JP2001064547A - Active energy ray-curable electroconductive paste, and conductor circuit and non-contact id using the same - Google Patents

Active energy ray-curable electroconductive paste, and conductor circuit and non-contact id using the same

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JP2001064547A
JP2001064547A JP24704399A JP24704399A JP2001064547A JP 2001064547 A JP2001064547 A JP 2001064547A JP 24704399 A JP24704399 A JP 24704399A JP 24704399 A JP24704399 A JP 24704399A JP 2001064547 A JP2001064547 A JP 2001064547A
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JP
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active energy
energy ray
conductive paste
acrylate
conductor circuit
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Japanese (ja)
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Hiroaki Tsuruta
洋明 鶴田
Minoru Nakamura
稔 中村
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Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electroconductive paste which can be applicable to a base material having poor heat resistance and needs a very short time for a curing process in the manufacture of a conductive circuit so that it realizes high mass productivity of conductive circuits and is effective for reducing the production cost of a non-contact ID. SOLUTION: There is provided an electroconductive paste comprising an electroconductive substance and active energy ray-polymerizable compound which gives a cured film having an internal stress of 5-50 MPa when cured by an electron beam having an accelerated voltage of 150 kV at an irradiation dose 40 kGy. A method for manufacturing a conductive circuit comprises a step of forming a circuit pattern on a substrate using the electroconductive paste and irradiating it with an active energy ray. The conductive circuit is manufactured by such process. The non-contact ID is prepared by mounting the conductive circuit and an IC chip on a substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子材料用の導電
性ペーストに関する。さらに詳しくは、耐熱性が乏しい
基材に対しても回路パターンの形成が可能で、かつ硬化
が瞬時に終了するため、導体回路の量産性が良好な導電
性ペーストに関する。
[0001] The present invention relates to a conductive paste for electronic materials. More specifically, the present invention relates to a conductive paste which can form a circuit pattern even on a substrate having poor heat resistance and can be cured in an instant so that mass production of a conductive circuit is good.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、テレホンカードや定期券、その他
の用途で非接触ID、詳しくは非接触型ICカード、非
接触型ICタグの需要が増えつつある。非接触型ICカ
ードおよび非接触型ICタグでは、テレホンカードの残
量や定期券の有効期限等のデータのやり取りを電波を使
用して行い、その通信に必要な電力も外部からの電波に
よって発生させている。これらの非接触ID(非接触型
ICカード、非接触型ICタグ)の普及は、その製造コ
ストの削減も大きな鍵を握っている。外部との通信、発
電のための回路(通称:アンテナ回路)の製造法として
は、銅張り基板からのエッチング法、銅線巻き付け法、
熱硬化性あるいは熱可塑性導電性ペーストによる印刷法
等が実用化されている。
2. Description of the Related Art In recent years, the demand for non-contact IDs, specifically non-contact IC cards and non-contact IC tags for telephone cards, commuter passes, and other uses has been increasing. Non-contact IC cards and non-contact IC tags use radio waves to exchange data such as the remaining amount of telephone cards and the expiration date of commuter passes, and the power required for communication is also generated by external radio waves Let me. With the spread of these non-contact IDs (non-contact type IC cards and non-contact type IC tags), reduction of the manufacturing cost is also a key. As a method of manufacturing a circuit for communication with the outside and power generation (commonly called an antenna circuit), an etching method from a copper-clad substrate, a copper wire winding method,
A printing method using a thermosetting or thermoplastic conductive paste has been put to practical use.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、エッチング法
および銅線巻き付け法は、工程が複雑であったり、後工
程で廃液処理が必要であるため問題が多い。また、熱硬
化性導電性ペーストは、バインダーとして熱硬化性樹脂
および/またはガラスフリットなどの無機物質を用いて
いるため、基材(被塗布物)に塗布または印刷後に高温
で加熱する必要があった。加熱による硬化には、多大な
エネルギー、加熱時間、加熱装置設置のための床面積を
必要とし、不経済であるばかりでなく、次に示すような
大きな制約があった。
However, the etching method and the copper wire winding method have many problems because the steps are complicated and waste liquid treatment is required in a later step. In addition, since the thermosetting conductive paste uses a thermosetting resin and / or an inorganic substance such as glass frit as a binder, it is necessary to heat the base material (substrate) at a high temperature after applying or printing. Was. Curing by heating requires a large amount of energy, heating time, and a floor area for installing a heating device, is not only uneconomical, but also has the following major restrictions.

【0004】すなわち、ガラスフリット等の無機物質を
バインダーとする導電性ペーストは、通常、800℃以
上での焼成を必要とするため、合成樹脂系の基材には適
用できない。一方、熱硬化型樹脂をバインダーとする導
電性ペーストは、合成樹脂系の基材に対しても適用可能
であるが、ペーストを硬化させる際の加熱によって基材
が変形し、得られたプリント配線回路を用いた後工程の
部品搭載に支障を来すなど大きな障害となっていた。
That is, a conductive paste using an inorganic substance such as a glass frit as a binder usually requires firing at 800 ° C. or higher, and therefore cannot be applied to a synthetic resin base material. On the other hand, a conductive paste using a thermosetting resin as a binder can be applied to a synthetic resin-based substrate, but the substrate is deformed by heating when the paste is cured, and the resulting printed wiring is formed. This was a major obstacle, as it hindered the mounting of components in subsequent processes using circuits.

【0005】また、熱可塑性導電性ペーストを使用した
導体回路も、パーソナルコンピュターのキーボード等に
多用されているが、ポリエチレンテレフタレート等の基
材が導電性ペーストの乾燥工程で収縮するため、その対
策として、アニーリング等の前処理が必要であった。更
に、乾燥には30〜60分の時間が必要で、かつ耐溶剤
性がないなどの欠点を持っていた。
[0005] Conductive circuits using a thermoplastic conductive paste are also widely used for personal computer keyboards and the like. However, since a substrate such as polyethylene terephthalate shrinks during the process of drying the conductive paste, a countermeasure is taken as a countermeasure. And pretreatment such as annealing. In addition, drying requires a time of 30 to 60 minutes, and has drawbacks such as lack of solvent resistance.

【0006】そこで、本発明は、上記の種々の問題点を
改良し、耐熱性が乏しい基材にも使用することが可能
で、導体回路製造における硬化工程に要する時間が非常
に短いため導体回路の量産性が高く、非接触IDの製造
コストの低減に効果的な導電性ペーストの提供を目的と
する。
Accordingly, the present invention improves the above-mentioned various problems, and can be used for a substrate having poor heat resistance. It is an object of the present invention to provide a conductive paste which has high mass productivity and is effective in reducing the manufacturing cost of a non-contact ID.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、電子線で
硬化せしめたときの硬化皮膜の内部応力が特定範囲内に
ある活性エネルギー線重合性化合物をバインダーとする
導電性ペーストは、活性エネルギー線を照射することに
より硬化し、耐熱性が乏しい基材上にも適切な体積固有
抵抗値および良好な基材密着性を有する回路パターンを
形成できることを見出し、本発明に至った。また、本発
明者らは、前記の導電性ペーストを用いることにより容
易に導体回路を量産でき、得られる導体回路は、非接触
IDの回路として好適であることを見出した。
Means for Solving the Problems The present inventors have proposed a conductive paste using an active energy ray polymerizable compound as a binder in which the internal stress of a cured film when cured by an electron beam is within a specific range. The present inventors have found that a circuit pattern having an appropriate volume specific resistance value and good substrate adhesion can be formed on a substrate having poor heat resistance by being cured by irradiation with an energy ray, and the present invention has been accomplished. In addition, the present inventors have found that a conductor circuit can be easily mass-produced by using the above-mentioned conductive paste, and the obtained conductor circuit is suitable as a non-contact ID circuit.

【0008】すなわち、本発明は、導電性物質と活性エ
ネルギー線重合性化合物とを含有する導電性ペーストで
あって、前記活性エネルギー線重合性化合物を加速電圧
150kV、照射線量40kGyの電子線で硬化せしめ
たときの硬化皮膜の内部応力が5〜50MPaであるこ
とを特徴とする活性エネルギー線硬化型導電性ペースト
である。また、本発明は、基材上に、上記活性エネルギ
ー線硬化型導電性ペーストを用いて回路パターンを形成
し、活性エネルギー線を照射することを特徴とする導体
回路の製造方法である。また、本発明は、上記方法で製
造された導体回路である。さらに、本発明は、基板上
に、上記導体回路およびICチップを積載した非接触I
Dである。
That is, the present invention is a conductive paste containing a conductive substance and an active energy ray polymerizable compound, wherein the active energy ray polymerizable compound is cured by an electron beam having an acceleration voltage of 150 kV and an irradiation dose of 40 kGy. An active energy ray-curable conductive paste characterized in that the internal stress of the cured film when stiffened is 5 to 50 MPa. Further, the present invention is a method for manufacturing a conductor circuit, comprising forming a circuit pattern on a base material using the active energy ray-curable conductive paste and irradiating the circuit pattern with active energy rays. Further, the present invention is a conductor circuit manufactured by the above method. Further, the present invention provides a non-contact I / O circuit having the above-described conductor circuit and IC chip mounted on a substrate.
D.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の導電性ペーストに用いら
れる活性エネルギー線重合性化合物は、該化合物を加速
電圧150kV、照射線量40kGyの電子線で硬化せ
しめたときの硬化皮膜の内部応力が5〜50MPa、好
ましくは10〜40MPaとなる化合物である。2種以
上の活性エネルギー線重合性化合物を用いる場合には、
混合物の内部応力が上記範囲内となる必要がある。活性
エネルギー線重合性化合物の硬化皮膜の内部応力が5M
Pa未満の場合には、導電性ペーストとしての適切な体
積固有抵抗値を発現しない。また、50MPaを越える
場合には、導電性ペーストの基材密着性が低く、実用レ
ベルに達しない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The active energy ray polymerizable compound used in the conductive paste of the present invention has an internal stress of 5 when the compound is cured with an electron beam of an acceleration voltage of 150 kV and an irradiation dose of 40 kGy. It is a compound having a pressure of 5050 MPa, preferably 10-40 MPa. When two or more active energy ray polymerizable compounds are used,
The internal stress of the mixture must be within the above range. The internal stress of the cured film of the active energy ray polymerizable compound is 5M
When it is less than Pa, an appropriate volume specific resistance value as a conductive paste is not exhibited. On the other hand, if it exceeds 50 MPa, the adhesion of the conductive paste to the base material is low, and does not reach a practical level.

【0010】活性エネルギー線重合性化合物の硬化皮膜
の内部応力は、以下の方法で測定される。すなわち、1
2μmのアルミニウム蒸着ポリエチレンテレフタレート
(以下、PETという。)フィルムの非蒸着面に、内部
応力を測定したい活性エネルギー線重合性化合物をスピ
ンコーターで10μm程度になるように均一に塗工して
皮膜を形成する。次に、この塗工物に、窒素雰囲気中で
加速電圧150kV、照射線量40kGyの電子線を照
射して皮膜を硬化させる。得られたアルミニウム蒸着P
ETフィルム上の硬化皮膜は、硬化収縮の為に、硬化皮
膜を内側、PETフィルムを外側にした弧状にカールし
ている。この弧のたわみ曲率半径を測定する。
[0010] The internal stress of the cured film of the active energy ray polymerizable compound is measured by the following method. That is, 1
An active energy ray polymerizable compound whose internal stress is to be measured is uniformly applied to a non-deposited surface of a 2 μm aluminum-deposited polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film by a spin coater to a thickness of about 10 μm to form a film. I do. Next, the coating is irradiated with an electron beam having an acceleration voltage of 150 kV and an irradiation dose of 40 kGy in a nitrogen atmosphere to cure the coating. The obtained aluminum deposition P
The cured film on the ET film is curled in an arc shape with the cured film inside and the PET film outside because of curing shrinkage. The radius of curvature of this arc is measured.

【0011】更に、先に得られたアルミニウム蒸着PE
Tフィルム上の硬化皮膜の弾性率をPETフィルム単品
の弾性率と、硬化皮膜とPETフィルムの複合膜の弾性
率から算出する。アルミニウム蒸着PETフィルム上の
硬化皮膜の内部応力(P0)は、曲率半径(r:単位m
m)、基材の弾性率(F:単位Pa)、硬化皮膜の弾性
率(E:単位Pa)、PETフィルムの厚さ(d1:単
位mm)、硬化皮膜の厚さ(d2:単位mm)から以下
の式で計算される。 P0=2{F*(d1)3 +E*(d2)3 }/3r
(d2)2
Further, the previously obtained aluminum-deposited PE
The elastic modulus of the cured film on the T film is calculated from the elastic modulus of the PET film alone and the elastic modulus of the composite film of the cured film and the PET film. The internal stress (P0) of the cured film on the aluminum vapor-deposited PET film is the radius of curvature (r: unit m)
m), modulus of elasticity of substrate (F: unit Pa), modulus of elasticity of cured film (E: unit Pa), thickness of PET film (d1: unit mm), thickness of cured film (d2: unit mm) Is calculated from the following equation. P0 = 2 {F * (d1) 3 + E * (d2) 3 } / 3r
(D2) 2

【0012】活性エネルギー線重合性化合物とは、活性
エネルギー線を照射することにより重合する化合物であ
り、エチレン性不飽和基を有する化合物が好適に用いら
れる。エチレン性不飽和基を有する化合物としては、
(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリレート系化合物、
ビニエーテル系化合物、ポリアリル化合物などが挙げら
る。これらの化合物は、単独でまたは2種類以上を組み
合わせて用いることができる。
The active energy ray polymerizable compound is a compound which is polymerized by irradiation with an active energy ray, and a compound having an ethylenically unsaturated group is preferably used. As the compound having an ethylenically unsaturated group,
(Meth) acrylic acid, (meth) acrylate compounds,
Examples include vinyl ether compounds and polyallyl compounds. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0013】(メタ)アクリレート系化合物のうち、単
官能(メタ)アクリレート系化合物としては、メチル
(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、
n- ブチル(メタ)アクリレート、t- ブチル(メタ)
アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、メト
キシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メト
キシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、n
- ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2-フェノキシ
エチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)
アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリ
レート、イソボニル(メタ)アクリレート、ベンジル
(メタ)アクリレート、2- ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、2- ヒドロキシプロピル(メタ)アクリ
レート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、
4- ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、(メタ)
アクリロイロキシエチルハイドロゲンサクシネート、
(メタ)アクリロイロキシプロピルハイドロゲンフタレ
ート、(メタ)アクリロイロキシエチル2-ヒドロキシプ
ロピルフタレート、グリシジル(メタ)アクリレート、
2-ヒドキロキシ-3- アクリロイロキシプロピル(メタ)
アクリレートなどが挙げられる。
Among the (meth) acrylate compounds, monofunctional (meth) acrylate compounds include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate,
n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth)
Acrylate, isobutyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, n
-Butoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth)
Acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)
Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate,
4-hydroxybutyl (meth) acrylate, (meth)
Acryloyloxyethyl hydrogen succinate,
(Meth) acryloyloxypropyl hydrogen phthalate, (meth) acryloyloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate, glycidyl (meth) acrylate,
2-Hydroloxy-3-acryloyloxypropyl (meth)
Acrylate and the like.

【0014】また、多官能の(メタ)アクリレート系化
合物としては、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリ
レート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、
エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)ア
クリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノール
Aジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピ
レンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メ
タ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)
アクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリ
レート、エステルアクリレート等が挙げられる。
The polyfunctional (meth) acrylate compounds include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate and neopentyl glycol. Di (meth) acrylate,
Ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, propylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide-modified trimethylol propane tri (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropanetetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate
Acrylate, dipentaerythritol tetra (meth)
Acrylate, dipentaerythritol penta (meth)
Examples include acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, and ester acrylate.

【0015】上記多官能(メタ)アクリレート系化合物
のうち3官能以上のウレタンアクリレートを用いると、
硬化収縮率が大きくなり体積固有抵抗値も低くなるが、
密着性が低下することは無く、優れた活性エネルギー線
硬化型導電性ペーストを得ることができる。ビニルエー
テル系化合物のうち、単官能のビニルエーテル系化合物
としては、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキ
シブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノール
モノビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等
が挙げられる。
When a trifunctional or higher urethane acrylate is used among the above polyfunctional (meth) acrylate compounds,
Although the curing shrinkage increases and the volume resistivity decreases,
Adhesion does not decrease, and an excellent active energy ray-curable conductive paste can be obtained. Among the vinyl ether compounds, examples of monofunctional vinyl ether compounds include hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, cyclohexane dimethanol monovinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, and the like.

【0016】また、多官能のビニルエーテル系化合物と
しては、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチ
レングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコ
ールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニル
エーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、
トリプロピレングリコールジビニルエーテル、ネオペン
チルグリコールジビニルエーテル、1,4−ブタンジエ
ールジビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビ
ニルエーテル、グリセロールジビニルエーテル、トリメ
チロールプロパンジビニルエーテル、1,4−ジヒドロ
キシシクロヘキサンジビニルエーテル、1,4−ジヒド
ロキシメチルシクロヘキサンジビニルエーテル、ビスフ
ェノールAジエトキシジビニルエーテル、ビスフェノー
ルSジエトキシジビニルエーテルなどのジビニルエーテ
ル系化合物等が挙げられる。
The polyfunctional vinyl ether compounds include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether,
Tripropylene glycol divinyl ether, neopentyl glycol divinyl ether, 1,4-butanediele divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, glycerol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, 1,4-dihydroxycyclohexane divinyl ether, Examples thereof include divinyl ether compounds such as 1,4-dihydroxymethylcyclohexane divinyl ether, bisphenol A diethoxy divinyl ether, and bisphenol S diethoxy divinyl ether.

【0017】また、グリセロールトリビニルエーテル、
ソルビトールテトラビニルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリ
ビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエ
ーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテ
ル、ジペンタエリスリトールポリビニルエーテル、ジト
リメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ジトリメ
チロールプロパンポリビニルエーテル等の3官能以上の
ポリビニルエーテル系化合物等が挙げられる。
Glycerol trivinyl ether;
Trifunctional or higher polyvinyl such as sorbitol tetravinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether, dipentaerythritol polyvinyl ether, ditrimethylolpropane tetravinylether, ditrimethylolpropane polyvinylether, etc. Examples include ether compounds.

【0018】本発明の導電性ペーストに用いられる導電
性物質としては、例えば金、銀、銅、銀メッキ銅粉、銀
−銅複合粉、銀−銅合金、ニッケル、クロム、パラジウ
ム、アルミニウム、タングステン、モリブデン、白金な
どの金属粉、これらの金属で被覆した無機物粉末、酸化
銀、酸化インジウムなどの金属酸化物の粉末、これらの
金属酸化物で被覆した粉末、またはカーボンブラック、
グラファイトなどが挙げられる。これらの導電性物質
は、2種類以上を組み合わせて用いても良い。導電性物
質のなかでは、高導電性で酸化による抵抗値の上昇が少
ないことから銀粉が好ましい。
Examples of the conductive substance used in the conductive paste of the present invention include gold, silver, copper, silver-plated copper powder, silver-copper composite powder, silver-copper alloy, nickel, chromium, palladium, aluminum, and tungsten. , Molybdenum, metal powder such as platinum, inorganic powder coated with these metals, silver oxide, metal oxide powder such as indium oxide, powder coated with these metal oxides, or carbon black,
Examples include graphite. These conductive substances may be used in combination of two or more. Among the conductive substances, silver powder is preferable because of high conductivity and little increase in resistance value due to oxidation.

【0019】導電性物質の形状は、粒状、球状、フレー
ク状、鱗片状、板状、樹枝状、立方体状等のいずれの形
状でもよいが、導電性物質同士の接触および導電性ペー
ストの流動性の点から樹枝状、鱗片状または球状のもの
が好ましい。また、導電性物質は、その平均粒径が0.
1μm〜100μmのものを用いることができるが、導
電性および導電性ペーストの流動性の点から、平均粒径
1μm〜50μmのものが好適に用いられる。なお、本
発明における平均粒径は、レーザー回折法で測定される
体積平均粒径である。
The shape of the conductive material may be any of a granular shape, a spherical shape, a flake shape, a flake shape, a plate shape, a dendritic shape, a cubic shape and the like. From the viewpoint of dendritic, scaly or spherical ones are preferred. The conductive material has an average particle size of 0.1.
Those having an average particle diameter of 1 μm to 50 μm are preferably used from the viewpoint of conductivity and fluidity of the conductive paste. The average particle size in the present invention is a volume average particle size measured by a laser diffraction method.

【0020】本発明の導電性ペースト中の導電性物質と
活性エネルギー線重合性化合物の配合比は、導電性物質
と活性エネルギー線重合性化合物の合計量を基準とし
て、導電性物質が95〜55重量%で、活性エネルギー
線重合性化合物が5〜45重量%である。導電性物質の
配合比が95重量%を越えると、導電性ペーストを用い
て形成される塗膜が脆弱になるとともに、導電性が低下
する。また、55重量%未満では十分な導電性が得られ
ない。好ましくは、導電性物質が90〜60重量%で、
活性エネルギー線重合性化合物が10〜40重量%であ
る。
The compounding ratio of the conductive substance and the active energy ray polymerizable compound in the conductive paste of the present invention is based on the total amount of the conductive substance and the active energy ray polymerizable compound. The active energy ray polymerizable compound is 5 to 45% by weight. When the compounding ratio of the conductive substance exceeds 95% by weight, the coating film formed using the conductive paste becomes brittle and the conductivity decreases. If the content is less than 55% by weight, sufficient conductivity cannot be obtained. Preferably, the conductive substance is 90 to 60% by weight,
The amount of the active energy ray polymerizable compound is 10 to 40% by weight.

【0021】本発明の導電性ペーストを紫外線で硬化す
る場合には、導電性ペーストに光重合開始剤や光重合開
始助剤を添加することができる。また、本発明の導電性
ペーストには、粘度を調整する目的で溶剤を添加するこ
とができる。溶剤としては、例えばケトン類、芳香族
類、アルコール類、セロソルブ類、エーテルアルコール
類、エステル類などを使用できる。これらの溶剤は、2
種類以上を組み合わせて用いても良い。ケトン類として
はメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、3−
ペンタノン、2−ヘプタノン等が挙げられ、芳香族類と
してはトルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベ
ンゼン等が挙げられる。
When the conductive paste of the present invention is cured with ultraviolet rays, a photopolymerization initiator or a photopolymerization initiator may be added to the conductive paste. Further, a solvent can be added to the conductive paste of the present invention for the purpose of adjusting the viscosity. As the solvent, for example, ketones, aromatics, alcohols, cellosolves, ether alcohols, esters and the like can be used. These solvents are 2
A combination of more than two types may be used. Ketones include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone,
Examples include pentanone and 2-heptanone, and examples of the aromatics include toluene, xylene, ethylbenzene, and chlorobenzene.

【0022】アルコール類としてはメタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、イソブ
タノール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ペンジルアルコール等が挙げられ、セロソルブ類と
してはメチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、ヘキシルセロソルブ等が挙げられる。エーテ
ルアルコール類としてはプロピレングリコールメチルエ
ーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピ
レングリコールブチルエーテル等が挙げられ、エステル
類としては酢酸エチル、酢酸ブチル、ノルマルセロソル
ブアセテート、ブチルカルビトールアセテート等が挙げ
られる。
Examples of alcohols include methanol, ethanol, isopropanol, normal butanol, isobutanol, ethylene glycol, propylene glycol, and benzyl alcohol. Examples of cellosolves include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, and hexyl cellosolve. Can be Ether alcohols include propylene glycol methyl ether, propylene glycol ethyl ether, propylene glycol butyl ether and the like, and esters include ethyl acetate, butyl acetate, normal cellosolve acetate, butyl carbitol acetate and the like.

【0023】導体回路は、基材上に、本発明の導電性ペ
ーストを用いて回路パターンを形成し、活性エネルギー
線を照射することにより製造することができる。基材と
しては、エポキシ積層板、紙−フェノール基板、紙、合
成紙、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロ
ピレンフィルム、塩化ビニルフィルム等を用いることが
できる。また、回路パターンの形成は、シルクスクリー
ン印刷、オフセット印刷、メタルマスク印刷等により行
うことができる。
The conductive circuit can be manufactured by forming a circuit pattern on the base material using the conductive paste of the present invention and irradiating the circuit with active energy rays. As the substrate, an epoxy laminate, a paper-phenol substrate, paper, synthetic paper, a polyethylene terephthalate film, a polypropylene film, a vinyl chloride film, or the like can be used. The circuit pattern can be formed by silk screen printing, offset printing, metal mask printing, or the like.

【0024】活性エネルギー線は、導電性ペーストの硬
化トリガーとして使用されるエネルギー線であり、例え
ば、紫外線、電子線、γ線、赤外線、可視光線が挙げら
れるが、導体回路内部までの硬化性、導体回路が形成さ
れる基材への影響の少なさの点から電子線が好適であ
る。活性エネルギー線は、導電性ペースト中の活性エネ
ルギー線重合性化合物の硬化皮膜の内部応力が5〜50
MPaとなるような条件で照射することが好ましい。導
電性ペースト中の活性エネルギー線重合性化合物の硬化
皮膜の内部応力が5MPa未満の場合には、導電性ペー
ストの体積固有抵抗値が高くなり、50MPaを越える
場合には、導電性ペーストの基材密着性が低くなる。
The active energy ray is an energy ray used as a curing trigger for the conductive paste. Examples of the active energy ray include ultraviolet rays, electron rays, γ rays, infrared rays, and visible rays. An electron beam is preferred because it has little effect on the substrate on which the conductive circuit is formed. The active energy ray has an internal stress of 5 to 50 in the cured film of the active energy ray polymerizable compound in the conductive paste.
It is preferable to irradiate under the condition that the pressure becomes MPa. When the internal stress of the cured film of the active energy ray polymerizable compound in the conductive paste is less than 5 MPa, the volume resistivity of the conductive paste increases, and when it exceeds 50 MPa, the base material of the conductive paste Adhesion decreases.

【0025】電子線は、好ましくは100〜1000k
V、更に好ましくは150〜250kVの範囲に加速電
圧を持つ電子線照射装置により得られる。加速電圧10
0kV未満の電子線では導体回路内部までの十分な硬化
が得られ難く、1000kVを越える電子線では基材に
対するダメージが大きくなる。また、電子線の照射線量
(dose)は、好ましくは1〜1000kGy、更に
好ましくは5〜200kGyの範囲である。照射線量が
1kGyより少ないと十分に硬化した導体回路が得られ
にくく、また1000kGyより大きいと基板に対する
ダメージが大きいため好ましくない。
The electron beam is preferably 100 to 1000 k
V, more preferably an electron beam irradiation device having an acceleration voltage in the range of 150 to 250 kV. Acceleration voltage 10
When the electron beam is less than 0 kV, it is difficult to sufficiently cure the inside of the conductor circuit, and when the electron beam exceeds 1000 kV, the damage to the substrate is increased. The irradiation dose (dose) of the electron beam is preferably in the range of 1 to 1000 kGy, more preferably in the range of 5 to 200 kGy. If the irradiation dose is less than 1 kGy, it is difficult to obtain a sufficiently cured conductor circuit, and if the irradiation dose is more than 1000 kGy, damage to the substrate is large, which is not preferable.

【0026】本発明の導電性ペーストは、活性エネルギ
ー線照射による硬化後に、120℃以上2分程度の加熱
を行うと抵抗値の低減をすることができる。しかし、1
20℃以上の温度での加熱は、耐熱性の乏しい基材には
変形等が発生し適用できない。そこで、本発明の導電性
ペーストを使用した導体回路の製造方法では、80〜1
00℃程度の温度で加熱した状態で加圧処理を行うこと
が好ましい。加熱処理と加圧処理を併用することによ
り、基材に変形等が発生しない80〜100℃程度の温
度で、導電性物質の配向を促し、抵抗値を低減すること
ができる。
The resistance of the conductive paste of the present invention can be reduced by heating it at 120 ° C. or more for about 2 minutes after curing by irradiation with active energy rays. However, 1
Heating at a temperature of 20 ° C. or more cannot be applied to a substrate having poor heat resistance due to deformation or the like. Therefore, in the method of manufacturing a conductive circuit using the conductive paste of the present invention, 80 to 1
It is preferable to perform the pressure treatment while heating at a temperature of about 00 ° C. By using the heat treatment and the pressure treatment together, the orientation of the conductive substance can be promoted at a temperature of about 80 to 100 ° C. at which the base material does not deform and the like, and the resistance value can be reduced.

【0027】80℃未満の加熱では、抵抗値を低減させ
るのに十分な導電性物質の配向が促進できず、100℃
を越えて加熱すると、耐熱性に著しく乏しい基材を用い
た場合に基材の変形が発生するおそれがあるため好まし
くない。加圧処理は、ロールにより行うことができ、好
ましくは5〜20kgf/cm、更に好ましくは8〜1
2kgf/cmの圧力がかかるようにする。圧力が5k
gf/cmの場合は、抵抗値を低減させるのに十分な導
電性物質の配向が促進できず、20kgf/cmを越え
る場合は、生産性が悪くなるため好ましくない。
If the heating is performed at a temperature lower than 80 ° C., the orientation of the conductive substance cannot be sufficiently promoted to reduce the resistance value.
If the heating is performed at a temperature exceeding the above range, the deformation of the substrate may occur when a substrate having extremely poor heat resistance is used, which is not preferable. The pressure treatment can be performed by a roll, preferably 5 to 20 kgf / cm, more preferably 8 to 1 kgf / cm.
A pressure of 2 kgf / cm is applied. Pressure is 5k
In the case of gf / cm, the orientation of a conductive material sufficient to reduce the resistance cannot be promoted, and in the case of more than 20 kgf / cm, productivity is deteriorated, which is not preferable.

【0028】上記の方法で製造された導体回路は、基板
上にICチップと共に積載され、非接触IDが得られ
る。基板は、導体回路およびICチップを保持するもの
であり、導体回路の基材と同様な紙、フィルムなどを用
いることができる。また、ICチップは、データの記
憶、蓄積、演算をおこなうものである。非接触IDは、
RFID(Radio Frequency Identification)、非接触
型ICカード、非接触型ICタグ、データキャリア(記
録媒体)、ワイヤレスカードとして、リーダー、あるい
はリーダーライターとの間で、電波を使用して個体の識
別やデータ送受信を行うものである。その使用用途とし
ては料金徴収システムや金融管理システム等の決済処
理、入退室者管理システムや医療用管理システム等のI
D管理と履歴管理、道路利用状況管理システムや貨物、
荷物追跡・管理システム等の位置管理などがある。
The conductor circuit manufactured by the above method is mounted together with an IC chip on a substrate, and a non-contact ID is obtained. The substrate holds the conductor circuit and the IC chip, and may be the same paper, film, or the like as the substrate of the conductor circuit. The IC chip stores, stores, and calculates data. The contactless ID is
RFID (Radio Frequency Identification), non-contact type IC card, non-contact type IC tag, data carrier (recording medium), wireless card, reader or reader / writer, using radio waves to identify individuals and data It transmits and receives. Applications include payment processing such as fee collection systems and financial management systems, and entry and exit management systems and medical management systems.
D management and history management, road use situation management system and cargo,
There is position management such as a package tracking and management system.

【0029】[0029]

【実施例】次に、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。な
お、実施例中に部とあるのは重量部である。 ◎評価方法 (1)内部応力;内部応力を測定したい活性エネルギー
線重合性化合物を、12μmのアルミニウム蒸着PET
フィルムの非蒸着面に、スピンコーターで10μm程度
になるように均一に塗工した。次に、この塗工物に、窒
素雰囲気中で加速電圧150kV、吸収線量40kGy
の条件下で電子線を照射して硬化させた。硬化収縮の為
に弧状にカールしたアルミニウム蒸着PETフィルム上
のたわみ曲率半径をレーザー変位測定器で測定した。更
に、このアルミニウム蒸着PETフィルム上の硬化皮膜
の弾性率をPETフィルム単品の弾性率と硬化皮膜とP
ETフィルムの複合膜の弾性率から算出した。アルミニ
ウム蒸着PETフィルム上の硬化皮膜の内部応力(P
0)を、たわみ曲率半径(r:単位mm)、基材の弾性
率(F:単位Pa)、硬化皮膜の弾性率(E:単位P
a)、PETフィルムの厚さ(d1:単位mm)、硬化
皮膜の厚さ(d2:単位mm)から以下の式で計算し
た。 P0=2{F*(d1)3 +E*(d2)3 }/3r
(d2)2
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, parts are parts by weight. ◎ Evaluation method (1) Internal stress: An active energy ray polymerizable compound whose internal stress is to be measured is deposited on a 12 μm aluminum deposited PET.
The non-deposited surface of the film was uniformly coated with a spin coater so as to have a thickness of about 10 μm. Next, an acceleration voltage of 150 kV and an absorbed dose of 40 kGy were applied to the coated product in a nitrogen atmosphere.
The composition was cured by irradiation with an electron beam under the conditions described above. The bending radius of curvature on the aluminum vapor-deposited PET film curled in an arc shape due to curing shrinkage was measured with a laser displacement measuring device. Further, the modulus of elasticity of the cured film on the aluminum-deposited PET film was determined by comparing the elastic modulus of the PET film alone with the cured film.
It was calculated from the elastic modulus of the composite film of the ET film. Internal stress of cured film on aluminum deposited PET film (P
0) is the deflection radius of curvature (r: unit mm), the elastic modulus of the substrate (F: unit Pa), the elastic modulus of the cured film (E: unit P)
a), the thickness of the PET film (d1: unit mm), and the thickness of the cured film (d2: unit mm) were calculated by the following formula. P0 = 2 {F * (d1) 3 + E * (d2) 3 } / 3r
(D2) 2

【0030】(2)体積固有抵抗値;フィルム上に、幅
3mm、厚さ約30μmに導電性ペーストを塗布して硬
化させ、抵抗は四探針抵抗測定器を用いて、膜厚は膜厚
測定器を用いて測定し、測定結果から体積固有抵抗値を
算出した。 (3)密着性;フィルム上に、エッジコーターを用いて
厚さ30μm に導電性ペーストを塗布して硬化させ、硬
化皮膜にカッターナイフにてクロスカットを行い、セロ
ハンテープ剥離テストを実施した。 (4)基材への影響;得られた導体回路の基材の変形、
着色、割れを目視により観察した。
(2) Volume specific resistance value: A conductive paste is applied on a film to a width of 3 mm and a thickness of about 30 μm and cured, and the resistance is measured using a four-probe resistance measuring instrument. The measurement was performed using a measuring instrument, and the volume resistivity was calculated from the measurement result. (3) Adhesion: A 30 μm-thick conductive paste was applied to the film using an edge coater and cured, and the cured film was cross-cut with a cutter knife to perform a cellophane tape peeling test. (4) Influence on the substrate; deformation of the substrate of the obtained conductor circuit;
Coloring and cracking were visually observed.

【0031】◎実施例、比較例で使用した化合物を略語
を記す。 (重合性化合物) BS575:6官能ウレタンアクリレート(荒川化学社
製) UA−306H:6官能ウレタンアクリレート(共栄社
化学社製) DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート BADGDA:ビスフェノールAジグリシジルエーテル
ジアクリレート HX−620:2官能エステルアクリレート(日本化薬
社製) 4−HBA:4−ヒドロキシブチルアクリレート TPGDA:トリプロピレングリコールジアクリレート (導電性物質) SF−65:鱗片状銀粉(デグサジャパン製、平均粒径
2.5μm) (光重合開始剤) Irg907:2−メチル−1[4−(メチルチオ)フ
ェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン(チバ
・スペシャリティー・ケミカルズ社製)
◎ Abbreviations of compounds used in Examples and Comparative Examples are described. (Polymerizable compound) BS575: 6-functional urethane acrylate (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.) UA-306H: 6-functional urethane acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) DPHA: dipentaerythritol hexaacrylate BADGDA: bisphenol A diglycidyl ether diacrylate HX-620 : Bifunctional ester acrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 4-HBA: 4-hydroxybutyl acrylate TPGDA: tripropylene glycol diacrylate (conductive material) SF-65: Flaky silver powder (manufactured by Degussa Japan, average particle size: 2.) (Photopolymerization initiator) Irg907: 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)

【0032】[実施例1〜4、比較例1〜2] (a)導電性ペーストの調製方法 表1に示す各成分をかいらい機で予備混合した後、3本
ロールで混練し、導電性ペーストを調整した。 (b)導体回路の製造方法 予めコロナ処理したPET基材上に、導電性ペーストを
用いて200メッシュのステンレススチール製スクリー
ン版により回路パターンを形成した。つぎに、エリアビ
ーム型電子線照射装置「Curetron EBC-200-20-30」(日
新ハイボルテージ社製)を用いて、加速電圧175k
V、照射線量40Gyの条件で電子線を照射して、導体
回路を得た。
Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 (a) Method for Preparing Conductive Paste Each component shown in Table 1 was preliminarily mixed with a grinder and then kneaded with three rolls to obtain a conductive paste. The paste was adjusted. (B) Manufacturing Method of Conductor Circuit A circuit pattern was formed on a PET base material that had been subjected to corona treatment in advance by using a 200-mesh stainless steel screen plate using a conductive paste. Next, using an area beam type electron beam irradiation apparatus “Curetron EBC-200-20-30” (manufactured by Nissin High Voltage), acceleration voltage of 175 k
An electron beam was irradiated under the conditions of V and an irradiation dose of 40 Gy to obtain a conductor circuit.

【0033】[比較例3]実施例1と同様にして導電性
ペーストを調製し、PET基材上に回路パターンを形成
した。つぎに、120Wメタルハライドランプを2灯用
いて、20cmの距離から紫外線を照射して、導体回路
を得た。 [比較例4]ビスフェノールFジグリシジルエーテル
(日本化薬社製「RE−404S」)91.3部、レゾ
ルシルグリシジルエーテル(ナガセ化成工業社製「デナ
コールEX−201」)39.1部、ジシアンジアミド
(味の素社製「AH−154」)21.9部、銀粉「S
F−65」794.8部およびn−ブチルセルソルブア
セテート(試薬特級、東京化成社製)53.0部をかい
らい機で予備混合した後、3本ロールで混練し、導電性
ペーストを得た。この導電性ペーストを用いて実施例1
と同様にして基材上に回路パターンを形成し、ボックス
オーブンを使用して180℃30分で加熱硬化させ、導
体回路を得た。
Comparative Example 3 A conductive paste was prepared in the same manner as in Example 1, and a circuit pattern was formed on a PET substrate. Next, using two 120 W metal halide lamps, ultraviolet rays were irradiated from a distance of 20 cm to obtain a conductor circuit. [Comparative Example 4] 91.3 parts of bisphenol F diglycidyl ether ("RE-404S" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 39.1 parts of resorcil glycidyl ether ("Denacol EX-201" manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd.), dicyandiamide (AH-154 manufactured by Ajinomoto Co.) 21.9 parts, silver powder "S
794.8 parts of "F-65" and 53.0 parts of n-butyl cellosolve acetate (special grade reagent, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were premixed with a grinder, and kneaded with three rolls to obtain a conductive paste. Was. Example 1 using this conductive paste
A circuit pattern was formed on the base material in the same manner as described above, and cured by heating at 180 ° C. for 30 minutes using a box oven to obtain a conductor circuit.

【0034】[実施例5]実施例1と同様にして導電性
ペーストを調整し、基材上に回路パターンを形成したの
ち、実施例1と同様の条件で電子線を照射した。更に、
温度100℃、圧力10kgf/cmの条件で加熱加圧
ロール処理を行い、導体回路を得た。 [実施例6]加熱加圧処理の温度を25℃に代えた以外
は、実施例5と同様にして導体回路を得た。
Example 5 A conductive paste was prepared in the same manner as in Example 1, a circuit pattern was formed on a substrate, and then an electron beam was irradiated under the same conditions as in Example 1. Furthermore,
A heat and pressure roll treatment was performed at a temperature of 100 ° C. and a pressure of 10 kgf / cm to obtain a conductor circuit. Example 6 A conductor circuit was obtained in the same manner as in Example 5, except that the temperature of the heating and pressing treatment was changed to 25 ° C.

【0035】実施例および比較例で調製した導電性ペー
ストの組成、および評価結果を表1に示す。
Table 1 shows the compositions of the conductive pastes prepared in the examples and comparative examples, and the evaluation results.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明により、耐熱性が乏しい基材にも
使用することが可能で、硬化に要する時間が非常に短い
導電性ペーストが得られた。本発明の導電性ペーストを
用いることにより、導体回路が容易に量産でき、非接触
IDの製造コストを低減することができる。
According to the present invention, a conductive paste which can be used for a substrate having poor heat resistance and has a very short curing time can be obtained. By using the conductive paste of the present invention, a conductor circuit can be easily mass-produced, and the manufacturing cost of the non-contact ID can be reduced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C08L 101/16 H01B 1/20 A H01B 1/20 H05K 3/12 610B H05K 3/12 610 C08L 101/00 Fターム(参考) 4E351 BB01 BB31 CC11 CC27 DD01 EE01 EE21 GG20 4J002 BE041 BG041 BG051 BG061 BG071 CD191 CD201 DA026 DA036 DA076 DA086 DA116 DE096 FB076 FD116 GQ00 GQ05 4J038 FA011 FA111 HA066 HA216 KA20 NA20 PA17 PA19 PB09 5E343 AA02 AA12 BB22 BB72 BB77 DD03 EE42 GG11 5G301 DA03 DA42 DD01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) // C08L 101/16 H01B 1/20 A H01B 1/20 H05K 3/12 610B H05K 3/12 610 C08L 101 / 00 F-term (reference) 4E351 BB01 BB31 CC11 CC27 DD01 EE01 EE21 GG20 4J002 BE041 BG041 BG051 BG061 BG071 CD191 CD201 DA026 DA036 DA076 DA086 DA116 DE096 FB076 FD116 GQ00 GQ05 4J038 FB07A01A19A11 NA11 HA11A11A11B DD03 EE42 GG11 5G301 DA03 DA42 DD01

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】導電性物質と活性エネルギー線重合性化合
物とを含有する導電性ペーストであって、前記活性エネ
ルギー線重合性化合物を加速電圧150kV、照射線量
40kGyの電子線で硬化せしめたときの硬化皮膜の内
部応力が5〜50MPaであることを特徴とする活性エ
ネルギー線硬化型導電性ペースト。
1. A conductive paste containing a conductive substance and an active energy ray polymerizable compound, wherein the active energy ray polymerizable compound is cured by an electron beam having an acceleration voltage of 150 kV and an irradiation dose of 40 kGy. An active energy ray-curable conductive paste, wherein the internal stress of the cured film is 5 to 50 MPa.
【請求項2】基材上に、請求項1記載の活性エネルギー
線硬化型導電性ペーストを用いて回路パターンを形成
し、活性エネルギー線を照射することを特徴とする導体
回路の製造方法。
2. A method for producing a conductor circuit, comprising forming a circuit pattern on a substrate using the active energy ray-curable conductive paste according to claim 1, and irradiating the circuit pattern with an active energy ray.
【請求項3】導電性ペースト中の活性エネルギー線重合
性化合物の硬化皮膜の内部応力が5〜50MPaとなる
ように活性エネルギー線を照射することを特徴とする請
求項2記載の導体回路の製造方法。
3. The production of a conductor circuit according to claim 2, wherein the active energy ray is irradiated so that the internal stress of the cured film of the active energy ray polymerizable compound in the conductive paste becomes 5 to 50 MPa. Method.
【請求項4】活性エネルギー線が電子線であることを特
徴とする請求項2または3記載の導体回路の製造方法。
4. The method according to claim 2, wherein the active energy beam is an electron beam.
【請求項5】活性エネルギー線照射後に加熱加圧処理を
行うことを特徴とする請求項2ないし4いずれか1項に
記載の導体回路の製造方法。
5. The method for manufacturing a conductor circuit according to claim 2, wherein a heating and pressurizing treatment is performed after the irradiation with the active energy ray.
【請求項6】請求項2ないし5いずれか1項に記載の方
法で製造された導体回路。
6. A conductor circuit manufactured by the method according to claim 2.
【請求項7】基板上に、請求項6記載の導体回路および
ICチップを積載した非接触ID。
7. A non-contact ID in which the conductor circuit and the IC chip according to claim 6 are mounted on a substrate.
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