JP2001076658A - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 絞り箔部分のみ加熱する。
【解決手段】 鏡筒壁部２３に、対物絞り装置１０の絞
り板１１部を挟んで対向するようにレーザー照射装置２
１と反射光照射装置２２を設ける。レーザー照射装置２
１は、レーザー光源２４，ガラス板の如き透明板２５、
前記レーザー光源２４からのレーザー光を平行ビームに
するための集束レンズ２６，該集束レンズ２からの平行
ビームを集束させるためのシリンドリカル形の対物レン
ズ２７をこの順序でケース２８内に配置させた構造を有
する。反射光照射装置２２は、前記レーザー照射装置２
１からのレーザービームを反射且つ該反射ビームを集束
させるシリンドリカル形の凹面鏡２９と該凹面鏡のホル
ダー３０とから構成されている。
り板１１部を挟んで対向するようにレーザー照射装置２
１と反射光照射装置２２を設ける。レーザー照射装置２
１は、レーザー光源２４，ガラス板の如き透明板２５、
前記レーザー光源２４からのレーザー光を平行ビームに
するための集束レンズ２６，該集束レンズ２からの平行
ビームを集束させるためのシリンドリカル形の対物レン
ズ２７をこの順序でケース２８内に配置させた構造を有
する。反射光照射装置２２は、前記レーザー照射装置２
１からのレーザービームを反射且つ該反射ビームを集束
させるシリンドリカル形の凹面鏡２９と該凹面鏡のホル
ダー３０とから構成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、絞り加熱機構を備えた
荷電粒子ビーム装置に関する。
荷電粒子ビーム装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図１は走査電子顕微鏡の１概略例を示し
たものである。
たものである。
【０００３】図中１は鏡筒で、電子銃２，集束レンズ
３，Ｘ，Ｙ偏向コイル４Ａ，４Ｂ，対物レンズ５等の電
子光学系を備えている。６は試料室で、観察すべき試料
７を載置した試料ステージ８，試料から二次電子を検出
するための二次電子検出器９等が備えられている。
３，Ｘ，Ｙ偏向コイル４Ａ，４Ｂ，対物レンズ５等の電
子光学系を備えている。６は試料室で、観察すべき試料
７を載置した試料ステージ８，試料から二次電子を検出
するための二次電子検出器９等が備えられている。
【０００４】この様な構成の走査電子顕微鏡において、
電子銃２から発生された電子ビームは集束レンズ３及び
対物レンズ５により試料７上に集束される。この際、偏
向コイル４Ｘ，４Ｙには走査信号発生回路（図示せず）
から、試料７上の観察すべき領域を走査するためのＸ，
Ｙ走査信号が供給されているので、電子ビームは試料７
上の観察すべき領域を走査する。該走査により試料７か
ら発生した二次電子は二次電子検出器９に検出される。
該検出器に出力信号（試料情報信号）は、前記走査信号
発生回路（図示せず）からＸ，Ｙ走査信号が前記供給と
同期して供給されている表示装置（図示せず）に供給さ
れるので、該表示装置（図示せず）に試料の二次電子像
が表示される。
電子銃２から発生された電子ビームは集束レンズ３及び
対物レンズ５により試料７上に集束される。この際、偏
向コイル４Ｘ，４Ｙには走査信号発生回路（図示せず）
から、試料７上の観察すべき領域を走査するためのＸ，
Ｙ走査信号が供給されているので、電子ビームは試料７
上の観察すべき領域を走査する。該走査により試料７か
ら発生した二次電子は二次電子検出器９に検出される。
該検出器に出力信号（試料情報信号）は、前記走査信号
発生回路（図示せず）からＸ，Ｙ走査信号が前記供給と
同期して供給されている表示装置（図示せず）に供給さ
れるので、該表示装置（図示せず）に試料の二次電子像
が表示される。
【０００５】さて、この様な走査電子顕微鏡には、電子
ビームの光軸に垂直な断面形状を真円に成形するための
対物絞り装置１０が設けられている。
ビームの光軸に垂直な断面形状を真円に成形するための
対物絞り装置１０が設けられている。
【０００６】この絞り装置は、直線上に１つ以上の開口
が設けられた絞り板１１，該絞り板を支持する絞り板支
持体１２，該絞り支持体を光軸に垂直な方向に直線移動
させるための絞り板移動機構１３から構成されている。
前記絞り板１１は、例えば、図２に示す様に、電子ビー
ム通過孔１４を有し前記絞り板支持体１２に固定された
絞り箔受け体１５と、電子ビーム通過孔１６を有する絞
り箔押さえ体１７との間に、数１０μｍ〜数１００μｍ
の絞り開口１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを有する絞
り箔１９をネジなどで固定して成る。尚、前記絞り箔受
け体１５及び絞り箔押さえ体１７は、何れも、例えば銅
などの熱伝導の良い導電性材料で形成されている。又、
絞り箔１９は導電性材料で形成されている。又、前記絞
り支持体１２は、熱伝導が銅などに比べ劣る、例えばス
テンレス銅などの導電性材料で形成されており、その内
部の前記絞り箔受け体１５近傍にヒータ２０が埋め込ま
れている。
が設けられた絞り板１１，該絞り板を支持する絞り板支
持体１２，該絞り支持体を光軸に垂直な方向に直線移動
させるための絞り板移動機構１３から構成されている。
前記絞り板１１は、例えば、図２に示す様に、電子ビー
ム通過孔１４を有し前記絞り板支持体１２に固定された
絞り箔受け体１５と、電子ビーム通過孔１６を有する絞
り箔押さえ体１７との間に、数１０μｍ〜数１００μｍ
の絞り開口１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを有する絞
り箔１９をネジなどで固定して成る。尚、前記絞り箔受
け体１５及び絞り箔押さえ体１７は、何れも、例えば銅
などの熱伝導の良い導電性材料で形成されている。又、
絞り箔１９は導電性材料で形成されている。又、前記絞
り支持体１２は、熱伝導が銅などに比べ劣る、例えばス
テンレス銅などの導電性材料で形成されており、その内
部の前記絞り箔受け体１５近傍にヒータ２０が埋め込ま
れている。
【０００７】しかして、絞り板移動機構１３の働きによ
り所定の大きさの絞り開口が光軸上に位置決めされ、電
子ビームの断面は、選択された絞り開口に基づく大きさ
の真円に成形されるわけであるが、絞り箔１９中、選択
された絞り開口周辺を含む絞り開口近傍部分に電子ビー
ム照射による汚れが付着する。該付着により、結果とし
て、試料の二次電子像が不鮮明になってしまう。
り所定の大きさの絞り開口が光軸上に位置決めされ、電
子ビームの断面は、選択された絞り開口に基づく大きさ
の真円に成形されるわけであるが、絞り箔１９中、選択
された絞り開口周辺を含む絞り開口近傍部分に電子ビー
ム照射による汚れが付着する。該付着により、結果とし
て、試料の二次電子像が不鮮明になってしまう。
【０００８】そこで、この様な汚れによる問題を解決す
る対策として、絞り箔を新しいものに交換するか、若し
くは、前記ヒータ２０に電源（図示せず）から電流を流
し、該ヒータ２０による熱により絞り板１１を加熱（例
えば、２００℃前後）することにより、絞り箔１９に付
着した汚れを除去している。
る対策として、絞り箔を新しいものに交換するか、若し
くは、前記ヒータ２０に電源（図示せず）から電流を流
し、該ヒータ２０による熱により絞り板１１を加熱（例
えば、２００℃前後）することにより、絞り箔１９に付
着した汚れを除去している。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前者の対策の
場合は、いちいち絞り板１１を鏡筒外に取り出し、更
に、絞り板１１を分解し、新しい絞り箔を組み込まねば
ならない。その為に、操作が厄介であること、時間がか
かること、及びコストが可成りかかること等の問題があ
る。
場合は、いちいち絞り板１１を鏡筒外に取り出し、更
に、絞り板１１を分解し、新しい絞り箔を組み込まねば
ならない。その為に、操作が厄介であること、時間がか
かること、及びコストが可成りかかること等の問題があ
る。
【００１０】後者の対策の場合、汚れを除去したい絞り
箔１９ばかりではなく、絞り箔受け体１５及び絞り箔押
さえ体１７も前記ヒータ２０により加熱されるため、こ
れらの絞り箔受け体１５及び絞り箔押さえ体１７も熱に
より膨張若しくは収縮する。これらの絞り箔受け体１５
及び絞り箔押さえ体１７の熱膨張係数は通常、絞り箔の
熱膨張係数とは異なるために、絞り箔の膨張若しくは収
縮と、絞り箔受け体１５及び絞り箔押さえ体１７との膨
張若しくは収縮に差が発生する。その為に、該差に基づ
いて絞り箔が著しく変形し、結果的に、歪みが残ってし
まう恐れがあり、その為に、良好な二次電子像が得られ
ない。又、ヒータ電源を切った後も、絞り箔１９，絞り
箔受け体１５及び絞り箔押さえ体１７全ての温度が一定
となるまでには著しく長い時間かかり、その間、絞り開
口位置が変動しするので、長い時間、像観察操作に入れ
ない。
箔１９ばかりではなく、絞り箔受け体１５及び絞り箔押
さえ体１７も前記ヒータ２０により加熱されるため、こ
れらの絞り箔受け体１５及び絞り箔押さえ体１７も熱に
より膨張若しくは収縮する。これらの絞り箔受け体１５
及び絞り箔押さえ体１７の熱膨張係数は通常、絞り箔の
熱膨張係数とは異なるために、絞り箔の膨張若しくは収
縮と、絞り箔受け体１５及び絞り箔押さえ体１７との膨
張若しくは収縮に差が発生する。その為に、該差に基づ
いて絞り箔が著しく変形し、結果的に、歪みが残ってし
まう恐れがあり、その為に、良好な二次電子像が得られ
ない。又、ヒータ電源を切った後も、絞り箔１９，絞り
箔受け体１５及び絞り箔押さえ体１７全ての温度が一定
となるまでには著しく長い時間かかり、その間、絞り開
口位置が変動しするので、長い時間、像観察操作に入れ
ない。
【００１１】本発明は、この様な問題を解決するもの
で、新規な荷電粒子ビーム装置を提供するものである。
で、新規な荷電粒子ビーム装置を提供するものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】 本発明の荷電粒子ビー
ム装置は、絞り開口を有する絞り箔，絞り箔受け体及び
絞り箔押さえ体から成る絞り板体を有し、絞り開口を光
軸上に配置できるように成した絞り装置を備えた荷電粒
子ビーム装置において、該荷電粒子ビーム装置の電子光
学鏡筒壁にレーザー照射装置を取り付け、該レーザー照
射装置からのレーザービームが前記絞り開口を含む絞り
箔部分を照射できるように成したことを特徴としてい
る。
ム装置は、絞り開口を有する絞り箔，絞り箔受け体及び
絞り箔押さえ体から成る絞り板体を有し、絞り開口を光
軸上に配置できるように成した絞り装置を備えた荷電粒
子ビーム装置において、該荷電粒子ビーム装置の電子光
学鏡筒壁にレーザー照射装置を取り付け、該レーザー照
射装置からのレーザービームが前記絞り開口を含む絞り
箔部分を照射できるように成したことを特徴としてい
る。
【００１３】又、本発明の荷電粒子ビーム装置は、絞り
開口を有する絞り箔，絞り箔受け体及び絞り箔押さえ体
から成る絞り板体を有し、絞り開口を光軸上に配置でき
るように成した絞り装置を備えた荷電粒子ビーム装置に
おいて、該荷電粒子ビーム装置の電子光学鏡筒壁に、レ
ーザー照射装置と、該レーザー照射装置からのレーザー
ビームを反射させる反射光照射装置を取り付け、前記レ
ーザー照射装置からのレーザービームにより前記絞り開
口を含む絞り箔部分の荷電粒子ビーム入射側面か荷電粒
子出射側面の何れか一方を照射し、前記反射光照射装置
からの反射光ビームにより何れか他方を照射できるよう
に成したことを特徴としている。
開口を有する絞り箔，絞り箔受け体及び絞り箔押さえ体
から成る絞り板体を有し、絞り開口を光軸上に配置でき
るように成した絞り装置を備えた荷電粒子ビーム装置に
おいて、該荷電粒子ビーム装置の電子光学鏡筒壁に、レ
ーザー照射装置と、該レーザー照射装置からのレーザー
ビームを反射させる反射光照射装置を取り付け、前記レ
ーザー照射装置からのレーザービームにより前記絞り開
口を含む絞り箔部分の荷電粒子ビーム入射側面か荷電粒
子出射側面の何れか一方を照射し、前記反射光照射装置
からの反射光ビームにより何れか他方を照射できるよう
に成したことを特徴としている。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１５】図３は本発明の主要部の一例を示したもの
で、対物絞りが設けられた走査電子顕微鏡の鏡筒部分を
示したものである。図４は図３のＡ−Ａ断面を示すもの
である。尚、図中前記図１にて使用した記号と同一記号
の付されたものは同一構成要素である。
で、対物絞りが設けられた走査電子顕微鏡の鏡筒部分を
示したものである。図４は図３のＡ−Ａ断面を示すもの
である。尚、図中前記図１にて使用した記号と同一記号
の付されたものは同一構成要素である。
【００１６】図中２１，２２は、対物絞り装置１０の絞
り板１１部を挟んで対向するように鏡筒壁部２３に設け
られたレーザー照射装置、反射光照射装置で、これらの
装置により絞り加熱装置が構成されている。
り板１１部を挟んで対向するように鏡筒壁部２３に設け
られたレーザー照射装置、反射光照射装置で、これらの
装置により絞り加熱装置が構成されている。
【００１７】該レーザー照射装置２１は、レーザー光源
２４，ガラス板の如き透明板２５、前記レーザー光源２
４からのレーザー光を平行ビームにするための集束レン
ズ２６，該集束レンズ２からの平行ビームを集束させる
ためのシリンドリカル形の対物レンズ２７をこの順序で
ケース２８内に配置させた構造を有する。
２４，ガラス板の如き透明板２５、前記レーザー光源２
４からのレーザー光を平行ビームにするための集束レン
ズ２６，該集束レンズ２からの平行ビームを集束させる
ためのシリンドリカル形の対物レンズ２７をこの順序で
ケース２８内に配置させた構造を有する。
【００１８】一方、反射光照射装置２２は、前記レーザ
ー照射装置２１からのレーザービームを反射且つ該反射
ビームを集束させるシリンドリカル形の凹面鏡２９と該
凹面鏡のホルダー３０とから構成されている。
ー照射装置２１からのレーザービームを反射且つ該反射
ビームを集束させるシリンドリカル形の凹面鏡２９と該
凹面鏡のホルダー３０とから構成されている。
【００１９】尚、前記レーザー照射装置２１の集束レン
ズ２６及びシリンドリカル対物レンズ２７は、該シリン
ドリカル対物レンズ２７を通過した帯状断面のレーザー
ビームの長手方向の辺が絞り箔１９の絞り開口１８Ａ，
１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄの配列方向に平行になるよう
に、ケース２８内に配置されている。又、反射光照射装
置２２のシリンドリカル凹面鏡２９も、該凹面鏡２９に
よる帯状断面の反射ビームの長手方向の辺が絞り箔１９
の絞り開口１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄの配列方向
に平行になるように、ケース２８内に配置されている。
ズ２６及びシリンドリカル対物レンズ２７は、該シリン
ドリカル対物レンズ２７を通過した帯状断面のレーザー
ビームの長手方向の辺が絞り箔１９の絞り開口１８Ａ，
１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄの配列方向に平行になるよう
に、ケース２８内に配置されている。又、反射光照射装
置２２のシリンドリカル凹面鏡２９も、該凹面鏡２９に
よる帯状断面の反射ビームの長手方向の辺が絞り箔１９
の絞り開口１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄの配列方向
に平行になるように、ケース２８内に配置されている。
【００２０】先ず、前記レーザー照射装置２１のシリン
ドリカル対物レンズ２７を通過した帯状断面のレーザー
ビームが何れの絞り開口が選択されても絞り開口１８
Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１９部分のみ
を照射するように、前記レーザー照射装置２１のケース
２８を鏡筒壁部２３に取り付ける。又、反射光照射装置
２２のシリンドリカル凹面鏡２９からの帯状断面の反射
ビームが何れの絞り開口が選択されても絞り開口１８
Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１９部分のみ
を照射するように、前記反射光照射装置２２のホルダ３
０を鏡筒壁部２３に取り付ける。
ドリカル対物レンズ２７を通過した帯状断面のレーザー
ビームが何れの絞り開口が選択されても絞り開口１８
Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１９部分のみ
を照射するように、前記レーザー照射装置２１のケース
２８を鏡筒壁部２３に取り付ける。又、反射光照射装置
２２のシリンドリカル凹面鏡２９からの帯状断面の反射
ビームが何れの絞り開口が選択されても絞り開口１８
Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１９部分のみ
を照射するように、前記反射光照射装置２２のホルダ３
０を鏡筒壁部２３に取り付ける。
【００２１】しかして、絞り開口について汚れを除去す
る場合、レーザー照射装置２１のレーザー光源２４を作
動させ、該レーザー光源からのレーザービームを発生さ
せる。該レーザービームは集束レンズ２６を通過するこ
とにより帯状断面の平行ビームになり、更に、シリンド
リカル対物レンズ２７を通過することにより帯状断面の
集束ビームとなる。そして、このレーザービームは、こ
の帯状断面のレーザービームの集束点の手前に配置され
ている絞り板１１を成す絞り箔１９の絞り開口１８Ａ，
１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１９部分の電子銃
側面を照射することになる。この様な照射により、該絞
り開口１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１
９部分のみが加熱される。
る場合、レーザー照射装置２１のレーザー光源２４を作
動させ、該レーザー光源からのレーザービームを発生さ
せる。該レーザービームは集束レンズ２６を通過するこ
とにより帯状断面の平行ビームになり、更に、シリンド
リカル対物レンズ２７を通過することにより帯状断面の
集束ビームとなる。そして、このレーザービームは、こ
の帯状断面のレーザービームの集束点の手前に配置され
ている絞り板１１を成す絞り箔１９の絞り開口１８Ａ，
１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１９部分の電子銃
側面を照射することになる。この様な照射により、該絞
り開口１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１
９部分のみが加熱される。
【００２２】該絞り開口１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８
Ｄを通過したレーザービームは途中で集束し、その後発
散してシリンドリカル凹面鏡２９に当たり反射する。該
反射した帯状断面の反射ビームは途中、前記絞り開口１
８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１９部分の
試料側面を照射し、前記レーザー照射装置２１の前方で
集束する。
Ｄを通過したレーザービームは途中で集束し、その後発
散してシリンドリカル凹面鏡２９に当たり反射する。該
反射した帯状断面の反射ビームは途中、前記絞り開口１
８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１９部分の
試料側面を照射し、前記レーザー照射装置２１の前方で
集束する。
【００２３】この様な照射により、該絞り開口１８Ａ，
１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１９部分のみが加
熱される。
１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄを含む絞り箔１９部分のみが加
熱される。
【００２４】この様な加熱により、汚れを除去したい絞
り箔１９だけが加熱され、絞り板１１を成す他の構成要
素である絞り箔受け体１５及び絞り箔押さえ体１７は殆
ど加熱されることはない。その為、加熱によって膨張し
たり収縮するのは絞り箔のみに止まり、絞り箔受け体１
５や絞り箔押さえ体１７は膨張したり収縮したりしな
い。従って、絞り箔１９と、箔受け体１５や絞り箔押さ
え体１７の膨張若しくは収縮の差に基づい変形が発生し
ないので、結果として、良好な二次電子像が得られる。
又、絞り箔１９だけが加熱されるので、ヒータ電源を切
った後、比較的速く温度が一定となり、速やかに像観察
操作に入ることができる。又、前記例では、加熱すべき
絞り箔１９部分から外れたところにレーザー照射装置２
１からのレーザービームの集束点及び反射光装置２２の
反射ビームの集束点が来るようにしているので、絞り箔
の特定部分だけが極端に加熱されて変形することはな
い。又、前記例ではレーザー照射装置２１からのレーザ
ービームと反射光装置２２の反射ビームの断面を帯状と
し、その長手方向の辺が絞り開口１８Ａ〜１８Ｄの配列
方向と平行になるようにしているので、該絞り開口を含
む絞り箔を効率よく加熱することが出来る。又、前記例
ではレーザー照射装置２１からのレーザービームと反射
光装置２２の反射ビームとで絞り箔１９の電子銃側と試
料側の両面を加熱しているので、十分に絞り箔を加熱す
ることが出来る。
り箔１９だけが加熱され、絞り板１１を成す他の構成要
素である絞り箔受け体１５及び絞り箔押さえ体１７は殆
ど加熱されることはない。その為、加熱によって膨張し
たり収縮するのは絞り箔のみに止まり、絞り箔受け体１
５や絞り箔押さえ体１７は膨張したり収縮したりしな
い。従って、絞り箔１９と、箔受け体１５や絞り箔押さ
え体１７の膨張若しくは収縮の差に基づい変形が発生し
ないので、結果として、良好な二次電子像が得られる。
又、絞り箔１９だけが加熱されるので、ヒータ電源を切
った後、比較的速く温度が一定となり、速やかに像観察
操作に入ることができる。又、前記例では、加熱すべき
絞り箔１９部分から外れたところにレーザー照射装置２
１からのレーザービームの集束点及び反射光装置２２の
反射ビームの集束点が来るようにしているので、絞り箔
の特定部分だけが極端に加熱されて変形することはな
い。又、前記例ではレーザー照射装置２１からのレーザ
ービームと反射光装置２２の反射ビームの断面を帯状と
し、その長手方向の辺が絞り開口１８Ａ〜１８Ｄの配列
方向と平行になるようにしているので、該絞り開口を含
む絞り箔を効率よく加熱することが出来る。又、前記例
ではレーザー照射装置２１からのレーザービームと反射
光装置２２の反射ビームとで絞り箔１９の電子銃側と試
料側の両面を加熱しているので、十分に絞り箔を加熱す
ることが出来る。
【００２５】尚、前記例では、絞り装置として対物絞り
装置を説明したが、荷電粒子ビーム装置に備えられてい
る他の絞り装置にも本発明は応用可能であることはいう
までもない。
装置を説明したが、荷電粒子ビーム装置に備えられてい
る他の絞り装置にも本発明は応用可能であることはいう
までもない。
【００２６】又、前記例では絞り装置の絞り板は、絞り
箔，絞り箔受け体、絞り箔押さえ体から成る構造のもの
を示したが、図２に示されるものに限定されない。例え
ば、絞り開口を有する絞り箔を絞り受け体に相当するホ
ルダーで支え、そのホルダーに絞り箔押さえ体に相当す
る板バネの一方の端部をネジ止めし、他方の端部で絞り
箔を押さえるようにした構造のものでも良い。又、前記
例では、絞り箔１９の電子銃側、試料側を、それぞれレ
ーザー照射装置２１からのレーザービーム、反射光照射
装置２２からの反射ビームで加熱するように成したが、
レーザー照射装置２１と反射光照射装置２２の設置位置
を逆にして、絞り箔１９の電子銃側、試料側を、それぞ
れ反射光照射装置２２からの反射ビーム、レーザー照射
装置２１からのレーザービームで加熱するように成して
も良い。
箔，絞り箔受け体、絞り箔押さえ体から成る構造のもの
を示したが、図２に示されるものに限定されない。例え
ば、絞り開口を有する絞り箔を絞り受け体に相当するホ
ルダーで支え、そのホルダーに絞り箔押さえ体に相当す
る板バネの一方の端部をネジ止めし、他方の端部で絞り
箔を押さえるようにした構造のものでも良い。又、前記
例では、絞り箔１９の電子銃側、試料側を、それぞれレ
ーザー照射装置２１からのレーザービーム、反射光照射
装置２２からの反射ビームで加熱するように成したが、
レーザー照射装置２１と反射光照射装置２２の設置位置
を逆にして、絞り箔１９の電子銃側、試料側を、それぞ
れ反射光照射装置２２からの反射ビーム、レーザー照射
装置２１からのレーザービームで加熱するように成して
も良い。
【００２７】又、前記例では、絞り箔１９の電子銃側と
試料側をレーザー照射装置２１からのレーザービームと
反射光照射装置２２からの反射ビームとで加熱するよう
に成したが、レーザー照射装置だけ設け、該装置からの
レーザービームだけで絞り箔１９を加熱するようにして
も、絞り箔の汚れをある程度除去可能である。
試料側をレーザー照射装置２１からのレーザービームと
反射光照射装置２２からの反射ビームとで加熱するよう
に成したが、レーザー照射装置だけ設け、該装置からの
レーザービームだけで絞り箔１９を加熱するようにして
も、絞り箔の汚れをある程度除去可能である。
【００２８】又、前記例では、レーザー照射装置２１の
レンズとしてシリンドリカル形の対物レンズを設けた
が、加熱効率が下がるが、通常の球面形のレンズでも良
い。又、前記レーザー光源２４の出力は、絞り箔１９の
加熱温度を調整する事を考慮して、連続式ではなく、パ
ルス式にしても良い。
レンズとしてシリンドリカル形の対物レンズを設けた
が、加熱効率が下がるが、通常の球面形のレンズでも良
い。又、前記レーザー光源２４の出力は、絞り箔１９の
加熱温度を調整する事を考慮して、連続式ではなく、パ
ルス式にしても良い。
【００２９】又、前記例では走査電子顕微鏡を例に上げ
たが、絞り装置を有する荷電粒子ビーム装置（例えば、
透過電子電子顕微鏡や分析電子顕微鏡、電子ビーム描画
装置，イオンビーム加工装置等の荷電粒子ビーム装置）
にも応用可能であることはいうまでもない。
たが、絞り装置を有する荷電粒子ビーム装置（例えば、
透過電子電子顕微鏡や分析電子顕微鏡、電子ビーム描画
装置，イオンビーム加工装置等の荷電粒子ビーム装置）
にも応用可能であることはいうまでもない。
【図１】 走査電子顕微鏡の１概略例を示したものであ
る。
る。
【図２】 対物絞り装置の主要部の一概略例を示したも
のである。
のである。
【図３】 本発明の主要部の一例を示したもので、対物
絞りが設けられた走査電子顕微鏡の鏡筒部分を示したも
のである。
絞りが設けられた走査電子顕微鏡の鏡筒部分を示したも
のである。
【図４】 図３のＡ−Ａ断面を示すものである。。
１…鏡筒 ２…電子銃 ３…集束レンズ ４Ｘ，４Ｙ…偏向コイル ５…対物レンズ ６…試料室 ７…試料 ８…試料ステージ ９…検出器 １０…対物絞り装置 １１…絞り板 １２…絞り板支持体 １３…絞り板移動機構 １４…電子ビーム通過孔 １５…絞り箔受け体 １６…電子ビーム通過孔 １７…絞り箔押さえ体 １８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄ…絞り開口 １９…絞り箔 ２０…ヒーター ２１…レーザー照射装置 ２２…反射光照射装置 ２３…鏡筒壁部 ２４…レーザー光源 ２５…透明板 ２６…集束レンズ ２７…シリンドリカル対物レンズ ２８…ケース ２９…シリンドリカル凹面鏡 ３０…ホルダー
Claims (9)
- 【請求項１】 絞り開口を有する絞り箔，絞り箔受け体
及び絞り箔押さえ体から成る絞り板体を有し、絞り開口
を光軸上に配置できるように成した絞り装置を備えた荷
電粒子ビーム装置において、該荷電粒子ビーム装置の電
子光学鏡筒壁にレーザー照射装置を取り付け、該レーザ
ー照射装置からのレーザービームが前記絞り開口を含む
絞り箔部分を照射できるように成した荷電粒子ビーム装
置。 - 【請求項２】 前記絞り箔には一直線上に複数の絞り開
口が開けられており、前記レーザー照射装置からのレー
ザービームの断面が帯状断面で、且つその長手方向の辺
が前記絞り開口配列方向に平行に成されている請求項１
記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項３】 前記レーザー照射装置は、レーザー光
源，該レーザー光源から発生したレーザービームを平行
ビームにするシリンドリカル形集束レンズ，該平行ビー
ムを集束させるシリンドリカル形対物レンズを備えてい
る請求項２記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項４】 前記レーザービーム照射装置からのレー
ザービームが、前記照射すべき絞り箔部分の前方若しく
は後方に集束するように成した請求項１，２記載の荷電
粒子ビーム装置。 - 【請求項５】 絞り開口を有する絞り箔，絞り箔受け体
及び絞り箔押さえ体から成る絞り板体を有し、絞り開口
を光軸上に配置できるように成した絞り装置を備えた荷
電粒子ビーム装置において、該荷電粒子ビーム装置の電
子光学鏡筒壁に、レーザー照射装置と、該レーザー照射
装置からのレーザービームを反射させる反射光照射装置
を取り付け、前記レーザー照射装置からのレーザービー
ムにより前記絞り開口を含む絞り箔部分の荷電粒子ビー
ム入射側面か荷電粒子出射側面の何れか一方を照射し、
前記反射光照射装置からの反射光ビームにより何れか他
方を照射できるように成した荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項６】 前記絞り箔には一直線上に複数の絞り開
口が開けられており、前記レーザー照射装置からのレー
ザービームの断面が帯状断面で、且つその長手方向の辺
が前記絞り開口配列方向に平行に成されており、又、前
記反射光照射装置からの反射光ビームの断面が帯状断面
で、且つその長手方向の辺が前記絞り開口配列方向に平
行に成されている請求項５記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項７】 前記レーザー照射装置は、レーザー光
源，該レーザー光源から発生したレーザービームを平行
ビームにするシリンドリカル形集束レンズ，該平行ビー
ムを集束させるシリンドリカル形対物レンズを備えてお
り、前記反射光照射装置は、シリンドリカル形凹面鏡を
備えている請求項６記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項８】 前記照射すべき絞り箔部分と前記レーザ
ービーム照射装置の間、若しくは、前記照射すべき絞り
箔部分と反射光照射装置の間に、前記レーザー照射装置
からのレーザービームと前記反射光照射装置からの反射
光ビームが集束するように成した請求項５，６記載の荷
電粒子ビーム装置 - 【請求項９】 前記レーザー照射装置からのレーザービ
ームがパルス的に照射されるように成したことを特徴と
する請求項１，５記載の荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24688799A JP2001076658A (ja) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | 荷電粒子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24688799A JP2001076658A (ja) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | 荷電粒子ビーム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001076658A true JP2001076658A (ja) | 2001-03-23 |
Family
ID=17155235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24688799A Withdrawn JP2001076658A (ja) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | 荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001076658A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008091270A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Topcon Corp | 荷電粒子ビーム装置における絞り装置のコンタミネーション除去方法及びその方法を用いた絞り装置のコンタミネーション除去装置 |
-
1999
- 1999-09-01 JP JP24688799A patent/JP2001076658A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008091270A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Topcon Corp | 荷電粒子ビーム装置における絞り装置のコンタミネーション除去方法及びその方法を用いた絞り装置のコンタミネーション除去装置 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061107 |