JP2001029746A - 窒素酸化物の吸蔵装置及び除去装置 - Google Patents
窒素酸化物の吸蔵装置及び除去装置Info
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Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 排気ガス中に含まれるＮＯｘを選択的に吸蔵
することを目的とする。 【解決手段】 排気ガス中に配置された光触媒と、該光
触媒に光を照射する光導入手段とを有する窒素酸化物吸
蔵装置であって光触媒として、チタニア酸化タングステ
ン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化亜鉛、酸化ニオグのうちの
１種以上およびＰｔ，Ｒｈ，Ｐｄ，希土類元素、アルカ
リ金属、アルカリ土類金属のうちの１種以上からなる触
媒を用いる。
することを目的とする。 【解決手段】 排気ガス中に配置された光触媒と、該光
触媒に光を照射する光導入手段とを有する窒素酸化物吸
蔵装置であって光触媒として、チタニア酸化タングステ
ン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化亜鉛、酸化ニオグのうちの
１種以上およびＰｔ，Ｒｈ，Ｐｄ，希土類元素、アルカ
リ金属、アルカリ土類金属のうちの１種以上からなる触
媒を用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】自動車等の内燃機関、石油ス
トーブ、工場等の排出ガス中の窒素酸化物（ＮＯｘ）を
吸蔵する装置及び除去する装置に関する。
トーブ、工場等の排出ガス中の窒素酸化物（ＮＯｘ）を
吸蔵する装置及び除去する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】自動車等の内燃機関等から排出される排
気ガス中に含まれている窒素酸化物（ＮＯｘ）が大気汚
染の原因となることから排気ガス中に含まれるＮＯｘ、
とりわけ一酸化窒素（ＮＯ）、二酸化窒素（ＮＯ2）を
低減、抑制することが求められてきた。
気ガス中に含まれている窒素酸化物（ＮＯｘ）が大気汚
染の原因となることから排気ガス中に含まれるＮＯｘ、
とりわけ一酸化窒素（ＮＯ）、二酸化窒素（ＮＯ2）を
低減、抑制することが求められてきた。
【０００３】例えば自動車のガソリンエンジンの排気ガ
ス中に含まれるＮＯｘを低減する手法として、一酸化炭
素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）等の酸化とＮＯｘの還元
とを同時に行って排気ガスを浄化する三元触媒の手法が
あり、触媒物質としては、貴金属（ロジウム、白金）と
セリウムを耐熱性担体基材にアルミナからなるコート層
に担持させたものが広く知られている。
ス中に含まれるＮＯｘを低減する手法として、一酸化炭
素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）等の酸化とＮＯｘの還元
とを同時に行って排気ガスを浄化する三元触媒の手法が
あり、触媒物質としては、貴金属（ロジウム、白金）と
セリウムを耐熱性担体基材にアルミナからなるコート層
に担持させたものが広く知られている。
【０００４】また酸素過剰雰囲気においてガソリンを希
薄燃焼させるリーンバーンエンジンが燃費の向上、二酸
化炭素（ＣＯ2）の発生抑制の点で有効であるために実
用化されており、この場合には空燃比（Ａｉｒ−Ｆｕｅ
ｌ Ｒａｔｉｏ）がリーンの時はＮＯｘを吸蔵し、スト
イキ（Ｓｔｏｉｃｈｉｏｍｅｔｒｉｃ）の時は吸蔵され
たＮＯｘを放出して還元するタイプのアルミナ担体にバ
リウム酸化物とランタン酸化物及び白金を担持した触媒
などが提案されている。
薄燃焼させるリーンバーンエンジンが燃費の向上、二酸
化炭素（ＣＯ2）の発生抑制の点で有効であるために実
用化されており、この場合には空燃比（Ａｉｒ−Ｆｕｅ
ｌ Ｒａｔｉｏ）がリーンの時はＮＯｘを吸蔵し、スト
イキ（Ｓｔｏｉｃｈｉｏｍｅｔｒｉｃ）の時は吸蔵され
たＮＯｘを放出して還元するタイプのアルミナ担体にバ
リウム酸化物とランタン酸化物及び白金を担持した触媒
などが提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ＮＯｘは排気ガス中の
水素やＨＣなどの還元性物質と反応することによって還
元され浄化される。しかしガソリンエンジンにおいて、
排気ガス中に酸素（Ｏ2）が多量に含まれている場合に
は、触媒上これらの還元性物質と酸素との反応が還元性
物質とＮＯｘの還元反応より優先して生じる。このため
にＮＯｘの還元反応が充分に生じないままＮＯｘが排出
される場合がある。排気ガス温度が低い場合（２５０℃
以下）ではその傾向が特に顕著である。また高温域（５
００℃）ではリーンバーン用の触媒の安定性が問題とな
る。
水素やＨＣなどの還元性物質と反応することによって還
元され浄化される。しかしガソリンエンジンにおいて、
排気ガス中に酸素（Ｏ2）が多量に含まれている場合に
は、触媒上これらの還元性物質と酸素との反応が還元性
物質とＮＯｘの還元反応より優先して生じる。このため
にＮＯｘの還元反応が充分に生じないままＮＯｘが排出
される場合がある。排気ガス温度が低い場合（２５０℃
以下）ではその傾向が特に顕著である。また高温域（５
００℃）ではリーンバーン用の触媒の安定性が問題とな
る。
【０００６】そこで本発明は以上の問題点を解決して、
排気ガス中に含まれるＮＯｘを選択的に吸蔵することを
目的とする。特に室温から２５０℃以下の低温域におい
てＮＯｘを吸蔵又は除去することを目的とする。
排気ガス中に含まれるＮＯｘを選択的に吸蔵することを
目的とする。特に室温から２５０℃以下の低温域におい
てＮＯｘを吸蔵又は除去することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】発明者は、光触媒が光に
よって励起し、ＮＯｘを吸蔵することを認識した結果、
本発明に到達した。
よって励起し、ＮＯｘを吸蔵することを認識した結果、
本発明に到達した。
【０００８】即ち本発明の窒素酸化物吸蔵装置は、排気
ガス中に含まれる窒素酸化物（ＮＯｘ）を吸蔵する窒素
酸化物吸蔵装置であって、排気通路に配置された光触媒
と、該光触媒に光を照射する光導入手段とを有すること
を特徴とする。
ガス中に含まれる窒素酸化物（ＮＯｘ）を吸蔵する窒素
酸化物吸蔵装置であって、排気通路に配置された光触媒
と、該光触媒に光を照射する光導入手段とを有すること
を特徴とする。
【０００９】ここでいう光触媒とは光照射によってＮＯ
ｘを吸蔵する光触媒をいう。その反応メカニズムは必ず
しも明らかでないが、次のように考えられる。光触媒は
光照射により励起して、光触媒の電荷分離によって電子
（ｅ-）及び正孔（ｈ+）が生じる。かかる電子及び正孔
は光触媒上に存在する酸素（Ｏ2）と反応し、例えばＯ2
-、Ｏ-、Ｏ2-という酸素活性種を生成する。これらの酸
素活性種は光触媒上に吸着しているＮＯｘ、特にＮＯと
反応して、ＮＯｘを光触媒に吸蔵する。
ｘを吸蔵する光触媒をいう。その反応メカニズムは必ず
しも明らかでないが、次のように考えられる。光触媒は
光照射により励起して、光触媒の電荷分離によって電子
（ｅ-）及び正孔（ｈ+）が生じる。かかる電子及び正孔
は光触媒上に存在する酸素（Ｏ2）と反応し、例えばＯ2
-、Ｏ-、Ｏ2-という酸素活性種を生成する。これらの酸
素活性種は光触媒上に吸着しているＮＯｘ、特にＮＯと
反応して、ＮＯｘを光触媒に吸蔵する。
【００１０】更に詳しく述べると、光照射により、光触
媒の伝導帯において電子が生じ、かかる電子はＯ2と反
応し、Ｏ2 -、Ｏ-、Ｏ2-といった酸素活性種を生成す
る。なお伝導帯での反応は化１に示す。
媒の伝導帯において電子が生じ、かかる電子はＯ2と反
応し、Ｏ2 -、Ｏ-、Ｏ2-といった酸素活性種を生成す
る。なお伝導帯での反応は化１に示す。
【００１１】
【化１】Ｏ2 ＋ ｅ- → Ｏ2 - Ｏ2 - ＋ ｅ- → ２Ｏ- Ｏ- ＋ ｅ- → Ｏ2- 次に、生成した酸素活性種であるこれらＯ2 -、Ｏ-、Ｏ
2-は価電子帯において吸着しているＮＯや生成した正孔
と反応し、ＮＯをＮＯ2、ＮＯ3 -、ＮＯ2 -へと酸化さ
せ、かかるＮＯ2、ＮＯ3 -、ＮＯ2 -は光触媒に吸蔵され
ると考えられる。価電子帯での反応は化２に示す
2-は価電子帯において吸着しているＮＯや生成した正孔
と反応し、ＮＯをＮＯ2、ＮＯ3 -、ＮＯ2 -へと酸化さ
せ、かかるＮＯ2、ＮＯ3 -、ＮＯ2 -は光触媒に吸蔵され
ると考えられる。価電子帯での反応は化２に示す
【００１２】
【化２】ＮＯ ＋ Ｏ2 - → ＮＯ3 - ＮＯ ＋ Ｏ- → ＮＯ2 - ＮＯ ＋ ｈ+ → ＮＯ+ ＮＯ+ ＋ Ｏ- → ＮＯ2 ＮＯ+ ＋ Ｏ2- → ＮＯ2 - なお本発明の窒素酸化物吸蔵装置は、光源自体を必ずし
も装置の一部として備えている必要はなく、光を導入す
る光導入手段を有していればよい。
も装置の一部として備えている必要はなく、光を導入す
る光導入手段を有していればよい。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の窒素酸化物吸蔵装置は、
排気ガス中に含まれるＮＯｘを吸蔵する窒素酸化物吸蔵
装置であって、排気通路に配置された光触媒と、該光触
媒に光を照射する光導入手段とを有している。
排気ガス中に含まれるＮＯｘを吸蔵する窒素酸化物吸蔵
装置であって、排気通路に配置された光触媒と、該光触
媒に光を照射する光導入手段とを有している。
【００１４】排気通路に配置された光触媒としては、Ｎ
Ｏｘを吸蔵する光触媒であればよく、チタニア、酸化タ
ングステン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ニオブ等の金属酸
化物半導体の一種以上、あるいは上記金属酸化物半導体
に、Ｐｔ（白金）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｒｈ（ロジウ
ム）、希土類金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属等
の一種以上を添加したものが好ましい。ＮＯｘを吸蔵す
る効果が大きく、またＳＯｘによる触媒被毒が少ないか
らである。但し必ずしもこれに限定されるものではな
い。ＮＯｘを吸蔵する光触媒であればよい。
Ｏｘを吸蔵する光触媒であればよく、チタニア、酸化タ
ングステン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ニオブ等の金属酸
化物半導体の一種以上、あるいは上記金属酸化物半導体
に、Ｐｔ（白金）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｒｈ（ロジウ
ム）、希土類金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属等
の一種以上を添加したものが好ましい。ＮＯｘを吸蔵す
る効果が大きく、またＳＯｘによる触媒被毒が少ないか
らである。但し必ずしもこれに限定されるものではな
い。ＮＯｘを吸蔵する光触媒であればよい。
【００１５】なおここでチタニア、酸化タングステン、
酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ニオブをＡ群成分といい、Ｐｔ
（白金）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｒｈ（ロジウム）、希
土類金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属をＢ群成分
というものとする。
酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ニオブをＡ群成分といい、Ｐｔ
（白金）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｒｈ（ロジウム）、希
土類金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属をＢ群成分
というものとする。
【００１６】光触媒は、粒状、蜂の巣状等の多孔体のも
のが好ましい。表面積が大きい方が吸蔵がより起こりや
すく、また排気ガスを通過させる必要があるからであ
る。
のが好ましい。表面積が大きい方が吸蔵がより起こりや
すく、また排気ガスを通過させる必要があるからであ
る。
【００１７】なお光触媒は、上記光触媒成分を粒状にし
たり、蜂の巣状の多孔体にしても良い。単体を用いてそ
こにコートしても良い。単体の形状としては、板状、ハ
ニカム状、クロス状、粒状等いずれの形状でも良い。
たり、蜂の巣状の多孔体にしても良い。単体を用いてそ
こにコートしても良い。単体の形状としては、板状、ハ
ニカム状、クロス状、粒状等いずれの形状でも良い。
【００１８】単体にコートする方法としてゾルゲル−デ
ィップコート法、スピンコート法、浸漬法、ＰＶＤ法、
イオンプレーティング法等がある。また上記光触媒成分
を含むスラリーを塗布する方法もある。
ィップコート法、スピンコート法、浸漬法、ＰＶＤ法、
イオンプレーティング法等がある。また上記光触媒成分
を含むスラリーを塗布する方法もある。
【００１９】Ａ群成分にＢ群成分を１種以上併用する場
合、Ａ群成分とＢ群成分の共沈法、Ａ群成分にＢ群成分
の水溶液を含浸させる方法、Ａ群成分の水溶液、Ｂ群成
分の水溶液を蒸発乾固させる方法がある。
合、Ａ群成分とＢ群成分の共沈法、Ａ群成分にＢ群成分
の水溶液を含浸させる方法、Ａ群成分の水溶液、Ｂ群成
分の水溶液を蒸発乾固させる方法がある。
【００２０】更に担体にＡ群成分をコート後Ｂ群成分を
担持しても良い。担持の方法としては、含浸法、光電着
法、ショットブラスト法、イオン注入法等がある。
担持しても良い。担持の方法としては、含浸法、光電着
法、ショットブラスト法、イオン注入法等がある。
【００２１】Ａ群成分とＢ群成分を組み合わせて使用す
る場合であるが、Ｂ群成分のうちＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈの１
種以上を用いる場合は、Ａ群成分１００重量部に対し
て、Ｂ群成分の総重量は０．０５〜１０重量部が好まし
く、０．１〜５重量部がより好ましい。０．０５重量部
未満では効果が発揮されず、また１０重量部を越える場
合には組み合わせによる効果が向上せず、貴金属を用い
た点でコスト高となりデメリットとなる。なおＰｔ、Ｐ
ｄ、Ｒｈを２種以上組み合わせる場合でも各元素の総重
量は前記重量比の範囲で用いられるのが好適である。
る場合であるが、Ｂ群成分のうちＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈの１
種以上を用いる場合は、Ａ群成分１００重量部に対し
て、Ｂ群成分の総重量は０．０５〜１０重量部が好まし
く、０．１〜５重量部がより好ましい。０．０５重量部
未満では効果が発揮されず、また１０重量部を越える場
合には組み合わせによる効果が向上せず、貴金属を用い
た点でコスト高となりデメリットとなる。なおＰｔ、Ｐ
ｄ、Ｒｈを２種以上組み合わせる場合でも各元素の総重
量は前記重量比の範囲で用いられるのが好適である。
【００２２】一方Ｂ群成分のうち、希土類元素、アルカ
リ金属元素、アルカリ土類金属元素の１種以上を用いる
場合にはＡ群成分１００重量部に対して、各元素の総重
量は０．１〜５０重量部が好ましい。更に希土類元素、
アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素の１種以上と
Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈの１種と併用してＡ群成分に組み合わ
せて用いる場合でもＡ群成分１００重量部に対して、各
元素の総重量が前記重量比即ち０．１〜５０重量部であ
ればＮＯｘ浄化活性が向上できる。このように調製して
得られた触媒の導電性を上げ光触媒の電荷分離をよくし
たり、ＮＯｘの吸着サイト数を増やしたりするため還元
処理を必要に応じて行っても良い。
リ金属元素、アルカリ土類金属元素の１種以上を用いる
場合にはＡ群成分１００重量部に対して、各元素の総重
量は０．１〜５０重量部が好ましい。更に希土類元素、
アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素の１種以上と
Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈの１種と併用してＡ群成分に組み合わ
せて用いる場合でもＡ群成分１００重量部に対して、各
元素の総重量が前記重量比即ち０．１〜５０重量部であ
ればＮＯｘ浄化活性が向上できる。このように調製して
得られた触媒の導電性を上げ光触媒の電荷分離をよくし
たり、ＮＯｘの吸着サイト数を増やしたりするため還元
処理を必要に応じて行っても良い。
【００２３】本発明の窒素酸化物吸蔵装置においては、
光触媒は排気通路内に配置される。例えば蜂の巣状で多
孔体の光触媒をそのまま排気通路内に配置しても良い。
また粒状で多孔体の光触媒を排気ガスが出入りする多数
の細孔を有している容器の中に収納して、この容器を排
気通路に配置しても良い。
光触媒は排気通路内に配置される。例えば蜂の巣状で多
孔体の光触媒をそのまま排気通路内に配置しても良い。
また粒状で多孔体の光触媒を排気ガスが出入りする多数
の細孔を有している容器の中に収納して、この容器を排
気通路に配置しても良い。
【００２４】ＮＯｘの吸蔵の効率の点からは、排気ガス
の排気管の中に光触媒を配置するのが好ましい。例えば
蜂の巣状で多孔体の光触媒をそのまま排気管の内部に取
り付けても良い。あるいは光触媒を収納した容器を排気
管の内部に取り付けても良い。更に予め排気ガスの通気
管を作成し、その中に光触媒を配置した上でそれを排気
ガスの排気管とつないでも良い。
の排気管の中に光触媒を配置するのが好ましい。例えば
蜂の巣状で多孔体の光触媒をそのまま排気管の内部に取
り付けても良い。あるいは光触媒を収納した容器を排気
管の内部に取り付けても良い。更に予め排気ガスの通気
管を作成し、その中に光触媒を配置した上でそれを排気
ガスの排気管とつないでも良い。
【００２５】なお光触媒がＮＯｘを吸蔵し、ＮＯｘの吸
蔵が飽和に達するともはや吸蔵する能力を持たなくなる
ので、配置された光触媒を交換する必要がある。容器に
収納された光触媒については、容器をいわゆるカートリ
ッジにして、その容器を交換してもよいし、また容器は
そのままにして光触媒のみを交換しても良い。更に容器
に収納されないで配置されたものについては単に交換す
ればよい。排気ガスの通気管を作製して、通気管の内部
に光触媒を配置した場合には、通気管を取り外して交換
することが可能となる。なおこの場合容器は透明であれ
ば容器の外部からの光が光触媒に照射できるようにな
る。そのため例えば耐熱性、紫外線の透過性の点から石
英製ガラスを用いても良い。
蔵が飽和に達するともはや吸蔵する能力を持たなくなる
ので、配置された光触媒を交換する必要がある。容器に
収納された光触媒については、容器をいわゆるカートリ
ッジにして、その容器を交換してもよいし、また容器は
そのままにして光触媒のみを交換しても良い。更に容器
に収納されないで配置されたものについては単に交換す
ればよい。排気ガスの通気管を作製して、通気管の内部
に光触媒を配置した場合には、通気管を取り外して交換
することが可能となる。なおこの場合容器は透明であれ
ば容器の外部からの光が光触媒に照射できるようにな
る。そのため例えば耐熱性、紫外線の透過性の点から石
英製ガラスを用いても良い。
【００２６】光触媒に照射される光は光触媒が励起して
光触媒反応を誘起し得る波長（アナターセ型ＴｉＯ2の
場合で４２０ｎｍ以下）の光であればよい。特に紫外光
を発するものが好ましい。紫外光は強い光電効果、光化
学反応を示すからである。例えば水銀灯、レーザ光、炭
素アーク灯等から発せられる光を用いればよい。また太
陽光を利用しても良い。太陽光を利用する場合にはコス
ト、管理の点で優れているからである。
光触媒反応を誘起し得る波長（アナターセ型ＴｉＯ2の
場合で４２０ｎｍ以下）の光であればよい。特に紫外光
を発するものが好ましい。紫外光は強い光電効果、光化
学反応を示すからである。例えば水銀灯、レーザ光、炭
素アーク灯等から発せられる光を用いればよい。また太
陽光を利用しても良い。太陽光を利用する場合にはコス
ト、管理の点で優れているからである。
【００２７】本発明の窒素酸化物吸蔵装置は、光触媒に
光を照射する光導入手段を有している。光触媒は光が照
射されなければＮＯｘを吸蔵しないため光触媒に光を照
射する手段を必要とする。それ故光導入手段とは光源か
らの光を光触媒に照射するための手段である。
光を照射する光導入手段を有している。光触媒は光が照
射されなければＮＯｘを吸蔵しないため光触媒に光を照
射する手段を必要とする。それ故光導入手段とは光源か
らの光を光触媒に照射するための手段である。
【００２８】光触媒に照射される光は人工光であっても
自然光であっても良いが、光を光触媒にまで到達させる
必要がある。それ故光導入手段は、窒素酸化物吸蔵装置
に光触媒に光を照射する光源が設けられている場合には
その光源をいう。窒素酸化物吸蔵装置に光源が設けられ
ていない場合には、外部にある光源からの光を導入して
光触媒に光を照射する手段をいう。例えば外部の光源か
らの光を光触媒にまで伝送する光ファイバーが光導入手
段である。
自然光であっても良いが、光を光触媒にまで到達させる
必要がある。それ故光導入手段は、窒素酸化物吸蔵装置
に光触媒に光を照射する光源が設けられている場合には
その光源をいう。窒素酸化物吸蔵装置に光源が設けられ
ていない場合には、外部にある光源からの光を導入して
光触媒に光を照射する手段をいう。例えば外部の光源か
らの光を光触媒にまで伝送する光ファイバーが光導入手
段である。
【００２９】なお外部の光源例えば太陽光をそのまま利
用して、太陽光を光触媒に照射できるように光触媒を配
置してある場合も光導入手段を有しているものとする。
例えば通気性のある透明な容器に入れて、あるいは特に
容器に入れずに太陽光を光触媒に照射できるように排気
通路中に光触媒を配置した場合にも光導入手段を有して
いるものとする。
用して、太陽光を光触媒に照射できるように光触媒を配
置してある場合も光導入手段を有しているものとする。
例えば通気性のある透明な容器に入れて、あるいは特に
容器に入れずに太陽光を光触媒に照射できるように排気
通路中に光触媒を配置した場合にも光導入手段を有して
いるものとする。
【００３０】従って光導入手段としては、人工光を発す
る光源であっても良いし、光源から発生された光を伝送
する光ファイバーであってもよい。その他光源から発せ
られた光を光触媒に伝送して光を照射しうる手段であれ
ばよい。光ファイバーが光導入手段の場合には、その光
源として人工光、また太陽光を利用しても良い。
る光源であっても良いし、光源から発生された光を伝送
する光ファイバーであってもよい。その他光源から発せ
られた光を光触媒に伝送して光を照射しうる手段であれ
ばよい。光ファイバーが光導入手段の場合には、その光
源として人工光、また太陽光を利用しても良い。
【００３１】光導入手段は光触媒に照射できる位置に配
置する必要がある。排気管の内部に光触媒を配置する場
合には、光触媒に照射できる位置に光導入手段を配置す
る必要がある。この場合光触媒と光源とを共に排気管の
内部に配置しても良い。或いは光触媒と光ファイバーと
を排気管の内部に配置しても良い。
置する必要がある。排気管の内部に光触媒を配置する場
合には、光触媒に照射できる位置に光導入手段を配置す
る必要がある。この場合光触媒と光源とを共に排気管の
内部に配置しても良い。或いは光触媒と光ファイバーと
を排気管の内部に配置しても良い。
【００３２】更に通気管を作成してその内部に光触媒を
配置する場合には予め光触媒に光を照射できるように通
気管及び光源の位置を設定することができる。例えば通
気管自体を透明な材質、例えばガラス等を用いて作成
し、通気管の外部に光源を配置して通気管の外部から光
触媒を照射することができる。この場合光触媒が位置す
る場所のみを透明な材質、例えばガラス等を用いても良
い。
配置する場合には予め光触媒に光を照射できるように通
気管及び光源の位置を設定することができる。例えば通
気管自体を透明な材質、例えばガラス等を用いて作成
し、通気管の外部に光源を配置して通気管の外部から光
触媒を照射することができる。この場合光触媒が位置す
る場所のみを透明な材質、例えばガラス等を用いても良
い。
【００３３】なおＮＯｘを吸蔵した後の排気ガスを白金
（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）など
の貴金属を担持した触媒、Ｃｕ−ゼオライト触媒等の従
来の排ガス浄化用触媒によって更に還元浄化することも
可能である。
（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）など
の貴金属を担持した触媒、Ｃｕ−ゼオライト触媒等の従
来の排ガス浄化用触媒によって更に還元浄化することも
可能である。
【００３４】ＮＯｘは還元ガスにより還元除去されるも
のであるが、排気ガス中に酸素が多く存在すると、この
酸素と還元ガスとが優先的に反応するためＮＯｘの還元
が進行しない。そこで酸素量の多い場合には排気通路の
上流側において光触媒での反応によりＮＯｘを吸蔵し、
排気ガス中の酸素量が減少した状態で排気通路の下流側
に配置したＮＯｘの還元用触媒によりＮＯｘを還元除去
するのが好ましい。これによりＮＯｘの還元除去を効率
よく行うことができる。
のであるが、排気ガス中に酸素が多く存在すると、この
酸素と還元ガスとが優先的に反応するためＮＯｘの還元
が進行しない。そこで酸素量の多い場合には排気通路の
上流側において光触媒での反応によりＮＯｘを吸蔵し、
排気ガス中の酸素量が減少した状態で排気通路の下流側
に配置したＮＯｘの還元用触媒によりＮＯｘを還元除去
するのが好ましい。これによりＮＯｘの還元除去を効率
よく行うことができる。
【００３５】ＮＯｘの還元用触媒としては上述したＰ
ｔ、Ｒｈ、Ｐｄ等の貴金属を担持した触媒、Ｃｕ−ゼオ
ライト触媒等の排気ガス浄化触媒として従来使用されて
いるものを用いることができる。
ｔ、Ｒｈ、Ｐｄ等の貴金属を担持した触媒、Ｃｕ−ゼオ
ライト触媒等の排気ガス浄化触媒として従来使用されて
いるものを用いることができる。
【００３６】
【実施例】以下実施例及び比較例に基づき、本発明を具
体的に説明する。
体的に説明する。
【００３７】（試験１）光触媒のＮＯｘに対する浄化能
力を把握するために試験を行った。試験１の概略図は図
１に示す。
力を把握するために試験を行った。試験１の概略図は図
１に示す。
【００３８】光触媒は、チタニア（商品名Ｐ−２５：デ
グサ社製）を用いた。形状はペレット状で、大きさは１
０〜２０メッシュであった。光触媒の量は２ｃｍ3であ
った。
グサ社製）を用いた。形状はペレット状で、大きさは１
０〜２０メッシュであった。光触媒の量は２ｃｍ3であ
った。
【００３９】試験装置は、光源、モデルガス、フローメ
ーター、石英製円筒反応管等から構成される固定床流通
式評価装置を用いた。評価装置である石英製円筒反応管
の内部に光触媒を配置した。ガスボンベに収容されたモ
デルガスを石英製円筒反応管の一方の端面から一定量流
し込み、他方の端面から排出しながら、室温下で光触媒
に光照射を行い、反応を生じさせた。光照射のための光
源は３６５ｎｍに最大波長を有し、紫外光を発する５０
０Ｗ水銀灯（ＵＩ−５０１Ｃ：ウシオ電機製）を用い
た。モデルガスは窒素ガス（Ｎ2）バランスであって、
一酸化窒素（ＮＯ）及び酸素（Ｏ2）を含んだものを用
いた。モデルガス全体の体積（１００％）を基準として
体積比で酸素は１０％とし、ＮＯはＮＯｘ計の検出下限
から５５ｐｐｍとし、残部はＮ2であった。空間速度
（Ｓｐａｃｅ Ｖｅｌｏｃｉｔｙ）は１３５００／ｈｒ
で行った。フローメーターはマスフロータイプ（日本タ
イラン製）を用いた。
ーター、石英製円筒反応管等から構成される固定床流通
式評価装置を用いた。評価装置である石英製円筒反応管
の内部に光触媒を配置した。ガスボンベに収容されたモ
デルガスを石英製円筒反応管の一方の端面から一定量流
し込み、他方の端面から排出しながら、室温下で光触媒
に光照射を行い、反応を生じさせた。光照射のための光
源は３６５ｎｍに最大波長を有し、紫外光を発する５０
０Ｗ水銀灯（ＵＩ−５０１Ｃ：ウシオ電機製）を用い
た。モデルガスは窒素ガス（Ｎ2）バランスであって、
一酸化窒素（ＮＯ）及び酸素（Ｏ2）を含んだものを用
いた。モデルガス全体の体積（１００％）を基準として
体積比で酸素は１０％とし、ＮＯはＮＯｘ計の検出下限
から５５ｐｐｍとし、残部はＮ2であった。空間速度
（Ｓｐａｃｅ Ｖｅｌｏｃｉｔｙ）は１３５００／ｈｒ
で行った。フローメーターはマスフロータイプ（日本タ
イラン製）を用いた。
【００４０】光触媒層通過後のモデルガスのＮＯの濃度
を光照射開始３０秒前から光照射開始２４０秒後まで、
一定時間ごとにＮＯｘ計（ＢＣＬ−１１０ｕＨ＋ＢＳＵ
−１１０ｕＨ：ベスト測器社製）により測定した。なお
光照射は光照射開始して１３３秒後に終了した。触媒層
に入るモデルガスのＮＯの濃度（入りガス濃度）との比
較により光触媒の活性を求めた。
を光照射開始３０秒前から光照射開始２４０秒後まで、
一定時間ごとにＮＯｘ計（ＢＣＬ−１１０ｕＨ＋ＢＳＵ
−１１０ｕＨ：ベスト測器社製）により測定した。なお
光照射は光照射開始して１３３秒後に終了した。触媒層
に入るモデルガスのＮＯの濃度（入りガス濃度）との比
較により光触媒の活性を求めた。
【００４１】光触媒に光照射を行った際のＮＯの濃度の
変化を実施例１として図２に示す。又比較のために光触
媒がない場合のＮＯの濃度の変化も比較例１として合わ
せて図２に示す。
変化を実施例１として図２に示す。又比較のために光触
媒がない場合のＮＯの濃度の変化も比較例１として合わ
せて図２に示す。
【００４２】光触媒がある場合には、光照射とともにＮ
Ｏの濃度が減少した。光照射を始めて６０秒後にＮＯ濃
度はほぼ０ｐｐｍとなった。
Ｏの濃度が減少した。光照射を始めて６０秒後にＮＯ濃
度はほぼ０ｐｐｍとなった。
【００４３】一方光触媒がない場合には光照射を行って
もＮＯの濃度は減少しなかった。ＮＯの光浄化反応は行
なわれなかったと考えられる。
もＮＯの濃度は減少しなかった。ＮＯの光浄化反応は行
なわれなかったと考えられる。
【００４４】本試験によって、光触媒反応によりＮＯの
浄化は可能であることがわかった。
浄化は可能であることがわかった。
【００４５】（試験２）光触媒をモデルガスの流路の上
流側（前段）に配置し、熱触媒をモデルガスの流路の下
流側（後段）に配置して、光触媒と熱触媒とを組み合わ
せた場合のＮＯｘの浄化能力を把握するために試験を行
った。試験２の概略図は図３に示す。
流側（前段）に配置し、熱触媒をモデルガスの流路の下
流側（後段）に配置して、光触媒と熱触媒とを組み合わ
せた場合のＮＯｘの浄化能力を把握するために試験を行
った。試験２の概略図は図３に示す。
【００４６】光触媒は、チタニア（商品名ＵＶ１００：
Ｓａｃｈｔｌｅｂｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ（ＧｍｂＨ）社
製）を用いた。形状はペレットとし、直径は２．００〜
２．８０ｍｍであった。光触媒の量は１０ｃｃであっ
た。
Ｓａｃｈｔｌｅｂｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ（ＧｍｂＨ）社
製）を用いた。形状はペレットとし、直径は２．００〜
２．８０ｍｍであった。光触媒の量は１０ｃｃであっ
た。
【００４７】熱触媒はＡｌ2Ｏ3（１２０ｇ）にＰｔ（２
ｇ）を担持したものを用いた。
ｇ）を担持したものを用いた。
【００４８】モデルガスを光触媒と熱触媒とからなる触
媒層を通過させて、触媒層から排出されたガス（出ガ
ス）をディーゼルモデルガス触媒評価装置ＣＡＴＡ−５
０００を用いて分析し、ＮＯｘの転化率を求めた。
媒層を通過させて、触媒層から排出されたガス（出ガ
ス）をディーゼルモデルガス触媒評価装置ＣＡＴＡ−５
０００を用いて分析し、ＮＯｘの転化率を求めた。
【００４９】モデルガスは窒素ガス（Ｎ2）バランスで
あって、ＮＯ、Ｃ3Ｈ6、Ｏ2を含んだものを用いた。モ
デルガス全体の体積（１００％）を基準として、体積比
でＮＯは５０ｐｐｍ、Ｃ3Ｈ6は１２００ｐｐｍ、Ｏ2は
５％で、残部はＮ2であった。モデルガスの空間速度は
５００００／ｈｒに設定した。光触媒層にモデルガスが
入る温度（入りガス温度）を１５０℃と３００℃の２つ
の温度に設定した。光触媒に紫外線の照射をし、光照射
のための光源は試験１と同一の５００Ｗ水銀灯（ＵＩ−
５０１Ｃ：ウシオ電機製）を用いた。熱触媒層にモデル
ガスが入る温度を４００℃から１５０℃まで１分間に
５．７℃の割合で温度を下げていった。なお光触媒が配
置されている部分については光照射が可能なように設計
した石英製の容器を用いた。
あって、ＮＯ、Ｃ3Ｈ6、Ｏ2を含んだものを用いた。モ
デルガス全体の体積（１００％）を基準として、体積比
でＮＯは５０ｐｐｍ、Ｃ3Ｈ6は１２００ｐｐｍ、Ｏ2は
５％で、残部はＮ2であった。モデルガスの空間速度は
５００００／ｈｒに設定した。光触媒層にモデルガスが
入る温度（入りガス温度）を１５０℃と３００℃の２つ
の温度に設定した。光触媒に紫外線の照射をし、光照射
のための光源は試験１と同一の５００Ｗ水銀灯（ＵＩ−
５０１Ｃ：ウシオ電機製）を用いた。熱触媒層にモデル
ガスが入る温度を４００℃から１５０℃まで１分間に
５．７℃の割合で温度を下げていった。なお光触媒が配
置されている部分については光照射が可能なように設計
した石英製の容器を用いた。
【００５０】また同じ条件で、比較のために光触媒に光
照射をしない試験も合わせて行った。
照射をしない試験も合わせて行った。
【００５１】実施例２は、入りガス温度は１５０℃、光
触媒への光照射は有りという条件で熱触媒（ＮＯｘ触
媒）を組み合わせた試験である。
触媒への光照射は有りという条件で熱触媒（ＮＯｘ触
媒）を組み合わせた試験である。
【００５２】比較例２は、入りガス温度は１５０℃、光
触媒への光照射は無しという条件で熱触媒（ＮＯｘ触
媒）を組み合わせた試験である。
触媒への光照射は無しという条件で熱触媒（ＮＯｘ触
媒）を組み合わせた試験である。
【００５３】実施例３は、入りガス温度は３００℃、光
触媒への光照射は有りという条件で熱触媒（ＮＯｘ触
媒）を組み合わせた試験である。
触媒への光照射は有りという条件で熱触媒（ＮＯｘ触
媒）を組み合わせた試験である。
【００５４】比較例３は、入りガス温度は３００℃、光
触媒への光照射は無しという条件で熱触媒（ＮＯｘ触
媒）を組み合わせた試験である。
触媒への光照射は無しという条件で熱触媒（ＮＯｘ触
媒）を組み合わせた試験である。
【００５５】試験の結果得られたＮＯｘ転化率曲線を図
４、図５に分けて示す。図４は実施例２及び比較例２を
示し、図５は実施例３及び比較例３を示す。
４、図５に分けて示す。図４は実施例２及び比較例２を
示し、図５は実施例３及び比較例３を示す。
【００５６】図４、図５からも分かるように光照射があ
る場合の方が、光照射のない場合よりもＮＯｘの浄化活
性が向上している。これは光触媒のＮＯｘ浄化分が加算
されていると考えられるからである。
る場合の方が、光照射のない場合よりもＮＯｘの浄化活
性が向上している。これは光触媒のＮＯｘ浄化分が加算
されていると考えられるからである。
【００５７】（試験３）光触媒をモデルガスの流路の上
流側（前段）に配置し、熱触媒をモデルガスの流路の下
流側（後段）に配置して、光触媒と熱触媒とを組み合わ
せた場合のＮＯｘの浄化能力を把握するために試験を行
った。試験３の概略図は図３に示す。
流側（前段）に配置し、熱触媒をモデルガスの流路の下
流側（後段）に配置して、光触媒と熱触媒とを組み合わ
せた場合のＮＯｘの浄化能力を把握するために試験を行
った。試験３の概略図は図３に示す。
【００５８】光触媒は、チタニア（商品名ＵＶ１００：
Ｓａｃｈｔｌｅｂｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ（ＧｍｂＨ）社
製）を用いた。形状はペレットとし、直径は２．００〜
２．８０ｍｍであった。光触媒の量は１６ｃｃであっ
た。
Ｓａｃｈｔｌｅｂｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ（ＧｍｂＨ）社
製）を用いた。形状はペレットとし、直径は２．００〜
２．８０ｍｍであった。光触媒の量は１６ｃｃであっ
た。
【００５９】熱触媒はＡｌ2Ｏ3（１２０ｇ）にＰｔ（２
ｇ）を担持したものを用いた。
ｇ）を担持したものを用いた。
【００６０】モデルガスを光触媒と熱触媒とからなる触
媒層を通過させて、触媒層から排出されたガス（出ガ
ス）を試験２と同一のディーゼルモデルガス触媒評価装
置ＣＡＴＡ−５０００を用いて分析し、ＮＯｘの転化率
を求めた。
媒層を通過させて、触媒層から排出されたガス（出ガ
ス）を試験２と同一のディーゼルモデルガス触媒評価装
置ＣＡＴＡ−５０００を用いて分析し、ＮＯｘの転化率
を求めた。
【００６１】モデルガスは窒素ガス（Ｎ2）バランスで
あって、ＮＯ、Ｃ3Ｈ6、ＣＯ、Ｈ2Ｏ、ＳＯ2、ＣＯ2、
Ｏ2を含んだものを用いた。モデルガス全体の体積（１
００％）を基準として、体積比でＮＯは２３０ｐｐｍ、
Ｃ3Ｈ6は３０００ｐｐｍ、ＣＯは１５０ｐｐｍ、Ｈ2Ｏ
は５％、ＳＯ2は２５ｐｐｍ、ＣＯ2は６．７％、Ｏ2は
１０％で、残部はＮ2であった。モデルガスの空間速度
は５００００／ｈｒに設定した。触媒層にモデルガスが
入る温度（入りガス温度）を２００℃に設定した。また
光触媒に紫外線の照射をする場合としない場合の２つの
場合を設定した。光照射のための光源は試験１と同一の
５００Ｗ水銀灯（ＵＩ−５０１Ｃ：ウシオ電機製）を用
いた。更に熱触媒層に入るモデルガスの温度を５００℃
から１５０℃まで１分間に５．７℃の割合で温度を下げ
ていった。なお光触媒が配置されている部分については
試験２と同一の容器を用いた。
あって、ＮＯ、Ｃ3Ｈ6、ＣＯ、Ｈ2Ｏ、ＳＯ2、ＣＯ2、
Ｏ2を含んだものを用いた。モデルガス全体の体積（１
００％）を基準として、体積比でＮＯは２３０ｐｐｍ、
Ｃ3Ｈ6は３０００ｐｐｍ、ＣＯは１５０ｐｐｍ、Ｈ2Ｏ
は５％、ＳＯ2は２５ｐｐｍ、ＣＯ2は６．７％、Ｏ2は
１０％で、残部はＮ2であった。モデルガスの空間速度
は５００００／ｈｒに設定した。触媒層にモデルガスが
入る温度（入りガス温度）を２００℃に設定した。また
光触媒に紫外線の照射をする場合としない場合の２つの
場合を設定した。光照射のための光源は試験１と同一の
５００Ｗ水銀灯（ＵＩ−５０１Ｃ：ウシオ電機製）を用
いた。更に熱触媒層に入るモデルガスの温度を５００℃
から１５０℃まで１分間に５．７℃の割合で温度を下げ
ていった。なお光触媒が配置されている部分については
試験２と同一の容器を用いた。
【００６２】試験３として３種類の試験を行った。実施
例４は前段に光触媒を配置して光照射を行い、後段に熱
触媒を配置した試験である。実施例５は光触媒のみを配
置して光照射を行った試験である。なお実施例５につい
ては熱触媒を配置しなかったが、この場合も熱触媒を配
置した場合と同じ比較をするため熱触媒層入りガス温度
を他と同じように設定した。比較例４は熱触媒のみ配置
した試験である。
例４は前段に光触媒を配置して光照射を行い、後段に熱
触媒を配置した試験である。実施例５は光触媒のみを配
置して光照射を行った試験である。なお実施例５につい
ては熱触媒を配置しなかったが、この場合も熱触媒を配
置した場合と同じ比較をするため熱触媒層入りガス温度
を他と同じように設定した。比較例４は熱触媒のみ配置
した試験である。
【００６３】試験の結果得られたＮＯｘ転化曲線を図
６、７、８に示す。図６は実施例４の結果を示し、図７
は実施例５の結果を示し、図８は比較例４の結果を示
す。
６、７、８に示す。図６は実施例４の結果を示し、図７
は実施例５の結果を示し、図８は比較例４の結果を示
す。
【００６４】光触媒と熱触媒の両方を用いた場合には、
ＮＯｘ浄化活性は光触媒のＮＯｘ浄化分が加算されて全
温度域で向上したことが分かる。また光触媒上ではＮＯ
ｘ反応が選択的に起こっていたことが分かった。ＮＯは
吸蔵されていたと推定される。
ＮＯｘ浄化活性は光触媒のＮＯｘ浄化分が加算されて全
温度域で向上したことが分かる。また光触媒上ではＮＯ
ｘ反応が選択的に起こっていたことが分かった。ＮＯは
吸蔵されていたと推定される。
【００６５】
【発明の効果】従来のＮＯｘ触媒の活性が低い温度域に
おいても、特に室温から２５０℃においてもＮＯｘを吸
蔵することができ、極めて高いＮＯｘ浄化能を発揮する
ことができる。
おいても、特に室温から２５０℃においてもＮＯｘを吸
蔵することができ、極めて高いＮＯｘ浄化能を発揮する
ことができる。
【００６６】更に光触媒を使用しているので、太陽光を
利用できる場合には極めて簡易に実施することができ
る。又何らかの光を利用できるところであれば容易に実
施することができる。
利用できる場合には極めて簡易に実施することができ
る。又何らかの光を利用できるところであれば容易に実
施することができる。
【図１】 試験１の概要を示す図である。
【図２】 実施例１及び比較例１の結果を示した図であ
る。
る。
【図３】 試験２及び３の概要を示す図である。
【図４】 実施例２及び比較例２の結果を示した図であ
る。
る。
【図５】 実施例３及び比較例３の結果を示した図であ
る。
る。
【図６】 実施例４の結果を示した図である。
【図７】 実施例５の結果を示した図である。
【図８】 比較例４の結果を示した図である。
１：反応ガスを収容したガスボンベ ２：フローメーター ３：石英製円筒反応管 ４：光触媒 ５：ＮＯｘ計 ６：電気炉 ７：熱触媒 ８：ディーゼルモデルガス触媒評価装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ０１Ｎ 3/08 Ｆ０１Ｎ 3/10 Ａ 3/10 Ｂ０１Ｄ 53/36 １０２Ｂ Ｆターム(参考） 3G091 AA02 AA12 AA18 AB01 AB04 AB09 AB14 BA03 BA14 CA00 CA03 CA26 FA02 FA04 FB02 FB10 FC07 GA01 GA03 GA05 GA06 GA16 GB01W GB02W GB02X GB03W GB03X GB04W GB04X GB05W GB06W GB07W GB09W GB10W HA08 HA18 HA20 HA25 HA44 4D048 AA06 AB02 BA01Y BA02Y BA03X BA07X BA07Y BA14Y BA15Y BA16Y BA18Y BA24Y BA27Y BA30X BA30Y BA31Y BA33Y BA36Y CC44 CD08 EA01 EA04 4G069 AA03 AA20 BA01B BA04A BA04B BA48A BB04A BC01A BC08A BC35A BC38A BC55A BC60A BC66A BC71A BC72A BC75A BC75B CA03 CA08 CA13 DA05
Claims (3)
- 【請求項１】 排気ガス中に含まれる窒素酸化物を吸蔵
する窒素酸化物吸蔵装置であって、排気通路内に配置さ
れた光触媒と、該光触媒に光を照射する光導入手段とを
有することを特徴とする窒素酸化物吸蔵装置。 - 【請求項２】 前記光触媒は、チタニア、酸化タングス
テン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ニオブのうちの１種以上
からなる金属酸化物半導体、又は該金属酸化物半導体に
Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、希土類元素、アルカリ金属、アルカ
リ土類金属のうちの一種以上を添加したものである請求
項１に記載の窒素酸化物吸蔵装置。 - 【請求項３】 排気ガス中に含まれる窒素酸化物を除去
する窒素酸化物除去装置であって、 前記排気通路内の排気ガス流路の上流側に配置した光触
媒と、該光触媒に光照射する光導入手段とからなる窒素
酸化物吸蔵装置と、 前記排気通路内の排気ガス流路の下流側に配置した窒素
酸化物の還元用触媒とからなることを特徴とする窒素酸
化物除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11206393A JP2001029746A (ja) | 1999-07-21 | 1999-07-21 | 窒素酸化物の吸蔵装置及び除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11206393A JP2001029746A (ja) | 1999-07-21 | 1999-07-21 | 窒素酸化物の吸蔵装置及び除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001029746A true JP2001029746A (ja) | 2001-02-06 |
Family
ID=16522617
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11206393A Pending JP2001029746A (ja) | 1999-07-21 | 1999-07-21 | 窒素酸化物の吸蔵装置及び除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001029746A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011179439A (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Isuzu Motors Ltd | 排ガス浄化装置 |
| JP2011179440A (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Isuzu Motors Ltd | 排ガス浄化用制御機器 |
| WO2019017564A1 (ko) * | 2017-07-19 | 2019-01-24 | (주)엘지하우시스 | 자동차 배기가스 처리용 촉매입자, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 자동차 배기가스를 처리하는 방법 |
| KR20190056182A (ko) * | 2017-11-16 | 2019-05-24 | (주)엘지하우시스 | 배기가스 처리용 촉매 입자의 제조방법 및 이에 의해 제조된 배기가스 처리용 촉매 입자 |
| KR102155628B1 (ko) * | 2019-05-14 | 2020-09-14 | 이덕기 | 반도체 제조공정의 질소산화물 및 입자성 물질 제거장치 |
| KR20210010627A (ko) * | 2017-11-16 | 2021-01-27 | (주)엘지하우시스 | 배기가스 처리용 촉매 입자의 제조방법 및 이에 의해 제조된 배기가스 처리용 촉매 입자 |
-
1999
- 1999-07-21 JP JP11206393A patent/JP2001029746A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US11697109B2 (en) | 2017-07-19 | 2023-07-11 | Lg Hausys, Ltd. | Catalyst particles for treating vehicle exhaust gas, preparation method therefor, and method for treating vehicle exhaust gas by using same |
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| KR102209190B1 (ko) | 2017-11-16 | 2021-01-28 | (주)엘지하우시스 | 배기가스 처리용 촉매 입자의 제조방법 및 이에 의해 제조된 배기가스 처리용 촉매 입자 |
| KR102278420B1 (ko) | 2017-11-16 | 2021-07-16 | (주)엘엑스하우시스 | 배기가스 처리용 촉매 입자의 제조방법 및 이에 의해 제조된 배기가스 처리용 촉매 입자 |
| KR102155628B1 (ko) * | 2019-05-14 | 2020-09-14 | 이덕기 | 반도체 제조공정의 질소산화물 및 입자성 물질 제거장치 |
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