JP2001026455A - ガラス組成 - Google Patents
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- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0036—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0045—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3 and MgO as main constituents
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Abstract
を、SiO2が53.5wt%以上で且つ 60wt%
以下、Al2O3が10wt%以上で且つ 30wt%以
下、MgOが10wt%以上で且つ 30wt%以下、
TiO2が3.5wt%以上で且つ 8.8wt%以
下、、とした。
Description
晶化ガラスに適したガラス組成に関する。さらに詳しく
は、結晶化ガラス磁気ディスクの組成に関する。
アルミニウム基板、ガラス基板等が実用化されている。
中でもガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れ
ていることから、最も注目されている。そのようなガラ
ス基板としては、ガラス基板表面をイオン交換で強化し
た化学強化ガラス基板や、基板に結晶成分を析出させて
結合の強化を図る結晶化ガラス基板が知られている。
対する性能の要求は、日に日に厳しくなってきており、
とくに高速回転時のたわみやそりに直接的に関わる強度
に対する性能の向上が求められている。これは基板材料
の比弾性率(=ヤング率/比重)によって表すことがで
き、数値が高ければ高いほど望ましい。またこのような
要求を満たしながら、生産性の向上が求められている。
そこで本発明は、ガラスの比弾性率が向上し、さらに生
産性の高いを組成を提供することを目的とする。
に請求項1に記載された発明は、主成分の組成範囲を、
SiO2が53.5wt%以上で且つ 60wt%以
下、Al2O3が10wt%以上で且つ 30wt%以
下、MgOが10wt%以上で且つ 30wt%以下、
TiO2が3.5wt%以上で且つ 8.8wt%以
下、にしたことを特徴とする。
説明する。本発明に係る実施形態のガラス基板は、主成
分の組成範囲が、SiO2が53.5wt%以上で且つ
60wt%以下、Al2O3が10wt%以上で且つ30
wt%以下、MgOが10wt%以上で且つ30wt%
以下、TiO2が3.5wt%以上で且つ8.8wt%
以下であることを特徴としている。
が53.5wt%より少ないと、溶融性が悪くなり、6
0wt%を越えるとガラスとして安定状態になるため、
結晶が析出しにくくなる。
理によって析出する結晶相であるホウ酸アルミニウム系
結晶の構成成分である。組成比が10wt%より少ない
と析出結晶が少なく、強度が得られず、30wt%を越
えると溶融温度が高くなり失透しやすくなる。
結晶粒子塊を形成する。ただし、組成比が10wt%よ
り少ないと作業温度幅が狭くなりう、ガラスマトリクス
相の化学的耐久性が向上しない。30wt%を越える
と、他の結晶相が析出して求める強度を得ることが難し
くなる。
上している。組成比が3.5wt%より少ないと溶融性
が悪くなると共に、結晶成長がしにくくなり、8.8w
t%を越えると結晶化が急激に促進され、結晶化状態の
制御が困難となり析出結晶の粗大化、結晶相の不均質が
発生し、微細で均質な結晶構造が得られなくなり、研磨
加工においてディスク基板として必要な平滑面が得られ
なくなる。さらに溶融成形時に失透しやすくなり、生産
性が低下する。
れるガラス基板の主成分の組成を含む原料を所定の割合
にて充分に混合し、これを白金るつぼに入れ溶融を行
う。溶融後金型に流し概略の形状を形成する。これを室
温までアニールする。続いて、示される1次熱処理温度
と1次処理時間により保持し(熱処理)、結晶核生成が
行われる。引き続き、2次熱処理温度と2次処理時間に
より保持し結晶核成長を行う。これを除冷することによ
り目的とする結晶化ガラスが得られる。
板は、SiO2が53.5wt%以上で且つ60wt%
以下、Al2O3が10wt%以上で且つ30wt%以
下、MgOが10wt%以上で且つ30wt%以下、T
iO2が3.5wt%以上で且つ8.8wt%以下とす
るために、非常に高い比弾性率と高い生産性を得ること
が可能となった。
いて説明する。第1〜第5実施例のガラスを構成する材
料組成比(単位:wt%)、溶融温度と溶融時間、1次
熱処理温度と1次処理時間、2次熱処理温度と2次処理
時間、主析出結晶相、副析出結晶相、平均結晶粒径、比
重、ヤング率、比弾性率を表1に示す。同様に第6〜第
10実施例のガラスを表2に示す。同様に第11〜第1
5実施例のガラスを表3に示す。同様に第16〜第20
実施例のガラスを表4に示す。
54.5wt%、Al2O3を13.6wt%、MgOを
14.7wt%、P2O5を1.6wt%、Li2Oを
2.6wt%、TiO2を7.4wt%、Y2O3を3.
7wt%、K2Oを1.6wt%、Sb2O3を0.4w
t%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1270度、溶融時間3
時間、1次処理温度670度、1次処理時間4.5時
間、2次処理温度740度、2次処理時間4時間にて処
置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナシリ
ケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が36.1
3という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くP2O5を加えており、それはシリケート系結晶を析
出させる核形成剤であり、ガラス全体に結晶を均一に析
出させるために重要な成分である。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な結晶核が形成されにくくなり、結
晶粒子が粗大化したり結晶が不均質に析出し、微細で均
質な結晶構造が得られにくくなり、研磨加工においてデ
ィスク基板として必要な平滑面が得られなくなる。9w
t%を越えると、溶融時の炉剤に対する反応性が増し、
また失透性も強くなることから溶融成形時の生産性が低
下する。また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与
える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定性
が悪くなる。
るため生産時の安定性が向上している。組成比が0.1
wt%より少ないと溶融性が悪くなり、12wt%を越
えると、また研磨−洗浄工程における安定性が悪くな
る。
ため剛性が向上している。ただし、組成比が0.1wt
%より少ないと十分な剛性向上が得られない。9wt%
を越えると、結晶析出が抑制され、十分な結晶化度が得
られず、所望の特性が達成されない。
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
0.1wt%より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。5wt%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。5wt%を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
59wt%、Al2O3を14.4wt%、MgOを1
3.9wt%、P2O5を1.5wt%、Li2Oを2.
5wt%、TiO2を6.9wt%、K2Oを1.5wt
%、Sb2O3を0.4wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間3
時間、1次処理温度670度、1次処理時間4.5時
間、2次処理温度740度、2次処理時間4時間にて処
置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナシリ
ケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が35.0
4という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くP2O5を加えており、それはシリケート系結晶を析
出させる核形成剤であり、ガラス全体に結晶を均一に析
出させるために重要な成分である。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な結晶核が形成されにくくなり、結
晶粒子が粗大化したり結晶が不均質に析出し、微細で均
質な結晶構造が得られにくくなり、研磨加工においてデ
ィスク基板として必要な平滑面が得られなくなる。9w
t%を越えると、溶融時の炉剤に対する反応性が増し、
また失透性も強くなることから溶融成形時の生産性が低
下する。また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与
える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定性
が悪くなる。
るため生産時の安定性が向上している。組成比が0.1
wt%より少ないと溶融性が悪くなり、12wt%を越
えると、また研磨−洗浄工程における安定性が悪くな
る。
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
0.1wt%より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。5wt%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。5wt%を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
58wt%、Al2O3を18wt%、MgOを18wt
%、P2O5を0.2wt%、TiO2を5.8wt%の
組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
6.70という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くP2O5を加えており、それはシリケート系結晶を析
出させる核形成剤であり、ガラス全体に結晶を均一に析
出させるために重要な成分である。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な結晶核が形成されにくくなり、結
晶粒子が粗大化したり結晶が不均質に析出し、微細で均
質な結晶構造が得られにくくなり、研磨加工においてデ
ィスク基板として必要な平滑面が得られなくなる。9w
t%を越えると、溶融時の炉剤に対する反応性が増し、
また失透性も強くなることから溶融成形時の生産性が低
下する。また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与
える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定性
が悪くなる。
53.5wt%、Al2O3を20.9wt%、MgOを
16.2wt%、P2O5を1.2wt%、TiO2を
8.2wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
5.65という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くP2O5を加えており、それはシリケート系結晶を析
出させる核形成剤であり、ガラス全体に結晶を均一に析
出させるために重要な成分である。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な結晶核が形成されにくくなり、結
晶粒子が粗大化したり結晶が不均質に析出し、微細で均
質な結晶構造が得られにくくなり、研磨加工においてデ
ィスク基板として必要な平滑面が得られなくなる。9w
t%を越えると、溶融時の炉剤に対する反応性が増し、
また失透性も強くなることから溶融成形時の生産性が低
下する。また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与
える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定性
が悪くなる。
54.2wt%、Al2O3を18.2wt%、MgOを
19.1wt%、Nb2O5を2wt%、TiO2を6.
5wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
5.91という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くNb2O5を加えており、結晶核剤物質が増加するこ
とになる。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと
十分な剛性の向上がなされない。9wt%を越えると、
ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御でき
なくなり、求める特性が得られにくくなる。
53.8wt%、Al2O3を16.2wt%、MgOを
17.2wt%、Nb2O5を4wt%、TiO2を8.
8wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
6.37という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くNb2O5を加えており、結晶核剤物質が増加するこ
とになる。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと
十分な剛性の向上がなされない。9wt%を越えると、
ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御でき
なくなり、求める特性が得られにくくなる。
54wt%、Al2O3を19.2wt%、MgOを2
0.8wt%、Ta2O5を2.2wt%、TiO2を
3.8wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
5.98という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くTa2O5を加えているため溶融性、強度を向上さ
せ、またガラスマトリクス相の化学的耐久性を向上させ
る。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと十分な
剛性の向上がなされない。9wt%を越えると、ガラス
の結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御できなくな
り、求める特性が得られにくくなる。
58wt%、Al2O3を18.1wt%、MgOを1
4.2wt%、Ta2O5を5.2wt%、TiO2を
4.5wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
7.44という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くTa2O5を加えているため溶融性、強度を向上さ
せ、またガラスマトリクス相の化学的耐久性を向上させ
る。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと十分な
剛性の向上がなされない。9wt%を越えると、ガラス
の結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御できなくな
り、求める特性が得られにくくなる。
58.2wt%、Al2O3を19.2wt%、MgOを
16.7wt%、Li2Oを2.4wt%、TiO2を
3.5wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が4
0.03という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くLi2Oを加えているため生産時の安定性が向上し
ている。組成比が0.1wt%より少ないと溶融性が悪
くなり、12wt%を越えると、また研磨−洗浄工程に
おける安定性が悪くなる。
を53.5wt%、Al2O3を20.7wt%、MgO
を12.8wt%、Li2Oを6wt%、TiO2を7w
t%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
8.72という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くLi2Oを加えているため生産時の安定性が向上し
ている。組成比が0.1wt%より少ないと溶融性が悪
くなり、12wt%を越えると、また研磨−洗浄工程に
おける安定性が悪くなる。
を54.2wt%、Al2O3を24.2wt%、MgO
を17.6wt%、TiO2を4wt%の組成比であ
る。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
6.68という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
を54.5wt%、Al2O3を23.9wt%、MgO
を12.8wt%、TiO2を8.8wt%の組成比で
ある。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
5.98という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
を58.8wt%、Al2O3を14.2wt%、MgO
を21.3wt%、TiO2を5.2wt%、ZrO2を
0.5wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
5.78という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、Li2Oに加えて、ガラス修飾
酸化物として働くZrO2を加えているためガラスの結
晶核剤が有効に機能する。組成比が0.1wt%より少
ないと十分な結晶核が形成されなくにくくなり、結晶粒
子が粗大化したり結晶が不均質に析出し、微細で均質な
結晶構造が得られなくなり、研磨加工においてディスク
基板として必要な平滑面が得られなくなる。また化学的
耐久性および耐マイグレーションが低下し、磁気膜に影
響を与える恐れがあるとともに、研磨−洗浄工程におい
て安定性が悪くなる。また12wt%を越えると溶融温
度が高くなり、また失透しやすくなり溶融成形が困難と
なる。また析出結晶相が変化し求める特性が得られにく
くなる。
を55.2wt%、Al2O3を13.1wt%、MgO
を20.5wt%、TiO2を7wt%、ZrO2を4.
2wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
5.48という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、ガラス修飾
酸化物として働くZrO2を加えているためガラスの結
晶核剤が有効に機能する。組成比が0.1wt%より少
ないと十分な結晶核が形成されなくにくくなり、結晶粒
子が粗大化したり結晶が不均質に析出し、微細で均質な
結晶構造が得られなくなり、研磨加工においてディスク
基板として必要な平滑面が得られなくなる。また化学的
耐久性および耐マイグレーションが低下し、磁気膜に影
響を与える恐れがあるとともに、研磨−洗浄工程におい
て安定性が悪くなる。また12wt%を越えると溶融温
度が高くなり、また失透しやすくなり溶融成形が困難と
なる。また析出結晶相が変化し求める特性が得られにく
くなる。
を59.5wt%、Al2Oを12.8wt%、MgO
を20wt%、TiO2を7.2wt%、B2O3を0.
5wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1270度、溶融時間3
時間、1次処理温度670度、1次処理時間4.5時
間、2次処理温度740度、2次処理時間4時間にて処
置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナシリ
ケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が36.1
3という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、フォーマー
として働くB2O3を加えているためガラスの分相を促
し、結晶析出および成長を促進させる。ただし、組成比
が0.1wt%より少ないと十分な溶融性改善がなされ
ない。5wt%を越えると、ガラスが失透しやすくなり
成形が困難になると共に、結晶が粗大化し微細な結晶が
得られなくなる。
を60wt%、Al2Oを14.6wt%、MgOを1
4.2wt%、TiO2を8wt%、B2O3を3.2w
t%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1270度、溶融時間3
時間、1次処理温度670度、1次処理時間4.5時
間、2次処理温度740度、2次処理時間4時間にて処
置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナシリ
ケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が36.1
3という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、フォーマー
として働くB2O3を加えているためガラスの分相を促
し、結晶析出および成長を促進させる。ただし、組成比
が0.1wt%より少ないと十分な溶融性改善がなされ
ない。5wt%を越えると、ガラスが失透しやすくなり
成形が困難になると共に、結晶が粗大化し微細な結晶が
得られなくなる。
を54wt%、Al2Oを23.8wt%、MgOを1
6.2wt%、TiO2を4.2wt%、Y2O3を1.
8wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
7.45という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くY2O3を加えているため剛性が向上している。ただ
し、組成比が0.1wt%より少ないと十分な剛性向上
が得られない。9wt%を越えると、結晶析出が抑制さ
れ、十分な結晶化度が得られず、所望の特性が達成され
ない。
を54.8wt%、Al2Oを15.3wt%、MgO
を20.7wt%、TiO2を5wt%、Y2O3を4.
2wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1320度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度700度、1次処理時間5時
間、2次処理温度760度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
7.61という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くY2O3を加えているため剛性が向上している。ただ
し、組成比が0.1wt%より少ないと十分な剛性向上
が得られない。9wt%を越えると、結晶析出が抑制さ
れ、十分な結晶化度が得られず、所望の特性が達成され
ない。
を54.8wt%、Al2O3を25wt%、MgOを1
2wt%、TiO2を4.5wt%、K2Oを1wt%、
Sb2O3を0.2wt%、ZnOを0.5wt%、La
2O3を2wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1270度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度670度、1次処理時間5時
間、2次処理温度740度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
4.60という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くK2Oを加えているため生産時の安定性が向上して
いる。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと十分
な溶融性改善がなされない。5wt%を越えると、ガラ
スが安定となり結晶化が抑制され、また化学的耐久性が
低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあると共に、研磨
−洗浄工程における安定性が悪くなる。
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。5wt%を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
め均一な結晶析出を補助する。ただし、組成比が0.1
wt%より少ないと十分な結晶均質化の改善がなされな
い。5wt%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、求める強度が得られにくくなる。
ため結晶析出が抑制される。ただし、組成比が0.1w
t%より少ないと十分な剛性の向上がなされない。5w
t%を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出
結晶相を制御できなくなり、求める特性が得られにくく
なる。
を59wt%、Al2O3を12.4wt%、MgOを1
2.1wt%、TiO2を6wt%、K2Oを4wt%、
Sb2O3を2wt%、ZnOを2wt%、La2O3を
2.5wt%の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1270度、溶融時間
3.5時間、1次処理温度670度、1次処理時間5時
間、2次処理温度740度、2次処理時間4.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がマグネシウムアルミナ
シリケート、副析出結晶相がルチルで、比弾性率が3
5.25という特性のガラス基板が得られた。上記組成
は高い比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性
を有する。
O2、Al2O3、MgO、TiO2に加えて、融剤として
働くK2Oを加えているため生産時の安定性が向上して
いる。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと十分
な溶融性改善がなされない。5wt%を越えると、ガラ
スが安定となり結晶化が抑制され、また化学的耐久性が
低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあると共に、研磨
−洗浄工程における安定性が悪くなる。
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。5wt%を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
め均一な結晶析出を補助する。ただし、組成比が0.1
wt%より少ないと十分な結晶均質化の改善がなされな
い。5wt%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、求める強度が得られにくくなる。
ため結晶析出が抑制される。ただし、組成比が0.1w
t%より少ないと十分な剛性の向上がなされない。5w
t%を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出
結晶相を制御できなくなり、求める特性が得られにくく
なる。
つ生産性の高いガラス基板を得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 主成分の組成範囲を、 SiO2が53.5wt%以上で且つ 60wt%以
下、 Al2O3が10wt%以上で且つ 30wt%以下、 MgOが10wt%以上で且つ 30wt%以下、 TiO2が3.5wt%以上で且つ 8.8wt%以
下、としたことを特徴とするガラス組成。
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2000
- 2000-07-13 US US09/616,045 patent/US6458730B1/en not_active Expired - Fee Related
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