JP2001041855A - 光ファイバ伝送路の特性評価方法及び装置 - Google Patents

光ファイバ伝送路の特性評価方法及び装置

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JP2001041855A
JP2001041855A JP21459299A JP21459299A JP2001041855A JP 2001041855 A JP2001041855 A JP 2001041855A JP 21459299 A JP21459299 A JP 21459299A JP 21459299 A JP21459299 A JP 21459299A JP 2001041855 A JP2001041855 A JP 2001041855A
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optical fiber
transmission line
fiber transmission
measured
wavelength
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English (en)
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Kazuhide Nakajima
和秀 中島
Masaharu Ohashi
正治 大橋
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ファイバ伝送路の片端から測定した後方散
乱光強度波形を解析することにより、光ファイバ伝送路
伝搬方向のモードフィールド径、波長分散、及びカット
オフ波長特性の評価を行う方法並びに装置を提供する。 【解決手段】 光ファイバ伝送路の一端に高い反射率を
有する全反射終端器を接続し、前記光ファイバ伝送路の
もう一端から波長λのパルス光を入射したときの、前記
光ファイバの位置zにおける後方散乱光強度P(λi
z)(i=1,2・・・)を異なる2波長以上で測定
し、この測定した後方散乱光波形を解析することによ
り、前記光ファイバ伝送路の距離z、波長λにおけるモ
ードフィールド径、波長分散、並びにカットオフ波長特
性を評価する光ファイバ伝送路の特性評価方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、光通信等に用いら
れる単一モード光ファイバで構成される光ファイバ伝送
路の特性評価方法及び装置に関し、詳しくは、光ファイ
バ伝送路の伝搬方向におけるモードフィールド径、波長
分散、並びにカットオフ波長特性を評価する技術に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】近年、光増幅装置の発展に伴う入力光レ
ベルの向上、並びに波長分割多重伝送技術に代表される
超大容量伝送技術の進展により、光ファイバ中の光非線
形現象による光伝送特性の劣化が重要な問題となってい
る。光ファイバ中の光非線形現象は、光ファイバの入射
端から出射端に向け、順次、発生・累積される。そのた
め、光非線形現象の影響を詳細に把握するためには、光
ファイバパラメータ、特に、モードフィールド径、波長
分散、並びにカットオフ波長の光ファイバ伝搬方向にお
ける特性の変化を評価することが必要不可欠となる。
【0003】光ファイバ伝搬方向のモードフィールド
径、波長分散、並びにカットオフ波長特性の評価技術と
しては、異なる2波長以上を用い光ファイバの両端から
後方散乱光強度を測定し、その波形を解析する手法が開
発されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、既設光
ファイバ伝送路のように被測定光ファイバ伝送路の入射
端が互いに遠端に存在する場合には、光ファイバ伝送路
の双方向から後方散乱光強度を測定することが困難にな
るという問題があった。
【0005】また、後方散乱光強度の解析を行うために
は、任意の距離zにおけるモードフィールド径の基準値
が必要となる。このため、既設光ファイバ伝送路の評価
を行うにはモードフィールド径の値が既知である基準フ
ァイバの接続が必要不可欠となる。
【0006】また、既設光ファイバ伝送路の双方向から
後方散乱光強度の測定を行う際に基準ファイバの着脱が
行われた場合には、接続損失が変動するため、モードフ
ィールド径、並びに波長分散特性の評価精度が著しく劣
化するという問題があった。
【0007】本発明の目的は、光ファイバ伝送路の片端
から測定した後方散乱光強度波形を解析することによ
り、光ファイバ伝送路伝搬方向のモードフィールド径、
波長分散,及びカットオフ波長特性の評価を行う方法並
びに装置を提供することにある。
【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
にする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
【0010】(1)光ファイバ伝送路の一端に高い反射
率を有する全反射終端器を接続し、前記光ファイバ伝送
路のもう一端から波長λのパルス光を入射したときの、
前記光ファイバの位置zにおける後方散乱光強度P(λ
i,z)(i=1,2・・・)を異なる2波長以上で測
定し、この測定した後方散乱光波形を解析することによ
り、前記光ファイバ伝送路の距離z、波長λにおけるモ
ードフィールド径、波長分散、並びにカットオフ波長特
性を評価する光ファイバ伝送路の特性評価方法である。
【0011】(2)光ファイバ伝送路の一端から所定の
2波長以上のパルス光を入力し、後方散乱強度を測定す
る後方散乱強度測定系と、前記後方散乱強度測定系によ
り、前記光ファイバ伝送路のもう一端から波長λのパル
ス光を入射したときの、前記光ファイバの位置zにおけ
る後方散乱光強度P(λi,z)(i=1,2・・・)
を異なる2波長以上で測定し、この測定した後方散乱光
波形を解析する演算処理手段と、前記光ファイバ伝送路
の一端、もしくは両端に接続された、モードフィールド
径と最大比屈折率差が既知の基準光ファイバと、前記光
ファイバ伝送路のパルス光入射端とは異なるもう一端に
接続された全反射終端器とを具備したことを特徴とする
光ファイバ伝送路の特性評価装置である。
【0012】すなわち、本発明のポイントは、被測定光
ファイバ伝送路の遠端に高い反射率を有する全反射終端
器を接続し、被測定光ファイバ伝送路の近端から異なる
2波長以上における後方散乱光強度を測定する。このよ
うにして得られた後方散乱光強度波形を解析することに
より、被測定光ファイバ伝送路の長手方向における、モ
ードフィールド径、波長分散、並びにカットオフ波長特
性を求めることである。
【0013】以下、本発明について、本発明の実施の形
態(実施例)とともに詳細に説明する。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明による実施形態の光ファイ
バ伝送路の特性評価方法は、以下の通りである。
【0015】本実施形態の測定法では、任意の長さLの
光ファイバ伝送路の遠端に、高い反射率を有する全反射
終端器を接続し、前記光ファイバ伝送路の近端から波長
λのパルス光を入射したときの、前記光ファイバ伝送路
の位置zにおける後方散乱光強度P(λi,z)(i=
1,2・・・)(単位:mW)を測定し、このようにし
て得られた測定結果を次の数1の関係式に代入すること
により、前記光ファイバ伝送路中の構造変動依存成分I
(λ,z)を求め、
【0016】
【数1】 I(λ,z)=P(λ,z)・P(λ,2L−z) 前記光ファイバ伝送路の任意の位置z0における構造変
動依存成分I(λ,z0)、並びにモードフィールド径2
W(λ,z0)を用い、数2の式により前記光ファイバ伝
送路伝搬方向のモードフィールド径分布2W(λ,z)を
評価する。
【0017】
【数2】
【0018】更に、前記と同様の手順により、任意の2
波長以上λi(i=1,2・・・)における前記光ファ
イバ伝送路のモードフィールド径分布2W(λi,z0)を
評価し、このようにして得られた結果を用いて数3の式
を満足する係数g0(z),及びg1(z)を求め、
【0019】
【数3】
【0020】光速c、並びに前記光ファイバ伝送路の任
意の位置z0における最大屈折率nmを用いて、数4の式
により前記光ファイバ伝送路伝搬方向の導波路分散σ
wi,z)を求め、
【0021】
【数4】
【0022】前記光ファイバ伝送路の任意の位置z0
おける最大比屈折率差△m(単位:%)を用いて、数5
の式により前記光ファイバ伝送路伝搬方向の材料分散σ
mi)を求め、
【0023】
【数5】
【0024】数6の式により、導波路分散σwi,z)
と材料分散σmi)の和として前記光ファイバ伝送路の
波長分散分布σ(λi,z)を評価する。
【0025】
【数6】
【0026】また、前記光ファイバ伝送路の任意の位置
0におけるカットオフ波長λc(z0)コア半径a
(z0)、並びにモードフィード径2W(λi,z0)を用
い、数7の式を満足する係数c0、並びにc1を評価し、
【0027】
【数7】
【0028】数7の式で得られた係数、並びに前記の手
順により求められる異なる2波長におけるモードフィー
ルド径分布2W(λ1,z),及び2W(λ2,z)を用い、
数8の関係式を解くことにより、前記光ファイバ伝送路
のカットオフ波長分布λc(z)を評価する。
【0029】
【数8】
【0030】以上のように、本発明では、光ファイバ伝
送路の遠端に全反射終端器を接続して任意の2波長以上
で測定した後方散乱光強度波形を、前記光ファイバ伝送
路の任意の位置におけるモードフィールド径、並びに所
定の関係式を用いて数値処理することにより、任意の波
長におけるモードフィールド径分布、波長分散分布、並
びにカットオフ波長分布を評価することができる。この
ような光ファイバ伝送路伝搬方向の特性は高速・大容量
伝送システムの設計に重要な情報となる。
【0031】また、本発明では、光ファイバ伝送路の片
端のみからの後方散乱光強度測定で実施できるため、既
設光ファイバ伝送路の特性を簡便に評価できるという利
点を有している。
【0032】(実施例)前記本発明による実施形態の光
ファイバ伝送路の特性評価方法の一実施例では、長さ2
kmの分散シフトファイバ8本で構成される光ファイバ
伝送路の一端に、モードフィールド径の値が既知である
基準光ファイバ(分散シフトファイバ)を接続し、さら
に前記光ファイバ伝送路のもう一端に全反射終端器を接
続し、基準光ファイバ側から波長1.31μm、並びに
1.55μmで測定した後方散乱光強度波形を解析する
ことにより、前記光ファイバ伝送路のモードフィールド
径、並びに波長分散分布を評価した。
【0033】図1は、本実施形態の光ファイバ伝送路の
特性評価方法の一実施例の処理手順を示すフロー図であ
る。
【0034】本実施例の光ファイバ伝送路の特性評価方
法は、図1に示すように、被測定光ファイバ伝送路の遠
端に全反射終端器を接続し、任意の2波長以上を用いて
被測定光ファイバ伝送路の近端から後方散乱光強度P
i,z)(i=1,2・・・)を測定する(ステップS
1)。
【0035】次に、任意の位置z0でのモードフィール
ド径2W(λi,z0)と前記数1の式、並びに数2の式に
よりモードフィールド径分布2W(λi,z)を評価する
(ステップS2)。
【0036】続いて、ステップS2で得られたモードフ
ィールド径分布と、前記数3の式、並びに数4の式を用
いて導波路分散分布を評価する。
【0037】また、これと同時に任意の位置z0におけ
る最大比屈折率差を前記数5の式に代入し、材料分散を
評価する(ステップS3)。前記ステップS3で得られ
た導波路分散と材料分散の和として波長分散分布を評価
する(ステップS4)。
【0038】図2は、前記本発明による実施形態の光フ
ァイバ伝送路の特性評価方法を実施する装置の概略構成
を示す模式図であり、1は後方散乱光強度測定系、2は
モードフィールド径と最大比屈折率差が既知である基準
光ファイバ、3は被測定光ファイバ、4は高い反射率を
有する全反射終端器、5は演算処理手段である。
【0039】本実施例の光ファイバ伝送路の特性評価装
置は、図2に示すように、光ファイバ伝送路の一端から
任意の2波長以上のパルス光を入力し、後方散乱強度を
測定する後方散乱光強度測定系1を設け、この後方散乱
光強度測定系1により、前記光ファイバ伝送路に波長λ
のパルス光を入射したときの、前記光ファイバ伝送路の
位置zにおける後方散乱光強度P(λi,z)(i=
1,2・・・)を異なる2波長以上で測定し、この測定
した後方散乱光波形を解析する演算処理手段5が前記後
方散乱光強度測定系1の出力端子に接続されている。前
記後方散乱光強度測定系1の入射端子には、モードフィ
ールド径と最大比屈折率が既知の基準光ファイバ2の一
端が接続され、この基準光ファイバ2の他端は、被測定
光ファイバ3の一端に接続されている。この被測定光フ
ァイバ3の他端には全反射終端器4が接続されている。
被測定光ファイバ伝送路は、前記基準光ファイバ2と被
測定光ファイバ3とを含む光ファイバ伝送路である。前
記全反射終端器4は高い反射率を有することが好ましい
が、これに限定されるものではない。
【0040】本光ファイバ伝送路の特性評価装置の動作
は、前記光ファイバ伝送路の一端に接続された高い反射
率を有する全反射終端器4により、前記被測定光ファイ
バ3のもう一端から波長λのパルス光を入射したとき
の、前記被測定光ファイバ3の位置zにおける後方散乱
光強度P(λi,z)(i=1,2・・・)を異なる2
波長以上で測定し、この測定した後方散乱光波形を演算
処理手段5で解析する。このように、前記測定した後方
散乱光波形を解析することにより、前記光ファイバ伝送
路の距離z、波長λにおけるモードフィールド径、波長
分散、並びにカットオフ波長特性を評価する。
【0041】図3は、基準光ファイバ2と被測定光ファ
イバ3を含む被測定光ファイバ伝送路の波長1.31μ
m並び波長1.55μmにおける後方散乱光強度の測定
結果を示す図である。図3において、横軸は距離(k
m)、縦軸は相対光強度(dB)である。
【0042】このように、被測定光ファイバ伝送路の遠
端に全反射終端器を接続することにより、通常の後方散
乱光強度波形(距離0〜17.5km)に加え、被測定
光ファイバ伝送路の遠端側からパルス光を入射したとき
に得られる後方散乱光強度波形(距離17.5〜35k
m)も同時に測定することができる。
【0043】図4は、前記図3の結果を用い前記処理手
順により計算されたモードフィールド径分布の評価結果
を示す図である。図4において、横軸は距離(km)、
縦軸はモードフィールド径(μm)である。
【0044】このように構成される被測定光ファイバ中
の8本の分散シフトファイバにおけるモードフィールド
径の特性変化を評価する事ができる。
【0045】また、図5は、波長分散分布の評価結果で
あり、前記図4の結果を用い前記処理手順に従い評価を
行った結果を示す図である。図5において、横軸は距離
(km)、縦軸は波長分散(ps/nm/km)であ
る。
【0046】モードフィールド径と同様に、被測定光フ
ァイバの伝搬方向における波長分散の特性変化を評価す
る事ができる。
【0047】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光ファイバ伝送路の遠端に全反射終端装置を接続し、光
ファイバ伝送路の近端から任意の2波長以上で測定した
後方散乱光強度波形を数値処理することにより、光ファ
イバ伝送路伝搬方向の特性を評価することができる。
【0048】また、光ファイバ伝送路の近端側からの1
回の後方散乱光強度測定で実施でききるため、既設光フ
ァイバ伝送路の特性を簡便に評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による実施形態の光ファイバ伝送路の特
性評価方法の一実施例の処理手順を示すフロー図であ
る。
【図2】本発明による実施形態の光ファイバ伝送路の特
性評価方法を実施する装置の概略構成を示す模式図であ
る。
【図3】本実施例の基準光ファイバと被測定光ファイバ
を含む被測定光ファイバ伝送路の波長1.31μm並び
波長1.55μmにおける後方散乱光強度の測定結果を
示す図である。
【図4】図3の結果を用い前記処理手順により計算され
たモードフィールド径分布の評価結果を示す図である。
【図5】図4の結果を用い前記処理手順に従い評価を行
った結果を示す図である。
【符号の説明】
1…後方散乱光強度測定系、2…基準光ファイバ、3…
被測定光ファイバ、4…全反射終端器、5…演算処理手
段。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバ伝送路の一端に高い反射率を
    有する全反射終端器を接続し、前記光ファイバ伝送路の
    もう一端から波長λのパルス光を入射したときの、前記
    光ファイバの位置zにおける後方散乱光強度P(λi
    z)(i=1,2・・・)を異なる2波長以上で測定
    し、この測定した後方散乱光波形を解析することによ
    り、前記光ファイバ伝送路の距離z、波長λにおけるモ
    ードフィールド径、波長分散、並びにカットオフ波長特
    性を評価することを特徴とする光ファイバ伝送路の特性
    評価方法。
  2. 【請求項2】 光ファイバ伝送路の一端から所定の2波
    長以上のパルス光を入力し、後方散乱強度を測定する後
    方散乱強度測定系と、前記後方散乱強度測定系により、
    前記光ファイバ伝送路のもう一端から波長λのパルス光
    を入射したときの、前記光ファイバの位置zにおける後
    方散乱光強度P(λi,z)(i=1,2・・・)を異
    なる2波長以上で測定し、この測定した後方散乱光波形
    を解析する演算処理手段と、前記光ファイバ伝送路の一
    端、もしくは両端に接続された、モードフィールド径と
    最大比屈折率差が既知の基準光ファイバと、前記光ファ
    イバ伝送路のパルス光入射端とは異なるもう一端に接続
    された全反射終端器とを具備したことを特徴とする光フ
    ァイバ伝送路の特性評価装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004309923A (ja) * 2003-04-09 2004-11-04 Sumitomo Electric Ind Ltd 光伝送路構成方法および光伝送路
JP2007085754A (ja) * 2005-09-20 2007-04-05 Furukawa Electric Co Ltd:The 光パルス試験器及び光ファイバ長手方向特性試験方法

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