost no trace of scattering by ablation. Then, when mounted and printed on a Harris printing machine, 10,000 copies of good printed matter without stains were obtained.

【0096】実施例3 実施例1のメタノールシリカ3gを4.5gに、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレートホモポリマーの10%エ
チレングリコールモノメチルエーテル溶液1gを1.5
gに、光熱変換剤であるシアニン染料(I−31)を本
明細書記載のシアニン染料(I−32)に代え、その他
は実施例1と同様にして感熱性平版印刷用原板を得た。
この印刷用原板は架橋した親水層の乾燥塗布重量が約
1.5g/m2であった。この原板をカナダCREO社
の40Wトレンドセッター(40Wの830nm半導体
レーザーを搭載プレートセッター)に取付け、450m
J/cm2のエネルギーを照射した。照射後の版面観察
で、アブレーションにより飛散した形跡はほとんど見ら
れなかった。照射した原板をハリス印刷機に取付け、エ
ッチ液含有10容量%イソプロピルアルコール水溶液か
らなる湿し水とインキを用いて印刷したところ、25,
000部の汚れのない良好な印刷物が得られた。
Example 3 To 4.5 g of the methanol silica of Example 1 was added 1.5 g of a 10% ethylene glycol monomethyl ether solution of 2-hydroxyethyl methacrylate homopolymer.
g, a heat-sensitive lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the cyanine dye (I-31) as a light-to-heat conversion agent was replaced with the cyanine dye (I-32) described in the present specification.
This printing plate had a dry coating weight of the crosslinked hydrophilic layer of about 1.5 g / m 2 . The original plate was attached to a 40W trend setter of Canada CREO (a plate setter equipped with a 40W 830nm semiconductor laser) and 450m in length.
Irradiation with energy of J / cm 2 was performed. Observation of the plate surface after irradiation showed almost no trace of scattering by ablation. The irradiated original plate was mounted on a Harris printing machine, and printed using a dampening solution and ink composed of a 10% by volume aqueous solution of isopropyl alcohol containing an etchant.
000 parts of good printed matter without stains were obtained.

【0097】実施例4 実施例1の2−ヒドロキシエチルメタクリレートホモポ
リマーの10%エチレングリコールモノメチルエーテル
溶液1gの代りに、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト/メチルメタクリレート=70/30重量%からなる
共重合体(重量平均分子量200,000)の10%エ
チレングリコールモノメチルエーテル溶液1gに代えた
以外は実施例1と同様にして感熱性平版印刷用原板を得
た。この原板を実施例1と同様にして露光した。露光後
の版面観察で、アブレーションにより飛散した形跡はほ
とんど見られなかった。次いでハリス印刷機に取付け印
刷したところ、15,000部の汚れのない良好な印刷
物が得られた。
Example 4 A copolymer consisting of 2-hydroxyethyl methacrylate / methyl methacrylate = 70/30% by weight instead of 1 g of a 10% ethylene glycol monomethyl ether solution of 2-hydroxyethyl methacrylate homopolymer of Example 1 ( A heat-sensitive lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1, except that 1 g of a 10% ethylene glycol monomethyl ether solution having a weight average molecular weight of 200,000) was used. This original plate was exposed in the same manner as in Example 1. Observation of the plate surface after exposure showed almost no trace of scattering by ablation. Then, when mounted and printed on a Harris printing machine, 15,000 copies of good prints without stains were obtained.

【0098】実施例5 実施例1の2−ヒドロキシエチルメタクリレートホモポ
リマーの10%エチレングリコールモノメチルエーテル
溶液1gの代りに、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト90重量%/アクリル酸10重量%からなる共重合体
(重量平均分子量300,000)の10%エチレング
リコールモノメチルエーテル溶液2gに代えた以外は実
施例1と同様にして感熱性平版印刷用原板を得た。この
原板を実施例3と同様にして露光した。露光後の版面観
察で、アブレーションにより飛散した形跡はほとんど見
られなかった。次いでハリス印刷機に取付け印刷したと
ころ、20,000部の汚れのない良好な印刷物が得ら
れた。
Example 5 Instead of 1 g of a 10% ethylene glycol monomethyl ether solution of 2-hydroxyethyl methacrylate homopolymer of Example 1, a copolymer consisting of 90% by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate / 10% by weight of acrylic acid ( A heat-sensitive lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1, except that 2 g of a 10% ethylene glycol monomethyl ether solution having a weight average molecular weight of 300,000) was used. This original plate was exposed in the same manner as in Example 3. Observation of the plate surface after exposure showed almost no trace of scattering by ablation. Then, when mounted and printed on a Harris press, 20,000 copies of good printed matter without stains were obtained.

【0099】実施例6〜10 実施例1のオーバーコート層のポリアクリル酸の代り
に、実施例6ではポリメタクリル酸ナトリウム(重量平
均分子量15,000)、実施例7ではポリビニルアル
コール(ケン化度88モル%、重合度1000)、実施
例8ではポリー2−アクリルアミドー2−メチルー1−
プロパンスルホン酸(重量平均分子量15,000)、
実施例9ではポリアクリルアミド(重量平均分子量1
0,000)、そして実施例10ではポリアクリル酸の
5%水溶液20gの代わりにポリビニルアルコール(ケ
ン化度98.8モル%、重合度500)4.5%及びポ
リアクリル酸(重量平均分子量25,000)0.5%
の混合水溶液20gを用いた。その他は全て実施例1と
同様にして感熱性平版印刷用原板を得た。そして、この
原板を実施例1と同様にしてレーザー照射した。版面の
観察で、いずれの版も照射部分からのアブレーションに
より飛散した形跡はほとんど見られなかった。次いでハ
リス印刷機に取付け、実施例1と同様に印刷したとこ
ろ、それぞれ10,000部の汚れのない良好な印刷物
が得られた。
Examples 6 to 10 Instead of polyacrylic acid in the overcoat layer in Example 1, in Example 6, polysodium methacrylate (weight average molecular weight: 15,000), and in Example 7, polyvinyl alcohol (saponification degree) 88 mol%, degree of polymerization 1000), and in Example 8, poly-2-acrylamido-2-methyl-1-
Propanesulfonic acid (weight average molecular weight 15,000),
In Example 9, polyacrylamide (weight average molecular weight 1
000), and in Example 10, instead of 20 g of a 5% aqueous solution of polyacrylic acid, 4.5% of polyvinyl alcohol (98.8 mol% of saponification degree, polymerization degree of 500) and polyacrylic acid (weight average molecular weight of 25) were used. , 000) 0.5%
20 g of a mixed aqueous solution was used. In all other respects, a heat-sensitive planographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1. Then, the original plate was irradiated with laser in the same manner as in Example 1. Observation of the plate surface showed almost no trace of any plate scattered due to ablation from the irradiated portion. Then, it was attached to a Harris printing machine and printing was performed in the same manner as in Example 1. As a result, 10,000 copies of good printed matter without stain were obtained.

【0100】実施例11〜15 実施例1のN−(p−アミノスルホニルフエニル)メタ
クリルアミド共重合体の代りに実施例11ではフェノキ
シ樹脂(商品名フェノトートYP−50:東都化成
(株)製)、実施例12ではポリビニルホルマール樹脂
(商品名デンカホルマール#200:電気化学工業
(株)製)、実施例13ではポリウレタン樹脂(商品名
エスタン#5715:モンサント社製)、実施例14で
は飽和共重合ポリエステル樹脂(商品名ケミットK−1
294:東レ(株)製)、そして実施例15ではメチルメ
タクリレート/メタアクロキシプロピルトリエトキシシ
ラン=60/40重量%共重合体(平均重量分子量8
5,000)を用い、各々3.0重量部をメチルエチル
ケトン37重量部とプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル20重量部にからなる混合溶媒に溶解し、更にメ
ガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製
のフッ素系界面活性剤)0.04重量部をそれらの塗布
液に添加した。実施例1のアルミニウム基板に塗布液量
が24ml/m2になるようバー塗布した。その後、1
00℃、1分間加熱乾燥させ、乾燥塗布量約1g/m2
インキ受容層を有するアルミニウム基板を作製した。そ
して、実施例1の基板の代りに、これらの基板を用いた
以外は実施例1と同様にして感熱性平版印刷用原板を得
た。この原板を実施例1と同様にして露光したのちハリ
ス印刷機に取付け印刷したところ、それぞれ10,00
0部の汚れのない良好な印刷物が得られた。露光後の版
面観察で、アブレーションにより飛散した形跡はいずれ
の版でもほとんど見られなかった。
Examples 11 to 15 Instead of the N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide copolymer of Example 1, a phenoxy resin (trade name: Phenotote YP-50: Toto Kasei Co., Ltd.) was used in Example 11. Example 12), polyvinyl formal resin (trade name: Denka formal # 200: manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK) in Example 12, polyurethane resin (trade name: Estan # 5715, manufactured by Monsanto Co.) in Example 13, and saturation in Example 14 Copolyester resin (trade name Chemit K-1)
294: manufactured by Toray Industries, Inc.), and in Example 15, methyl methacrylate / methacryloxypropyltriethoxysilane = 60/40% by weight copolymer (average weight molecular weight 8
5,000) was dissolved in a mixed solvent consisting of 37 parts by weight of methyl ethyl ketone and 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether, and then Megafac F-177 (Dai Nippon Ink Chemical Industry Co., Ltd.) 0.04 parts by weight of a fluorinated surfactant manufactured by Co., Ltd.) were added to these coating solutions. The aluminum substrate of Example 1 was bar-coated so that the amount of the coating solution was 24 ml / m 2 . Then 1
The resultant was dried by heating at 00 ° C. for 1 minute to prepare an aluminum substrate having an ink receiving layer having a dry coating amount of about 1 g / m 2 . Then, a heat-sensitive lithographic printing original plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that these substrates were used instead of the substrates of Example 1. The original plate was exposed in the same manner as in Example 1, and then mounted on a Harris press and printed.
0 parts of a good printed matter without stain was obtained. Observation of the plate surface after exposure showed almost no trace of scattering by ablation on any plate.

【0101】実施例16〜18 実施例1のインキ受容性層塗布液を下記のように光熱変
換剤であるシアニン染料を追加した処方に代えてインキ
受容性基板の作製をした。 インキ受容性層塗布液処方 N−(p−アミノスルホニルフエニル)メタクリルアミド共重合体 3g シアニン染料 0.3g ガンマーブチロラクトン 9.5g 乳酸メチル 3g メチルエチルケトン 22.5g プロピレングリコールモノメチルエーテル 22g シアニン染料は、実施例16では本明細書記載の(I−
33)、実施例17では本明細書記載の(I−34)、
実施例18では本明細書記載の(I−37)を用いた。
Examples 16 to 18 Ink-receiving substrates were prepared by replacing the coating solution of the ink-receiving layer of Example 1 with a cyanine dye as a light-to-heat converting agent as described below. Formulation of coating liquid for ink-receiving layer N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide copolymer 3 g cyanine dye 0.3 g gamma-butyrolactone 9.5 g methyl lactate 3 g methyl ethyl ketone 22.5 g propylene glycol monomethyl ether 22 g In Example 16, (I-
33), Example 17 describes (I-34) described in the present specification,
In Example 18, (I-37) described in this specification was used.

【0102】この基板の上に実施例3と同じの親水層お
よびオーバーコート層を塗布して、感熱性印刷用原板を
作製した。この原板を実施例1と同じプレートセッター
で400mJ/cm2のエネルギーで露光したのちハリ
ス印刷機に取付け印刷したところ、それぞれ10,00
0部の汚れのない良好な印刷物が得られた。アブレーシ
ョンによる飛散の形跡は、露光後の版面観察でいずれの
版でもほとんど見られなかった。
The same hydrophilic layer and overcoat layer as in Example 3 were applied on this substrate to prepare a heat-sensitive printing original plate. The original plate was exposed at an energy of 400 mJ / cm 2 using the same plate setter as in Example 1 and then mounted on a Harris printer to print.
0 parts of a good printed matter without stain was obtained. Evidence of scattering due to ablation was scarcely observed in any of the plates by plate observation after exposure.

【0103】実施例19 実施例1のアルミニウム基板の代わりに0.2mmのポ
リエチレンテレフタレートフィルムを用いた。その他は
すべて実施例1と同様にして感熱性平版印刷用原板を得
た。この原板を実施例1と同様にして露光したのちハリ
ス印刷機に取付け印刷したところ、それぞれ10,00
0部の汚れのない良好な印刷物が得られた。アブレーシ
ョンよる飛散の形跡は、露光後の版面観察でほとんど見
られなかった。
Example 19 Instead of the aluminum substrate of Example 1, a 0.2 mm polyethylene terephthalate film was used. In all other respects, a heat-sensitive planographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1. The original plate was exposed in the same manner as in Example 1, and then mounted on a Harris press and printed.
0 parts of a good printed matter without stain was obtained. Evidence of scattering due to ablation was scarcely observed in the plate surface after exposure.

【0104】実施例20 下記塗布液を24ml/m2になるようバーコーターで
実施例1のアルミニウム基板上に塗布し、その後、10
0℃、1分間加熱乾燥させることで乾燥塗布量約1g/
2のインキ受容層を有するアルミニウム基板得た。
Example 20 The following coating solution was applied to the aluminum substrate of Example 1 with a bar coater so as to be 24 ml / m 2.
By heating and drying at 0 ° C for 1 minute, the dry coating amount is about 1g /
An aluminum substrate having an m 2 ink receiving layer was obtained.

【0105】 インキ受容層用塗布液: N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド/アクリロニトリル/ベンジ ルアクリレート/メタクリル酸=26/13/49/12重量部からなる共重合 体(重量平均分子量75,000) 3g 4−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物のPF6塩 0.3g ロイコクリスタルバイオレット 0.15g メタノール 10g エチレングリコールモノメチルエーテル 17gCoating solution for ink receiving layer: N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide / acrylonitrile / benzyl acrylate / methacrylic acid = 26/13/49/12 parts by weight of a copolymer (weight average molecular weight 75, 000) 3 g PF 6 salt of condensate of 4-diazodiphenylamine and formaldehyde 0.3 g Leuco crystal violet 0.15 g Methanol 10 g Ethylene glycol monomethyl ether 17 g

【0106】次にこの基板を3KWのUVランプで全面
に露光し、三次元架橋させた。この基板を実施例1のイン
キ受容層が塗布されたアルミニウム基板代わりに用い
た。その他はすべて実施例1と同様にして感熱性平版印
刷用原板を得た。この印刷用原板を実施例1と同様にし
て露光したのちハリス印刷機に取付け印刷したところ、
10,000部の汚れのない良好な印刷物が得られた。
アブレーションによる飛散の形跡は、露光後の版面観察
でほとんど見られなかった。
Next, the entire surface of the substrate was exposed with a 3 KW UV lamp to effect three-dimensional crosslinking. This substrate was used in place of the aluminum substrate coated with the ink receiving layer of Example 1. In all other respects, a heat-sensitive planographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1. After exposing this printing plate in the same manner as in Example 1, the plate was attached to a Harris press and printed.
10,000 parts of a good printed matter free of stains were obtained.
Evidence of scattering due to ablation was scarcely observed in the plate surface after exposure.

【0107】実施例21 下記の組成からなる塗布液を、実施例1のインキ受容層
を塗布した基板上に塗布液量24ml/m2になるよう
塗布した。その後100℃、1分間乾燥させ、約1g/
m2の乾燥塗布重量を有する三次元架橋したた親水層を得
た。更に、この上に実施例1のオーバーコー層を設け感
熱性平版印刷用原板を得た。この原板を実施例1と同様
にして露光したのちハリス印刷機に取付け印刷したとこ
ろ、20,000部の汚れのない良好な印刷物が得られ
た。アブレーションによる飛散の形跡は、露光後の版面
観察でほとんど見られなかった。
Example 21 A coating solution having the following composition was applied on the substrate coated with the ink receiving layer of Example 1 so that the coating solution amount was 24 ml / m 2 . After that, it was dried at 100 ° C. for 1 minute, and about 1 g /
A three-dimensionally crosslinked hydrophilic layer having a dry coating weight of m 2 was obtained. Further, the overcoat layer of Example 1 was provided thereon to obtain a heat-sensitive lithographic printing original plate. The original plate was exposed in the same manner as in Example 1 and then mounted on a Harris press to print. As a result, 20,000 copies of a good printed matter free of stains were obtained. Evidence of scattering due to ablation was scarcely observed in the plate surface after exposure.

【0108】 親水層用塗布液組成: 2−ヒドロキシエチルメタクリレートホモポリマー(重量平均分子量250,0 00)のエチレングリコールモノメチルエーテル10%溶液 1g メタノールシリカ(日産化学製:10nm〜20nmのシリカ粒子を30重量 %含有するメタノール溶液からなるコロイド) 3g アミノプロピルトリエトキシシラン 0.05g シアニン色素(I−32) 0.13g メタノール 16gComposition of coating liquid for hydrophilic layer: 1 g of a 10% solution of 2-hydroxyethyl methacrylate homopolymer (weight average molecular weight: 250,000) in ethylene glycol monomethyl ether 1 g methanol silica (manufactured by Nissan Chemical: silica particles of 10 to 20 nm: 30) (A colloid consisting of a methanol solution containing 0.1% by weight) 3 g Aminopropyltriethoxysilane 0.05 g Cyanine dye (I-32) 0.13 g Methanol 16 g

【0109】実施例22 N−(p−アミノスルホニルフエニル)メタクリルアミ
ド/メタクリル酸メチル/アクリロニトリル/2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート=40/10/30/20
重量%共重合体3gをエチレングリコールモノメチルエ
ーテル50gとメチルエチルケトン47gよりなる混合
溶媒に溶かし、実施例1で使用したアルミニウム基板上
に20ml/m2になるよう塗布した。塗布後、100
℃、1分間乾燥させ、乾燥塗布重量約0.6g/m2のイ
ンキ受容層を有するアルミニウム基板を作成した。
Example 22 N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / methyl methacrylate / acrylonitrile / 2-hydroxyethyl methacrylate = 40/10/30/20
3 g of the weight-% copolymer was dissolved in a mixed solvent consisting of 50 g of ethylene glycol monomethyl ether and 47 g of methyl ethyl ketone, and applied to the aluminum substrate used in Example 1 so as to have a concentration of 20 ml / m 2 . After application, 100
° C., dried for 1 minute, and an aluminum substrate having an ink-receiving layer having a dry coating weight of about 0.6 g / m 2.

【0110】次に、テトラエトキシシラン18g、エタノ
ール32g、純水32g及び硝酸0.02gをビーカー
を入れ、室温下1時間攪拌させゾル液を作成した。この
ゾル液3g、ポリビニルアルコール(商品名PVA11
7:クラレ(株)製)の10%水溶液4g、コロイダルシ
リカ20%水溶液(商品名スノーテックスC:日産化学
(株)製)8g、シアニン色素(I−31)0.10
g、純水8g及びポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテール0.04gからなる塗布液を、上記のインキ受
容層を塗布したアルミニウム基板上にバーを用いて20
ml/m2になるよう塗布した。塗布後、100℃、5分
間乾燥させた乾燥塗布重量約2g/m2の親水層を設け
た。次に、実施例3で用いたオーバーコート層を実施例
3と同様にして上記の親水層上に設け感熱性平版印刷用
原板を得た。この原板をカナダCREO社の40Wトレ
ンドセッター(40Wの830nm半導体レーザーを搭
載プレートセッター)に取付け、600mJ/cm2
エネルギーを照射した。露光した印刷版をハリス印刷機
に取付け印刷したところ、40,000部の汚れのない
良好な印刷物が得られた。アブレーションによる飛散の
形跡は、露光後の版面観察でほとんど見られなかった。
Next, 18 g of tetraethoxysilane, 32 g of ethanol, 32 g of pure water and 0.02 g of nitric acid were placed in a beaker and stirred at room temperature for 1 hour to prepare a sol solution. 3 g of this sol solution, polyvinyl alcohol (trade name PVA11)
7: 4 g of a 10% aqueous solution of Kuraray Co., Ltd., 8 g of a 20% aqueous solution of colloidal silica (trade name: Snowtex C: manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), and cyanine dye (I-31) 0.10
g, 8 g of pure water and 0.04 g of polyoxyethylene nonylphenyl ether, using a bar on an aluminum substrate coated with the above ink receiving layer, using a bar.
It was applied so as to be ml / m 2 . After the coating, a hydrophilic layer having a dry coating weight of about 2 g / m 2 was dried at 100 ° C. for 5 minutes. Next, the overcoat layer used in Example 3 was provided on the hydrophilic layer in the same manner as in Example 3 to obtain a heat-sensitive lithographic printing original plate. The original plate was mounted on a 40 W trend setter (a plate setter equipped with a 830 nm semiconductor laser of 40 W, manufactured by Creo Canada), and irradiated with energy of 600 mJ / cm 2 . When the exposed printing plate was mounted on a Harris printing machine and printed, 40,000 copies of good printed matter without stain were obtained. Evidence of scattering due to ablation was hardly observed in the plate surface observation after exposure.

【0111】[0111]

【発明の効果】本発明によれば、従来のレーザー露光を
用いるヒートモードの製版方法の欠点を解決することが
出来る。即ち、本発明の平版印刷用原板を用いることに
より、短時間での走査露光が可能で、その上現像処理を
行うことなく直接に印刷機に装着して印刷することが可
能である。更に得られた印刷版は、耐刷性に優れ、印刷で
の汚れも少ない。更に、レーザー露光時、感熱層のアブ
レーション(飛散)が抑えられ、光学系など露光装置の
汚染も有効に回避することが出来る。
According to the present invention, the disadvantages of the conventional heat mode plate making method using laser exposure can be solved. That is, by using the lithographic printing original plate of the present invention, scanning exposure can be performed in a short time, and further, it is possible to mount the lithographic printing plate directly on a printing machine and perform printing without performing development processing. Further, the obtained printing plate is excellent in printing durability and less stained in printing. Further, at the time of laser exposure, ablation (scattering) of the heat-sensitive layer is suppressed, and contamination of an exposure apparatus such as an optical system can be effectively avoided.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/11 G03F 7/11 (72)発明者 大橋 秀和 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA00 AA12 AB03 AC08 AD01 AD03 BH01 CB14 CB45 CC20 DA01 DA36 DA37 FA10 2H096 AA07 AA08 BA16 CA20 EA04 GA45 2H114 AA04 AA24 AA27 AA28 AA30 BA01 BA10 DA03 DA05 DA08 DA32 DA34 DA43 DA46 DA50 DA53 DA55 DA56 DA57 DA59 DA60 DA61 DA79 EA01 EA02 EA03 EA06 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) G03F 7/11 G03F 7/11 (72) Inventor Hidekazu Ohashi 4000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture Fujifilm Shin Film Corporation F term (reference) 2H025 AA00 AA12 AB03 AC08 AD01 AD03 BH01 CB14 CB45 CC20 DA01 DA36 DA37 FA10 2H096 AA07 AA08 BA16 CA20 EA04 GA45 2H114 AA04 AA24 AA27 AA28 AA30 BA01 BA10 DA03 DA53 DA57 DA53 DA53 DA53 DA53 DA53 DA53 DA53 DA53 DA57 DA61 DA79 EA01 EA02 EA03 EA06

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 インキ受容性表面を有するか又はインキ
受容層が塗布されている基板上に、加熱部が印刷時湿し
水又はインキによって容易に除去される三次元架橋した
親水層及び水溶性オーバーコート層を順次設けた感熱性
平版印刷版用原板であって、光熱変換剤を架橋した親水
層及び/又はインキ受容性層に含有する感熱性平版印刷
版用原板。
1. A three-dimensionally cross-linked hydrophilic layer whose heating part is easily removed by a fountain solution or ink during printing, and a water-soluble material on a substrate having an ink-receiving surface or coated with an ink-receiving layer. A heat-sensitive lithographic printing plate precursor provided with an overcoat layer sequentially, wherein the heat-sensitive lithographic printing plate precursor contains a photothermal conversion agent in a crosslinked hydrophilic layer and / or ink-receiving layer.
【請求項2】 架橋した親水層が、ベリリウム、マグネ
シウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニ
ウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモ
ン及び遷移金属の酸化物又は水酸化物から選択される少
なくとも一つの化合物のコロイドを含有することを特徴
とする請求項1記載の感熱性平版印刷版用原板。
2. The crosslinked hydrophilic layer is at least one selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony and transition metal oxides or hydroxides. 2. The heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to claim 1, comprising a colloid of one compound.
【請求項3】 架橋した親水層が、ベリリウム、マグネ
シウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニ
ウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモ
ン及び遷移金属の酸化物又は水酸化物から選択される少
なくとも一つの化合物のコロイドと親水性樹脂を含有す
ることを特徴とする請求項1記載の感熱性平版印刷版用
原板。
3. The crosslinked hydrophilic layer is at least one selected from oxides or hydroxides of beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony and transition metals. The heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to claim 1, comprising a colloid of two compounds and a hydrophilic resin.
【請求項4】 親水性樹脂がヒドロキシアルキルアクリ
レート又はヒドロキシアルキルメタクリレートの単独又
は共重合体である請求項3記載の感熱性平版印刷版用原
板。
4. The heat-sensitive lithographic printing plate precursor according to claim 3, wherein the hydrophilic resin is a homo- or copolymer of hydroxyalkyl acrylate or hydroxyalkyl methacrylate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6878503B2 (en) 2001-10-10 2005-04-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor

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