JP2001021820A - マルチビーム走査光学装置及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置の小型化、低コスト化を実現しつつ、レ
ーザビームの位置調整機構を備えることができるマルチ
ビーム走査光学装置、及びそれを用いた画像形成装置を
提供する。 【解決手段】 複数のレーザダイオードＬＤ１及びＬＤ
２より射出されたレーザビームを、ビーム合成装置１１
によりそれぞれ略同一方向に進行するように合成してコ
リメータレンズ１２に入射させるようにした装置におい
て、レーザダイオードＬＤ１とビーム合成装置１１との
間に、ビーム位置検出装置７によるレーザビームの位置
検出結果に基づいて複数のレーザビームの位置関係を調
整するビーム位置調整装置１３を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複数のレーザビー
ムを射出するマルチビーム走査光学装置、及び当該マル
チビーム走査光学装置を用いる画像形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、デジタル複写機、レーザプリンタ
等の画像形成装置の分野において、画像形成の高速化、
高解像度化等に対応すべく、像担持体表面等を露光する
ためのレーザビームを複数本、射出するようにしたマル
チビーム走査光学装置が種々開発されている。

【０００３】それらのマルチビーム走査光学装置を画像
形成装置に用いる場合において、良好な画像品質を得る
ためには、像担持体等を露光する際における複数のレー
ザビーム間の位置間隔を所定の間隔に保つ必要があるた
め、それらレーザビーム間の位置関係を調整する技術も
種々考案されている。上記のような位置関係の調整技術
の一例として、それぞれのレーザビームの位置を検出す
るビーム検出器を備え、当該ビーム検出器による検出結
果に基づいてビーム位置の調整を行うようにした画像形
成装置が、日本画像学会（旧電子写真学会）主催のＪａ
ｐａｎ Ｈａｒｄｃｏｐｙ ’９１の論文集（９７〜１
００ページ）や、特開平４−８５５１０号公報などに開
示されている。

【０００４】図５は、上記従来の技術における画像形成
装置の構成の概略を示す図である。同図に示されるよう
に、当該画像形成装置では、複数のレーザダイオードＬ
Ｄ９１及びＬＤ９２から射出されたレーザビームをそれ
ぞれ別個のコリメータレンズＣＬ９１及びＣＬ９２によ
り平行光とした後、ガルバノミラーＧＭ９１及びＧＭ９
２を介して偏光プリズムを用いたビームスプリッタ９３
に導入し、各レーザビームを分離してビーム検出器９４
ａ及び９４ｂ上にそれぞれ結像させることによりレーザ
ビームの位置を検出するようにしている。

【０００５】さらに、上記レーザビームの位置の検出結
果に基づいて、サーボ制御部９５によりガルバノミラー
ＧＭ９１及びＧＭ９２の反射角度を調整することで二本
のレーザビームの位置関係の調整を行っている。即ち、
ビームスプリッタ９３により分離され、もう一方の側に
出射したレーザビームは、ポリゴンミラー９６により偏
向され感光体ドラム９７表面を露光することとなるが、
上記ガルバノミラーＧＭ９１及びＧＭ９２の角度制御を
行うことにより、感光体ドラム９７表面におけるレーザ
ビーム間の距離が所定の値に保たれるようになってい
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術においては、コリメータレンズＣＬ９１及びＣ
Ｌ９２を複数使用する必要があるなどの理由により、装
置の大型化が避けられないという問題点を有していた。
本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものであ
って、装置を大型化させることなく、複数のレーザビー
ム間の位置関係の調整を行う機構を備えることができる
マルチビーム走査光学装置、及び当該マルチビーム走査
光学装置を用いた画像形成装置を提供することを目的と
している。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るマルチビーム走査光学装置は、レーザ
ビームを射出する複数の光源と、前記複数の光源により
射出された複数のレーザビームをそれぞれコリメートす
る複数のコリメータと、前記複数のコリメータによりコ
リメートされたレーザビームを、それぞれ略同一方向に
進行するように合成するビーム合成手段と、前記複数の
レーザビームの位置を検出するビーム位置検出手段と、
少なくとも一つの前記光源と、対応する前記コリメータ
との間に配置され、前記ビーム位置検出手段による検出
結果に基づいて、前記複数のレーザビームの位置関係を
調整する少なくとも一つのビーム位置調整手段とを備え
ることを特徴としている。

【０００８】この構成によれば、前記コリメータとして
の、例えばコリメータレンズによりレーザビームが平行
光となる前の発散光の状態でビーム位置の調整を行うこ
とになるので、ビーム位置調整機構の小型化を図ること
ができる。またそれに伴い、ビーム位置調整機構を駆動
するアクチュエータの小型化や、当該アクチュエータの
駆動に消費される駆動力の低減を図ることも可能とな
る。

【０００９】また、レーザビームを射出する複数の光源
と、前記複数の光源により射出されたレーザビームを、
それぞれ略同一方向に進行するように合成するビーム合
成手段と、前記ビーム合成手段により合成された複数の
レーザビームをそれぞれコリメートする単一のコリメー
タと、前記複数のレーザビームの位置を検出するビーム
位置検出手段と、少なくとも一つの前記光源と、前記ビ
ーム合成手段との間に配置され、前記ビーム位置検出手
段による検出結果に基づいて、前記複数のレーザビーム
の位置関係を調整する少なくとも一つのビーム位置調整
手段とを備えることとすることもできる。

【００１０】この構成によれば、複数のレーザビームで
単一のコリメータを共用することができるため、さらに
装置の小型化、低コスト化を図ることができる。なお、
単一のコリメータを共用することで、複数のコリメータ
間の精度のバラツキに起因する画像品質の低下を防止す
ることも可能となる。ここで、ビーム位置の調整は、平
行平板と、前記平行平板を透過するレーザビームの進行
方向に対する、当該平行平板の設置角度を調整する設置
角度調整手段とを有する前記ビーム位置調整手段によっ
て行うことができ、従って簡易な構成で、かつ低コスト
でビーム位置の調整機構を設けることができる。なお、
平行平板（以下も同様）は、例えば、ＢＫ７などの光学
ガラスやその他のガラスを用いて作成することができる
が、他の材料を用いることも可能である。

【００１１】さらに、前記ビーム合成手段は、プリズム
を含むビームスプリッタを用いることができる。もっと
もこれに限定されるわけではなく、前記ビーム合成手段
は、少なくとも一枚の平行平板を加工したハーフミラー
を含み、前記マルチビーム走査光学装置はさらに、前記
ビーム合成手段に前記ハーフミラーを用いることによ
り、前記複数のレーザビーム間に生じる収差状況の相違
を補正する収差補正手段を備えるようにしてもよい。こ
の構成により、ビーム合成手段も低コストにて実現する
ことができ、さらに装置の低価格化を図ることができ
る。

【００１２】また、本発明に係る画像形成装置は、上記
本発明に係るマルチビーム走査光学装置により、位置関
係の調整がなされた複数のレーザビームを用いて像担持
体表面の露光を行うので、装置の小型化、かつ、低コス
ト化を実現しながら、複数のレーザビーム間の位置関係
の調整を行うことができ、もって高品質の画像を形成す
ることができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るマルチビーム
走査光学装置及び画像形成装置の実施の形態について、
図面を参照しながら説明する。 （１）走査光学系の全体構成 図１は、本発明の一実施の形態に係る画像形成装置にお
ける走査光学系の全体構成を説明するための斜視図であ
る。同図に示されるように、本実施の形態の走査光学系
は二つのレーザダイオードＬＤ１及びＬＤ２からそれぞ
れ射出されるレーザビームを用いるマルチビーム走査光
学系である。なお、本実施の形態では、以下、レーザダ
イオードＬＤ１及びＬＤ２、ビーム合成装置１１、コリ
メータレンズ１２等を含む部分をマルチビーム射出装置
１という。

【００１４】レーザダイオードＬＤ１及びＬＤ２からそ
れぞれ射出されたレーザビームは、二つの研磨したプリ
ズムを貼り合わせたビームスプリッタから成るビーム合
成装置１１に互いにほぼ９０°の角度をもって入射す
る。ここで、それぞれのレーザビームは単一のコリメー
タレンズ１２を透過して後述の感光体ドラム６の露光走
査に向かうように進行方向の調整がなされる。即ちレー
ザダイオードＬＤ１から射出されたレーザビーム（以
下、「レーザビームＬＢ１」という。）はビーム合成装
置１１をそのまま透過してコリメータレンズ１２に向か
う一方、レーザダイオードＬＤ２から射出されたレーザ
ビーム（以下、「レーザビームＬＢ２」という。）はビ
ーム合成装置１１により９０°偏向されて、やはりコリ
メータレンズ１２へと向かう。なお、レーザビームＬＢ
１はビーム合成装置１１に到達する前にビーム位置調整
装置１３を経由しているが、これについては後に詳述す
る。

【００１５】コリメータレンズ１２にてそれぞれ平行光
とされたレーザビームＬＢ１及びレーザビームＬＢ２
は、共にシリンドリカルレンズ２を透過した後、不図示
のポリゴンモータにて矢印ａ方向に高速回転駆動され、
レーザビームを主走査方向に偏向するポリゴンミラー
３、及びｆθレンズ等の走査レンズ群４、折り返しミラ
ー５等を経由して、像担持体としての例えば副走査方向
に回転する感光体ドラム６表面へと導かれる。

【００１６】なお、本実施の形態では、感光体ドラム６
の近傍位置にビーム位置検出装置７を備えており、当該
ビーム位置検出装置７の検出結果に基づいて、前記マル
チビーム射出装置１により射出される複数のレーザビー
ムの位置関係を調整できるようになっている。以下、マ
ルチビーム射出装置１と、ビーム位置検出装置７とを合
わせてマルチビーム走査光学装置という。このビーム位
置検出装置７としては、ＣＣＤラインセンサを設けるこ
とにより、二本のレーザビームの副走査方向における間
隔が検出できるようになっているが、ＣＣＤラインセン
サについては公知のものであるから、ここでの詳細な説
明は省略する。

【００１７】（２）ビーム位置調整装置１３の詳細構成 次に、本実施の形態におけるビーム位置調整装置１３の
詳細な構成について説明する。図２は、ビーム位置調整
装置１３の詳細構成を説明するための図である。まず、
図２（ａ）を参照しながら、本実施の形態におけるビー
ム位置調整の原理等について説明する。本実施の形態に
おけるビーム位置の調整は、レーザビームＬＢ１が、ビ
ーム位置調整装置１３に備えられた平行平板１３１を透
過するに際して生じる屈折を利用して行っている。即
ち、平行平板１３１は、回動軸１３４を中心にして矢印
ｂ方向に回動可能な調整板ホルダ１３１ａに装着されて
おり、レーザビームＬＢ１が平行平板１３１に入射する
際の入射角度を調整することができるようになってい
る。

【００１８】さらに具体的には、回動軸１３４の一端に
揺動アーム１３３が設置され、当該揺動アーム１３３の
一端（以下、「上端」という。）は引張りコイルバネ１
３２により不図示のケーシングと接続されている。従っ
て、揺動アーム１３３のもう一方の端部（以下、「下
端」という。）を矢印ｃ方向に押圧することにより平行
平板１３１へのレーザビームＬＢ１の入射角を調整する
ことができると共に、当該押圧を弱めることによって、
引張りコイルバネ１３２の引張力により、レーザビーム
ＬＢ１の入射角を逆方向に調整することもできる。

【００１９】次に、図２（ｂ）を参照しながら、揺動ア
ーム１３３の下端部に矢印ｃ方向の押圧力を加える具体
的な機構について説明する。本実施の形態では、当該押
圧を制御するために、リニア・ステッピング・アクチュ
エータ１３５を用いている。このリニア・ステッピング
・アクチュエータ１３５は、不図示の駆動回路から出力
される駆動パルスに従って、雄ネジとなっている軸１３
６を回転させるとともに、当該雄ネジが、牝ネジとなっ
ているリニア・ステッピング・アクチュエータ１３５の
軸受に螺入することにより、当該軸１３６の先頭位置が
軸１３６の軸方向に平行な直線方向に移動可能となるよ
うに構成されているものであって、当該先頭位置が上記
揺動アーム１３３の下端部に接触し、軸１３６の先頭位
置が移動することにより、矢印ｃ方向の押圧を制御する
ようになっている。なお、上記の如く、軸１３６は雄ネ
ジとなっているため、リニア・ステッピング・アクチュ
エータ１３５を、押圧力を加える場合とは逆方向に回転
させることにより、揺動アーム１３３下端部への矢印ｃ
方向の押圧を低減させるように、前記先頭位置を制御す
ることもできる。

【００２０】本実施の形態の如く、平行平板１３１への
レーザビームＬＢ１の入射角を調整することにより、レ
ーザビームＬＢ１が平行平板１３１を透過する際に生じ
るレーザビームＬＢ１の位置的変位量を変化させてビー
ム位置の調整を行うためには、リニア・ステッピング・
アクチュエータ１３５による矢印ｃ方向への押圧、即ち
揺動アーム１３３の位置を極めて微細に制御する必要が
あるが、リニア・ステッピング・アクチュエータ１３５
は、いわゆるマイクロステップ駆動を行うことにより、
１ステップ角の１６分の１の精度で軸１３６の回転を制
御することが可能であり、本実施の形態のような用途に
用いるには好適なアクチュエータである。もっとも、駆
動回路により発生させる駆動パルス数と、軸１３６の先
頭位置の進退量との関係は、ステップ角と軸１３６のネ
ジのピッチとにより決定されるものであるから、前記駆
動パルス数とレーザビームＬＢ１の位置の変化量との関
係については予め求めておく必要がある。

【００２１】以上に説明したような制御を行うことによ
り、図２（ｃ）に示されるような本実施の形態のマルチ
ビーム射出装置１において、レーザビームＬＢ１の位置
を調整することが可能となる。なお、同図において、レ
ーザビームＬＢ２が収差補正板１４を透過してビーム合
成装置１１へと向かうように成っているのは、レーザビ
ームＬＢ１がビーム位置調整装置１３の平行平板１３１
を透過することによって、何ら補正を行わないとレーザ
ビームＬＢ１とレーザビームＬＢ２との間の収差状況に
相違が生じるため、それを補正し、それぞれのレーザビ
ーム間の収差状況を等しくするためである。従って、収
差補正板１４として備える平行平板は、ビーム位置調整
装置１３の平行平板１３１と、その屈折率と厚さとの積
が等しくなるようにすることが好ましい。

【００２２】（３）レーザビームの位置関係の調整 以上に説明したようなマルチビーム走査光学装置を、画
像形成装置の像担持体表面の露光に用いる場合におい
て、レーザビームＬＢ１及びレーザビームＬＢ２の間の
位置関係を調整するためには、例えば次のような方法が
考えられる。即ち、ビーム位置検出装置７により検出さ
れたレーザビームＬＢ１及びレーザビームＬＢ２の副走
査方向の間隔に基づき、所定の間隔との誤差を補正する
ようにリニア・ステッピング・アクチュエータ１３５に
駆動パルスを送ることにより、ビーム位置調整装置１３
の平行平板１３１に対するレーザビームＬＢ１の入射角
を調整する。

【００２３】これにより、レーザビームＬＢ１とレーザ
ビームＬＢ２との間の副走査方向の間隔が調整され、も
って、装置の設置環境や各部材に生じる摩耗等に起因す
る経時的変化にかかわりなく、二本のレーザビームの副
走査方向の間隔が所定の間隔に保たれることになる。な
お、レーザビームの位置調整の方法については、上記し
たリニア・ステッピング・アクチュエータ１３５を用い
た平行平板１３１の角度調整だけではなく、レーザダイ
オードＬＤ１若しくはＬＤ２自体を移動するようにする
ことも可能である。また、本実施の形態ではレーザビー
ムＬＢ１の位置のみを調整するようにしたが、ＬＢ１、
ＬＢ２の両方の位置を調整するようにしてもよい。

【００２４】以上に説明したような、ビーム位置調整機
構を設けることにより、装置の小型化、低コスト化を実
現すると共に、ビーム位置の調整を行うことが可能とな
る。即ち、発散光の状態で平行平板１３１を用いたビー
ム位置の調整を行っているため、ビーム位置調整手段自
体の小型化が可能となり、これを駆動するアクチュエー
タの小型化、駆動力の低減も併せて実現することができ
る。発散光を用いれば、平行平板１３１の設置位置によ
っては、平行光を用いる場合の数分の一の面積の平行平
板によってビーム位置の調整ができるからである。

【００２５】また、単一のコリメータレンズ１２を複数
のレーザビームで共用することにより、さらなる装置の
小型化、低コスト化を実現したものである。単一のコリ
メータレンズ１２を用いれば、複数のコリメータレンズ
１２間の精度のバラツキによる画像品質の低下も防止す
ることができるため、この実用的なメリットは大きいも
のと考えられる。

【００２６】＜変形例＞以上、本発明の実施の形態につ
いて説明してきたが、本発明の内容が、上記実施の形態
に示された具体例に限定されないことは勿論であり、例
えば、以下のような変形例を考えることができる。 （１）即ち、上記実施の形態では、ビーム合成装置１１
として、二つのプリズムを貼り合わせたビームスプリッ
タを用いた。これはレーザビームＬＢ１及びレーザビー
ムＬＢ２の間の収差状況の相違を抑制するという観点か
らは好適な方法であるが、若干コスト高になるという問
題がある。この問題を解決するには、例えば図３に示さ
れるように、ビーム合成装置１１に平行平板を加工した
ハーフミラーを用いることが考えられる。

【００２７】しかし、この場合にはレーザビームがビー
ム合成装置に用いられた平行平板を透過することによる
収差状況の相違が無視できなくなることから、当該収差
状況の相違を補正するための収差補正板１５を設ける必
要がある。もっとも収差補正板１５も平行平板により作
製することができるので、ビームスプリッタを用いる方
法よりは低コストで実現することができる。なお、収差
補正板１５の厚さ及び設置角度については、ビーム合成
装置１１の構成により種々の方法が考えられるが、ビー
ム合成装置１１に、二枚の厚さＰの平行平板を貼り合わ
せて当該二枚の平行平板の間をハーフミラーとした場合
であって、収差補正板１５として当該二枚の平行平板と
屈折率の等しい材料を用いる場合であれば、収差補正板
１５の厚さは上記Ｐの２倍とし、設置角度は、ビーム合
成装置１１に用いるハーフミラーと反対方向に同じ角度
だけ傾けたものとする。

【００２８】（２）また、上記実施の形態では、ビーム
位置検出装置７を感光体ドラム６の近辺に設置したが、
設置位置はこれに限定されず、当該設置位置における検
出結果に基づいてビームの位置調整を行うことが可能で
あればどこでもよい。具体的には、図４に示すように、
ビーム合成装置１１から漏出したレーザビームの残余光
を受光面７１の位置において受光できるように、ビーム
位置検出装置７を設けるようにすることも可能である。
また、ビーム位置検出装置７（図４の例の場合には、受
光面７１として）に用いる位置検出手段としても、上記
したＣＣＤラインセンサに限定されるわけではなく、Ｐ
ＳＤ（ポジション・センシング・デバイス）、フォトダ
イオード等種々の方法を用いることが可能であり、感光
体ドラム６の近傍に設置する際には、いわゆるＳＯＳセ
ンサを兼用することもできる。

【００２９】（３）さらに、上記実施の形態では、レー
ザダイオードＬＤ１とビーム合成装置１１との間にビー
ム位置調整装置１３を設け、単一のコリメータレンズ１
２を複数のレーザビームで共用するようにしたが、コリ
メータレンズ１２をそれぞれのレーザビームごとに複数
設けるようにしても、上記角度調整が可能な平行平板の
ようなビーム位置調整手段を光源とコリメータとの間に
備えるようにすれば、レーザビームが平行光となる前に
ビーム位置の調整を行うことができるので、コリメート
後にビーム位置調整を行う場合と比較すれば、ビーム位
置調整装置を小型化することができ、従って、ビーム位
置調整装置１３の駆動力を節約する等の効果は得ること
ができる。

【００３０】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明に係るマ
ルチビーム走査光学装置によれば、レーザビームを射出
する光源と、射出されたレーザビームをコリメートする
コリメータとの間に、ビーム位置検出手段による検出結
果に基づいて前記レーザビームの位置関係を調整する少
なくとも一つのビーム位置調整手段を備えるようにして
いるので、レーザビームが平行光となる前の発散光の状
態でビーム位置の調整を行うことにより、ビーム位置調
整手段自体の小型化を図ることができ、従って、装置の
大型化を招くことなく、複数のレーザビームの間の位置
関係の調整を行う機構を有するマルチビーム走査光学装
置を提供することができるという効果がある。これは、
ビーム位置調整のためのアクチュエータの小型化、及び
駆動力の低減を可能とするという効果を伴うものであ
る。

【００３１】また、複数の光源と、光源により射出され
たレーザビームをそれぞれ略同一方向に進行するように
合成するビーム合成手段と、前記ビーム合成手段により
合成された複数のレーザビームをそれぞれコリメートす
る単一のコリメータと、前記複数のレーザビームの位置
を検出するビーム位置検出手段とを備え、前記ビーム位
置検出手段による検出結果に基づいて、前記複数のレー
ザビームの位置関係を調整する少なくとも一つのビーム
位置調整手段を、少なくとも一つの前記光源と、前記ビ
ーム合成手段との間に配置するようにすれば、単一のコ
リメータを複数のレーザビームで共用することができる
ので、さらに装置の小型化、低コスト化を図ることがで
きるとともに、複数のコリメータ間の精度のバラツキ、
位置ズレ等による画像品質の低下を防止できるという効
果がある。

【００３２】ここで、前記ビーム合成手段は、少なくと
も一枚の平行平板を加工したハーフミラーを含み、前記
マルチビーム走査光学装置はさらに、前記ビーム合成手
段に前記ハーフミラーを用いることにより、前記複数の
レーザビーム間に生じる収差状況の相違を補正する収差
補正手段を備えることとすれば、さらなる低コスト化を
図れるという効果がある。

【００３３】また、本発明の画像形成装置は、本発明に
係るマルチビーム走査光学装置により、位置関係の調整
がなされた複数のレーザビームを用いて像担持体表面の
露光を行うことにより、装置の小型化、低コスト化を実
現しつつ、複数のレーザビーム間の位置関係を調整する
ことができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係る画像形成装置にお
ける走査光学系の全体構成を説明するための斜視図であ
る。

【図２】本実施の形態におけるビーム位置調整装置１３
の詳細構成を示す図である。

【図３】ビーム合成装置１１の変形例について説明する
ための図である。

【図４】ビーム位置検出装置７の変形例について説明す
るための図である。

【図５】従来の画像形成装置の構成の概略を示す図であ
る。

【符号の説明】

１ マルチビーム走査光学装置 １１ ビーム合成装置 １２ コリメータレンズ １３ ビーム位置調整装置 １３１ 平行平板 １３１ａ 調整板ホルダ １３２ 引張りコイルバネ １３３ 揺動アーム １３４ 回動軸 １３５ リニア・ステッピング・アクチ
ュエータ １３６ 軸 １４、１５ 収差補正板 ２ シリンドリカルレンズ ３ ポリゴンミラー ４ 走査レンズ群 ５ 折り返しミラー ６ 感光体ドラム ７ ビーム位置検出装置 ７１ 受光面 ＬＤ１、ＬＤ２ レーザダイオード ＬＢ１、ＬＢ２ レーザビーム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 位高 光俊 大阪府大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪国際ビル ミノルタ株式会社内 Ｆターム(参考） 2C362 AA09 AA47 BA57 BA61 BA86 BA89 DA06 2H045 AA01 BA22 BA33 CB65 DA02 5C072 AA03 BA01 DA02 DA04 DA05 DA21 DA23 HA02 HA06 HA10 HA13 XA01 XA05 5C074 AA11 BB03 CC22 CC26 DD30 EE02 EE04 GG03 GG04 HH02 HH04

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザビームを射出する複数の光源と、 前記複数の光源により射出された複数のレーザビームを
   それぞれコリメートする複数のコリメータと、 前記複数のコリメータによりコリメートされたレーザビ
   ームを、それぞれ略同一方向に進行するように合成する
   ビーム合成手段と、 前記複数のレーザビームの位置を検出するビーム位置検
   出手段と、 少なくとも一つの前記光源と、対応する前記コリメータ
   との間に配置され、前記ビーム位置検出手段による検出
   結果に基づいて、前記複数のレーザビームの位置関係を
   調整する少なくとも一つのビーム位置調整手段とを備え
   ることを特徴とするマルチビーム走査光学装置。
2. 【請求項２】 レーザビームを射出する複数の光源と、 前記複数の光源により射出されたレーザビームを、それ
   ぞれ略同一方向に進行するように合成するビーム合成手
   段と、 前記ビーム合成手段により合成された複数のレーザビー
   ムをそれぞれコリメートする単一のコリメータと、 前記複数のレーザビームの位置を検出するビーム位置検
   出手段と、 少なくとも一つの前記光源と、前記ビーム合成手段との
   間に配置され、前記ビーム位置検出手段による検出結果
   に基づいて、前記複数のレーザビームの位置関係を調整
   する少なくとも一つのビーム位置調整手段とを備えるこ
   とを特徴とするマルチビーム走査光学装置。
3. 【請求項３】 前記ビーム位置調整手段は、 平行平板と、 前記平行平板を透過するレーザビームの進行方向に対す
   る、当該平行平板の設置角度を調整する設置角度調整手
   段とを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の
   マルチビーム走査光学装置。
4. 【請求項４】 前記ビーム合成手段は、 プリズムを含むビームスプリッタであることを特徴とす
   る請求項１から３のいずれかに記載のマルチビーム走査
   光学装置。
5. 【請求項５】 前記ビーム合成手段は、 少なくとも一枚の平行平板を加工したハーフミラーを含
   み、 前記マルチビーム走査光学装置はさらに、 前記ビーム合成手段に前記ハーフミラーを用いることに
   より、前記複数のレーザビーム間に生じる収差状況の相
   違を補正する収差補正手段を備えることを特徴とする請
   求項１から３のいずれかに記載のマルチビーム走査光学
   装置。
6. 【請求項６】 請求項１から５のいずれかに記載のマル
   チビーム走査光学装置により、位置関係の調整がなされ
   た複数のレーザビームを用いて像担持体表面の露光を行
   うことを特徴とする画像形成装置。