JP2001081072A - スルホニルジアルキルカルボン酸エステル誘導体、その製造方法および用途 - Google Patents

スルホニルジアルキルカルボン酸エステル誘導体、その製造方法および用途

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JP2001081072A JP25788899A JP25788899A JP2001081072A JP 2001081072 A JP2001081072 A JP 2001081072A JP 25788899 A JP25788899 A JP 25788899A JP 25788899 A JP25788899 A JP 25788899A JP 2001081072 A JP2001081072 A JP 2001081072A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 それ自体熱安定性にすぐれ、かつ酸化分解を
受けやすい有機物質に対して有効な酸化防止能力を有す
る新規化合物およびその製造方法の提供。 【解決手段】 下記一般式(1) 【化1】 (式中、Rは、水素原子、直鎖または分岐のアルキル
基およびアリール基よりなる群から選ばれた基であり、
は、水素原子および直鎖のアルキル基よりなる群か
ら選ばれた基であり、Rは、分岐のアルキル基よりな
る群から選ばれた基である。)で示されるスルホニルジ
アルキルカルボン酸エステル誘導体、その製造方法およ
び用途。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、スルホニルジアル
キルカルボン酸エステル誘導体、該化合物からなる有機
物質の安定剤、および前記スルホニルジアルキルカルボ
ン酸エステル誘導体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】天然高分子、合成高分子、油脂或いは潤
滑油等の有機物質の酸化による劣化を防止するために、
現在多くの酸化防止剤が使用されている。代表的な酸化
防止剤としては、ヒンダードフェノール系、有機イオウ
系、有機リン系、芳香族アミン系等が挙げられる。これ
らは、単独で或いは複数の組み合わせで用いると効果が
あるとされている。従来知られている酸化防止剤の多く
は、酸化防止効率は優れているが、有機高分子材料に練
り込んで加熱、加工する際に、一部分解や揮散したり、
加工後成型品として使用する際に、徐々に揮発飛散する
問題がある。
【0003】これを改善するために、酸化防止剤を高分
子量化したり、不揮発性官能基を付加することにより、
揮発、飛散の欠点を改良する試みが行われてきたが、酸
化防止効率の点で十分に満足できるものではなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、それ自体熱安定性にすぐれ、かつ酸化分解を受けや
すい有機物質に対して有効な酸化防止能力を有する新規
化合物およびその製造方法を提供する点にある。
【0005】本発明の第二の目的は、前記新規化合物を
含む有機物質組成物を提供する点にある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、下記一
般式(1)
【化11】 (式中、Rは、水素原子、直鎖または分岐のアルキル
基およびアリール基よりなる群から選ばれた基であり、
は、水素原子および直鎖のアルキル基よりなる群か
ら選ばれた基であり、Rは、分岐のアルキル基よりな
る群から選ばれた基である。)で示されるスルホニルジ
アルキルカルボン酸エステル誘導体に関する。
【0007】本発明の第二は、請求項1記載のスルホニ
ルジアルキルカルボン酸エステル誘導体からなる有機物
質用酸化防止剤に関する。
【0008】本発明の第三は、請求項1記載のスルホニ
ルジアルキルカルボン酸エステル誘導体を含有する有機
物質組成物に関する。
【0009】本発明の第四は、下記一般式(2)
【化12】 (式中、RおよびRは前記と同一である。)で示さ
れるスルホニルジアルキルカルボン酸と、下記一般式
(3)
【化13】 (式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、Rは前
記と同一である。)で示されるヒドロキシベンジルハラ
イド誘導体を有機溶剤中で、脱酸剤の存在下に反応させ
ることを特徴とする下記一般式(1)
【化14】 (式中、R、RおよびRは前記と同一である。)
で示されるスルホニルジアルキルカルボン酸エステル誘
導体を製造する方法に関する。
【0010】本発明の第五は、下記一般式(4)
【化15】 (式中、Mはアルカリ金属であり、RおよびRは前
記と同一である。)で示されるスルホニルジアルキルカ
ルボン酸誘導体のアルカリ金属塩と、下記一般式(3)
【化16】 (式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、Rは前
記と同一である。)で示されるヒドロキシベンジルハラ
イド誘導体を有機溶剤中、直接的に反応させることを特
徴とする下記一般式(1)
【化17】 (式中、R、RおよびRは前記と同一である。)
で示されるスルホニルジアルキルカルボン酸エステル誘
導体を製造する方法に関する。
【0011】本発明の第六は、下記一般式(2)
【化18】 (式中、RおよびRは前記と同一である。)で示さ
れるスルホニルジアルキルカルボン酸誘導体と、下記一
般式(5)
【化19】 (式中、Rは前記と同一である。)で示されるヒドロ
キシベンジルアルコール誘導体を有機溶剤中で、エステ
ル化触媒の存在下に反応させることを特徴とする下記一
般式(1)
【化20】 (式中、R、RおよびRは前記と同一である。)
で示されるスルホニルジアルキルカルボン酸エステル誘
導体を製造する方法に関する。
【0012】前記Rにおける直鎖または分岐のアルキ
ル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチ
ル基などを挙げることができるが、その炭素数は1〜4
のものが好ましく、アリール基の例としては、フェニル
基、4−メトキシフェニル基、などのアルコキシ置換フ
ェニル基、4−メチルフェニル基などのアルキル置換フ
ェニル基などを挙げることができる。前記Rにおける
直鎖のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、n−ブチル基などを挙げることができ
るが、その炭素数は1〜2のものが好ましい。前記R
における分岐のアルキル基の例としては、iso−プロ
ピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、1,
1−ジメチルプロピル基、1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル基などを挙げることができるがその炭素数は1
〜8のものが好ましい。
【0013】本発明の反応に用いる溶媒としては、通常
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジエチルエーテ
ル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4
−ジオキサン、ジクロロエチレン、クロロホルム、酢酸
エステル類などを挙げることができる。これらは1種単
独または2種以上混合して使用される。かかる溶媒の使
用量は特に制限されるものではなく、撹拌の容易さ、基
質の溶解度に応じて適宜選択することができる。
【0014】前記脱酸剤としては、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピペリ
ジン、モルホリン、ピリジン、ナトリウムアミド、カリ
ウムアミド、ナトリウムアルコキシド、カリウムアルコ
キシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水
素アンモニウム、炭酸カルシウム、酸化カルシウムなど
を挙げることができる。
【0015】前記エステル化触媒としては、p−トルエ
ンスルホン酸が好ましく、他に、シュウ酸、酢酸亜鉛、
塩酸、硫酸等、通常用いられるエステル化触媒を用いて
もよい。
【0016】反応温度は室温から溶媒の沸点付近で実施
するが、好ましくは40〜80℃で実施するのがよい。
【0017】本発明の前記一般式(1)により安定化さ
れる有機物質としては、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリブチレン、ポリイソプレンなどのα−オレフィ
ンのホモポリマーあるいはコポリマー等のポリ−α−オ
レフィン類、ハロゲン化ビニル、ビニルエステル類、
α,β−不飽和ケトン類、α,β−不飽和アルデヒド
類、α,β−不飽和ニトリル酸、α,β−不飽和酸類、
その他エステル類、ジエン類、スチレン類などの不飽和
炭化水素のホモポリマーあるいはコポリマー、ポリオー
ル類、ポリイソシアネート類からなるポリウレタン類、
ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリア
セタール、ポリスチレン、ポリエチレンオキシドなどの
合成高分子、半合成高分子、天然高分子などの高分子物
質がある。また、本発明化合物による安定化される他の
有機物質としては、例えば、油脂、塗料等に使用される
動植物性油、各種揮発油、天然および合成機械油、鉱
油、燃料油、切削油、ワックス等の炭化水素系物質が挙
げられる。
【0018】本発明の下記一般式(1)
【化21】 (式中、Rは、水素原子、直鎖または分岐のアルキル
基およびアリール基よりなる群から選ばれた基であり、
は、水素原子および直鎖のアルキル基よりなる群か
ら選ばれた基であり、Rは、分岐のアルキル基よりな
る群から選ばれた基である。とくにRの分岐アルキル
基の存在により酸化防止剤としての機能を発揮する。)
で表されるスルホニルジアルキルカルボン酸エステル誘
導体の具体例としては、例えば、下記の化合物を挙げる
ことができる。
【0019】ビス(4−tert−ブチル−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル)−3,3′−スルホ
ニルジプロピオネート、ビス(4−tert−ブチル−
3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−2,
2′−ジメチル−3,3′−スルホニルジプロピオネー
ト、ビス(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル)−3,3′−スルホニルジ
ブチレート、ビス(4−tert−ブチル−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル)−2,2′−ジメチ
ル−3,3′−スルホニルジブチレート、ビス(4−t
ert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベ
ンジル)−3,3′−スルホニルジバレレート、ビス
(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジ
メチルベンジル)−4,4′−ジメチル−3,3′−ス
ルホニルジバレレート、ビス(4−tert−ブチル−
3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−3,
3′−スルホニルジカプロエート、ビス(4−tert
−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−4,4′−ジメチル−3,3′−スルホニルジカ
プロエート、ビス(4−tert−ブチル−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル)−5,5′−ジメチ
ル−3,3′−スルホニルジカプロエート、ビス(4−
iso−プロピル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル
ベンジル)−3,3′−スルホニルジプロピオネート、
ビス(4−iso−プロピル−3−ヒドロキシ−2,6
−ジメチルベンジル)−2,2′−ジメチル−3,3′
−スルホニルジプロピオネート、ビス(4−iso−プ
ロピル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)
−3,3′−スルホニルジブチレート、ビス(4−is
o−プロピル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)−2,2′−ジメチル−3,3′−スルホニルジ
ブチレート、ビス(4−iso−プロピル−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル)−3,3′−スルホ
ニルジバレレート、ビス(4−iso−プロピル−3−
ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−4,4′−
ジメチル−3,3′−スルホニルジバレレート、ビス
(4−iso−プロピル−3−ヒドロキシ−2,6−ジ
メチルベンジル)−3,3′−スルホニルジカプロエー
ト、ビス(4−iso−プロピル−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル)−4,4′−ジメチル−
3,3′−スルホニルジカプロエート、ビス(4−is
o−プロピル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)−5,5′−ジメチル−3,3′−スルホニルジ
カプロエート、ビス(4−iso−ブチル−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル)−3,3′−スルホ
ニルジプロピオネート、ビス(4−sec−ブチル−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−3,3′
−スルホニルジプロピオネート、ビス(4−sec−ブ
チル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−
2,2′−ジメチル−3,3′−スルホニルジプロピオ
ネート、ビス(4−sec−ブチル−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル)−3,3′−スルホニルジ
ブチレート、ビス(4−sec−ブチル−3−ヒドロキ
シ−2,6−ジメチルベンジル)−2,2′−3,3′
−スルホニルジブチレート、ビス(4−sec−ブチル
−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−3,
3′−スルホニルジバレレート、ビス(4−sec−ブ
チル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−
4,4′−ジメチル−3,3′−スルホニルジバレレー
ト、ビス(4−sec−ブチル−3−ヒドロキシ−2,
6−ジメチルベンジル)−3,3′−スルホニルジカプ
ロエート、ビス(4−sec−ブチル−3−ヒドロキシ
−2,6−ジメチルベンジル)−4,4′−ジメチル−
3,3′−スルホニルジカプロエート、ビス(4−se
c−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−5,5′−ジメチル−3,3′−スルホニルジカ
プロエート、ビス[4−(1,1−ジメチルプロピル)
−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル]−3,
3′−スルホニルジプロピオネート、ビス[4−(1,
1−ジメチルプロピル)−3−ヒドロキシ−2,6−ジ
メチルベンジル]−2,2′−ジメチル−3,3′−ス
ルホニルジプロピオネート、ビス[4−(1,1−ジメ
チルプロピル)−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベ
ンジル]−3,3′−スルホニルジブチレート、ビス
[4−(1,1−ジメチルプロピル)−3−ヒドロキシ
−2,6−ジメチルベンジル]−2,2′−ジメチル−
3,3′−スルホニルジブチレート、ビス[4−(1,
1−ジメチルプロピル)−3−ヒドロキシ−2,6−ジ
メチルベンジル]−3,3′−スルホニルジバレレー
ト、ビス[4−(1,1−ジメチルプロピル)−3−ヒ
ドロキシ−2,6−ジメチルベンジル]−4,4′−ジ
メチル−3,3′−スルホニルジバレレート、ビス[4
−(1,1−ジメチルプロピル)−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル]−3,3′−スルホニルジ
カプロエート、ビス[4−(1,1−ジメチルプロピ
ル)−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル]−
4,4′−ジメチル−3,3′−スルホニルジカプロエ
ート、ビス[4−(1,1−ジメチルプロピル)−3−
ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル]−5,5′−
ジメチル−3,3′−スルホニルジカプロエート、ビス
[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−3−
ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル]−3,3′−
スルホニルジプロピオネート、ビス[4−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)−3−ヒドロキシ−2,
6−ジメチルベンジル]−2,2′−ジメチル−3,
3′−スルホニルジプロピオネート、ビス[4−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル]−3,3′−スルホニルジ
ブチレート、ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル)−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル]−2,2′−ジメチル−3,3′−スルホニルジブ
チレート、ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチル
ブチル)−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル]−3,3′−スルホニルジバレレート、ビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル]−4,4′−ジメチ
ル−3,3′−スルホニルジバレレート、ビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル]−3,3′−スルホ
ニルジカプロエート、ビス[4−(1,1,3,3−テ
トラメチルブチル)−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル]−4,4′−ジメチル−3,3′−スルホ
ニルジカプロエート、ビス[4−(1,1,3,3−テ
トラメチルブチル)−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル]−5,5′−ジメチル−3,3′−スルホ
ニルジカプロエート、ビス(4−tert−ブチル−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−3,3′
−ジフェニル−3,3′−スルホニルジプロピオネー
ト、ビス(4−iso−プロピル−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル)−3,3′−ジフェニル−
3,3′−スルホニルジプロピオネート、ビス(4−i
so−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)−3,3′−ジフェニル−3,3′−スルホニル
ジプロピオネート、ビス(4−sec−ブチル−3−ヒ
ドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−3,3′−ジ
フェニル−3,3′−スルホニルジプロピオネート、ビ
ス〔4−(1,1−ジメチルプロピル)−3−ヒドロキ
シ−2,6−ジメチルベンジル〕−3,3′−ジフェニ
ル−3,3′−スルホニルジプロピオネート、ビス〔4
−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−3−ヒド
ロキシ−2,6−ジメチルベンジル〕−3,3′−ジフ
ェニル−3,3′−スルホニルジプロピオネート。
【0020】下記一般式(2)
【化22】 (式中、RおよびRは前記と同一である。)の化合
物の具体例としては、つぎの化合物群を例示することが
できる。
【0021】3,3′−スルホニルジプロピオン酸、
2,2′−ジメチル−3,3′−スルホニルジプロピオ
ン酸、3,3′−スルホニルジラク酸、2,2′−ジメ
チル−3,3′−スルホニルジラク酸、3,3′−スル
ホニルジバレリアン酸、4,4′−ジメチル−3,3′
−スルホニルジバレリアン酸、3,3′−スルホニルジ
カプロン酸、4,4′−ジメチル−3,3′−スルホニ
ルジカプロン酸、5,5′−ジメチル−3,3′−スル
ホニルジカプロン酸、3,3′−ジフェニル−3,3′
−スルホニルジプロピオン酸。
【0022】下記一般式(3)
【化23】 (式中、Xは塩素原子、または臭素原子を表し、R
前記と同一である。)の化合物の具体例としては、つぎ
の化合物群を例示することができる。
【0023】4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル クロライド、4−tert
−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル
ブロマイド、4−iso−プロピル−3−ヒドロキシ
−2,6−ジメチルベンジル クロライド、4−iso
−プロピル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル ブロマイド、4−sec−ブチル−3−ヒドロキシ
−2,6−ジメチルベンジル クロライド、4−sec
−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル
ブロマイド、4−(1,1−ジメチルプロピル)−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル クロライ
ド、4−(1,1−ジメチルプロピル)−3−ヒドロキ
シ−2,6−ジメチルベンジル ブロマイド、4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル クロライド、4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル ブロマイド。
【0024】下記一般式(4)
【化24】 (式中、Mはナトリウムまたはカリウム金属を表し、R
およびRは前記と同一である。)の化合物の具体例
としては、つぎの化合物群を例示することができる。
【0025】3,3′−スルホニルジプロピオン酸、
2,2′−ジメチル−3,3′−スルホニルジプロピオ
ン酸、3,3′−スルホニルジラク酸、2,2′−ジメ
チル−3,3′−スルホニルジラク酸、3,3′−スル
ホニルジバレリアン酸、4,4′−ジメチル−3,3′
−スルホニルジバレリアン酸、3,3′−スルホニルジ
カプロン酸、4,4′−ジメチル−3,3′−スルホニ
ルジカプロン酸、5,5′−ジメチル−3,3′−スル
ホニルジカプロン酸などのナトリウムまたはカリウム
塩。
【0026】下記一般式(5)
【化25】 (式中、Rは前記と同一である。)の化合物の具体例
としては、つぎの化合物群を例示することができる。
【0027】4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル アルコール、4−iso−
プロピル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル
アルコール、4−sec−ブチル−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル アルコール、4−(1,1
−ジメチルプロピル)−3−ヒドロキシ−2,6−ジメ
チルベンジル アルコール、4−(1,1,3,3−テ
トラメチルブチル)−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル アルコール。
【0028】本発明の前記一般式(1)に示される化合
物の有機物質への添加量は有機物質の種類により異なる
が、0.005%以下ではその効果はあまり期待でき
ず、5%以上ではいくら加えてもその効果の向上に貢献
しない。すなわち安定化させようとする有機物質の重量
に対して0.005〜5重量%濃度で使用するのが好ま
しいが、0.01〜2重量%の添加が望ましい。
【0029】一般式(1)で表される化合物によって安
定化された有機高分子物質は、例えば、慣用の添加物を
さらに含有してもよく、例えば、酸化防止剤、光安定
剤、金属不活性化剤、過酸化物スカベンジャーを含有し
てもよい。
【0030】酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ
−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2−te
rt−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−te
rt−ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−t
ert−ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−
ジ−tert−ブチル−4−イソブチルフェノール、
2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノール、2
−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフ
ェノール、2,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノ
ール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、
2,6−ジノニル−4−メチルフェノール、2,6−ジ
−t−ブチル−4−メトキシメチルフェノール、2,4
−ジメチル−6−(1′−メチルウンデシ−1′−イ
ル)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−メチ
ルヘプタデシ−1′−イル)フェノール、2,4−ジメ
チル−6−(1′−メチルトリデシ−1′−イル)フェ
ノール及びそれらの混合物、2,4−ジオクチルチオメ
チル−6−tert−ブチルフェノール、2,4−ジオ
クチルチオメチル−6−メチルフェノール、2,4−ジ
オクチルチオメチル−6−エチルフェノール、2,6−
ジドデシルチオメチル−4−ノニルフェノール及びそれ
らの混合物、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メト
キシフェノール、2,5−ジ−tert−ブチルヒドロ
キノン、2,5−ジ−tert−アミルヒドロキノン、
2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノー
ル、2,6−ジ−tert−ブチルヒドロキノン、2,
5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニソー
ル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルステアレート、ビス(3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)アジペート及びそれら
の混合物、2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニ
リノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカ
プト−4,6−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、
2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,
3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(3,5−ジ
−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−
1,2,3−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5
−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イ
ソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−tert−
ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)
イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−
1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5
−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル)ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、
1,3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−
ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート等およびそれら
の混合物、2,2′−メチレンビス(6−tert−ブ
チル−4−メチルフェノール)、2,2′−メチレンビ
ス(6−tert−ブチル−4−エチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチ
ルシクロヘキシル)フェノール]、2,2′−メチレン
ビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェ
ノール)、2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−te
rt−ブチルフェノール)、2,2′−エチリデンビス
(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,
2′−エチリデンビス(6−tert−ブチル−4−イ
ソブチルフェノール)、4,4′−メチレンビス[6−
(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、
2,2′−メチレンビス[6−α,α−ジメチルベンジ
ル)−4−ノニルフェノール]、4,4′−メチレンビ
ス(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、4,
4′−メチレンビス(6−tert−ブチル−2−メチ
ルフェノール)、1,1−ビス(5−tert−ブチル
−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,
6−ビス(3−tert−ブチル−5−メチル−2−ヒ
ドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,
3−トリス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)
−3−n−ドデシルメルカプタン、エチレングリコール
ビス[3,3′−ビス(3′−tert−ブチル−4′
−ヒドロキシフェニル)ブチレート]、ビス(3−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3′−tert−
ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−
6−tert−ブチル−4−メチルフェニル]テレフタ
レート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロ
キシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−t
ert−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−
ビス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メ
チルフェニル−4−n−ドデシルメルカプタン、1,
1,5,5−テトラ(5−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン等およびそれら
の混合物、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert
−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−ト
リメチルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,
6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,
5−ジ−tert−4−ヒドロキシベンジル)−フェノ
ール等およびそれらの混合物、4−ヒドロキシラウリン
酸アニリド、4−ヒドロキシステアリン酸アニリド、オ
クチル N−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)カルバメート等およびそれらの混合
物、ジメチル 2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、ジエチル 3,5−ジ
−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネ
ート、ジオクタデシル 3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル
3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ルホスホン酸 カルシウム塩等およびそれらの混合物、
3,5,3′,5′−テトラ−tert−ブチル−4,
4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル
4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプ
トアセテート、トリス(3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)アミン、ビス(4−ter
t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル) ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)スルフィド、
イソオクチル 3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジルメルカプトアセテート等およびそれら
の混合物、ジオクタデシル 2,2−ビス(3,5−ジ
−tert−ブチル−2−ヒドロキシベンジル)マロネ
ート、ジオクタデシル 2−(3−tert−ブチル−
4−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)マロネート、ジ
ドデシルメルカプトエチル2,2−ビス(3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネー
ト、ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−tert
−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート等およ
びそれらの混合物、β−(3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸と以下の一
価または多価アルコールとのエステル;アルコールの例
としては、例えば、メタノール、エタノール、オクタデ
カノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナン
ジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエ
チル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホス
ファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2,2,2]
オクタン等およびそれらの混合物、β−(5−tert
−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロ
ピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステ
ル;アルコールの例としては、例えば、メタノール、エ
タノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオー
ル、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、
1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビ
ス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2,2,2]オクタン等およびそれらの混合物、β
−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシ)プロ
ピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステ
ル;アルコールの例としては、例えば、メタノール、エ
タノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオー
ル、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、
1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビ
ス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2,2,2]オクタン等およびそれらの混合物、
3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル酢酸と以下の一価または多価アルコールとのエステ
ル;アルコールの例としては、例えば、メタノール、エ
タノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオー
ル、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、
1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビ
ス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2,2,2]オクタン等およびそれらの混合物、
N,N′−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジア
ミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレン
ジアミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジ
ン等およびそれらの混合物等が挙げられる。
【0031】光安定剤としては、例えば、2−(2′−
ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(3′,5′−ジ−tert−ブチル−2′−
ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(5′
−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−〔2′−ヒドロキシ−5′−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル〕ベ
ンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ−tert−
ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベン
ゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−2′
−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−4′−オ
クトキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,
5′−ジ−tert−アミル−2′−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−[3′,5′−ビス
(α,α−ジメチルベンジル)−2′−ヒドロキシフェ
ニル]ベンゾトリアゾール、2−[3′−tert−ブ
チル−2′−ヒドロキシ−5′−(2′−オクチルオキ
シカルボニルエチル)フェニル]−5−クロロベンゾト
リアゾール、2−(3′−tert−ブチル−5′−
[2−(2−エチルヘキシルオキシカルボニルエチル)
−2′−ヒドロキシフェニル]−5−クロロベンゾトリ
アゾール、2−[3′−tert−ブチル−2′−ヒド
ロキシ−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)フェ
ニル]−5−クロロベンゾトリアゾール、2−[3′−
tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メ
トキシカルボニルメチル)フェニル]ベンゾトリアゾー
ル、2−[3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ
−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェ
ニル]ベンゾトリアゾール、2−{3′−tert−ブ
チル−5′−[2−(2−エチルヘキシルオキシカルボ
ニルエチル)−2′−ヒドロキシフェニル]}ベンゾト
リアゾール、2−(3′−ドデシル−2′−ヒドロキシ
−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
[3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−
(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニ
ル]ベンゾトリアゾール、2−[3′−tert−ブチ
ル−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′−
ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾールとポリエチレ
ングリコール300とのエステル交換体等およびそれら
の混合物、4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オ
クトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ
−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒド
ロキシ−、2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ
−、または4−(2−エチルヘキシルオキシ)−の2−
ヒドロキシベンゾフェノン誘導体等およびそれらの混合
物、4−tert−ブチルフェニル サリシレート、フ
ェニル サリシレート、オクチルフェニル サリシレー
ト、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−tert
−ブチルベンゾイル)レゾルシノール、2,4−ジ−t
ert−ブチルフェニル 3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル 3,
5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、オクタデシル 3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−4,6−ジ−
tert−ブチルフェニル 3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシベンゾエート等およびそれらの混
合物、エチル α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリ
レート、イソオクチル α−シアノ−β,β−ジフェニ
ルアクリレート、メチル α−カルボメトキシシンナメ
ート、メチル α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ
シンナメート、メチル α−カルボメトキシ−p−メト
キシシンナメート、N−(β−カルボメトキシ−β−シ
アノビニル)−2−メチルインドリン等およびそれらの
混合物、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)サクシネート、ビス(1,
2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバ
ケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス
(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジ
ル)アジペート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル) n−ブチル−3,5−ジ−tert
−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、4,
4′−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジエ
トキシオキシオキサニリド、2,2′−ジオクチルオキ
シ−5,5′−ジ−tert−ブチルオキサニリド、
2,2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ−tert
−ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチルオ
キサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロ
ピル)オキサニリド、2−エトキシ−5−tert−ブ
チル−2′−エトキシオキサニリド等およびそれらの混
合物、および上記化合物のそれぞれと2−エトキシ−
2′−エチル−5,4′−ジ−tert−ブトキサニリ
ドとの混合物、o−およびp−メトキシ−二置換オキサ
ニリドの混合物、o−およびp−エトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物、等:2,4,6−トリス(2−ヒド
ロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−
トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキ
シフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒド
ロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフ
ェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2
−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)−6−
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニ
ル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジンなどが挙げられる。
【0032】金属不活性化剤としては、例えば、N,
N′−ジフェニルオキサミド、N−サルチラル−N′−
サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒ
ドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリ
アゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジ
ド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバ
コイルビスフェニルヒドラジン、N,N′−ジアセター
ルアジポイルジヒドラジド、N,N′−ビス(サリチロ
イル)オキサリルジヒドラジド、N,N−ビス(サリチ
ロイル)チオプロピオニルジヒドラジド、トリフェニル
ホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリスリトールジホスフィット、ジイソデシル
ペンタエリスリトールジホスフィット、ビス(2,4−
ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエ
リスリトールジホスフィット、ビス[2,4,6−トリ
ス(tert−ブチルフェニル)]ペンタエリスリトー
ルジホスフィット、トリステアリルソルビトールホスフ
ィット、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフ
ェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、6
−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ−t
ert−ブチル−12H−ジベンズ[d,e]−1,
3,2−ジオキサホスホシン、6−フルオロ−2,4,
8,10−テトラ−tert−ブチル−12−メチル−
ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシ
ン、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチル
フェニル)メチルホスファイト、ビス(2,4−ジ−t
ert−ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスファ
イト等およびそれらの混合物等が挙げられる。
【0033】過酸化物スカベンジャーとしては、例え
ば、ジラウリル、ジステアリル、ジミリスチルまたはジ
トリデシルチオジプロピオネート、2−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリスリト
ールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネ
ート等である。
【0034】
【実施例】以下に本発明の実施例を挙げて本発明を具体
的に説明するが、これらは好ましい実施態様の例示に過
ぎず、本発明はこれらにより何ら限定されるものではな
い。
【0035】実施例1 30mlのDMF中に2.93g(13.8mmol)
の3,3′−スルホニルジプロピオン酸、6.36g
(28mmol)の4−tert−ブチル−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル クロリドおよび2.
80g(27.7mmol)のトリエチルアミンを加
え、95〜105℃で10時間加熱撹拌を行う。反応終
了後、室温に達したら、撹拌を続けながら200mlの
冷水を加える。沈殿した油状物を50mlの酢酸エチル
で抽出する。酢酸エチル溶液を水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで脱水する。脱水された酢酸エチル溶液は濃縮す
る。残留油状物をシリカゲル カラムを用い、n−ヘキ
サン:酢酸エチル(1:1)展開液で分離した。流出液
5mlずつを分取し、Rf値(0.65)に主要なスッ
ポトを示すフラクションを集め、ローターベーパーを使
用して溶媒を十分に留去した。微黄褐色粘性のある液体
は次第に固化する。n−ヘキサン/酢酸エチル(7:
3)の混合溶媒を加えてかき混ぜると、無色の融点13
1〜133℃を示すビス(4−tert−ブチル−3−
ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−3,3′−
スルホニルジプロピオネートの粉末6.2g(75%)
が得られる。このものの同定資料はつぎのとうりであ
る。
【0036】元素分析: 計算値(C3246Sに基ずく):C;65.0
6%、H;7.85% 分析値:C;65.20、65.22%、H:7.6
9、7.88%
【0037】赤外吸収スペクトル:cm−1(KBr)
3517(OH)、2957および2871(アルキ
ル基)、1731(エステル C=O)、1413、1
389、1315、1254(C−O−C)、1219
(C−O−C)、1176、1121、1090、10
46、985、933、876、826、764、73
2、603、490、448、430、410。
【0038】H−核磁気共鳴スペクトル(400MH
z)(CDCl): δppm:1.39〔s,18H,C(CH〕、
2.22(s,6H,Ar−CH、2−位)、2.3
0(s,6H,Ar−CH、6−位)、2.85
(t,4H,J=7.3,OOCCH)、3.30
(t,4H,J=7.3,CHSO)、4.72
(s,2H,OH)、5.21(s,4H,Ar−CH
O)、6.97(s,2H,Ar−H)。
【0039】実施例2 60mlのDMF中に3.53g(13.8mmol)
の3,3′−スルホニルジプロピオン酸 ジナトリウム
塩および6.36g(28mmol)の4−tert−
ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル
クロリドを加え、105〜115℃で10時間加熱撹拌
を行う。反応終了後、室温に達したら、撹拌を続けなが
ら200mlの冷水を加える。沈殿した油状物を50m
lの酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル溶液を水洗し、
無水硫酸ナトリウムで脱水する。脱水された酢酸エチル
溶液は濃縮する。残留油状物をシリカゲル カラムを用
い、n−ヘキサン:酢酸エチル(1:1)展開液で分離
した。流出液5mlずつを分取し、Rf値(0.65)
に主要なスッポトを示すフラクションを集め、ローター
ベーパーを使用して溶媒を十分に留去した。微黄褐色粘
性のある液体は次第に固化する。n−ヘキサン/酢酸エ
チル(7:3)の混合溶媒を加えてかき混ぜると、無色
の融点131〜133℃を示すビス(4−tert−ブ
チル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−
3,3′−スルホニルジプロピオネートの粉末5.0g
(63%)が得られる。
【0040】実施例3 60mlのトルエンおよび10mlのDMF混合溶液中
に2.90g(13.8mmol)の3,3′−スルホ
ニルジプロピオン酸、5.82g(28mmol)の4
−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジルアルコ−ルおよび0.5gのp−トルエンス
ルホン酸を加え、水分分離器を付して計算量の水分の流
出が終わるまで還流加熱を行う。反応終了後、溶媒を留
去する。残留油状物をシリカゲル カラムを用い、n−
ヘキサン:酢酸エチル(1:1)展開液で分離した。流
出液5mlずつを分取し、Rf値(0.65)に主要な
スッポトを示すフラクションを集め、ローターベーパー
を使用して溶媒を十分に留去した。微黄褐色粘性のある
液体は次第に固化する。n−ヘキサン/酢酸エチル
(7:3)の混合溶媒を加えてかき混ぜると、無色の融
点131〜133℃を示すビス(4−tert−ブチル
−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−3,
3′−スルホニルジプロピオネートの粉末5.0g(5
2%)が得られる。
【0041】実施例4 未安定化ポリプロピレン粉末に、実施例1で得られた本
発明化合物0.1重量%を添加し、ミキサーで窒素雰囲
気下に十分混合した。次いでスクリュー型押出機を用い
て260℃で押出し、ペレタイザーにてペレット化す
る。得られたペレットの、230℃でのMFR(JIS
K6758)を測定した。その結果を表1に示す。M
FRは分子量の指標を表すもので、その値が小さい程、
押出機中での酸化劣化による分子量の低下が著しいこと
を示す。これは酸化防止効果の大きいことを示す。
【0042】また、得られたペレットを、230℃で厚
さ0.5mmのシートに圧縮成型して試験片を作成し
た。耐熱老化性は、150℃の循環式空気炉中で試験片
を加熱して、酸化劣化によって試験片が黄変脆化するま
での所要時間を測定した。
【0043】また、耐候性試験は、上記シートを、ウエ
ザーオメータ中、ブラックパネル温度80℃にて、キセ
ノンランプにより光照射して、折り曲げにより、試験片
にクラックが生ずるまでの所要時間を測定した。
【0044】
【表1】
【0045】
【発明の効果】(1)本発明により、それ自体が熱安定
性にすぐれ、かつ酸化分解を受けやすい有機物質のため
の酸化防止能力を有する新規化合物とその製造方法を提
供できた。 (2)本発明の新規化合物を含む有機物質組成物は、酸
化に対して極めて高い安定性を示すことができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4H006 AA01 AA02 AA03 AB83 AC48 BA07 BA28 BA32 BA36 BA37 BA50 BA52 BA92 BB10 TA02 TB56 4H025 AA29 4J002 AA001 BB121 EV226 FD036 FD070

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 (式中、Rは、水素原子、直鎖または分岐のアルキル
    基およびアリール基よりなる群から選ばれた基であり、
    は、水素原子および直鎖のアルキル基よりなる群か
    ら選ばれた基であり、Rは、分岐のアルキル基よりな
    る群から選ばれた基である。)で示されるスルホニルジ
    アルキルカルボン酸エステル誘導体。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のスルホニルジアルキルカ
    ルボン酸エステル誘導体からなる有機物質用酸化防止
    剤。
  3. 【請求項3】 請求項1記載のスルホニルジアルキルカ
    ルボン酸エステル誘導体を含有する有機物質組成物。
  4. 【請求項4】 下記一般式(2) 【化2】 (式中、RおよびRは前記と同一である。)で示さ
    れるスルホニルジアルキルカルボン酸誘導体と、下記一
    般式(3) 【化3】 (式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、Rは前
    記と同一である。)で示されるヒドロキシベンジルハラ
    イド誘導体を有機溶剤中で、脱酸剤の存在下に反応させ
    ることを特徴とする下記一般式(1) 【化4】 (式中、R、RおよびRは前記と同一である。)
    で示されるスルホニルジアルキルカルボン酸エステル誘
    導体を製造する方法。
  5. 【請求項5】 下記一般式(4) 【化5】 (式中、Mはアルカリ金属であり、RおよびRは前
    記と同一である。)で示されるスルホニルジアルキルカ
    ルボン酸誘導体のアルカリ金属塩と、下記一般式(3) 【化6】 (式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、Rは前
    記と同一である。)で示されるヒドロキシベンジルハラ
    イド誘導体を有機溶剤中、直接的に反応させることを特
    徴とする下記一般式(1) 【化7】 (式中、R、RおよびRは前記と同一である。)
    で示されるスルホニルジアルキルカルボン酸エステル誘
    導体を製造する方法。
  6. 【請求項6】 下記一般式(2) 【化8】 (式中、RおよびRは前記と同一である。)で示さ
    れるスルホニルジアルキルカルボン酸誘導体と、下記一
    般式(5) 【化9】 (式中、Rは前記と同一である。)で示されるヒドロ
    キシベンジルアルコール誘導体を有機溶剤中で、エステ
    ル化触媒存在下に反応させることを特徴とする下記一般
    式(1) 【化10】 (式中、R、RおよびRは前記と同一である。)
    で示されるスルホニルジアルキルカルボン酸エステル誘
    導体を製造する方法。
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JP2009511532A (ja) * 2005-10-11 2009-03-19 チバ ホールディング インコーポレーテッド 加硫されたエラストマー用の非染色性の劣化防止剤
CN112760059A (zh) * 2020-12-25 2021-05-07 万力轮胎股份有限公司 一种补胎胶水溶剂的复合稳定剂及其制备方法、常温硫化补胎胶水

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