JP2001016067A - バルク波素子及びそれを用いたバルク波装置 - Google Patents
バルク波素子及びそれを用いたバルク波装置Info
- Publication number
- JP2001016067A JP2001016067A JP11185932A JP18593299A JP2001016067A JP 2001016067 A JP2001016067 A JP 2001016067A JP 11185932 A JP11185932 A JP 11185932A JP 18593299 A JP18593299 A JP 18593299A JP 2001016067 A JP2001016067 A JP 2001016067A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oscillator
- bulk wave
- oscillation
- vibration
- frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 9
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 abstract description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 6
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002109 crystal growth method Methods 0.000 description 1
- PSHMSSXLYVAENJ-UHFFFAOYSA-N dilithium;[oxido(oxoboranyloxy)boranyl]oxy-oxoboranyloxyborinate Chemical compound [Li+].[Li+].O=BOB([O-])OB([O-])OB=O PSHMSSXLYVAENJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- UKDIAJWKFXFVFG-UHFFFAOYSA-N potassium;oxido(dioxo)niobium Chemical compound [K+].[O-][Nb](=O)=O UKDIAJWKFXFVFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
ク波素子及びそれを用いたバルク波装置を提供するこ
と。 【解決手段】 基体1上に、振動緩衝体5を介して厚み
滑り振動を生じる圧電材料から成る振動体2を配設する
とともに、該振動体2の厚み滑り振動の振動方向に対し
直交する方向に、互いに対向する励振電極3を配設した
ことを特徴とするバルク波素子Sとする。
Description
される共振器や周波数帯域フィルタに使用できるバルク
波素子及びそれを用いたバルク波装置に関する。
う電子機器用の帯域通過フィルタ等の周波数フィルタ
(以下、単にフィルタともいう)、発信器等の電子部品
として、多くの弾性表面波(Surface Acoustic Wave 、
以下、SAWともいう)装置やバルク波(Bulk Acousti
c Waveで、以下、BAWともいう)共振子、BAWフィ
ルタが用いられている。
等の携帯端末装置のRF(Radio Frequency :無線周波
数あるいは高周波)ブロック及びIF(Intermidiate F
requency:中間周波数)ブロックのフィルタとして多用
されている。また、自動車電話及び携帯電話等の移動体
無線機器を使用した通信システムにおけるIFブロック
上では、移動体通信情報の伝送量増大に伴い、高周波で
あり広帯域なIFフィルタが望まれている。
BAWを使用したフィルタで構成される。SAWフィル
タは、圧電基板の表面を伝搬するため携帯電話の低背化
できる。ところが、広帯域フィルタを作製するためには
伝搬路を大きくする必要があり、これにより素子サイズ
が大きくなり、装置の実装面積が大きくなるという欠点
を有する。
モードを用いてフィルタを構成させている。例えば、図
9に示すように、ZnO等の圧電薄膜から成る振動体2
を基体1上に空隙部4を介して励振電極3で挟み、これ
に交番電界を加えることで厚み縦振動を励振させ、高周
波フィルタを実現させている。ここで、空隙部4でもっ
て振動体2の振動動作を妨げないように工夫している
(例えば、Jpn. J. Appl. Phys. Vol.32(1993)pp.2321-
2324を参照)。
動体は、波長を短くするための材料の薄膜化が必要であ
るが、スパッタ法やCVD法等の薄膜形成法では、周波
数制御のための均一な厚み制御が困難であり、また、特
性の優れた圧電基板材料を再現性良く成長させることは
困難である。
波数調整法は、厚み方向に対向電極を配設し、この対向
電極上に薄い樹脂や金属を形成し、これらの周波数調整
膜の質量効果により周波数を変化させていた。このた
め、対向電極自体の質量と周波数調整膜の質量により、
厚み縦方向の振動のダンピングが大きく、少量の周波数
調整膜で特性劣化が生じ、この劣化の許容範囲、つまり
周波数調整範囲が小さくなる。
案されたものであり、簡便な構成で高性能で且つ信頼に
優れたバルク波素子及びそれを用いたバルク波装置を提
供することを目的とする。
に、本発明のバルク波素子は、基体上に、厚み滑り振動
が生じる圧電材料から成る振動体を振動緩衝体を介して
配設するとともに、振動体の厚み滑り振動の振動方向に
対し直交する方向に、相対向する一対の励振電極を配設
したことを特徴とする。
び/又は並列に電気接続又は振動接続したことを特徴と
するバルク波装置とする。
ことにより、複数の一対になった対向電極間で発生した
バルク波が、振動モードの結合により高次のモード共振
を発生させるようにしたことをいう。
れを用いたバルク波装置の実施形態を図面に基づき詳細
に説明する。
ように、本発明に係るバルク波素子Sは、基体1上に例
えばゴムや樹脂等の高分子材料により振動緩衝体5を形
成し、セラミック又は単結晶の厚み滑り振動を生じる圧
電材料から成る振動体2を配設して成るものである。ま
た、該振動体2の前記滑り振動の振動方向に対し直交す
る方向に、互いに対向する一対の電極3を配設して成
る。
振動緩衝体5及び引き出し部基体9上に形成された引き
出し電極6を通じて電気信号を伝送することが可能であ
る。また、周波数調整膜7を配設して振動体2の音響イ
ンピーダンスを変化させ、振動体2の振動周波数を調整
することも可能である。研磨により薄肉になった振動体
2を支持する素子固定材8を配設することも重要であ
る。
等価回路で示すように、直列及び(/又は)並列に電気
接続又は振動接続(振動体を連結させることにより、複
数の一対になった対向電極間で発生したバルク波が、振
動モードの結合により高次のモード共振を発生させるよ
うにしたこと)してバルク波装置を構成することができ
る。図3には、複数のバルク波素子をラダー型回路に電
気接続したバルク波装置の上面図を示す。
共振周波数を並列共振子S2の共振周波数より高く設定
するため、素子S1及び素子S2の振動体の厚みが異な
っている。そのため、図3に示す例では直列共振子S1
や並列共振子S2がそれぞれ圧電材の厚みを一定にする
ため横並びに配設させた。また、引き出し部基体、振動
緩衝体や振動体上に引き出し電極を形成し、ラダー型回
路に構成させるよう電極を配設させた。
成した場合のバルク波装置の上面平面図を示す。結合共
振器Mでは、バルク波素子中で振動している波が振動体
2を通じて横方向に結合される。図6に、この結合共振
器Mの振動モードの概念図を示す。図6に示すように、
横方向に結合された波は偶振動モードm1と奇振動モー
ドm2に分解され、それぞれ共振周波数が存在し、その
偶奇モード共振周波数間で通過帯域が形成可能である。
おいてバルク波素子の電気接続を電極の引き回しにより
行ったが、電気接続方法はワイヤボンドやAuバンプを
用いたフリップチップにより接続する若しくは導電性樹
脂を塗布し接続を行う構成も可能である。
ZTセラミック,タンタル酸リチウム単結晶,ニオブ酸
リチウム単結晶,水晶,四ほう酸リチウム単結晶,ラン
ガサイト型結晶構造を有する単結晶,ニオブ酸カリウム
単結晶,ガリウム砒素単結晶等が主に適用可能である。
は、アルミニウム、アルミニウム・銅合金、アルミニウ
ム・チタン合金、アルミニウム・珪素合金、金、銀、銀
・パラジウム合金が主に適用できる。また、電極の密着
度向上や電気抵抗の削減のため下地材が必要な場合に
は、クロム,チタン,銅を用いてもよい。
は、シリコーン樹脂等が好適に使用可能である。
リコーン系の樹脂,Agペースト,金属等の貼り付けな
どが使用可能である。
でなく、共振子及びフィルタだけでなく、デュプレクサ
にも本発明が適用が可能であり、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲で種々の変更は何等差し支えない。
る。
において、振動体としてPZTセラミックを用いた。作
製した素子は振動体の厚みを10μm、対向電極の幅を
300μm、対向電極の厚みを600μmとし、電極は
下面にCuを200Å厚みに、上面にAgを10000
Åの厚みに蒸着法にて形成した。
す。
の片側主面に電極3を帯状に下地金属膜Cu(200Å
厚)と主電極金属膜Ag(10000Å厚)を蒸着で形
成した。
ロンワックス10を10μm程度に均一になるよう塗布
した。その後、図8(c)に示すように、振動体2の電
極に見合った電極3と同一形成条件による引き出し電極
を形成した引き出し部基体9を押し付け、前記ワックス
10と固着させた。そして、振動体2が所望の厚み(1
0μm)になるまで研磨した。
の他方主面に電極3を形成し、エレクトロンワックス1
0と該振動体の電極に見合った引き出し電極を形成した
引き出し部基体9を押し付け、前記ワックス10と固着
させた。その後、図8(e)に示すようにダイシングソ
ーで個々の振動体2となるように切り離した。
シリコーン樹脂の振動緩衝体5を塗布しておき、図8
(g)に示すように、図8(e)で示した振動体2を含
む部位を図8(f)に示すように基体1上に載置した。
接合させ、最後に、図8(h)に示すように、エポキシ
系樹脂から成る素子固定材8のを塗布し加熱固着させ、
エレクトロンワックス10をアルカリ性除去剤で取り払
い、引き出し電極をマスク蒸着した。また、引出し電極
6に電気端子を接続し、電気特性を測定しつつ、シリコ
ーン樹脂から成る周波数調整膜7を塗布し、バルク波素
子Sの周波数を調整した。
は、上記実施例1と同様な構造のバルク波素子Sを図3
の如くにラダー型回路に電気接続したバルク波装置とし
たものである。ただし、電極の構造として、直列共振子
S1は振動体の厚みを10μm、対向電極幅を300μ
m、対向電極厚みを600μmとし、並列共振子S2は
振動体の厚みを11μm、対向電極幅を500μm、対
向電極の厚みを600μmとして作製した。
性を示す。ここで、横軸は周波数fを中心周波数f0 で
割った規格化周波数であり、縦軸は伝送の減衰量であ
る。評価方法は、入出力端子に3.5mm径のコネクタ
を接続し、ネットワークアナライザで測定した。その結
果、フィルタ特性が中心周波数170MHz、減衰量2
dB、帯域幅35MHzの良好な値を得ることが判明し
た。
従来のセラッミク焼成法や単結晶育成法により得られた
優れた圧電基板を、均質に且つ大量に育成された基板を
デバイスの所望の厚みに薄片化が可能で、高周波に適用
可能なバルク波素子及びそれを用いたバルク波装置を提
供できる。
め、厚み滑り振動を用いることで、厚み縦振動の周波数
調整と異なり、対向電極の膜上ではなく、振動方向側に
周波数調整膜を付加し調整できる。すなわち、振動のダ
ンピングが厚み縦振動の場合と比較すると、対向電極の
質量分相当の周波数調整膜を付加しても良好な特性を提
供可能であり、周波数調整膜の厚み調整による周波数調
整範囲の拡大が可能である。
る。
置であるラダー型フィルタの上面平面図である。
置である振動モード結合共振器の上面平面図である。
る。
の概念図である。
図である。
ク波素子の作製工程を説明する斜視図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 基体上に、厚み滑り振動が生じる圧電材
料から成る振動体を振動緩衝体を介して配設するととも
に、前記振動体の厚み滑り振動の振動方向に対し直交す
る方向に、相対向する一対の励振電極を配設したバルク
波素子。 - 【請求項2】 請求項1に記載のバルク波素子の複数
を、直列及び/又は並列に電気接続又は振動接続したこ
とを特徴とするバルク波装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18593299A JP3814443B2 (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | バルク波素子とその製造方法及びこのバルク波素子を用いたバルク波装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18593299A JP3814443B2 (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | バルク波素子とその製造方法及びこのバルク波素子を用いたバルク波装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001016067A true JP2001016067A (ja) | 2001-01-19 |
JP3814443B2 JP3814443B2 (ja) | 2006-08-30 |
Family
ID=16179412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18593299A Expired - Fee Related JP3814443B2 (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | バルク波素子とその製造方法及びこのバルク波素子を用いたバルク波装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3814443B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100446258B1 (ko) * | 2002-07-08 | 2004-09-01 | 쌍신전자통신주식회사 | 압전단결정을 이용한 고주파 체적음향파소자 및 그 제조방법 |
JP2014532360A (ja) * | 2011-10-05 | 2014-12-04 | サントル ナスィオナル ド ラ ルシェルシュ スィアンティフィク(セ.エン.エル.エス.) | 微細加工された垂直構造物に基づくバルク波共振器 |
CN110010755A (zh) * | 2019-03-13 | 2019-07-12 | 电子科技大学 | 具有缓冲层的单晶薄膜的制备方法、单晶薄膜及谐振器 |
-
1999
- 1999-06-30 JP JP18593299A patent/JP3814443B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100446258B1 (ko) * | 2002-07-08 | 2004-09-01 | 쌍신전자통신주식회사 | 압전단결정을 이용한 고주파 체적음향파소자 및 그 제조방법 |
JP2014532360A (ja) * | 2011-10-05 | 2014-12-04 | サントル ナスィオナル ド ラ ルシェルシュ スィアンティフィク(セ.エン.エル.エス.) | 微細加工された垂直構造物に基づくバルク波共振器 |
CN110010755A (zh) * | 2019-03-13 | 2019-07-12 | 电子科技大学 | 具有缓冲层的单晶薄膜的制备方法、单晶薄膜及谐振器 |
CN110010755B (zh) * | 2019-03-13 | 2021-06-01 | 电子科技大学 | 具有缓冲层的单晶薄膜的制备方法、单晶薄膜及谐振器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3814443B2 (ja) | 2006-08-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100859086B1 (ko) | 벌크 음파 디바이스 및 그 설계 방법, 무선 주파수 대역 통과 필터, 무선 주파수 수신기 및 무선 주파수 송신기 | |
US6914368B2 (en) | Piezoelectric resonator, and piezoelectric filter, duplexer, and communication apparatus, all including same | |
US5453652A (en) | Surface acoustic wave device with interdigital transducers formed on a holding substrate thereof and a method of producing the same | |
KR100701771B1 (ko) | 표면탄성파 공진기, 필터, 듀플렉서, 통신 장치 및 표면탄성파 공진기의 제조방법 | |
KR20120023285A (ko) | 체적 음향 공진기 구조 및 제조 방법 | |
US7477115B2 (en) | Piezoelectric resonator, method of manufacturing piezoelectric resonator, and filter, duplexer, and communication device using piezoelectric resonator | |
JP2001203556A (ja) | 弾性表面波装置、弾性表面波フィルタ及び弾性表面波装置の製造方法 | |
US20230006650A1 (en) | High-frequency apparatus | |
JP4836748B2 (ja) | バルク音響波共振子及びフィルタ装置並びに通信装置 | |
JP2005277454A (ja) | 圧電共振器およびそれを備えた電子部品 | |
JP2004015079A (ja) | 圧電フィルタ、およびそれを有する電子部品 | |
JP2000332570A (ja) | 圧電共振子 | |
JP3814443B2 (ja) | バルク波素子とその製造方法及びこのバルク波素子を用いたバルク波装置 | |
JPH0832402A (ja) | 弾性表面波装置、移動無線機用分波器および移動無線装置 | |
Setiawan et al. | SH 1 Mode Plate Wave Resonator on LiTaO 3 Thin Plate with Phase Velocity over 13,000 m/s | |
JP2001345675A (ja) | 弾性表面波フィルタ | |
JP4711101B2 (ja) | 共振フィルタ、デュプレクサならびにこれらの特性調整方法 | |
WO2002101923A1 (fr) | Lame vibrante piezo-electrique et filtre utilisant cette derniere | |
US20240291464A1 (en) | Acoustic wave device and method for producing same | |
US20240356521A1 (en) | Acoustic wave device and method for producing same | |
JP2004032132A (ja) | 振動子、マイクロレゾネーター、弾性表面波素子、薄膜バルク振動子、電子機器およびそれらの製造方法 | |
JP4356151B2 (ja) | 圧電振動素子とその製造方法および圧電フィルタ | |
JP2002016477A (ja) | 弾性表面波装置 | |
CN117915250A (zh) | 用于热传输的声学谐振器盖子 | |
JP2001068965A (ja) | ラダー型フィルタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050428 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050920 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050928 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060530 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060605 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090609 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100609 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110609 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120609 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130609 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |