JP2001044026A - 磁性ガーネット単結晶およびそれを用いたファラデー回転子 - Google Patents

磁性ガーネット単結晶およびそれを用いたファラデー回転子

Info

Publication number
JP2001044026A
JP2001044026A JP11218655A JP21865599A JP2001044026A JP 2001044026 A JP2001044026 A JP 2001044026A JP 11218655 A JP11218655 A JP 11218655A JP 21865599 A JP21865599 A JP 21865599A JP 2001044026 A JP2001044026 A JP 2001044026A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
faraday rotator
amount
magnetic garnet
garnet single
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11218655A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Oido
敦 大井戸
Kazuto Yamazawa
和人 山沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP11218655A priority Critical patent/JP2001044026A/ja
Priority to US09/625,417 priority patent/US6641751B1/en
Priority to EP00116332A priority patent/EP1074872A3/en
Priority to KR10-2000-0043761A priority patent/KR100408792B1/ko
Priority to CNB001225200A priority patent/CN1165922C/zh
Publication of JP2001044026A publication Critical patent/JP2001044026A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F1/00Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
    • H01F1/01Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
    • H01F1/03Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
    • H01F1/12Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
    • H01F1/34Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials non-metallic substances, e.g. ferrites
    • H01F1/342Oxides
    • H01F1/344Ferrites, e.g. having a cubic spinel structure (X2+O)(Y23+O3), e.g. magnetite Fe3O4
    • H01F1/346[(TO4) 3] with T= Si, Al, Fe, Ga

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、磁性ガーネット単結晶およびそれを
用いたファラデー回転子に関し、結晶欠陥の発生を抑え
た磁性ガーネット単結晶及び、消光比を向上させたファ
ラデー回転子を提供することを目的とする。 【解決手段】液相エピタキシャル成長法により育成さ
れ、一般式 BiaPbb 3-a-bFe5-c-dcPtd12
(式中のAは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、
Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、L
uから選択される少なくとも1種類の元素、BはGa、
Al、Sc、Ge、Siから選択される少なくとも1種
類の元素、a、b、c、dは各々、0<a<3.0、0
<b≦2.0、0≦c≦2.0、0<d≦2.0)で示
される磁性ガーネット単結晶を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁性ガーネット単
結晶およびそれを用いた磁気光学効果を利用するファラ
デー回転子に関する。磁性ガーネット単結晶を用いたフ
ァラデー回転子は、例えば光アイソレータ、光サーキュ
レータ、あるいは光アッテネータ等の磁気光学素子に用
いられる。
【0002】
【従来の技術】半導体レーザを用いた光通信や光応用機
器には、光アイソレータ、光サーキュレータあるいは光
アッテネータが広く使われている。これらのデバイスに
必須な素子の一つとしてファラデー回転子が挙げられ
る。ファラデー回転子にはYIG(イットリウム鉄ガー
ネット)単結晶、ビスマス(Bi)置換希土類鉄ガーネ
ット単結晶が知られているが、現在では、液相エピタキ
シャル(LPE)法により形成されたビスマス置換希土
類鉄ガーネット単結晶膜を用いたファラデー回転子が主
流になっている。
【0003】例えば、特公平6−46604号公報に
は、液相エピタキシャル成長法により育成され、一般式
3-(a+b)PbaBibFe5-cc12-d(Rは希土類
元素及びそれと置換可能な元素の中から選ばれた少なく
とも1種の成分、Mは鉄元素と置換可能な元素の中から
選ばれた少なくとも1種の成分、aは0.01〜0.2
の数、bは0.5〜2.0の数、cは0.01〜2.0
の数、dは0〜1の数である)で示される組成を有し、
且つ前記式中のMの一部として周期表IVA族及びIV
B族に属するPb以外の四価元素を上記の一般式の原子
比として0.01以上含有することを特徴とするビスマ
ス置換希土類鉄ガーネットが記載されている。
【0004】上記公報に開示されているように、IV族
元素を添加することにより、Bi置換希土類鉄ガーネッ
ト単結晶を液相エピタキシャル法で育成する際にPb4+
を消失させることができ、それによりBi置換希土類鉄
ガーネット単結晶に光が透過する際の吸収損失を低減さ
せることができるようになる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、特公平6−
46604号公報に開示された実施例に示されているよ
うに、IV族元素として例えばTiO2を添加して液相
エピタキシャル法により単結晶エピタキシャル膜を育成
すると、得られたBi置換希土類鉄ガーネット単結晶エ
ピタキシャル膜の光吸収損失を低減させる効果が認めら
れる。ところが、得られるエピタキシャル膜の膜厚が約
200μm以上になった場合には、膜表面に多数の結晶
欠陥が確認されるようになる。そのような結晶表面を研
磨して無反射膜を形成し、光アイソレータ用のファラデ
ー回転子を作製したところ、赤外線を用いた観察により
ファラデー回転子の内部に多数の欠陥が確認され、また
消光比も低下することが判明した。
【0006】特公平6−46604号公報に記載された
発明は、Bi置換希土類鉄ガーネット単結晶エピタキシ
ャル膜の光吸収損失低減を技術的課題としており、結晶
欠陥の発生を抑えることや消光比を向上させるという課
題に関しては何ら開示していない。Bi置換希土類鉄ガ
ーネット単結晶エピタキシャル膜の結晶欠陥の発生を抑
えることができれば、ファラデー回転子の消光比を向上
させることができ、さらには、ファラデー回転子の消光
比の向上により、光アイソレータを初めとする光通信用
部品の性能を向上させることができるようになる。
【0007】本発明の目的は、結晶欠陥の発生を抑えた
磁性ガーネット単結晶を提供することにある。また、本
発明の目的は、消光比を向上させたファラデー回転子を
提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者達は、結
晶欠陥を多数発生させることなく約200μm以上の単
結晶を得ること、及び光吸収低減を達成するための添加
物を検討した。その結果、添加元素としてIV族の元素
と同様の4価の構造を安定して取り得るPtを用いると
大きな効果があることを見出した。すなわち、PtO2
またはPtをフラックスに溶解して、厚さ200μm以
上のBi置換希土類鉄ガーネット単結晶を育成したとこ
ろ、エピタキシャル膜表面の結晶欠陥数は著しく少なく
なり、その単結晶内部を赤外線を用いた偏光顕微鏡によ
る観察を行っても結晶欠陥は認められず、また光吸収損
失をほぼ零(ゼロ)にすることができた。
【0009】上記目的は、液相エピタキシャル成長法に
より育成され、一般式 BiaPbb3-a-bFe5-c-d
cPtd12 (式中のAは、Y、La、Ce、Pr、N
d、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、T
m、Yb、Luから選択される少なくとも1種類の元
素、BはGa、Al、Sc、Ge、Siから選択される
少なくとも1種類の元素、a、b、c、dは各々、0<
a<3.0、0<b≦2.0、0≦c≦2.0、0<d
≦2.0)で示されることを特徴とする磁性ガーネット
単結晶によって達成される。上記本発明の磁性ガーネッ
ト単結晶において、その膜厚が200μm以上であるこ
とを特徴とする。また、0.5≦b/d≦2.0である
ことが好ましい。また上記目的は、本発明の記載の磁性
ガーネット単結晶で形成されることを特徴とするファラ
デー回転子によって達成される。
【0010】本発明の作用について以下に説明する。T
4+やPt4+は、Bi置換希土類鉄ガーネットの格子で
は6配位のFeサイトに置換される。しかしTi4+はイ
オン半径が6配位のFe3+より大きいためBi置換希土
類鉄ガーネットの格子に歪みが生じ、そのためエピタキ
シャル成長が進み膜厚が厚くなると格子の歪みが蓄積さ
れ、結晶欠陥が多数発生すると考えられる。Pt4+はイ
オン半径が6配位のFe3+よりも小さいためガーネット
の格子に歪みは発生せず、エピタキシャル膜が厚くなっ
ても結晶欠陥が発生しないと考えられる。このPt4+
Fe3+を置換した単結晶を用い波長1.31μmおよび
1.55μmの光でファラデー回転角45度のファラデ
ー回転子を作製すると結晶内部の欠陥は認められず、4
0dB以下となるような消光比不良は発生しなくなっ
た。そしてこのような添加物としてのPtO2及びPt
の効果は他のPt化合物を用いても同様な効果が期待で
きる。
【0011】また、本発明の磁性ガーネット単結晶にお
いて、aは磁性ガーネット中のBi量を表している。B
i量aはファラデー回転子の回転能(deg/μm)を
決める因子であり、Bi量aが大きいほどファラデー回
転能は大きくなる。ファラデー回転子として用いる場合
の磁性ガーネット単結晶の好適なBi量aは約0.6〜
1.5である。Bi量aが0.6以下ではファラデー回
転能が小さくなりすぎ、1.5以上ではガーネット以外
の相の析出が起こり磁性ガーネットの正常なエピタキシ
ャル成長ができなくなる可能性がある。但し、現状にお
いて実験的にBi量aが0.6以下の磁性ガーネットも
製造可能であり、また真空成膜の技術によればBi量a
が3.0の磁性ガーネットも得られている。従って、フ
ァラデー回転子を作製するための磁性ガーネット単結晶
のBi量aは、本発明においては0<a<3.0に設定
している。
【0012】bは磁性ガーネット中のPb量を表してい
る。Pb量bが少なくとも2.0程度までのガーネット
は焼結体の状態で存在が可能であるので、本発明におい
ては0<b≦2.0に設定している。cは、CaやAl
などのFeに置換し得る非磁性元素の量を表している。
非磁性元素量cが2.0程度を越えると磁性ガーネット
はフェリ磁性体から常磁性体になるためファラデー回転
能は著しく小さくなり回転子として使用できなくなる。
従って、本発明では、非磁性元素量cを0≦c≦2.0
に設定している。
【0013】dは、Ptの量を表している。光吸収損失
を小さくするには2価の元素であるPb量と4価の元素
であるPt量dをほぼ同量にする必要があるので、Pt
量dはPb量と同様に0<d≦2.0に設定している。
また、0.5≦b/d≦2.0であることが好ましいの
も、光吸収損失(挿入損失)との関係から得られるもの
である。例えば後述の実施例1では、Pb量bが0.0
4でPt量dも0.04であるのでPb量b/Pt量d
=1となる。このときのファラデー回転子の挿入損失は
0.01〜0.05dBである。また例えば実施例2で
は、Pb量bが0.04でPt量dは0.02であるの
でPb量b/Pt量d=2となる。このときのファラデ
ー回転子の挿入損失は0.06〜0.10dBである。
光アイソレータ用のファラデー回転子の挿入損失として
一般的に要求される値は0.10dBである。Pb量b
とPt量dが一致する組成が最も挿入損失が小さくな
り、Pb量bとPt量dの割合が異なってくると共に挿
入損失は大きくなる。従って一般的な要求値である挿入
損失0.10dBを満たすためには0.5≦b/d≦
2.0の条件が必要になる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態では、Ptを
含有する膜厚200μm以上のBi置換希土類鉄ガーネ
ット単結晶膜をPbを含むフラックスから育成する。得
られたBi置換希土類鉄ガーネット単結晶膜を用い、光
吸収損失が小さく、結晶欠陥が少なくて消光比の高いフ
ァラデー回転子を安定して製造できる。
【0015】
【実施例】以下に、本発明に係る磁性ガーネット単結晶
及びそれを用いたファラデー回転子の具体的な実施例と
して[実施例1]乃至[実施例4]について比較例とと
もに説明する。 [実施例1]Pt製のるつぼ内に、Yb23(重量:
6.747g)、Gd23(重量:6.624g)、B
23(重量:43.214g)、Fe23(重量:14
4.84g)、PbO(重量:1189.6g)、Bi
23(重量:826.4g)、PtO2(重量:5.1
21g)の材料を充填して約1000℃で融解して撹件
を行い均質化した後、120℃/h(時間)で降温させ
820℃の過飽和状態で温度の安定を取った。そして2
インチφのサイズを有する(Ca、Mg、Zr)置換ガ
ドリニウム・ガリウム・ガーネット(以下、GGGとい
う)単結晶基板を100回転/分(r.p.m.)で回転させ
ながら磁性ガーネット単結晶膜をエピタキシャル成長さ
せ膜厚505μmの単結晶膜を得た。
【0016】この磁性ガーネット単結晶膜の表面は鏡面
状態であり、表面の結晶欠陥数を評価すると2インチφ
の単結晶膜で結晶欠陥は10個確認され、単結晶膜に割
れは生じなかった。蛍光X線法により得られた単結晶膜
の組成を分析するとBi1.12Gd1.15Yb0.69Pb0.04
Fe4.96Pt0.0412であった。またこの磁性ガーネッ
ト単結晶膜を波長1.55μmの光でファラデー回転角
が45degとなるように研磨加工し両面に無反射膜を
付けて波長1.55μm用ファラデー回転子を作製し
た。
【0017】このファラデー回転子を3mm角に切断し
て内部結晶欠陥、ファラデー回転能、挿入損失、温度特
性および消光比を評価すると、赤外線を用いた偏光顕微
鏡観察では欠陥は認められず、膜厚は400μmでファ
ラデー回転係数は0.113deg/μm、挿入損失は
最大0.05dBで最小0.01dB、温度特性は0.
067deg/℃、消光比は最大45.6dBで最小4
2.1dBの値が得られた(表1参照)。本実施例1で
は、ファラデー回転子の挿入損失は0.01〜0.05
dBであり、一般的な要求値である挿入損失0.10d
B以下を満たしている。このときのPb量bは0.04
でPt量dが0.04であるのでPb量b/Pt量d=
1となり、0.5≦b/d≦2.0の範囲内に入ってい
る。
【0018】
【表1】 表1 Bi置換希土類鉄ガーネット単結晶膜の組成と評
価結果
【0019】[実施例2]PtるつぼにYb23(重
量:6.747g)、Gd23(重量:6.624
g)、B23(重量:43.214g)、Fe23(重
量:144.84g)、PbO(重量:1189.6
g)、Bi23(重量:826.4g)、PtO2(重
量:2.556g)を充填して約1000℃で融解して
撹拌を行い均質化した後、120℃/hで降温させ82
0℃の過飽和状態で温度の安定を取った。そして2イン
チφのサイズを有する(Ca、Mg、Zr)置換GGG
単結晶基板を100r.p.m.で回転させながら磁性ガーネ
ット単結晶膜をエピタキシャル成長させ膜厚500μm
の単結晶膜を得た。
【0020】この磁性ガーネット単結晶膜の表面は鏡面
状態であり、表面の結晶欠陥数を評価すると、2インチ
φの単結晶膜で結晶欠陥は15個確認され単結晶膜に割
れは生じなかった。蛍光X線法により得られた単結晶膜
の組成を分析するとBi1.12Gd1.15Yb0.69Pb0.04
Fe4.98Pt0.0212であった。またこの磁性ガーネッ
ト単結晶膜を波長を1.55μmの光でファラデー回転
角が45degとなるように研磨加工し、両面に無反射
膜を付けて波長1.55μm用ファラデー回転子を作製
した。
【0021】このファラデー回転子を3mm角に切断し
て内部結晶欠陥、ファラデー回転能、挿入損失、温度特
性および消光比を評価すると、赤外線を用いた偏光顕微
鏡観察では欠陥は認められず、膜厚は400μmでファ
ラデー回転係数は0.113deg/μm、挿入損失は
最大0.10dBで最小0.06dB、温度特性は0.
064deg/℃、消光比は最大44.9dBで最小4
1.6dBの値が得られた(表1参照)。本実施例2で
は、ファラデー回転子の挿入損失は0.06〜0.10
dBであり、一般的な要求値である挿入損失0.10d
B以下を満たしている。このときのPb量bは0.04
でPt量dが0.02であるのでPb量b/Pt量d=
2となり、0.5≦b/d≦2.0の範囲内に入ってい
る。
【0022】[実施例3]PtるつぼにYb23(重
量:10.677g)、Gd23(重量:7.403
g)、B23(重量:48.68g)、Fe23(重
量:205.58g)、PbO(重量:430.5
g)、Bi23(重量:1605.8g)の材料を充填
して約1050℃で融解して撹拌を行い均質化した後、
120℃/hで降温させ885℃の過飽和状態で温度の
安定を取った。そして2インチφのサイズを有する(C
a、Mg、Zr)置換GGG単結晶基板を100r.p.m.
で回転させながら磁性ガーネット単結晶膜をエピタキシ
ャル成長させ膜厚620μmの単結晶膜を得た。
【0023】この磁性ガーネット単結晶膜の表面は鏡面
状態であり、表面の結晶欠陥数を評価すると、2インチ
φの単結晶膜で結晶欠陥は18個確認され単結晶膜に割
れは生じなかった。蛍光X線法により得られた単結晶膜
の組成を分析するとBi1.16Gd1.08Yb0.72Pb0.04
Fe4.97Pt0.0312であった。磁性ガーネットに含ま
れるPtはPb含有フラックス中にPtるつぼより溶出
したものである。またこの磁性ガーネット単結晶膜を波
長1.31μmの光でファラデー回転角が45degと
なるように研磨加工し、両面に無反射膜を付けて波長
1.31μm用ファラデー回転子を作製した。
【0024】このファラデー回転子を3mm角に切断し
て内部結晶欠陥、ファラデー回転係数、挿入損失、温度
特性および消光比を評価したところ、赤外線を用いた偏
光顕微鏡観察では欠陥は認められず、膜厚240μmで
ファラデー回転係数は0.188deg/μm、挿入損
失は最大0.07dBで最小0.03dB、温度特性は
0.064deg/℃、消光比は最大45.6dBで最
小41.9dBの値が得られた(表1参照)。本実施例
3では、ファラデー回転子の挿入損失は0.03〜0.
07dBであり、一般的な要求値である挿入損失0.1
0dB以下を満たしている。このときのPb量bは0.
04でPt量dが0.03であるのでPb量b/Pt量
d≒1.33となり、0.5≦b/d≦2.0の範囲内
に入っている。
【0025】[実施例4]PtるつぼにYb23(重
量:8.434g)、Gd23(重量:5.300
g)、B23(重量:43.214g)、Fe23(重
量:144.84g)、PbO(重量:1189.6
g)、Bi23(重量:826.4g)、PtO2(重
量:5.121g)の材料を充填して約1000℃で融
解して撹拌を行い均質化した後、120℃/hで降温さ
せ804℃の過飽和状態で温度の安定を取った。そして
2インチφのサイズを有する(Ca、Mg、Zr)置換
GGG単結晶基板を100r.p.m.で回転させながら磁性
ガーネット単結晶膜をエピタキシャル成長させ膜厚36
0μmの単結晶膜を得た。
【0026】この磁性ガーネット単結晶膜の表面は鏡面
状態であり、表面の結晶欠陥数を評価すると、2インチ
φの単結晶膜で結晶欠陥は10個確認され単結晶膜に割
れは生じなかった。蛍光X線法により得られた単結晶膜
の組成を分析するとBi1.30Gd0.90Yb0.76Pb0.04
Fe4.96Pt0.0412であった。またこの磁性ガーネッ
ト単結晶膜を波長1.31μmの光でファラデー回転角
が45degとなるように研磨加工し、両面に無反射膜
を付けて波長1.31μm用ファラデー回転子を作製し
た。
【0027】このファラデー回転子を3mm角に切断し
て内部結晶欠陥、ファラデー回転係数、挿入損失、温度
特性および消光比を評価したところ、赤外線を用いた偏
光顕微鏡観察では欠陥は認められず、膜厚200μmで
ファラデー回転係数は0.225deg/μm、挿入損
失は最大0.04dBで最小0.01dB、温度特性は
0.063deg/℃、消光比は最大45.7dBで最
小42.1dBの値が得られた(表1参照)。本実施例
4では、ファラデー回転子の挿入損失は0.01〜0.
04dBであり、一般的な要求値である挿入損失0.1
0dB以下を満たしている。このときのPb量bは0.
04でPt量dが0.04であるのでPb量b/Pt量
d=1となり、0.5≦b/d≦2.0の範囲内に入っ
ている。
【0028】[比較例]PtるつぼにYb23(重量:
8.434g)、Gd23(重量:5.300g)、B
23(重量:43.214g)、Fe23(重量:14
4.84g)、PbO(重量:1189.6g)、Bi
23(重量:826.4g)、TiO2(重量:1.8
10g)の材料を充填して約1000℃で融解して撹拌
を行い均質化した後、120℃/hで降温させ804℃
の過飽和状態で温度の安定を取った。そして2インチφ
のサイズの(Ca、Mg、Zr)置換GGG単結晶基板
を100r.p.m.で回転させながら磁性ガーネット単結晶
膜をエピタキシャル成長させ膜厚355μmの単結晶膜
を得た。
【0029】この磁性ガーネット単結晶膜の表面はにご
っており、表面の結晶欠陥数を評価すると、2インチφ
の単結晶膜で結晶欠陥は166個確認され単結晶膜に割
れは生じなかった。蛍光X線法により得られた単結晶膜
の組成を分析するとBi1.30Gd0.90Yb0.76Pb0.04
Fe4.96Pt0.01Ti0.0312であった。またこの磁性
ガーネット単結晶膜を波長1.31μmの光でファラデ
ー回転角が45degとなるように研磨加工し、両面に
無反射膜を付けて波長1.31μm用ファラデー回転子
を作製した。
【0030】このファラデー回転子を3mm角に切断し
て内部結晶欠陥、ファラデー回転係数、挿入損失、温度
特性および消光比を評価したところ、赤外線を用いた偏
光顕微鏡観察により1〜2個の欠陥が認められ、膜厚2
00μmでファラデー回転係数は0.225deg/μ
m、挿入損失は最大0.04dBで最小0.02dB、
温度特性は0.063deg/℃、消光比は最大38.
9dBで最小36.9dBであった(表1参照)。本比
較例では、ファラデー回転子の挿入損失は0.02〜
0.04dBであり、一般的な要求値である挿入損失
0.10dB以下を満たしている。これは、本比較例
が、上述の特公平6−46604号公報に開示された発
明に包含されているからである。
【0031】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、光吸収損
失が小さいだけでなく結晶欠陥の少ない磁性ガーネット
単結晶を得ることができる。また、消光比の高いファラ
デー回転子を安定して得ることができるようになる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】液相エピタキシャル成長法により育成さ
    れ、 一般式 BiaPbb3-a-bFe5-c-dcPtd12 (式中のAは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、E
    u、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu
    から選択される少なくとも1種類の元素、BはGa、A
    l、Sc、Ge、Siから選択される少なくとも1種類
    の元素、a、b、c、dは各々、0<a<3.0、0<
    b≦2.0、0≦c≦2.0、0<d≦2.0)で示さ
    れることを特徴とする磁性ガーネット単結晶。
  2. 【請求項2】請求項1記載の磁性ガーネット単結晶であ
    って、 膜厚が200μm以上であることを特徴とする磁性ガー
    ネット単結晶。
  3. 【請求項3】請求項1又は2に記載の磁性ガーネット単
    結晶であって、 0.5≦b/d≦2.0であることを特徴とする磁性ガ
    ーネット単結晶。
  4. 【請求項4】請求項1乃至3のいずれか1項に記載の磁
    性ガーネット単結晶で形成されることを特徴とするファ
    ラデー回転子。
JP11218655A 1999-08-02 1999-08-02 磁性ガーネット単結晶およびそれを用いたファラデー回転子 Pending JP2001044026A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11218655A JP2001044026A (ja) 1999-08-02 1999-08-02 磁性ガーネット単結晶およびそれを用いたファラデー回転子
US09/625,417 US6641751B1 (en) 1999-08-02 2000-07-25 Magnetic garnet single crystal and faraday rotator using the same
EP00116332A EP1074872A3 (en) 1999-08-02 2000-07-27 Magnetic garnet single crystal and faraday rotator using the same
KR10-2000-0043761A KR100408792B1 (ko) 1999-08-02 2000-07-28 자성 가넷 단결정 및 이를 이용한 패러데이 회전자
CNB001225200A CN1165922C (zh) 1999-08-02 2000-08-02 磁性石榴石单晶和使用该单晶的法拉第转子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11218655A JP2001044026A (ja) 1999-08-02 1999-08-02 磁性ガーネット単結晶およびそれを用いたファラデー回転子

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004035457A Division JP2004168657A (ja) 2004-02-12 2004-02-12 磁性ガーネット単結晶およびそれを用いたファラデー回転子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001044026A true JP2001044026A (ja) 2001-02-16

Family

ID=16723357

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11218655A Pending JP2001044026A (ja) 1999-08-02 1999-08-02 磁性ガーネット単結晶およびそれを用いたファラデー回転子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001044026A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005056887A1 (en) * 2003-12-11 2005-06-23 Lee, Hun-Su Method for manufacturing garnet single crystal and garnet single crystal manufactured thereby
US7166162B2 (en) 2002-09-27 2007-01-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Terbium type paramagnetic garnet single crystal and magneto-optical device
EP1806755A1 (en) * 2006-01-10 2007-07-11 TDK Corporation Magnetic garnet single crystal and method for producing the same as well as optical element using the same
EP1821321A1 (en) 2006-02-20 2007-08-22 TDK Corporation Magnetic garnet single crystal and optical element using the same
JP2009084131A (ja) * 2007-10-02 2009-04-23 Shin Etsu Chem Co Ltd 磁気光学素子とその製造方法およびそれを用いて作製した光学デバイス
US7758766B2 (en) 2007-09-17 2010-07-20 Tdk Corporation Magnetic garnet single crystal and Faraday rotator using the same
US7811465B2 (en) * 2004-11-19 2010-10-12 Tdk Corporation Magnetic garnet single crystal and optical element using same as well as method of producing single crystal
US7828895B2 (en) 2006-01-27 2010-11-09 Tdk Corporation Method of producing optical element

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7166162B2 (en) 2002-09-27 2007-01-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Terbium type paramagnetic garnet single crystal and magneto-optical device
WO2005056887A1 (en) * 2003-12-11 2005-06-23 Lee, Hun-Su Method for manufacturing garnet single crystal and garnet single crystal manufactured thereby
US7811465B2 (en) * 2004-11-19 2010-10-12 Tdk Corporation Magnetic garnet single crystal and optical element using same as well as method of producing single crystal
US8815011B2 (en) 2004-11-19 2014-08-26 Tdk Corporation Magnetic garnet single crystal and optical element using same as well as method of producing single crystal
EP1806755A1 (en) * 2006-01-10 2007-07-11 TDK Corporation Magnetic garnet single crystal and method for producing the same as well as optical element using the same
US7695562B2 (en) 2006-01-10 2010-04-13 Tdk Corporation Magnetic garnet single crystal and method for producing the same as well as optical element using the same
US7828895B2 (en) 2006-01-27 2010-11-09 Tdk Corporation Method of producing optical element
EP1821321A1 (en) 2006-02-20 2007-08-22 TDK Corporation Magnetic garnet single crystal and optical element using the same
US7758766B2 (en) 2007-09-17 2010-07-20 Tdk Corporation Magnetic garnet single crystal and Faraday rotator using the same
JP2009084131A (ja) * 2007-10-02 2009-04-23 Shin Etsu Chem Co Ltd 磁気光学素子とその製造方法およびそれを用いて作製した光学デバイス

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004083390A (ja) 磁性ガーネット材料、ファラデー回転子、光デバイス、ビスマス置換型希土類鉄ガーネット単結晶膜の製造方法および単結晶膜
JPH0513916B2 (ja)
JP2001044026A (ja) 磁性ガーネット単結晶およびそれを用いたファラデー回転子
JP3699629B2 (ja) 磁性ガーネット材料及びそれを用いた磁気光学素子
KR100408792B1 (ko) 자성 가넷 단결정 및 이를 이용한 패러데이 회전자
JP2001044027A (ja) 磁性ガーネット単結晶およびそれを用いたファラデー回転子
JP4802995B2 (ja) 磁性ガーネット単結晶及びそれを用いた光学素子
US6542299B2 (en) Material for bismuth substituted garnet thick film and a manufacturing method thereof
JP3816591B2 (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜の製造方法
JP3490143B2 (ja) 酸化物ガーネット単結晶
JPH06281902A (ja) 磁気光学素子材料
JP3649935B2 (ja) 磁性ガーネット材料およびそれを用いたファラデー回転子
JPH08290997A (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶
JP2004168657A (ja) 磁性ガーネット単結晶およびそれを用いたファラデー回転子
JPH0766114B2 (ja) 磁気光学素子材料
JP2874319B2 (ja) 磁気光学材料、その製造法およびそれを用いた光素子
JP7246341B2 (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶、ファラデー回転子、光アイソレータ、およびビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法
WO2021215047A1 (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶、ファラデー回転子、光アイソレータ、およびビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法
JP2004010395A (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶及びそれを用いたファラデー回転子及びそれを用いた光学素子
JPH111394A (ja) 低飽和ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜
JP2794306B2 (ja) 磁性ガーネット材料およびファラデー回転素子
JP2843433B2 (ja) Bi置換磁性ガーネット及び磁気光学素子
JP2008074703A (ja) ビスマス置換型ガーネット厚膜材料
Silliman et al. Improvement of FMR linewidth in Bi‐substituted lutetium iron garnet thin films for the MSW‐optical‐mode interaction
JPS60145990A (ja) 液相エピタキシャル磁性ガーネット単結晶

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040615

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040712

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040713

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20040823

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20040910