JP2001022075A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2001022075A5 JP2001022075A5 JP1999198164A JP19816499A JP2001022075A5 JP 2001022075 A5 JP2001022075 A5 JP 2001022075A5 JP 1999198164 A JP1999198164 A JP 1999198164A JP 19816499 A JP19816499 A JP 19816499A JP 2001022075 A5 JP2001022075 A5 JP 2001022075A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- resist
- epoxy
- monomer unit
- integer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atoms Chemical group [H]* 0.000 description 4
- -1 acryloyloxymethyl-2-t-butylpropane Chemical compound 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 210000002356 Skeleton Anatomy 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- NCTBYWFEJFTVEL-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(C)COC(=O)C=C NCTBYWFEJFTVEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDFJPGOQFLMCAJ-UHFFFAOYSA-N 3-methylhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCC(C)CCOC(=O)C=C RDFJPGOQFLMCAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYKJJCUPAGWOPT-UHFFFAOYSA-N 6-oxabicyclo[3.1.0]hexan-2-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCC2OC12 SYKJJCUPAGWOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C(=C)C)CCC2OC21 FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M Triphenylsulfonium triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000686 lactone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用樹脂であって、式(2)および(3)から選ばれる少なくとも1種の構造を有する単量体単位が含まれていることを特徴とするレジスト用樹脂。
【化1】
(Rは水素原子またはアルキル基、nは0〜10の整数)
【化2】
(Rは水素原子またはアルキル基、mは0〜3の整数、nは0〜10の整数)
【請求項2】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用樹脂が、脂環式骨格を有する単量体単位と、ラクトン骨格を有する単量体単位を含むことを特徴とする請求項1のレジスト用樹脂。
【請求項3】 請求項1記載のレジスト用樹脂および光酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物。
【請求項4】 請求項3記載の化学増幅型レジスト組成物を用いてレジストを形成し、ドライエッチングを行う前にレジストに活性光線の照射および/または遠赤外線もしくは熱源による加熱処理を行うことを特徴とするレジストパターン形成方法。
【請求項1】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用樹脂であって、式(2)および(3)から選ばれる少なくとも1種の構造を有する単量体単位が含まれていることを特徴とするレジスト用樹脂。
【化1】
(Rは水素原子またはアルキル基、nは0〜10の整数)
【化2】
(Rは水素原子またはアルキル基、mは0〜3の整数、nは0〜10の整数)
【請求項2】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用樹脂が、脂環式骨格を有する単量体単位と、ラクトン骨格を有する単量体単位を含むことを特徴とする請求項1のレジスト用樹脂。
【請求項3】 請求項1記載のレジスト用樹脂および光酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物。
【請求項4】 請求項3記載の化学増幅型レジスト組成物を用いてレジストを形成し、ドライエッチングを行う前にレジストに活性光線の照射および/または遠赤外線もしくは熱源による加熱処理を行うことを特徴とするレジストパターン形成方法。
すなわち、本発明は、酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用樹脂であって、式(2)および(3)から選ばれる少なくとも1種の構造を有する単量体単位が含まれていることを特徴とするレジスト用樹脂である。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳しく説明する。
まず、酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂について説明する。酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂は、前記式(2)および(3)から選ばれる少なくとも1種の構造を有する単量体単位が含まれていなければならない。これらの単量体単位は必要に応じて単独あるいは2種以上を組み合わせることができる。これらの単量体単位は樹脂中に0.5〜20モル%含まれていることが
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳しく説明する。
まず、酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂について説明する。酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂は、前記式(2)および(3)から選ばれる少なくとも1種の構造を有する単量体単位が含まれていなければならない。これらの単量体単位は必要に応じて単独あるいは2種以上を組み合わせることができる。これらの単量体単位は樹脂中に0.5〜20モル%含まれていることが
前記式(2)および(3)から選ばれる少なくとも1種の構造を有する単量体単位としては、共重合により容易に樹脂骨格中へ導入できる(メタ)アクリレート系の単量体単位が好ましい。具体的には、1,3−エポキシ−2−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−メチルプロパン、1,3−エポキシ−2−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−エチルプロパン、1,3−エポキシ−2−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−プロピルプロパン、1,3−エポキシ−2−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−t−ブチルプロパン、1,2−エポキシ−4−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキサン、1,2−エポキシ−4−アリルシクロヘキサン、1,2−エポキシ−3−メタクリロイルオキシメチルシクロペンタン、1,2−エポキシ−5−メタクリロイルオキシメチルシクロヘプタン、1,2−エポキシ−5−メタクリロイルオキシメチルシクロオクタン等が挙げられる。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19816499A JP4544550B2 (ja) | 1999-07-12 | 1999-07-12 | レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19816499A JP4544550B2 (ja) | 1999-07-12 | 1999-07-12 | レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001022075A JP2001022075A (ja) | 2001-01-26 |
JP2001022075A5 true JP2001022075A5 (ja) | 2006-08-31 |
JP4544550B2 JP4544550B2 (ja) | 2010-09-15 |
Family
ID=16386539
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19816499A Expired - Lifetime JP4544550B2 (ja) | 1999-07-12 | 1999-07-12 | レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4544550B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100789590B1 (ko) | 2005-01-25 | 2007-12-28 | 주식회사 엘지화학 | 보존 안정성이 우수한 열경화성 수지 조성물 |
JP5176546B2 (ja) * | 2005-11-10 | 2013-04-03 | 日本電気株式会社 | 光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路、及び光導波路の製造方法 |
JP5432456B2 (ja) * | 2008-01-23 | 2014-03-05 | 出光興産株式会社 | アダマンタン系共重合樹脂、樹脂組成物及びその用途 |
JP5451570B2 (ja) * | 2009-10-16 | 2014-03-26 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機el表示装置、及び、液晶表示装置 |
JP5506621B2 (ja) * | 2009-10-16 | 2014-05-28 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法、有機el表示装置、及び、液晶表示装置 |
JP5623897B2 (ja) * | 2010-01-22 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機el表示装置、及び、液晶表示装置 |
JP5524036B2 (ja) * | 2010-01-25 | 2014-06-18 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、液晶表示装置、及び、有機el表示装置 |
JP5734152B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-06-10 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜並びにその製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5429627A (en) * | 1977-08-09 | 1979-03-05 | Somar Mfg | Positive resist material and use thereof |
JP3643657B2 (ja) * | 1996-07-22 | 2005-04-27 | ダイセル化学工業株式会社 | 水性樹脂分散液 |
JPH1087747A (ja) * | 1996-09-10 | 1998-04-07 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 放射線硬化型液状樹脂 |
JPH10316721A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-12-02 | Nippon Steel Chem Co Ltd | アルカリ可溶性樹脂及びそれを用いた画像形成用材料 |
-
1999
- 1999-07-12 JP JP19816499A patent/JP4544550B2/ja not_active Expired - Lifetime
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001022075A5 (ja) | ||
JP2004503616A5 (ja) | ||
JP2001194792A5 (ja) | ||
JP2008522001A5 (ja) | ||
JP2005507088A5 (ja) | ||
JP2002530696A5 (ja) | ||
JP2002502905A5 (ja) | ||
JP2007506737A5 (ja) | ||
JP2004515463A5 (ja) | ||
JP2000252242A5 (ja) | ||
JP2005514490A5 (ja) | ||
JP2007509902A5 (ja) | ||
KR101063130B1 (ko) | 이산화탄소 발생 시트 및 이의 제조방법 | |
MXPA04003433A (es) | Microesferas biodegradables de liberacion prolongada y metodo para preparar las mismas. | |
JP2002169296A5 (ja) | ||
EP1253470A3 (en) | Radiation-sensitive resin composition | |
JP2004509756A5 (ja) | ||
JP2002517570A5 (ja) | ||
MXPA03003533A (es) | Metodo para producir una solucion que consiste en un polimero que contiene unidades azol recurrentes, soluciones producidas de acuerdo con dicho metodo y uso de las mismas. | |
JP2002049156A5 (ja) | ||
JP2002278053A5 (ja) | ||
JP2000035672A5 (ja) | ||
JP2001270839A5 (ja) | ||
JP2002236358A5 (ja) | ||
JP2001133979A5 (ja) |