JP2001072661A - ピロリジン化合物、その製造法及び除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】工業的に有利に合成でき、より低い薬量で効果
の確実な安全性の高い、作物との選択性の良い除草剤を
提供する。 【解決手段】一般式［Ｉ］ 【化１】 ［式中、Ａは水素原子、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキ
ルカルボニル基、Ｃ_1-6アルコキシＣ_1-6アルキル基等を
表す。Ｒ₁は水素原子、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケ
ニル基、Ｃ_3-6シクロアルキル基、Ｃ_1-6アルコキシＣ
_1-6アルキル基、Ｃ_{1 -6}アルコキシカルボニルＣ_1-6アル
キル基、Ｃ_1-6アルキルカルボニル基等を表す。Ｒ₂，Ｒ
₃は、水素原子又はＣ_1-6アルキル基を表す。又、Ｒ₂と
Ｒ₃は一緒になって環を形成しても良い。Ｘは、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキ
ル基又はＣ_1-6アルコキシ基を表す。ｎは0又は１〜5の
整数を表す。）で表される化合物、その製造法及び該化
合物を有効成分として含有する除草剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なピロリジン
骨格を有する化合物、その製造法及び該化合物を有効成
分として含有する除草剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】農園芸作物の栽培にあたり、多大の労力
を必要としてきた雑草防除に多くの除草剤が使用される
ようになってきた。しかし、作物に薬害を生じたり、環
境に残留したり、汚染したりすることから、より低い薬
量で効果が確実でしかも安全に使用できる薬剤の開発が
望まれている。

【０００３】本発明に関連した化合物として、ＥＰ３７
７８９３号、ＥＰ４１５１８５号、ＥＰ４４２０７７
号、ＤＥ４１０２７７８号、ＤＥ４４１３６６９号、Ｄ
Ｅ１９５４３８６４号、ＷＯ９６３５６６４号及びＵＳ
５５８５３８４号には、下記式（Ａ）の化合物が記載さ
れている。

【０００４】

【化７】

【０００５】（式中、Ａはアルキル基を表す。）

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は工業的に有利
に合成でき、より低い薬量で効果の確実な安全性の高
い、作物との選択性の良い除草剤を提供することを目的
とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、 （１）一般式［Ｉ］

【０００８】

【化８】

【０００９】［式中、Ａは水素原子、Ｃ_1-6アルキル
基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6ア
ルコキシＣ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、置換
されても良いベンジル基、アルコキシカルボニルアルキ
ル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、またはＣ（＝Ｏ）
Ｒ₄（ここでＲ₄は、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル
基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルコキシＣ_1-6アルキ
ル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、置換されても良いベンジ
ル基、C_1-6アルコキシカルボニルC_1-6アルキル基、置換
されても良いフェニル基、置換されても良いベンジルオ
キシ基、またはＮｒ ₁ｒ₂（ｒ₁、ｒ₂は、同一または相異
なって、水素原子、Ｃ_1-6アルキル基を表す。）を表
す。

【００１０】Ｒ₁は、水素原子、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ
_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_3-6シクロア
ルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、Ｃ_2-6ハロアルケニル
基、シアノＣ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシＣ_1-6ア
ルキル基、Ｃ_1-6アルコキシカルボニルＣ_1-6アルキル
基、Ｃ_1-6アルキルカルボニル基、置換されても良いベ
ンジル基、または置換されていてもよいベンゾイルＣ
_1-6アルキル基を表す。

【００１１】Ｒ₂，Ｒ₃は、それぞれ独立して水素原子、
Ｃ_1-6アルキル基を表すか、またはＲ₂とＲ₃は一緒にな
って環を形成しても良い。

【００１２】Ｘは、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_1-6ア
ルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、またはＣ_1-6アルコキ
シ基を表す。

【００１３】ｎは、0または１〜5の整数を表す。ｎが2
以上のとき、Xは同一でも相異なっていても良い。）で
表される化合物、

【００１４】（２）一般式［II］

【００１５】

【化９】

【００１６】（式中、Ｘ、ｎ、Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃は前
記と同じ意味を表し、Ｒ₄は、Ｃ_1-6アルキル基を表
す。）で表される化合物を、縮合反応させることを特徴
とする、一般式［Ｉ−１］

【００１７】

【化１０】

【００１８】（式中、Ｘ、ｎ、Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃は前
記と同じ意味を表す。）で表される化合物の製造法、

【００１９】（３）前記 一般式［Ｉ−１］で表される
化合物と、式：Ａ‘−Ｌ（式中Ａ’は、前記Ａにおい
て、水素原子を除くほか、前記Ａと同じ意味を表し、Ｌ
は、脱離基を表す。）で表される化合物を反応させるこ
とを特徴とする、一般式［Ｉ−２］

【００２０】

【化１１】

【００２１】（式中、Ｘ、ｎ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ａ‘は
前記と同じ意味を表す。）で表される化合物の製造法、
および

【００２２】（４）前記一般式［Ｉ］で表される化合物
の１種または２種以上を有効成分として含有することを
特徴とする除草剤である。

【００２３】前記一般式［Ｉ］において、Ａは、水素原
子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブ
チル，ｉ−ブチル，ｔ−ブチル，ｓ−ブチル，ペンチ
ル，ヘキシル基等のＣ_1-6アルキル基、１−プロペニ
ル，２−プロペニル基等のＣ_2-6アルケニル基、エテニ
ル、プロパルギル基等のＣ_2-6アルキニル基、メトキシ
メチル，エトキシメチル，メトキシエチル，イソプロポ
キシメチル，ｔ−ブトキシメチル基等のＣ_1-6アルコキ
シＣ_1-6アルキル基、クロロメチル，フルオロメチル，
ジクロロメチル，ジフルオロメチル，トリクロロメチ
ル，トリフルオロメチル，１−フルオロエチル，２−フ
ルオロエチル，ジフルオロクロロメチル，ペンタフルオ
ロエチル基等のＣ_1-6ハロアルキル基、

【００２４】ベンゼン環の任意の位置に、（ニトロ基、
フッ素，塩素，臭素等のハロゲン原子、メチル，エチル
等のＣ_1-6アルキル基等の置換基を有していてもよい）
ベンジル基、メトキシカルボニルメチル、エトキシカル
ボニルメチル、プロポキシカルボニルメチル、イソプロ
ポキシカルボニルメチル、メトキシカルボニルエチル、
エトキシカルボニルエチル、プロポキシカルボニルエチ
ル、イソプロポキシカルボニルエチル基等のＣ_1-6アル
コキシカルボニルＣ_1-6アルキル基、メチルスルホニ
ル，エチルスルホニル，プロピルスルホニル、イソプロ
ピルスルホニル基等のＣ_1-6アルキルスルホニル基、

【００２５】又は、Ｃ（＝Ｏ）Ｒ₄ で表される基を表
す。ここで、Ｒ₄は、メチル，エチル，プロピル，イソ
プロピル，ブチル，ｔ−ブチル，ペンチル，ヘキシル基
等のＣ_1-6アルキル基、エテニル，１−プロペニル，２
−プロペニル基等のＣ_2-6アルケニル基、メトキシ，エ
トキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−
ブトキシ基等のＣ_1-6アルコキシ基、メトキシメチル，
メトキシエチル，エトキシメチル基等のＣ_1-6アルコキ
シＣ_1-6アルキル基、

【００２６】クロロメチル，フルオロメチル，ジクロロ
メチル，ジフルオロメチル，トリクロロメチル，トリフ
ルオロメチル，１−フルオロエチル，２−フルオロエチ
ル，ジフルオロクロロメチル，ペンタフルオロエチル等
のＣ_1-6ハロアルキル基、メトキシカルボニルメチル、
エトキシカルボニルメチル、プロポキシカルボニルメチ
ル、イソプロポキシカルボニルメチル、メトキシカルボ
ニルエチル、エトキシカルボニルエチル、プロポキシカ
ルボニルエチル、イソプロポキシカルボニルエチル基等
のＣ_1-6アルコキシカルボニルＣ_1-6アルキル基、

【００２７】ベンゼン環の任意の位置に、（ニトロ基、
フッ素，塩素，臭素等のハロゲン原子、メチル，エチル
等のＣ_1-6アルキル基等の置換基を有していてもよい）
フェニル基、ベンゼン環の任意の位置に、（ニトロ基、
フッ素，塩素，臭素等のハロゲン原子、メチル，エチル
等のＣ_1-6アルキル基等の置換基を有していてもよい）
ベンジル基、

【００２８】ベンゼン環の任意の位置に、（ニトロ基、
フッ素，塩素，臭素等のハロゲン原子、メチル，エチル
等のＣ_1-6アルキル基等の置換基を有していてもよい）
ベンジルオキシ基、又は、 Ｎｒ₁ ｒ₂ で表される基等
を表す。ここで、ｒ₁ 及びｒ₂は、水素原子、メチル，
エチル、プロピル、イソプロピル基等のＣ_1-6アルキル
基を表す。

【００２９】Ｒ₁は、水素原子、メチル，エチル，プロ
ピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチル，ペンチル，
ヘキシル基等のＣ_1-6アルキル基、エテニル，１−プロ
ペニル，２−プロペニル基等のＣ_2-6アルケニル基、エ
チニル，１−プロピニル，２−プロピニル基等のＣ_2-6
アルキニル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル基等のＣ_3-6シクロアルキル
基、クロロメチル，フルオロメチル，ジクロロメチル，
ジフルオロメチル，トリクロロメチル，トリフルオロメ
チル，１−フルオロエチル，２−フルオロエチル，ジフ
ルオロクロロメチル，ペンタフルオロエチル基等のＣ
_1-6ハロアルキル基、クロロアリル、ジクロロアリル、
２−クロロ−２−ブテン−４−イル等のC_2-6ハロアルケ
ニル基、

【００３０】シアノメチル、シアノエチル基等のシアノ
Ｃ_1-6アルキル基メトキシメチル，メトキシエチル，エ
トキシメチル等のＣ_1-6アルコキシＣ_1-6アルキル基、メ
トキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、
プロポキシカルボニルメチル、イソプロポキシカルボニ
ルメチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボ
ニルエチル、1-エトキシカルボニルエチル、１−メチル
-1-エトキシカルボニルエチル、プロポキシカルボニル
エチル、イソプロポキシカルボニルエチル基等のＣ_1-6
アルコキシカルボニルＣ_1-6アルキル基、アセチル、エ
チルカルボニル、プロピルカルボニル、ｔ−ブチルカル
ボニル基等のＣ_1-6アルキルカルボニル基、

【００３１】ベンゼン環の任意の位置に、（ニトロ基、
フッ素，塩素，臭素等のハロゲン原子、メチル，エチル
基等のＣ_1-6アルキル基等の置換基を有していてもよ
い）ベンジル基、又は、ベンゼン環の任意の位置に、
（ニトロ基、フッ素，塩素，臭素等のハロゲン原子、メ
チル，エチル等のＣ_1-6アルキル基等の置換基を有して
いてもよい）ベンゾイルメチル、ベンゾイルエチル基等
の置換されてもよいベンゾイルＣ_1-6アルキル基を表
す。

【００３２】Ｒ₂，Ｒ₃は、それぞれ独立して水素原子、
又は、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，ｔ−ブチル，ペンチル，ヘキシル基等のＣ1-6アル
キル基を表す。また、Ｒ２，Ｒ３は一緒になって、シク
ロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル環等を形
成してもよい。

【００３３】Ｘは、ニトロ基、フッ素，塩素，臭素等の
ハロゲン原子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピ
ル，ブチル，ｔ−ブチル，ペンチル，ヘキシル基等のＣ
_1-6アルキル基、クロロメチル，フルオロメチル，ジク
ロロメチル，ジフルオロメチル，トリクロロメチル，ト
リフルオロメチル，１−フルオロエチル，２−フルオロ
エチル，ジフルオロクロロメチル，ペンタフルオロエチ
ル基等のＣ_1-6ハロアルキル基、または、メトキシ，エ
トキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−
ブトキシ基等のＣ_1-6アルコキシ基を表す。

【００３４】本発明の前記一般式［Ｉ］で表される化合
物は、優れた除草活性を有し、該化合物を有効成分とし
て含有する組成物は、除草剤として有用である。

【００３５】

【発明の実施の形態】本発明化合物は、例えば、以下の
ようにして製造することができる。

【００３６】＜製造法１＞Ａが水素原子である化合物の
製造。

【００３７】

【化１２】

【００３８】（式中Ｘ、ｎ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は
前記と同じ意味を表す。） この方法は、一般式［II］で表される化合物を、不活性
溶媒中、塩基の存在下に、縮合閉環して、一般式［Ｉ−
１］で表される化合物を製造するものである。

【００３９】この反応に用いることのできる塩基として
は、例えば、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水
酸化物、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩、水
素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化物、ナトリ
ウムアミド等を挙げることができる。

【００４０】また用いることのできる溶媒としては、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン
等のアミド類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、グリコー
ルジメチルエーテル、ジグリコールジメチルエーテル等
のエーテル類、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノール等
のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニ
トリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）、スルホラン等を例示することができる。反応は、
−１０℃から用いる溶媒の沸点の温度範囲で円滑に進行
する。

【００４１】＜製造法２＞本発明化合物の内、Ａが水素
原子以外の基である化合物は、次に示す方法によって製
造することが出来る。

【００４２】

【化１３】

【００４３】（式中Ｘ、ｎ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ａ‘及び
Ｌは前記と同じ意味を表す。） この反応は、一般式［Ｉ−１］で表される化合物とＡ
‘−Ｌ（Ｌは脱離基であり、塩素、臭素、ヨウ素等のハ
ロゲン原子が好ましい。また、Ａ’がアシル基の場合は
Ｏ−Ａ‘でも良い。）で表される化合物とを、不活性
溶媒中、塩基の存在下で反応させて、一般式［Ｉ−２］
を製造するものである。

【００４４】この反応に用いることのできる塩基として
は、例えば、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水
酸化物、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩、水
素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化物、トリエ
チルアミン等の三級アミン類、ピリジン類、ナトリウム
アミド等を挙げることができる。

【００４５】また、用いることのできる溶媒としては、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲ
ン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−
メチルピロリドン等のアミド類、テトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、グリコールジメチルエーテル、ジグリコール
ジメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、
ｔ−ブタノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエ
ステル類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルス
ルホキシド（ＤＭＳＯ）等を例示することができる。反
応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点の温度範囲で円滑
に進行する。

【００４６】＜製造法３＞本発明化合物の内、Ｒ₁が水
素原子である化合物は、次に示す方法によって製造する
ことができる。

【００４７】

【化１４】

【００４８】（式中Ｘ、ｎ、Ｒ₂、Ｒ₃、Ａ‘は前記と同
じ意味を表し。Ｒ₁'は、置換されていても良いベンジル
基を表す。） この反応は、一般式［Ｉ−３］で表される化合物を、不
活性溶媒中、触媒の存在下で水素ガスによる接触還元を
することで脱ベンジル化を行い、一般式［Ｉ−４］を製
造するものである。

【００４９】この反応に用いることの出来る触媒として
は、パラジウム炭素、水酸化パラジウム、パラジウム炭
酸カルシウム、酸化白金などを挙げることができる。

【００５０】また、用いることの出来る溶媒としては、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲ
ン化炭化水素類、、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジ
オキサン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、グリ
コールジメチルエーテル、ジグリコールジメチルエーテ
ル等のエーテル類、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノール
等のアルコール類、酢酸エチル等のエステル類、酢酸等
を例示することが出来る。反応は、水素ガス雰囲気下１
気圧〜１００気圧で０℃から用いる溶媒の沸点の温度範
囲で円滑に進行する。

【００５１】＜製造法４＞さらに、下記一般式［Ｉ−
５］で表される化合物は次に示す方法によって製造する
ことも出来る。

【００５２】

【化１５】

【００５３】（式中Ｘ、ｎ、Ｒ₂、Ｒ₃、Ａ‘は前記と同
じ意味を表し、Ｒ₁”は、前記Ｒ₁において、水素原子を
除くほか、前記Ｒ₁と同じ意味を表し、Ｌは脱離基を表
す。）

【００５４】この反応は、一般式［Ｉ−４］で表される
化合物とＲ１”−Ｌ（Ｌは脱離基であり、塩素、臭素、
ヨウ素等のハロゲン原子が好ましい。また、Ｒ１”がア
シル基の場合は、LはＯ−Ｒ１”でも良い。）で表され
る化合物とを、不活性溶媒中、塩基の存在下で反応させ
て、一般式［Ｉ−５］を製造するものである。

【００５５】この反応に用いることの出来る塩基として
は、例えば、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水
酸化物、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩、水
素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化物、トリエ
チルアミン等の三級アミン類、ピリジン類、ナトリウム
アミド等を挙げることができる。

【００５６】また、用いることの出来る溶媒としては、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲ
ン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−
メチルピロリドン等のアミド類、テトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、グリコールジメチルエーテル、ジグリコール
ジメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、
ｔ−ブタノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエ
ステル類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルス
ルホキシド（ＤＭＳＯ）等を例示することが出来る。

【００５７】反応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点の
温度範囲で円滑に進行する。いずれの反応においても、
反応終了後は通常の合成化学的後処理を行うことにより
目的物を得ることが出来る。また、反応生成物の構造
は、ＮＭＲ、ＩＲ、ＭＳ等の各種スペクトルの測定によ
り決定することが出来る。

【００５８】なお、前記一般式［Ｉ］で表される化合物
には、ケト−エノールの互変異性体が存在し得るが、こ
れらはすべて本発明の範囲に含まれる。

【００５９】なお、前記一般式［II］で表される化合物
は文献未記載の新規化合物であり、以下のスキームに従
って製造することができる。 （スキーム１）

【００６０】

【化１６】

【００６１】（スキーム２）

【００６２】

【化１７】

【００６３】（式中、Ｘ、ｎ、Ｒ₁，Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｌ
およびＲ₁' は前記と同じ意味を表し、Ｍはハロゲン原
子、ＯＨ基等の脱離基を表す。Ｂは置換されていてもよ
いベンジル基等の脱離基を表す。）

【００６４】即ち、一般式［III］で表される化合物と
一般式［IV］で表される化合物とを、不活性溶媒中、塩
基の存在下または脱水縮合剤の存在下で反応させて、一
般式［II］で表される化合物を製造するものである。

【００６５】スキーム２は、スキーム１に示すのと同様
の反応を行って、Ｒ₁がベンジル基等の脱離基である一
般式［II−１］で示される化合物を得た後、還元反応に
より、一般式［II−２］で表される化合物を得た後、一
般式［II−３］で表される化合物を製造するものであ
る。

【００６６】上記スキーム１、スキーム２の化合物［I
I］及び［II−１］を得る反応は、Ｍが水酸基の場合は
脱水縮合剤よる縮合反応、Mがハロゲン原子の場合は塩
基の存在下に脱ハロゲン化水素を伴う付加反応である。

【００６７】これらの反応に用いることの出来る塩基と
しては、例えば、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシ
ド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸
塩、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化物、
トリエチルアミン等の三級アミン類、ピリジン類、ナト
リウムアミド等を挙げることが出来る。

【００６８】脱水縮合剤としては、ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エ
チル−Ｎ‘−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジ
イミド塩酸塩等のカルボジイミド類、ポリリン酸、ジフ
ェニルホスホリルアジド、モレキュラーシブなど挙げる
ことが出来る。

【００６９】また、ジシクロヘキシルカルボジイミド、
ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ’−
（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩
等のカルボジイミド類を使用する場合は、反応促進剤と
してＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等置換されていて
も良いピリジン類を併用することもできる。

【００７０】この反応に用いることの出来る溶媒として
は、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭ
Ａ）、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、テトラヒド
ロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、
ジブチルエーテル、グリコールジメチルエーテル、ジグ
リコールジメチルエーテル等のエーテル類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エ
チル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、
ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等を例示することが
出来る。反応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点の温度
範囲で円滑に進行する。

【００７１】一般式［II-1］で表される化合物から［II
-2］を経て［II-3］を製造する反応は、前記、＜製造法
３＞及び＜製造法４＞と同様の方法を用いることにより
円滑に進行する。

【００７２】また、一般式［III］、［III-1］で表され
る化合物は、例えば、ＷＯ９８／２２４３２号または、
Tetrahedron., 4252(1981)記載の方法により製造するこ
とが出来る。

【００７３】次に本発明に含まれる化合物の例を第１表
に示す。尚、表中の略号は以下の意味を表す。 Me:メチル、Et:エチル、Pr:プロピル、Bu:ブチル、Ｐ
ｎ：ペンチル、Ｈｅｘ：ヘキシル、Ph:フェニル、Ac:ア
セチル、Ｂｎ：ベンジル、ｎ：ノルマル、ｉ：イソ、
ｔ：ターシャリー、 ｃ：シクロ

【００７４】

【化１８】

【００７５】

【化１９】

【００７６】

【表１００１】

【００７７】

【表１００２】

【００７８】

【表１００３】

【００７９】

【表１００４】

【００８０】

【表１００５】

【００８１】

【表１００６】

【００８２】

【表１００７】

【００８３】

【表１００８】

【００８４】

【表１００９】

【００８５】

【表１０１０】

【００８６】

【表１０１１】

【００８７】

【表１０１２】

【００８８】

【表１０１３】

【００８９】

【表１０１４】

【００９０】

【表１０１５】

【００９１】

【表１０１６】

【００９２】

【表１０１７】

【００９３】［除草剤］本発明の除草剤組成物は、本発
明化合物の１種又は２種以上を有効成分として含有す
る。本発明化合物を実際に施用する際には他成分を加え
ず純粋な形で使用できるし、また農薬として使用する目
的で一般の農薬のとり得る形態、即ち、水和剤、粒剤、
粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、フロアブル等の形態で使
用することもできる。

【００９４】固型剤を目的とする場合は、添加剤及び担
体として、大豆粉、小麦粉等の植物性粉末、珪藻土、燐
灰石、石こう、タルク、ベントナイト、パイロフィライ
ト、クレイ等の鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、
芒硝等の有機及び無機化合物を使用することができる。

【００９５】液体の剤型を目的とする場合は、ケロシ
ン、キシレンおよびソルベントナフサ等の石油留分、シ
クロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アルコール、アセトン、ト
リクロルエチレン、メチルイソブチルケトン、鉱物油、
植物油、水等を溶剤として使用することができる。

【００９６】さらに、これらの製剤において均一かつ安
定な形態をとるために、必要に応じ、界面活性剤等の他
の添加剤を添加することもできる。界面活性剤として
は、特に限定はないが、例えば、ポリオキシエチレンが
付加したアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンが付加したアルキルエーテル、ポリオキシエチレンが
付加した高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付
加したソルビタン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レンが付加したトリスチリルフェニルエーテル等の非イ
オン性界面活性剤、ポリオキシエチレンが付加したアル
キルフェニルエーテルの硫酸エステル塩、アルキルナフ
タレンスルホン酸塩、ポリカルボン酸塩、リグニンスル
ホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムア
ルデヒド縮合物、イソブチレン-無水マレイン酸の共重
合物等が挙げられる。

【００９７】本発明除草剤における有効成分濃度は前述
した製剤の形により種々の濃度に変化させることが出来
る。有効成分濃度としては、例えば、水和剤に於いて
は、５〜９０重量％（以下、単に％と書く）、好ましく
は１０〜８５％程度であり、乳剤に於いては、３〜７０
％、好ましくは５〜６０％程度であり、粒剤に於いて
は、０．０１〜５０％、好ましくは、０．０５〜４０％
程度である。

【００９８】このようにして得られる水和剤、乳剤は水
で所定の濃度に希釈して懸濁液或いは乳濁液として、粒
剤はそのまま雑草の発芽前又は発芽後に土壌に散布処理
もしくは混和処理される。実際に本発明除草剤を適用す
るに当たっては１ヘクタール当たり有効成分０．１ｇ以
上の適当量が施用される。

【００９９】又、本発明除草剤組成物は公知の殺菌剤、
殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、植物成長調整剤、肥料等と
混合して使用することもできる。特に、除草剤と混合使
用することにより、使用薬量を減少させることが可能で
ある。又、省力化をもたらすのみならず、混合薬剤の相
乗作用により一層高い効果も期待できる。その場合、複
数の公知除草剤との組合せも可能である。

【０１００】本発明除草剤と混合使用するにふさわしい
薬剤としては、ジフルフェニカン、プロパニル等のアニ
リド系除草剤、アラクロール、プレチラクロール等のク
ロロアセトアニリド系除草剤、２，４−Ｄ、２，４−Ｄ
Ｂ等のアリールオキシアルカン酸系除草剤、ジクロホッ
プ−メチル、フェノキサプロップ−エチル等のアリール
オキシフェノキシアルカン酸系除草剤、ジカンバ、ピリ
チオバック等のアリールカルボン酸系除草剤、イマザキ
ン、イマゼタピル等のイミダゾリン系除草剤、ジウロ
ン、イソプロツロン等のウレア系除草剤、クロルプロフ
ァム、フェンメジファム等のカーバメート系除草剤、チ
オベンカルブ、ＥＰＴＣ等のチオカーバメート系除草
剤、トリフルラリン、ペンジメタリン等のジニトロアニ
リン系除草剤、アシフルオルフェン、ホメサフェン等の
ジフェニルエーテル系除草剤、ベンスルフロン−メチ
ル、ニコスルフロン等のスルホニルウレア系除草剤、メ
トリブジン、メタミトロン等のトリアジノン系除草剤、

【０１０１】アトラジン、シアナジン等のトリアジン系
除草剤、フルメツラム等のトリアゾピリミジン系除草
剤、ブロモキシニル、ジクロベニル等のニトリル系除草
剤、グリホサート、グリホシネート等のリン酸系除草
剤、パラコート、ジフェンゾコート等の第四級アンモニ
ウム塩系除草剤、フルミロラック−ペンチル、フルチア
セット−メチル等の環状イミド系除草剤、ベンゾイルプ
ロップエチル、フランプロップエチル等のベンゾイルア
ミノプロピオン酸系除草剤、

【０１０２】又、その他としてイソキサベン、エトフメ
セート、オキサジアゾン、ベンタゾン、ベンフルセー
ト、キンクロラック、クロマゾン、スルコトリオン、シ
ンメチリン、ジチオピル、ピラゾレート、ピリデート、
フルポキサム、更に、セトキシジム、トラルコキシジム
等のシクロヘキサンジオン系の除草剤等が挙げられる。
又、これらを組み合わせた組成物に植物油及び油濃縮物
等の添加剤を添加することもできる。

【０１０３】本発明化合物（式〔Ｉ〕で表される化合物
又はその塩）は畑作条件で、土壌処理、茎葉処理のいず
れの方法でも高い除草活性を示し、メヒシバ、エノコ
ロ、野生エンバク、イヌビユ等の各種畑雑草に有効で、
トウモロコシ、ムギ類、大豆、ワタ等の作物に選択性を
示す化合物も含まれている。

【０１０４】本発明化合物には、作物、観賞用植物、果
樹等の有用植物に対し、生育抑制作用等の植物成長調節
作用を示す化合物も含まれている。

【０１０５】また本発明化合物には、水田雑草のノビ
エ、タマガヤツリ、オモダカ、ホタルイ等の各種水田雑
草に対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示す
化合物も含まれている。

【０１０６】更に本発明化合物は果樹園、芝生、線路
端、空き地等の雑草の防除にも適用することができる。

【０１０７】本発明化合物には植物成長調節作用、殺菌
活性、殺虫・殺ダニ活性を有するものも含まれる。

【０１０８】

【実施例】次に、参考例及び実施例により、本発明をさ
らに詳細に説明する。実施例１ ５，５−ジメチル−４−ヒドロキシ−１−メトキシ−３
−（２，４、６−トリメチルフェニル）−３−ピロリン
−２−オンの製造。

【０１０９】

【化２０】

【０１１０】２−メチル−２−（Ｎ−（２，４，６−ト
リメチルフェニルアセチル）−メトキシアミノ）−プロ
ピオン酸エチル0.84g(0.0026mol)をテトラヒドロフラン
10mlに溶解し、カリウムｔ−ブトキシド0.36g(0.0029mo
l)を加えて、１０分間加熱環流させた。冷却した後、反
応液に水とエーテルを加え、分液し、水層に硫酸を加え
て酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶
液を飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せた後、溶媒を濃縮し目的化合物0.6g（収率８４％）を
得た。 ｍｐ．２０８−２１０℃

【０１１１】実施例２ ４−アセトキシ−５，５−ジメチル−１−メトキシ−３
−（２，４，６−トリメチルフェニル）−３−ピロリン
−２−オンの製造。

【０１１２】

【化２１】

【０１１３】５，５−ジメチル−４−ヒドロキシ−１−
メトキシ−３−（２，４、６−トリメチルフェニル）−
３−ピロリン−２−オン0.2g(0.0007mol)を塩化メチレ
ン5mlに溶解し、トリエチルアミン0.11g(0.001mol)を加
えて、室温で攪拌しながら、アセチルクロリド0.07g(0.
0009mol)を加えて、室温で一晩反応させた。反応液に水
と酢酸エチルを加えて分液した後、酢酸エチル層を、
水、１Ｎ塩酸、重曹水、食塩水の順で洗い、無水硫酸マ
グネシウムで脱水後溶媒を濃縮し目的化合物0.16g（収
率６９％）を得た。ｍｐ．１０７−１０８℃

【０１１４】参考例１ ２−メトキシアミノ−２−メチル−プロピオン酸エチル
の製造

【０１１５】

【化２２】

【０１１６】メトキシアミン塩酸塩15g(0.18mol)と炭酸
カリウム55g(0.4mol)とをジメチルホルムアミド150mlに
懸濁させ、攪拌下、２−ブロモイソ酪酸エチル38.6g(0.
2mol)を添加し、６０℃で６日間反応させた。冷却後、
反応液に酢酸エチルを加え、水、食塩水の順で洗い、無
水硫酸マグネシウムで脱水後溶媒を濃縮し、カラムクロ
マトグラフィ−を行うことで目的化合物5g（収率１７
%）を得た。

【０１１７】Oil: ¹H-NMR (300MHz, CDCl₃) δ ppm:
1.29(3H, t,), 1.30(6H, s), 3.53(3H,ｓ), 4.19(2H,
q), 6.11(1H,ｓ)

【０１１８】参考例２ ２−メチル−２−（Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェ
ニルアセチル）−メトキシアミノ）−プロピオン酸エチ
ルの製造

【０１１９】

【化２３】

【０１２０】２−メトキシアミノ−２−メチル−プロピ
オン酸エチル0.91g(0.0056mol)と、２，４，６−トリメ
チルフェニル酢酸1g(0.0056mol)及びＮ，Ｎ−ジメチル
アミノピリジン0.69g(0.0056mol)を塩化メチレン10mlに
溶解し、Ｎ−エチル−Ｎ‘−（３−ジメチルアミノプロ
ピル）カルボジイミド塩酸塩1.62g(0.0085mol)を攪拌し
ながら添加した。室温で一晩攪拌後、溶媒の塩化メチレ
ンを減圧留去し、得られた残渣に酢酸エチルを加えて、
水、１Ｎ塩酸、飽和重曹水の順で洗い、無水硫酸マグネ
シウムで脱水後溶媒を濃縮し、カラムクロマトグラフィ
−を行うことで目的化合物1.04g（収率５７%）を得た。
ｍｐ．８２−８３℃

【０１２１】実施例３ ５，５−ジメチル−４−ヒドロキシ−１−プロパルギル
オキシ−３−（２，４、６−トリメチルフェニル）−３
−ピロリン−２−オンの製造。

【０１２２】

【化２４】

【０１２３】２−メチル−２−（Ｎ−（２，４，６−ト
リメチルフェニルアセチル）−プロパルギルオキシアミ
ノ）−プロピオン酸エチル0.75g(0.002mol)をテトラハ
イドロフラン10mlに溶かし、氷水冷下に攪拌しながら、
カリウムｔ−ブトキシド0.24g(0.002mol)をゆっくり加
えて、室温でさらに１時間撹拌した。反応液に水及びエ
ーテルを加え、分液し、水層に硫酸を加えて酸性とした
後、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を飽和食塩
水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒
を濃縮して目的化合物0.36g（収率５５％）を得た。ｍ
ｐ．１７６−１７９℃

【０１２４】実施例４ ４−アセトキシ−５，５−ジメチル−１−プロパルギル
オキシ−３−（２，４，６−トリメチルフェニル）−３
−ピロリン−２−オンの製造。

【０１２５】

【化２５】

【０１２６】５，５−ジメチル−４−ヒドロキシ−１−
プロパルギルオキシ−３−（２，４、６−トリメチルフ
ェニル）−３−ピロリン−２−オン0.2g(0.0007mol)を
塩化メチレン10mlに溶解し、トリエチルアミン0.09g(0.
0009mol)を加え室温で攪拌しながら、アセチルクロリド
0.06g(0.0008mol)を加えて室温で一晩反応させた。反応
液に水と酢酸エチルを加えて分液した後、酢酸エチル層
を、水、１Ｎ塩酸、重曹水、食塩水の順で洗い、無水硫
酸マグネシウムで脱水後溶媒を濃縮し目的化合物0.16g
（収率７０％）を得た。ｍｐ．１０５−１０７℃

【０１２７】参考例３ ２−メチル−２−（Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェ
ニルアセチル）−ヒドロキシアミノ）−プロピオン酸エ
チルの製造。

【０１２８】

【化２６】

【０１２９】２−メチル−２−（Ｎ−（２，４，６−ト
リメチルフェニルアセチル）−ベンジルオキシアミノ）
−プロピオン酸エチル15.6g(0.039mol)を酢酸エチル150
mlに溶解し、触媒量の５％Ｐｄ−Ｃを添加し、常圧、室
温で２日間水素添加を行った。触媒を濾別し溶媒を濃縮
して目的化合物10g（収率８３％）を得た。ｍｐ．１５
８−１６１℃

【０１３０】参考例 ４ ２−メチル−２−（Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェ
ニルアセチル）−プロパルギルオキシアミノ）−プロピ
オン酸エチルの製造。

【０１３１】

【化２７】

【０１３２】２−メチル−２−（Ｎ−（２，４，６−ト
リメチルフェニルアセチル）−ヒドロキシアミノ）−プ
ロピオン酸エチル0.7g(0.0023mol)をジメチルホルムア
ミド5mlに溶解し、これに炭酸カリウム0.38g(0.0028mo
l)を加えた。更に、攪拌下にプロパルギルブロミド0.3g
(0.0025mol)を滴下し、滴下終了後、更に室温で一晩攪
拌した。反応液に酢酸エチルを加え、水で３回、食塩水
で１回洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を濃
縮し目的化合物0.75g（収率９４％）を得た。Ｏｉｌ：
n_D ^21.5＝1.5151

【０１３３】参考例５ ２−ベンジルオキシアミノ−２−メチル−プロピオン酸
エチルの製造。

【０１３４】ベンジルオキシアミン塩酸塩25g(0.157mo
l)と炭酸カリウム47.6g(0.34mol)をジメチルホルムアミ
ド150mlに懸濁させ、攪拌下、２−ブロモイソ酪酸エチ
ル36.7g(1.19mol)を添加し８０〜１００℃で７日間反応
させた。冷却後、酢酸エチルを加え、水、食塩水の順で
洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水後溶媒を濃縮し、カ
ラムクロマトグラフィ−を行うことで目的化合物15.7g
（収率４２%）を得た。

【０１３５】Oil: ¹H-NMR (300MHz, CDCl₃) δ ppm:
1.27(3H, t, ), 1.30(6H, s), 4.19(2H, q, ), 4.72(2
H,s) 6.04(1H, s) 7.29-7.39(5H, m)

【０１３６】参考例６ ２−メチル−２−（Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェ
ニルアセチル）−ベンジルオキシアミノ）−プロピオン
酸エチルの製造。

【０１３７】２−ベンジルオキシアミノ−２−メチル−
プロピオン酸エチル10g (0.042 mol)と２，４，６−ト
リメチルフェニル酢酸11.3g(0.063mol)、及びＮ，Ｎ−
ジメチルアミノピリジン5.15g(0.042mol)を塩化メチレ
ン30mlに溶解し、Ｎ−エチル−Ｎ‘−（３−ジメチルア
ミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩16.2g(0.085mol)
を攪拌しながら添加した。室温で一晩攪拌後、溶媒の塩
化メチレンを減圧留去し、得られた残さに酢酸エチルを
加えて、水、１Ｎ塩酸、飽和重曹水の順で洗い、無水硫
酸マグネシウムで脱水後溶媒を濃縮し、目的化合物15.6
g（収率９３％）を得た。 Oil n_D ^21.6=11.5320

【０１３８】上記のようにして得られた本発明化合物を
第２表に示した。

【０１３９】

【表２０１】

【０１４０】

【表２０２】

【０１４１】〔除草剤〕次に、本発明除草剤に関する製
剤例を若干示すが、有効成分化合物、添加物及び添加割
合は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で
変更可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。

【０１４２】実施例５ 水和剤 本発明化合物 ２０部 ホワイトカーボン ２０部 ケイソウ土 ５２部 アルキル硫酸ソーダ ８部 以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分２０％の
水和剤を得る。

【０１４３】実施例６ 乳剤 本発明化合物 ２０部 キシレン ５５部 ジメチルホルムアミド １５部 ポリオキシエチレンフェニルエーテル １０部 以上を混合、溶解して有効成分２０％の乳剤を得る。

【０１４４】実施例７ 粒剤 本発明化合物 ５部 タルク ４０部 クレー ３８部 ベントナイト １０部 アルキル硫酸ソーダ ７部 以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径０．５〜１．
０ｍｍの粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得る。

【０１４５】

【発明の効果】次に本発明除草剤の効果に関する試験例
を示す。除草効果は下記の調査基準に従って調査し、殺
草指数で表した。

【０１４６】 調査基準 殺 草 率 殺 草 指 数 ０％ ０ ２０〜２９％ ２ ４０〜４９％ ４ ６０〜６９％ ６ ８０〜８９％ ８ １００％ １０ また、１、３、５、７、９の数値は、各々０と２、２と
４、４と６、６と８、８と１０の中間の値を示す。

【０１４７】

【数１】

【０１４８】試験例１ 茎葉散布処理 ２００ｃｍ2のポットに土壌を充填し、表層にメヒシ
バ、アキノエノコログサ、の各種子を播き、軽く覆土後
温室内で生育させた。各雑草が５〜２５ｃｍの草丈に生
育した時点で各供試化合物の実施例６に示した乳剤の水
希釈液を、有効成分が所定の薬量になるように、１００
リットル／１０ａ散布量相当量で小型噴霧器にて雑草の
茎葉部に散布した。３週間後に雑草の除草効果を前記調
査基準に従って調査し、その結果を第３表に示した。

【０１４９】

【表３０１】

【０１５０】

【表３０２】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 淳司 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 高橋 明裕 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 Ｆターム(参考） 4C069 AC17 BC04 BC05 BC06 BC07 BC12 CC02 4H011 AB01 AB02 BB09 BC00 BC06 BC18 BC19 BC20 DA02 DA15 DA16 DD03 DE01 DE15 DH03

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式［Ｉ］ 【化１】 ［式中、Ａは水素原子、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケ
   ニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシＣ_1-6ア
   ルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、置換されても良いベ
   ンジル基、アルコキシカルボニルアルキル基、Ｃ_1-6ア
   ルキルスルホニル基、またはＣ（＝Ｏ）Ｒ₄（ここでＲ₄
   は、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_1-6アル
   コキシ基、Ｃ_1-6アルコキシＣ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6ハ
   ロアルキル基、C_1-6アルコキシカルボニルC_1-6アルキル
   基、置換されても良いフェニル基、置換されても良いベ
   ンジル基、置換されても良いベンジルオキシ基または
   Ｎｒ₁ｒ ₂（ｒ₁、ｒ₂は、同一または相異なって、水素原
   子、Ｃ_1-6アルキル基を表す。）を表す。Ｒ₁は水素原
   子、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アル
   キニル基、Ｃ _3-6シクロアルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル
   基、Ｃ_2-6ハロアルケニル基、シアノＣ_1-6アルキル基、
   Ｃ_1-6アルコキシＣ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシカ
   ルボニルＣ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルカルボニル
   基、置換されても良いベンジル基、または置換されてい
   てもよいベンゾイルＣ_1-6アルキル基を表す。Ｒ₂，Ｒ₃
   は、それぞれ独立して水素原子、Ｃ_1-6アルキル基を表
   すか、またはＲ₂とＲ₃は一緒になって環を形成しても良
   い。Ｘは、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_1-6アルキル
   基、Ｃ_1-6ハロアルキル基またはＣ_1-6アルコキシ基を表
   す。ｎは0または１〜5の整数を表す。ｎが2以上のと
   き、Xは同一でも相異なっていても良い。）で表される
   化合物。
2. 【請求項2】一般式 ［II］ 【化２】 （式中、Ｘ、ｎ、Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃は前記と同じ意味
   を表し、Ｒ₄は、Ｃ_1-6アルキル基を表す。）で表される
   化合物を、縮合反応させることを特徴とする、 一般式 ［Ｉ−１］ 【化３】 （式中、Ｘ、ｎ、Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃は前記と同じ意味
   を表す。）で表される化合物の製造法。
3. 【請求項3】一般式［Ｉ−１］ 【化４】 （式中、Ｘ、ｎ、Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃は前記と同じ意味
   を表す。）で表される化合物と、式：Ａ‘−Ｌ（式中
   Ａ’は、前記Ａにおいて、水素原子を除くほか、前記Ａ
   と同じ意味を表し、Ｌは脱離基を表す。）で表される化
   合物を反応させることを特徴とする、 一般式［Ｉ−２］ 【化５】 （式中、Ｘ、ｎ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ａ‘は前記と同じ意
   味を表す。）で表される化合物の製造法。
4. 【請求項４】一般式［Ｉ］ 【化６】 （式中、Ｘ、ｎ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ａは前記と同じ意味
   を表す。）で表される化合物の１種または２種以上を有
   効成分として含有することを特徴とする除草剤。