JP2001035370A

JP2001035370A - 陰極線管パネル蛍光面の露光装置

Info

Publication number: JP2001035370A
Application number: JP11201570A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Teramoto; 弘寺元; Nobuyuki Zumoto; 信行頭本; Shigeru Nishimoto; 茂西本; Takayuki Hirano; 孝之平野
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1999-07-15
Filing date: 1999-07-15
Publication date: 2001-02-09
Also published as: US6469842B1

Abstract

(57)【要約】【課題】工程起源のミス・ランディングの補正精度を
上げ、ＣＲＴパネル蛍光面の品質を向上させる。【解決手段】ＣＲＴパネル７に蛍光面２０をパターニ
ングするために、ＣＲＴ動作時の電子ビームを模した露
光光で、ＣＲＴパネル７に塗布された感光性蛍光体を露
光する露光装置において、露光光を放射する光源１と、
光源１とＣＲＴパネル７の間に設けられ、光源１からの
露光光を電子ビームを模した露光光に生成するためのメ
インレンズ１１とを備え、メインレンズ１１を、曲面を
有する固定メインレンズ１１Ａと、平面レンズ１１Ｂと
に分割し、ミス・ランディングが発生した場合に、平面
レンズ１１Ｂをミス・ランディング補正のためのサブレ
ンズに交換する構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、陰極線管パネル
に蛍光面をパターニングするために、電子ビームを模し
た露光光で、陰極線管パネルに塗布された感光性蛍光体
を露光する露光装置に関し、特に工程起源のミス・ラン
ディングを効率的に補正することができる露光装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】陰極線管（以下、ＣＲＴと記す）は、デ
ィスプレイモニタなどとして使用される。ＣＲＴのパネ
ル内面には、蛍光面がパターニングされている。この蛍
光面は、ブラックマトリックス（以下、ＢＭと記す）
と、蛍光体の３色パターンとにより構成されている。

【０００３】図８はＣＲＴパネル内面にパターニングさ
れた蛍光面の構造を説明する図である。図８のように、
ＣＲＴパネル７内面にパターニングされた蛍光面２０
は、蛍光体同士の分離を明確にして画質を向上させるＢ
Ｍストライプ２１と、赤色蛍光体ストライプ２２と、緑
色蛍光体ストライプ２３と、青色蛍光体ストライプ２４
とにより構成されている。赤色蛍光体ストライプ２２、
緑色蛍光体ストライプ２３、青色蛍光体ストライプ２４
は、それぞれＢＭ開口部の所定位置に形成されている。

【０００４】図１（ａ）はＣＲＴパネル内面に蛍光面を
パターニングするための従来の露光装置の基本構成図で
ある。図１（ａ）において、１は光源、２はシャッタ、
３は調光フィルタ、４はウェッジレンズ（くさび型レン
ズ）、５はメインレンズ、６は回転カバーガラス、７は
ＣＲＴパネル、８はＣＲＴパネル７に固定された色選別
マスク（色選別電極）、２０は蛍光面である。

【０００５】図１（ａ）の従来の露光装置は、光源１
と、シャッタ２と、調光フィルタ３と、ウェッジレンズ
４と、メインレンズ５と、回転カバーガラス６とを備え
ている。シャッタ２は、光照射をオン／オフする。調光
フィルタ３は、ＣＲＴパネル８での露光光分布（光強度
および波長）を面制御するためのフィルタである。ウェ
ッジレンズ４は、ｘ方向（電子銃の配列方向、３色それ
ぞれの蛍光体を露光するときに光源１を移動させる方
向）の断面が概ねテーパーをなすレンズであり、３色そ
れぞれの蛍光体の露光光ごとに固有の光路を補正するた
めのレンズである。メインレンズ５は、光源１から放射
された露光光の光路を修正し、ＣＲＴ動作時の電子ビー
ムを模した露光光に生成するためのレンズである。回転
カバーガラス６は、露光時のゴミ等による光学的影響を
回転により平均化し、除去するガラス板である。

【０００６】図７（ａ）は従来の露光装置におけるレン
ズ保持機構の断面構造図である。図７（ａ）のように、
メインレンズ５は、その周部をメインレンズ保持枠９に
より保持され、ｚ軸を光軸として露光装置内に配置され
ている。

【０００７】メインレンズ５は、光源１から放射された
露光光の光路を修正し、ＣＲＴ動作時の電子ビームを模
した露光光に生成するための関数表面（曲面）５ａと、
平面５ｂとを有する。メインレンズ５の平均的な肉厚は
ｄである。曲面５ａの関数をｚ（ｘ，ｙ）とすると、メ
インレンズ５の座標ｘ，ｙでの肉厚は、ｚ（ｘ，ｙ）＋
ｄである。

【０００８】蛍光面２０は、ＣＲＴパネル７に色選別マ
スク８を固定する工程と、ＢＭストライプ２１を形成す
る工程と、赤色蛍光体ストライプ２２、緑色蛍光体スト
ライプ２３、青色蛍光体ストライプ２４を順に形成する
工程とにより形成される。

【０００９】色選別マスク８は、ＣＲＴパネル７の内面
から一定距離の位置に固定される。この色選別マスク８
は、ストライプ状の開口部が等間隔に設けられた電極で
あり、ＣＲＴ動作時に、３本の電子銃から放射された電
子ビームが、それぞれ赤色蛍光体ストライプ２２、緑色
蛍光体ストライプ２３、青色蛍光体ストライプ２４のみ
を照射するようにするための色選別電極である。この色
選別マスク８は、以下に説明するＢＭストライプ２１を
形成する工程および３色の蛍光体ストライプを形成する
工程においては、３本の電子ビームが照射する位置にＢ
Ｍ開口部を形成し、また、それぞれの電子ビームが照射
する位置に対応する色の蛍光体を形成するための露光マ
スクとなる。

【００１０】ＢＭストライプ２１を形成する工程では、
まず、色選別マスク８を固定したＣＲＴパネル７の内面
にネガタイプのレジストを塗布し、このレジストを図１
（ａ）の露光装置によって露光する。このとき、光源１
を赤色に対応する電子銃の位置に配置し、シャッタ２を
開いて露光する。色選別マスク８を設けてあるため、こ
の露光により、赤色蛍光体ストライプ２２を形成する位
置のレジストのみが露光される。さらに、光源１を緑色
に対応する電子銃の位置に移動し、同様に露光する。こ
れにより、緑色蛍光体ストライプ２３を形成する位置の
レジストのみが露光される。さらに、光源１を青色に対
応する電子銃の位置に移動し、同様に露光する。これに
より、青色蛍光体ストライプ２４を形成する位置のレジ
ストのみが露光される。

【００１１】次に、上記露光したレジストを現像する。
これにより、上記のレジストがパターニングされ、ＢＭ
開口部を形成する位置のみにレジストが残る。このレジ
ストパターンを形成したＣＲＴパネル７の内面にＢＭ材
料を塗布し、そのあとレジストをリフトオフする。これ
により、ＢＭストライプ２１が形成され、蛍光体ストラ
イプを形成する位置はＢＭ開口部となる。

【００１２】蛍光体ストライプを形成する工程では、例
えば、赤色蛍光体ストライプ２２を形成する工程、緑色
蛍光体ストライプ２３を形成する工程、青色蛍光体スト
ライプ２４を形成する工程を順次実施する。まず、ＢＭ
ストライプ２１が形成されたＣＲＴパネル７の内面にポ
ジタイプの赤色の感光性蛍光体を塗布し、この感光性蛍
光体を図１（ａ）の露光装置によって露光する。このと
き、光源１を赤色に対応する電子銃の位置に配置し、シ
ャッタ２を開いて露光する。メインレンズ５からは赤色
に対応する電子ビームを模した露光光が放射され、この
露光光が色選別マスク８より選別されるため、赤色蛍光
体ストライプ２２を形成する位置の感光性蛍光体のみが
露光される。次に、上記露光した赤色の感光性蛍光体を
現像する。これにより、上記の感光性蛍光体がパターニ
ングされ、赤色蛍光体ストライプ２２が形成される。

【００１３】次に、ＢＭストライプ２１および赤色蛍光
体ストライプ２２が形成されたＣＲＴパネル７の内面に
ポジタイプの緑色の感光性蛍光体を塗布し、この感光性
蛍光体を図１（ａ）の露光装置によって露光する。この
とき、光源１を緑色に対応する電子銃の位置に移動し、
シャッタ２を開いて露光する。メインレンズ５からは緑
色に対応する電子ビームを模した露光光が放射され、こ
の露光光が色選別マスク８より選別されるため、緑色蛍
光体ストライプ２３を形成する位置の感光性蛍光体のみ
が露光される。次に、上記露光した緑色の感光性蛍光体
を現像する。これにより、上記の感光性蛍光体がパター
ニングされ、緑色蛍光体ストライプ２３が形成される。

【００１４】次に、ＢＭストライプ２１、赤色蛍光体ス
トライプ２２、および緑色蛍光体ストライプ２３が形成
されたＣＲＴパネル７の内面にポジタイプの青色の感光
性蛍光体を塗布し、この感光性蛍光体を図１（ａ）の露
光装置によって露光する。このとき、光源１を青色に対
応する電子銃の位置に移動し、シャッタ２を開いて露光
する。メイレンズ５からは青色に対応する電子ビームを
模した露光光が放射され、この露光光が色選別マスク８
より選別されるため、青色蛍光体ストライプ２４を形成
する位置の感光性蛍光体のみが露光される。次に、上記
露光した青色の感光性蛍光体を現像する。これにより、
上記の感光性蛍光体がパターニングされ、青色蛍光体ス
トライプ２４が形成される。

【００１５】一方、ＣＲＴの完成品（以下、完成球と記
す）の動作時には、３本の電子銃から放射される、各色
に対応した電子ビームを走査することにより蛍光面２０
上での電子ビーム照射位置を変化させ、これら３本の電
子ビームを色選別マスク８で選別することにより、赤色
蛍光体ストライプ２２、緑色蛍光体ストライプ２３、青
色蛍光体ストライプ２４がそれぞれ形成されている位置
を対応する電子ビームによってそれぞれ選択的に照射さ
せ、それぞれの蛍光体を発光させる。

【００１６】ところで、完成球となったときの電子ビー
ム照射位置と、蛍光面のパターニング工程での露光光照
射位置とがずれていると、完成球に色むら等が発生し、
ＣＲＴの品質低下を生じる場合がある。上記の露光光照
射位置と電子ビーム照射位置とのずれをミス・ランディ
ングと称する。

【００１７】図９は上記のミス・ランディングを説明す
る図である。図９において、１は露光装置の光源、４は
露光装置のウェッジレンズ、５は露光装置のメインレン
ズ、７はＣＲＴパネル、８は色選別マスク、２０は蛍光
面、δ（ｘ，ｙ）はミス・ランディング量である。完成
球では、光源１、ウェッジレンズ４、およびメインレン
ズ５は設けられておらず、光源１の位置には電子銃が配
置されている。図９のように、ミス・ランディング量δ
（ｘ，ｙ）は、蛍光面２０上の位置（ｘおよびｙ）の関
数として与えられる。

【００１８】ミス・ランディングには、ＣＲＴ製造工程
での電子銃の組立誤差や色選別マスク８の設置位置ばら
つき等に起因する工程起源のミス・ランディングと、環
境温度の変化による色選別マスク８の支持構体の熱膨張
等に起因する環境起源のミス・ランディングとがある。

【００１９】上記の工程起源のミス・ランディングδ
（ｘ，ｙ）は、次式、 δ（ｘ，ｙ）ｕ_x＝ｈ₁ｘｙｕ_x＋ｈ₂ｕ_x＋ｈ₃ｘ²ｕ_x＋ｈ₄ｙｕ_x…（１）で表されることが経験により求められている。ここで、
ｕ_xは＋ｘ方向の単位ベクトル、ｈ₁（＜０），ｈ₂（＞
０），ｈ₃（＜０），ｈ₄（＜０）は定数である。

【００２０】図１０は上記（１）式の第１項ｈ₁ｘｙｕ_x
によるミス・ランディングのパターン例を示す図であ
る。また、図１１は上記（１）式の第２項ｈ₂ｕ_xによる
ミス・ランディング・パターンを示す図である。また、
図１２は上記（１）式の第３項ｈ₃ｘ²ｕ_xによるミス・
ランディング・パターンを示す図である。また、図１３
は上記（１）式の第４項ｈ₄ｙｕ_xによるミス・ランディ
ング・パターンを示す図である。図１０〜図１３におい
て、大きな四角はＣＲＴパネル７上での座標系で、ｘ方
向に±２４０［ｍｍ］、ｙ方向に±１４０［ｍｍ］の領
域を表示している。矢印はその始点の位置でのミス・ラ
ンディングを表し、矢印の向きでその方向を、長さで大
きさ（ミス・ランディング量）を表している。矢印の長
さは実際の値を１０００倍している。

【００２１】上記（１）式の第１項ｈ₁ｘｙｕ_xのミス・
ランディング・パターン（図１０参照）では、ミス・ラ
ンディング成分は画面上でハの字状に現れる。このた
め、第１項ｈ₁ｘｙｕ_xをハの字成分と呼び、図１０のパ
ターンをハの字パターンと呼ぶ。また、第２項ｈ₂ｕ_xの
ミス・ランディング・パターン（図１１参照）では、ミ
ス・ランディング成分は、画面全体で同一量であり、同
一方向にシフトしている。このため、第２項ｈ₂ｕ_xをシ
フト成分と呼び、図１１のパターンをシフトパターンと
呼ぶ。また、第３項ｈ₃ｘ²ｕ_xのミス・ランディング・
パターン（図１２参照）では、ミス・ランディング成分
は、画面のｘ方向端部（＋ｘ、−ｘとも）で一様にシフ
トしている、つまり画面の左右で同じ方向にずれてお
り、ずれ量が位置ｙの変化に対して一定である。このた
め、第３項ｈ₃ｘ²ｕ_xを端ずれ成分と呼び、図１２のパ
ターンを端ずれパターンと呼ぶ。また、第４項のｈ₄ｙ
ｕ_xのミス・ランディング・パターン（図１３参照）で
は、ミス・ランディング成分は、画面の上下でずれ方向
が逆になり、画面上で回転しているように見える。この
ため、第４項ｈ₄ｙｕ_xを回転成分と呼び、図１３のパタ
ーンを回転パターンと呼ぶ。

【００２２】工程起源のミス・ランディングは、製造装
置などの微妙な変化によって発生するものであり、メイ
ンレンズ５を設計する時点では把握できない。もし、工
程起源のミス・ランディングが発生するたびにミス・ラ
ンディング・パターンが異なるのであれば、ミス・ラン
ディングが発生するたびにメインレンズ５を再設計する
しかない。しかし、幸いにも、工程起源のミス・ランデ
ィングは、上記のように限られたパターンの組み合わせ
で発生するため、工程起源のミス・ランディングの発生
以前に、あらかじめそれぞれのミス・ランディング・パ
ターンを補正するためのサブレンズを用意しておき、こ
のサブレンズをウェッジレンズ４とメインレンズ５の
間、あるいはメインレンズ５と色選別マスク８の間に挿
入することにより、工程起源のミス・ランディングを速
やかに補正することが可能となる。図２（ａ）はランデ
ィング補正のためのサブレンズを組み込んだ従来の露光
装置の基本構成図である。図２（ａ）の露光装置は、図
１（ａ）の露光装置において、ウェッジレンズ４とメイ
ンレンズ５の間に、ミス・ランディングを補正するため
のサブレンズ１０を設けたものである。

【００２３】サブレンズ１０としては、例えば特願平１
０−８３１６１号公報に開示されたサブレンズ１０Ａ，
１０Ｂがある。図１４は上記従来のサブレンズ１０Ａの
構造を示す斜視図、図１５は上記従来のサブレンズ１０
Ｂの構造を示す斜視図である。図１４および図１５のよ
うに、サブレンズ１０Ａおよび１０Ｂの平均的な肉厚は
ｃである。サブレンズ１０Ａは関数表面（曲面）１０Ａ
ａおよび平面１０Ａｂを有する。また、サブレンズ１０
Ｂは関数表面（曲面）１０Ｂａおよび平面１０Ｂｂを有
する。サブレンズ１０Ａの表面関数は、ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₃ｘ²ｙ…（２）である。また、サブレンズ１０Ｂの曲面関数は、ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₄ｘｙ…（３）である。ここで、ａ₃およびａ₄は定数である。サブレン
ズ１０Ａの座標ｘ，ｙでの肉厚はａ₃ｘ²ｙ＋ｃである。
また、サブレンズ１０Ｂの座標ｘ，ｙでの肉厚はａ₄ｘ
ｙ＋ｃである。

【００２４】図１６はサブレンズ１０Ａによるミス・ラ
ンディング補正パターンの計算例を示す図である。ま
た、図１７はｚ軸を中心に３５°回転させたサブレンズ
１０Ａによるミス・ランディング補正パターンの計算例
を示す図である。また、図１８はサブレンズ１０Ｂによ
るミス・ランディング補正パターンの計算例を示す図で
ある。図１６〜図１８において、大きな四角はＣＲＴパ
ネル７上での座標系で、ｘ方向に±２４０［ｍｍ］、ｙ
方向に±１４０［ｍｍ］の領域を表示している。矢印は
その始点の位置でのミス・ランディング補正を表し、矢
印の向きでその方向を、長さで大きさ（ミス・ランディ
ング補正量）を表している。矢印の長さは実際の値を１
０００倍している。

【００２５】サブレンズ１０Ａによる図１６のミス・ラ
ンディング補正パターンは、図１０のハの字成分（上記
（１）式の第１項）を補正するパターンである。また、
３５°回転させたサブレンズ１０Ａによる図１７のミス
・ランディング補正パターンは、図１２の端ずれ成分
（上記（１）式の第３項）を補正するパターンである。
また、サブレンズ１０Ｂによる図１８のミス・ランディ
ング補正パターンは、図１３の回転成分（上記（１）式
の第４項）を補正するパターンである。つまり、図２
（ａ）のサブレンズ１０の位置に、サブレンズ１０Ａを
挿入することにより、工程起源のミス・ランディングの
内のハの字成分を補正する。また、サブレンズ１０Ａを
３５°回転させて挿入することにより、工程起源のミス
・ランディングの内の端ずれ成分を補正する。また、サ
ブレンズ１０Ｂを挿入することにより、工程起源のミス
・ランディングの内の回転成分を補正する。

【００２６】また、サブレンズ１０Ａまたはサブレンズ
１０Ｂを回転させて挿入し、さらにはサブレンズ１０Ａ
およびサブレンズ１０Ｂを組み合わせて挿入することに
より、図１０〜図１３のパターンを複合した様々なミス
・ランディング・パターンを補正できる。

【００２７】なお、工程起源のミス・ランディングの内
の図１１のシフト成分（上記（１）式の第２項）は、画
面全体で同一方向、同一量であるため、光源１の位置を
単にシフトさせることにより補正できる。

【００２８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の露光装置では、図１０〜図１３のパターンを複合し
た様々なミス・ランディング・パターンの内、図１９の
ような反転パターンを補正するのに適する補正パターン
を生成することができない。このため、反転パターンが
発生した場合には、補正の精度が低くなるという問題が
あった。上記の反転パターンは、ｘ＝±１００［ｍｍ］
では外向きのミス・ランディングを有し、ｘ＝±１５０
［ｍｍ］では内向きのミス・ランディングを有し、さら
にミス・ランディング・パターンがｘ＝０に対して対称
になっているパターンである。なお、図１９において、
大きな四角はＣＲＴパネル７上での座標系であり、矢印
はその始点の位置でのミス・ランディングを表し、矢印
の向きでその方向を、長さで大きさ（ミス・ランディン
グ量）を表している。矢印の長さは実際の値を１０００
倍している。

【００２９】また、回転パターン（図１３参照）の補正
に関しては、図１５のサブレンズ１０Ｂによる図１８の
補正パターンで補正するが、ｙ方向端部での補正量が不
均一であった。ｙ方向端部（ｙ＝±１４０［ｍｍ］近
辺）において、図１３の回転パターンではミス・ランデ
ィング量が均一であるが、図１８の補正パターンでは、
ｘ＝±２００［ｍｍ］近辺のランディング補正量がｘ＝
０［ｍｍ］近辺のランディング補正量よりも大きくなっ
ている。図２０はサブレンズ１０Ｂによるｙ＝＋１４０
でのランディング補正量を示した図である。図２０にお
いて、ｘ＝０とｘ＝±１８０の点でのランディング補正
量に４［μｍ］の差が発生している。回転パターンの補
正では、ｙ方向端部において一定のランディング補正量
をもつ均一な補正パターンが求められるので、補正の精
度が低くなるという問題があった。

【００３０】さらに、ランディング補正のため肉厚数
［ｍｍ］のサブレンズを組み込むことにより、露光光路
長が長くなる。サブレンズを光源とメインレンズの間に
組み込んだ場合には、メインレンズの関数表面に入射す
る露光光のレンズ上座標が変化する。また、サブレンズ
をメインレンズとＣＲＴパネルの間に組み込んだ場合に
は、サブレンズの関数表面に入射する露光光のレンズ上
座標が変化する。つまり、サブレンズを組み込んだ場合
には、露光装置の光学系は、メインレンズのみの場合よ
りもメインレンズの肉厚が厚くなったかのように動作す
る。このため、露光光のランディング位置が変化してし
まい、補正の精度が低くなるという問題があった。

【００３１】本発明は、このような従来の問題を解決す
るためになされたものであり、工程起源のミス・ランデ
ィングの補正精度を上げ、ＣＲＴパネル蛍光面の品質を
向上させることができるＣＲＴパネル蛍光面の露光装置
を提供することを目的とするものである。

【００３２】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の請求項１記載の露光装置は、陰極線管パネ
ルに蛍光面をパターニングするために、陰極線管動作時
の電子ビームを模した露光光で、前記陰極線管パネルに
塗布された感光性蛍光体を露光する露光装置において、
露光光を放射する光源と、前記光源と前記陰極線管パネ
ルの間に設けられ、前記光源からの露光光を前記電子ビ
ームを模した露光光に生成するためのメインレンズを含
むレンズ群とを備え、前記レンズ群が、曲面を有する固
定メインレンズと、平面レンズ、または電子ビーム照射
位置と露光光照射位置とのずれを補正するための、前記
平面レンズとの交換が可能なサブレンズとを有すること
を特徴とするものである。

【００３３】請求項２記載の露光装置は、請求項１記載
の露光装置において、前記平面レンズが、前記サブレン
ズと交換されており、前記メインレンズが、前記固定メ
インレンズのみにより構成されていることを特徴とする
ものである。

【００３４】請求項３記載の露光装置は、請求項１また
は２に記載の露光装置において、前記固定メインレンズ
を保持する第１のレンズ保持手段と、前記平面レンズま
たは前記サブレンズのいずれかを脱着可能に保持する第
２のレンズ保持手段とをさらに備えたことを特徴とする
ものである。

【００３５】請求項４記載の露光装置は、請求項３記載
の露光装置において、前記第２のレンズ保持手段が、前
記平面レンズまたは前記サブレンズを脱着可能に保持す
る保持部を複数有し、前記保持部のそれぞれに前記平面
レンズまたは前記サブレンズのいずれかが設けられてい
ることを特徴とするものである。

【００３６】請求項５記載の露光装置は、陰極線管パネ
ルに蛍光面をパターニングするために、陰極線管動作時
の電子ビームを模した露光光で、前記陰極線管パネルに
塗布された感光性蛍光体を露光する露光装置において、
露光光を放射する光源と、前記光源と前記陰極線管パネ
ルの間に設けられ、前記光源からの露光光を前記電子ビ
ームを模した露光光に生成するためのメインレンズと、
前記光源と前記メインレンズの間、あるいはメインレン
ズと陰極線管パネルの間に設けられ、電子ビーム照射位
置と露光光照射位置とのずれを補正するためのサブレン
ズとを備え、ｚ軸に垂直に配置される前記サブレンズの
表面関数ｚ（ｘ，ｙ）が、定数ａ₁，ｂ₁および余弦関数
を用いて、ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₁（１−ｃｏｓ（ｂ₁ｘ））で表されることを特徴とするものである。

【００３７】請求項６記載の露光装置は、陰極線管パネ
ルに蛍光面をパターニングするために、陰極線管動作時
の電子ビームを模した露光光で、前記陰極線管パネルに
塗布された感光性蛍光体を露光する露光装置において、
露光光を放射する光源と、前記光源と前記陰極線管パネ
ルの間に設けられ、前記光源からの露光光を前記電子ビ
ームを模した露光光に生成するためのメインレンズと、
前記光源と前記メインレンズの間、あるいはメインレン
ズと陰極線管パネルの間に設けられ、電子ビーム照射位
置と露光光照射位置とのずれを補正するためのサブレン
ズとを備え、ｚ軸に垂直に配置される前記サブレンズの
表面関数ｚ（ｘ，ｙ）が、定数ａ₂，ｂ₂および正弦関数
を用い、ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₂（ｓｉｎ（ｂ₂ｘ））ｙで表されることを特徴とするものである。

【００３８】

【発明の実施の形態】図１（ｂ）はＣＲＴパネル内面に
蛍光面をパターニングするための本発明の実施の形態の
露光装置の基本構成図である。図１（ｂ）において、１
１はメインレンズ、１１Ａは薄メインレンズ（固定メイ
ンレンズ）、１１Ｂは平面レンズである。なお、図１
（ｂ）において、図１（ａ）と同じものには同じ符号を
付してある。

【００３９】図１（ｂ）の本発明の実施の形態の露光装
置は、光源１と、シャッタ２と、調光フィルタ３と、ウ
ェッジレンズ４と、メインレンズ１１と、回転カバーガ
ラス６とを備えている。つまり、本発明の実施の形態の
露光装置は、図１（ａ）の従来の露光装置において、メ
インレンズ５をメインレンズ１１としたものである。

【００４０】メインレンズ１１は、光源１から放射され
た露光光の光路を修正し、ＣＲＴ動作時の電子ビームを
模した露光光にするためのレンズである。このメインレ
ンズ１１は、互いに分離して配置された、１枚の薄メイ
ンレンズ１１Ａおよびｎ（ｎは正の整数）枚の平面レン
ズ１１Ｂにより構成される。なお、あとで説明するよう
に、ミス・ランディングを補正するためのサブレンズを
ｎ枚組み込んだ場合には、ｎ枚の平面レンズ１１Ｂは除
かれ、メインレンズ１１は薄メインレンズ１１Ａのみに
より構成される。なお、図１（ｂ）の本発明の実施の形
態の露光装置では、光源１とＣＲＴパネル７の間に設け
られたレンズ群は、メインレンズ１１と、ウェッジレン
ズ４とにより構成されている。

【００４１】図７（ｂ）は本発明の実施の形態の露光装
置におけるレンズ保持機構の断面構造図である。図７
（ｂ）では、平面レンズ１１Ｂの枚数を２枚（ｎ＝２）
とし、それぞれの平面レンズ１１Ｂを、１１Ｂ−１，１
１Ｂ−２としている。

【００４２】図７（ｂ）のように、薄メインレンズ１１
Ａは、その周部を薄メインレンズ保持枠１２により保持
され、平面レンズ１１Ｂは、その周部を平面レンズ／サ
ブレンズ保持枠１３により保持されている。そして、メ
インレンズ１１を構成する薄メインレンズ１１Ａおよび
平面レンズ１１Ｂは、薄メインレンズ保持枠１２および
平面レンズ／サブレンズ保持枠１３により、いずれもｚ
軸を光軸とし、互いに隙間をおいて露光装置内に配置さ
れている。薄メインレンズ保持枠１２および平面レンズ
／サブレンズ保持枠１３は、連結（図７（ｂ）参照）／
分離が可能である。これにより、メインレンズ１１Ａお
よび平面レンズ１１Ｂを一体型レンズのように扱うこと
が可能である。また、露光装置に対し平面レンズ１１Ｂ
のみを脱着することが可能になる。さらに、平面レンズ
／サブレンズ保持枠１３は、平面レンズ１１Ｂの脱着が
可能な構造になっている。

【００４３】薄メインレンズ１１Ａは、光源１から放射
された露光光の光路を修正し、ＣＲＴ動作時の電子ビー
ムを模した露光光にするための関数表面（曲面）１１Ａ
ａと、平面１１Ａｂとを有する。薄メインレンズ１１Ａ
の平均的な肉厚はｅ（＜ｄ）であり、従来のメインレン
ズ５よりも薄い。曲面１１Ａａの関数をｚ（ｘ，ｙ）と
すると、薄メインレンズ１１Ａの座標ｘ，ｙでの肉厚
は、ｚ（ｘ，ｙ）＋ｅである。

【００４４】平面レンズ１１Ｂは、関数表面（平面）１
１Ｂａおよび平面１１Ｂｂを有する。平面１１Ｂａの関
数は、ｚ（ｘ，ｙ）＝０である。つまり、平面レンズ１
１Ｂは、全域で肉厚が均等なレンズである。平面レンズ
１１Ｂの肉厚はｃである。

【００４５】薄メインレンズ１１Ａの曲面１１Ａａの関
数は、従来のメインレンズ５の曲面５ａの関数と同じで
ある。また、曲面１１Ａａは、曲面５ａと同じ高さ（同
じ位置）に配置されている。さらに、薄メインレンズ１
１Ａの平均的な肉厚ｅおよび平面レンズ１１Ｂの肉厚ｃ
は、次式、ｅ＋ｎｃ＝ｄ…（４）を満たす値に設定されている。ここで、ｄは従来のメイ
ンレンズ５の平均的な肉厚、ｎは平面レンズ１１Ｂの枚
数である。

【００４６】このように、図１（ｂ）の本発明の実施の
形態の露光装置では、従来の露光装置のメインレンズ５
（１枚レンズ）を、１枚の薄メインレンズ１１Ａおよび
ｎ枚の平面レンズ１１Ｂに分割している。そして、薄メ
インレンズ１１Ａの曲面関数を従来のメインレンズの曲
面関数と同じにし、薄メインレンズ１１Ａの関数表面１
１Ａの高さを従来のメインレンズ５の関数表面５ａの高
さと同じにする（メインレンズの分割により発生した隙
間分だけ平面レンズの底面をウェッジレンズ４側に下げ
る）ことにより、従来のメインレンズ５の関数表面を保
存している。さらに、薄メインレンズ１１Ａの肉厚ｃと
ｎ枚の平面レンズ１１Ｂの肉厚の合計との和を、従来の
メインレンズ５の肉厚ｄと同じにする（ｅ＋ｎｃ＝ｄと
する）ことにより、全域で従来の露光光路長を保存して
いる。つまり、図１（ｂ）の本発明の実施の形態の露光
装置と図１（ａ）の従来の露光装置とは、露光光路長が
全領域で同じである（薄メインレンズ１１Ａの関数表面
１１Ａａに入射する露光光のレンズ上座標と、メインレ
ンズ５の関数表面５ａに入射する露光光のレンズ上座標
とが同じになる）。

【００４７】図１（ｂ）の本発明の実施の形態の露光装
置では、上記のように、従来のメインレンズの関数表面
および従来の露光装置の光路長を保存しているため、図
１（ａ）の従来の露光装置と全く同じ露光光によってＣ
ＲＴパネル７内面の蛍光体を露光することができる。つ
まり、本発明の実施の形態の露光装置は、ランディング
補正のためのサブレンズを組み込まない場合には、本発
明の実施の形態の露光装置による、電子ビームを模した
露光光は、従来の露光装置によるものと全く同じにな
る。

【００４８】工程起源のミス・ランディングが発生した
場合には、本発明の実施の形態の露光装置においても、
従来と同じようにサブレンズを組み込むことにより、ミ
ス・ランディングを補正する。

【００４９】図２（ｂ）はランディング補正のためのサ
ブレンズを組み込んだ本発明の実施の形態の露光装置の
基本構成図である。図２（ｂ）の露光装置は、図１
（ｂ）の露光装置において、ｎ枚の平面レンズの内、ｋ
（ｋは１からｎまでの任意の整数）枚を、それぞれｋ枚
のサブレンズ１４に交換したものである。なお、図２
（ｂ）の本発明の実施の形態の露光装置では、光源１と
ＣＲＴパネル７の間に設けられたレンズ群は、メインレ
ンズ１１と、サブレンズ１４と、ウェッジレンズ４とに
より構成されている。

【００５０】サブレンズ１４を露光装置に組み込む場合
には、平面レンズ／サブレンズ保持枠１３（図７（ｂ）
参照）を、薄メインレンズ保持枠１２から分離させるこ
とにより露光装置から取り外し、サブレンズ保持枠１３
から平面レンズ１１Ｂを取り外し、その位置にサブレン
ズ１４を取り付け、このサブレンズ１４を取り付けた平
面レンズ／サブレンズ保持枠１３を露光装置に取り付け
る。図７（ｂ）のようにレンズの保持部を２個有する平
面レンズ／サブレンズ保持枠１３では、平面レンズ１１
Ｂ−１または平面レンズ１１Ｂ−２のいずれか１枚のみ
をサブレンズ１４に交換することも可能であるし、平面
レンズ１１Ｂ−１および平面レンズ１１Ｂ−２を２枚の
サブレンズ１４に交換することも可能である。１枚の平
面レンズ１１Ｂをサブレンズ１４と交換した場合には、
メインレンズ１１は、残ったもう１枚の平面レンズ１１
Ｂと薄メインレンズ１１Ａとにより構成される。また、
２枚の平面レンズ１１Ｂをサブレンズ１４と交換した場
合には、メインレンズ１１は、薄メインレンズ１１Ａの
みにより構成される。

【００５１】本発明の実施の形態の露光装置には、表面
関数が上記（２）式または（３）式で表される従来のサ
ブレンズ１０Ａ，１０Ｂ（それぞれ図１４、図１５参
照）や、このあと説明する本発明のサブレンズ１５Ａ，
１４Ｂ（それぞれ図３、図４参照）をはじめ、様々な表
面関数を有するサブレンズを組み込むことが可能であ
る。ただし、本発明の実施の形態の露光装置に組み込む
サブレンズ１４の平均的な肉厚は、平面レンズ１１Ｂの
肉厚と同じｃであるものとする。

【００５２】このように本発明の実施の形態の露光装置
では、肉厚ｃの平面レンズ１１Ｂと交換に、平均的な肉
厚ｃのサブレンズ１４を組み込むため、サブレンズ１４
を組み込んだ本発明の実施の形態の露光装置（図２
（ｂ）参照））では、サブレンズ１４を組み込む前の本
発明の実施の形態の露光装置（図１（ｂ）参照）、従っ
てサブレンズ１０を組み込む前の従来の露光装置（図１
（ａ）参照）に対する露光光路長の変化は、サブレンズ
１０を組み込んだ従来の露光装置（図２（ａ）参照）よ
りも小さくなる。従って、サブレンズ１４を組み込んで
も、露光光路長の変動による露光光のランディング位置
変化を従来よりも小さくすることができるので、ランデ
ィング補正の精度を従来よりも高くすることができる。

【００５３】図３は本発明の実施の形態のサブレンズ１
４Ａの構造を示す斜視図、図４は本発明の実施の形態の
サブレンズ１４Ｂの構造を示す斜視図である。図３およ
び図４のように、サブレンズ１４Ａおよび１４Ｂの平均
的な肉厚はｃである。サブレンズ１４Ａは関数表面（曲
面）１４Ａａおよび平面１４Ａｂを有する。また、サブ
レンズ１４Ｂは関数表面（曲面）１４Ｂａおよび平面１
４Ｂｂを有する。サブレンズ１４Ａの表面関数は、ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₁（１−ｃｏｓ（ｂ₁ｘ））…（５）である。また、サブレンズ１４Ｂの表面関数は、ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₂（ｓｉｎ（ｂ₂ｘ））ｙ…（６）である。ここで、ａ₁，ｂ₁，ａ₂，ｂ₂は定数である。サ
ブレンズ１４Ａの座標ｘ，ｙでの肉厚はａ₁（１−ｃｏ
ｓ（ｂ₁ｘ））＋ｃである。また、サブレンズ１４Ｂの
座標ｘ，ｙでの肉厚はａ₂（ｓｉｎ（ｂ₂ｘ））ｙ＋ｃで
ある。なお、サブレンズ１４Ａ，１４Ｂを露光装置に組
み込むときは、通常、関数表面１４Ａａ，１４ＢＡ側が
ＣＲＴパネル７に対向し、平面１４Ａｂ，１４Ｂｂ側が
光源１に対向するように配置し、ミス・ランディングを
補正するが、上記と逆に配置しても同様に補正すること
ができる。

【００５４】図５はサブレンズ１４Ａによるミス・ラン
ディング補正パターンの計算例を示す図である。また、
図６はサブレンズ１４Ｂによるミス・ランディング補正
パターンの計算例を示す図である。図５および図６にお
いて、大きな四角はＣＲＴパネル７上での座標系であ
り、矢印はその始点の位置でのミス・ランディング補正
を表し、矢印の向きでその方向を、長さで大きさ（ミス
・ランディング補正量）を表している。矢印の長さは実
際の値を１０００倍している。

【００５５】サブレンズ１４Ａによる図５のミス・ラン
ディング補正パターンは、図１９の反転パターンを補正
するのに適している。表面関数が上記（５）式で表され
るサブレンズ１４Ａは、ｘ＞０なる領域とｘ＜０なる領
域のそれぞれにおいて、ｘ＝±ｍ（ｍは任意の正数）な
る直線を中心軸とし、この中心軸に対象な補正パターン
を生成するサブレンズである。上記（５）式中のａ₁の
値を調整することによりランディング補正量を全体的に
調整することができ、上記（５）式中のｂ₁の値を調整
することにより上記中心軸の位置（上記ｍの値を）を調
整することができる。工程起源のミス・ランディングと
して図１９の反転パターンが発生した場合に、サブレン
ズ１４Ａを露光装置に組み込めば、上記の反転パターン
を高精度に補正することができる。

【００５６】サブレンズ１４Ｂによる図６のミス・ラン
ディング補正パターンは、図１３の回転パターンを高精
度に補正するのに適している。表面関数が上記（６）式
で表されるサブレンズ１４Ｂは、従来のサブレンズ１０
Ｂ（図１５参照）の上記（３）式中の項ｘを正弦関数ｓ
ｉｎ（ｂ₂ｘ）に置き換えたサブレンズである。上記
（６）式中のａ₂の値を調整することによりランディン
グ補正量を全体的に調整することができ、上記（６）式
中のｂ₂の値を調整することによりｘ方向のランディン
グ補正量分布を変化させることができる。

【００５７】サブレンズ１４Ｂによる図６のミス・ラン
ディング補正パターンでは、従来の回転パターン補正の
ためのサブレンズ１０Ｂによる図１８のミス・ランディ
ング補正パターンよりも、ｙ方向端部でのランディング
補正量が均一になっている。サブレンズ１４Ｂでは、上
記（６）式中のｂ₂の値を調整することにより、ｙ方向
端部でのランディング補正量の分布を変化させることが
可能である。つまり、ｙ方向端部でのランディング補正
量が均一になるように調整することが可能である。従っ
て、工程起源のミス・ランディングとして、ｙ方向端部
に均一なミス・ランディングが現れる図１３の回転パタ
ーンが発生した場合に、サブレンズ１４Ｂを露光装置に
組み込めば、上記の回転パターンを従来よりも高精度に
補正することができる。

【００５８】なお、補正の向きが逆の場合には、サブレ
ンズ１４Ｂを光軸（ｚ軸）を中心に９０゜回転させるこ
とで対応できる。また、ミス・ランディング・パターン
が、ハの字パターン、端ずれパターン、回転パターン、
反転パターン等を複合するものである場合には、本発明
の実施の形態のサブレンズ１４Ａ，１４Ｂ、および従来
のサブレンズ１０Ａ等を組み合わせて露光装置に組み込
むことにより補正が可能である。

【００５９】以上のように本発明の実施の形態によれ
ば、メインレンズ１１を薄メインレンズ１１Ａと平面レ
ンズ１１Ｂとに分割し、ミス・ランディングが発生した
場合に、平面レンズ１１Ｂをミス・ランディング補正の
ためのサブレンズ１４（サブレンズ１４Ａ，１４Ｂ、１
０Ａ等）に交換する構成としたことにより、サブレンズ
１４を組み込むことによる露光光路長の変動を従来より
も小さくすることができる。従って、サブレンズ１４を
組み込んでも、露光光路長の変動による露光光のランデ
ィング位置変化を従来よりも小さくすることができるの
で、ランディング補正の精度を従来よりも高くすること
ができ、これによりＣＲＴパネル蛍光面の品質を向上さ
せることができる。

【００６０】また、表面関数がｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₁（１
−ｃｏｓ（ｂ₁ｘ））であるサブレンズ１４Ａを採用す
ることにより、ミス・ランディングの反転パターンを高
精度に補正することができ、これによりＣＲＴパネル蛍
光面の品質を向上させることができる。

【００６１】また、表面関数がｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₂（ｓ
ｉｎ（ｂ₂ｘ））ｙであるサブレンズ１４Ｂを採用する
ことにより、ミス・ランディングの回転パターンを従来
よりも高精度に補正することができ、これによりＣＲＴ
パネル蛍光面の品質を向上させることができる。

【００６２】

【発明の効果】請求項１ないし３に記載の露光装置によ
れば、電子ビームを模した露光光を生成するためのメイ
ンレンズを、曲面を有する固定メインレンズと、平面レ
ンズとに分割し、この平面レンズを、電子ビーム照射位
置と露光光照射位置とのずれを補正するためのサブレン
ズに交換する構成したことにより、サブレンズを組み込
む前と組み込んだあとの露光光路長の変動を従来よりも
小さくすることができる。従って、サブレンズを組み込
んでも、露光光路長の変動による露光光のランディング
位置変化を従来よりも小さくすることができるので、ラ
ンディング補正の精度を従来よりも高くすることがで
き、これによりＣＲＴパネル蛍光面の品質を向上させる
ことができるという効果がある。

【００６３】請求項４記載の露光装置によれば、前記第
２のレンズ保持手段を、平面レンズまたはサブレンズを
脱着可能に保持する保持部を複数有する構成とすること
により、複数枚のサブレンズを組み込むことができるの
で、ハの字パターン、端ずれパターン、回転パターン、
反転パターン等を複合したミス・ランディングを高精度
に補正することができ、これによりＣＲＴパネル蛍光面
の品質を向上させることができるという効果がある。

【００６４】請求項５記載の露光装置によれば、表面関
数がｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₁（１−ｃｏｓ（ｂ₁ｘ））である
サブレンズを採用することにより、ミス・ランディング
の反転パターンを高精度に補正することができ、これに
よりＣＲＴパネル蛍光面の品質を向上させることができ
るという効果がある。

【００６５】請求項６記載の露光装置によれば、表面関
数がｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₂（ｓｉｎ（ｂ₂ｘ））ｙであるサ
ブレンズを採用することにより、ミス・ランディングの
回転パターンを従来よりも高精度に補正することがで
き、これによりＣＲＴパネル蛍光面の品質を向上させる
ことができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】ＣＲＴパネル内面に蛍光面をパターニングす
るための露光装置の基本構成図であり、（ａ）は従来の
露光装置、（ｂ）は本発明の実施の形態の露光装置であ
る。

【図２】ランディング補正のためのサブレンズを組み
込んだ露光装置の基本構成図であり、（ａ）は従来の露
光装置、（ｂ）は本発明の実施の形態の露光装置であ
る。

【図３】表面関数ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₁（１−ｃｏｓ
（ｂ₁ｘ））を有する本発明の実施の形態のサブレンズ
の構造を示す斜視図である。

【図４】表面関数ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₂（ｓｉｎ（ｂ
₂ｘ））ｙを有する本発明の実施の形態のサブレンズの
構造を示す斜視図である。

【図５】図３のサブレンズによるミス・ランディング
補正パターンの計算例を示す図である。

【図６】図４のサブレンズによるミス・ランディング
補正パターンの計算例を示す図である。

【図７】図１の露光装置におけるレンズ保持機構の断
面構造図であり、（ａ）は従来の露光装置のレンズ保持
機構、（ｂ）は本発明の実施の形態の露光装置のレンズ
保持機構である。

【図８】ＣＲＴパネル内面にパターニングされた蛍光
面の構造を説明する図である。

【図９】ミス・ランディングを説明する図である。

【図１０】ミス・ランディング・パターン（ハの字パ
ターン）を示す図である。

【図１１】ミス・ランディング・パターン（シフトパ
ターン）を示す図である。

【図１２】ミス・ランディング・パターン（端ずれパ
ターン）を示す図である。

【図１３】ミス・ランディング・パターン（回転パタ
ーン）を示す図である。

【図１４】表面関数ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₃ｘ²ｙを有する
従来のサブレンズの構造を示す斜視図である。

【図１５】表面関数ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₄ｘｙを有する
従来のサブレンズの構造を示す斜視図である。

【図１６】図１４のサブレンズによるミス・ランディ
ング補正パターンの計算例を示す図である。

【図１７】ｚ軸を中心に３５°回転させた図１４のサ
ブレンズによるミス・ランディング補正パターンの計算
例を示す図である。

【図１８】図１５のサブレンズによるミス・ランディ
ング補正パターンの計算例を示す図である。

【図１９】ミス・ランディング・パターン（反転パタ
ーン）を示す図である。

【図２０】図１５のサブレンズによるｙ＝＋１４０で
のランディング補正量を示した図である。

【符号の説明】

１光源、７ＣＲＴパネル、８色選別マスク、
１１メインレンズ、１１Ａ薄メインレンズ、
１１Ｂ平面レンズ、１３平面レンズ／サブレンズ
保持枠、１４，１４Ａ，１４Ｂサブレンズ、２０
蛍光面。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者西本茂東京都千代田区丸の内二丁目２番３号三菱電機株式会社内 (72)発明者平野孝之東京都千代田区丸の内二丁目２番３号三菱電機株式会社内Ｆターム(参考） 5C028 GG08 GG10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】陰極線管パネルに蛍光面をパターニング
するために、陰極線管動作時の電子ビームを模した露光
光で、前記陰極線管パネルに塗布された感光性蛍光体を
露光する露光装置において、露光光を放射する光源と、前記光源と前記陰極線管パネルの間に設けられ、前記光
源からの露光光を前記電子ビームを模した露光光に生成
するためのメインレンズを含むレンズ群とを備え、前記レンズ群が、曲面を有する固定メインレンズと、平面レンズ、または電子ビーム照射位置と露光光照射位
置とのずれを補正するための、前記平面レンズとの交換
が可能なサブレンズとを有することを特徴とする陰極線
管パネル蛍光面の露光装置。
【請求項２】前記平面レンズが、前記サブレンズと交
換されており、前記メインレンズは、前記固定メインレンズのみにより
構成されていることを特徴とする請求項１記載の陰極線
管パネル蛍光面の露光装置。
【請求項３】前記固定メインレンズを保持する第１の
レンズ保持手段と、前記平面レンズまたは前記サブレン
ズのいずれかを脱着可能に保持する第２のレンズ保持手
段とをさらに備えたことを特徴とする請求項１または２
に記載の陰極線管パネル蛍光面の露光装置。
【請求項４】前記第２のレンズ保持手段は、前記平面
レンズまたは前記サブレンズを脱着可能に保持する保持
部を複数有し、前記保持部のそれぞれに前記平面レンズまたは前記サブ
レンズのいずれかが設けられていることを特徴とする請
求項３記載の陰極線管パネル蛍光面の露光装置。
【請求項５】陰極線管パネルに蛍光面をパターニング
するために、陰極線管動作時の電子ビームを模した露光
光で、前記陰極線管パネルに塗布された感光性蛍光体を
露光する露光装置において、露光光を放射する光源と、前記光源と前記陰極線管パネルの間に設けられ、前記光
源からの露光光を前記電子ビームを模した露光光に生成
するためのメインレンズと、前記光源と前記メインレンズの間、あるいはメインレン
ズと陰極線管パネルの間に設けられ、電子ビーム照射位
置と露光光照射位置とのずれを補正するためのサブレン
ズとを備え、ｚ軸に垂直に配置される前記サブレンズの表面関数ｚ
（ｘ，ｙ）が、定数ａ₁，ｂ₁および余弦関数を用いて、ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₁（１−ｃｏｓ（ｂ₁ｘ））で表されることを特徴とする陰極線管パネル蛍光面の露
光装置。
【請求項６】陰極線管パネルに蛍光面をパターニング
するために、陰極線管動作時の電子ビームを模した露光
光で、前記陰極線管パネルに塗布された感光性蛍光体を
露光する露光装置において、露光光を放射する光源と、前記光源と前記陰極線管パネルの間に設けられ、前記光
源からの露光光を前記電子ビームを模した露光光に生成
するためのメインレンズと、前記光源と前記メインレンズの間、あるいはメインレン
ズと陰極線管パネルの間に設けられ、電子ビーム照射位
置と露光光照射位置とのずれを補正するためのサブレン
ズとを備え、ｚ軸に垂直に配置される前記サブレンズの表面関数ｚ
（ｘ，ｙ）が、定数ａ₂，ｂ₂および正弦関数を用い、ｚ（ｘ，ｙ）＝ａ₂（ｓｉｎ（ｂ₂ｘ））ｙで表されることを特徴とする陰極線管パネル蛍光面の露
光装置。