JP2001011015A - 酒石酸低級アルキルジエステルの製造法 - Google Patents
酒石酸低級アルキルジエステルの製造法Info
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】酒石酸を原料に用いて酒石酸低級アルキルエス
テルを製造する方法において、経済的に有利で、且つ２
量体等の不純物の副生を抑制した高純度酒石酸低級アル
キルジエステルの製造法を提供する。 【解決手段】酒石酸と低級アルコールを酸触媒存在下に
て酒石酸をジエステルに変換した後、酸触媒を３級アミ
ンや無機アルカリで中和してから濃縮する。
テルを製造する方法において、経済的に有利で、且つ２
量体等の不純物の副生を抑制した高純度酒石酸低級アル
キルジエステルの製造法を提供する。 【解決手段】酒石酸と低級アルコールを酸触媒存在下に
て酒石酸をジエステルに変換した後、酸触媒を３級アミ
ンや無機アルカリで中和してから濃縮する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、酒石酸低級アルキ
ルジエステルの効率的製造法に関するものである。
ルジエステルの効率的製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】酒石酸低級アルキルジエステルは農薬、
医薬の製造中間体や不斉触媒として有用である。酒石酸
低級アルキルジエステルは酒石酸と低級アルコールを酸
触媒存在下に反応させることで製造できる。反応は平衡
反応であるので、原理的には大量の脱水低級アルコール
を使用することで高収率で酒石酸低級アルキルジエステ
ルを製造できるが、過剰の低級アルコールを脱水処理し
てリサイクル使用するために煩雑な作業が必要となる。
大量の脱水低級アルキルアルコールを使用しない方法と
しては、オルト蟻酸エステルなどのエステル化剤を酸触
媒存在下で使用する（シンセティックコミニケーション
ズ（Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｎ．），１４，１０８７，（１
９８４））記載の方法、低級アルキルアルコールを酸触
媒の存在下反応させ、水と共沸する有機溶媒，例えばク
ロロホルムを共存させて副生する水を共沸濃縮で系外に
除去するヘルベチカ．ケミカ．アクタ（Ｈｅｌｖ．Ｃｈ
ｉｍ．Ａｃｔａ），６２，１７１０（１９７９））記載
の方法等が知られている。
医薬の製造中間体や不斉触媒として有用である。酒石酸
低級アルキルジエステルは酒石酸と低級アルコールを酸
触媒存在下に反応させることで製造できる。反応は平衡
反応であるので、原理的には大量の脱水低級アルコール
を使用することで高収率で酒石酸低級アルキルジエステ
ルを製造できるが、過剰の低級アルコールを脱水処理し
てリサイクル使用するために煩雑な作業が必要となる。
大量の脱水低級アルキルアルコールを使用しない方法と
しては、オルト蟻酸エステルなどのエステル化剤を酸触
媒存在下で使用する（シンセティックコミニケーション
ズ（Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｎ．），１４，１０８７，（１
９８４））記載の方法、低級アルキルアルコールを酸触
媒の存在下反応させ、水と共沸する有機溶媒，例えばク
ロロホルムを共存させて副生する水を共沸濃縮で系外に
除去するヘルベチカ．ケミカ．アクタ（Ｈｅｌｖ．Ｃｈ
ｉｍ．Ａｃｔａ），６２，１７１０（１９７９））記載
の方法等が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】オルト蟻酸エステルを
使用する方法は反応収率も高く、高純度酒石酸低級アル
キルジエステルを得る方法として優れているが、オルト
蟻酸エステルが高価であり、工業生産に使用するには価
格的に不利である。また、クロロホルムを使用して共沸
濃縮する方法は、クロロホルムが環境汚染する恐れがあ
り好ましくない。加えて、共沸濃縮の過程で酒石酸低級
アルキルジエステルの２量体等の副生物が増加し、収率
が低下すると同時に品質も低下する。
使用する方法は反応収率も高く、高純度酒石酸低級アル
キルジエステルを得る方法として優れているが、オルト
蟻酸エステルが高価であり、工業生産に使用するには価
格的に不利である。また、クロロホルムを使用して共沸
濃縮する方法は、クロロホルムが環境汚染する恐れがあ
り好ましくない。加えて、共沸濃縮の過程で酒石酸低級
アルキルジエステルの２量体等の副生物が増加し、収率
が低下すると同時に品質も低下する。
【０００４】本発明の目的は、経済的に有利で、かつ酒
石酸低級アルキルジエステルの２量体等の不純物の副生
を抑制した酒石酸低級アルキルジエステルの製造法を提
供することにある。更に、光学活性酒石酸を原料に使用
した場合には、光学純度を低下させること無く光学活性
酒石酸低級アルキルジエステルを製造する方法を提供す
ることにある。
石酸低級アルキルジエステルの２量体等の不純物の副生
を抑制した酒石酸低級アルキルジエステルの製造法を提
供することにある。更に、光学活性酒石酸を原料に使用
した場合には、光学純度を低下させること無く光学活性
酒石酸低級アルキルジエステルを製造する方法を提供す
ることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記目的を
達成するために鋭意研究を重ねた結果、穏和な条件で酒
石酸をエステル化反応した後、濃縮工程に先立って酸触
媒を不活性化させることで達成できることを見出し、本
発明を完成させた。
達成するために鋭意研究を重ねた結果、穏和な条件で酒
石酸をエステル化反応した後、濃縮工程に先立って酸触
媒を不活性化させることで達成できることを見出し、本
発明を完成させた。
【０００６】即ち、本発明は、「酒石酸および低級アル
コールを酸触媒存在下、エステル化させたのち、酸触媒
を不活性化してから濃縮することを特徴とする酒石酸低
級アルキルジエステルの製造法。」である。
コールを酸触媒存在下、エステル化させたのち、酸触媒
を不活性化してから濃縮することを特徴とする酒石酸低
級アルキルジエステルの製造法。」である。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の原料である酒石酸は、Ｌ
−酒石酸、Ｄ−酒石酸、ＤＬ−酒石酸、メソ−酒石酸の
何れでも使用することができる。
−酒石酸、Ｄ−酒石酸、ＤＬ−酒石酸、メソ−酒石酸の
何れでも使用することができる。
【０００８】もう一方の原料である低級アルコールは炭
素数４以下のアルキルアルコールが好ましく、不活性溶
媒で変性されたものも使用できる。具体的にはメタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソブタノール等で、
直鎖、或いは分岐状のアルキルアルコールである。エタ
ノールの場合には、トルエン等の酒石酸や低級アルコー
ルと反応しない不活性溶媒類を添加して変性されたもの
でも同様に使用できる。
素数４以下のアルキルアルコールが好ましく、不活性溶
媒で変性されたものも使用できる。具体的にはメタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソブタノール等で、
直鎖、或いは分岐状のアルキルアルコールである。エタ
ノールの場合には、トルエン等の酒石酸や低級アルコー
ルと反応しない不活性溶媒類を添加して変性されたもの
でも同様に使用できる。
【０００９】低級アルコールの使用量は酒石酸に対して
２〜３０倍モルが好ましく、さらに好ましくは２〜６倍
モルである。この範囲であれば経済効率も良好で、酒石
酸低級アルキルジエステルの収率も高い。
２〜３０倍モルが好ましく、さらに好ましくは２〜６倍
モルである。この範囲であれば経済効率も良好で、酒石
酸低級アルキルジエステルの収率も高い。
【００１０】エステル化反応で使用される酸触媒は、塩
酸や硫酸等の鉱酸類、ベンゼンスルホン酸、トルエンス
ルホン酸等の芳香族スルホン酸類、メタンスルホン酸等
の脂肪族スルホン酸類、また、Ｈ型の陽イオン交換樹
脂、例えばナフィオン（デュポン（株）製）、ダイアイ
オンＰＫ２０８（三菱化成（株）製）等が挙げられる。
酸触媒の使用量は酒石酸に対し０．００１〜１倍モルが
好ましく、さらに好ましくは０．００５〜０．１倍モル
である。
酸や硫酸等の鉱酸類、ベンゼンスルホン酸、トルエンス
ルホン酸等の芳香族スルホン酸類、メタンスルホン酸等
の脂肪族スルホン酸類、また、Ｈ型の陽イオン交換樹
脂、例えばナフィオン（デュポン（株）製）、ダイアイ
オンＰＫ２０８（三菱化成（株）製）等が挙げられる。
酸触媒の使用量は酒石酸に対し０．００１〜１倍モルが
好ましく、さらに好ましくは０．００５〜０．１倍モル
である。
【００１１】反応は酒石酸と低級アルコールを酸触媒の
存在下にて好ましくは加熱して進行させる。ここで、経
済効果を高めるためには低級アルコールの使用量は少な
い方が有利であり、低級アルコールの使用量は酒石酸１
モルに対し、２〜６モルが好ましい。この範囲で反応を
行うことで、経済的に、高純度の酒石酸低級アルキルジ
エステルを得ることが出来る。しかし、低級アルコール
の使用量が少ないと、スラリー濃度が高くなり、攪拌な
どに問題が生ずる場合があるので、反応を円滑に進行さ
せるために希釈剤を添加するのが好ましい。ここで添加
する希釈剤は、酒石酸や低級アルコールと反応せず、か
つ水と共沸する有機溶媒が好ましく使用できる。具体的
にはヘキサン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン等
の脂環式炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類が挙
げられる。
存在下にて好ましくは加熱して進行させる。ここで、経
済効果を高めるためには低級アルコールの使用量は少な
い方が有利であり、低級アルコールの使用量は酒石酸１
モルに対し、２〜６モルが好ましい。この範囲で反応を
行うことで、経済的に、高純度の酒石酸低級アルキルジ
エステルを得ることが出来る。しかし、低級アルコール
の使用量が少ないと、スラリー濃度が高くなり、攪拌な
どに問題が生ずる場合があるので、反応を円滑に進行さ
せるために希釈剤を添加するのが好ましい。ここで添加
する希釈剤は、酒石酸や低級アルコールと反応せず、か
つ水と共沸する有機溶媒が好ましく使用できる。具体的
にはヘキサン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン等
の脂環式炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類が挙
げられる。
【００１２】希釈剤の添加量は反応混合物が攪拌できる
スラリー濃度になる量でよく、低級アルコールの使用量
によって異なるが、通常は酒石酸に対して１〜２０倍重
量が好ましく、さらに好ましくは２〜１０倍重量であ
る。この範囲であれば、経済効率も良好で、作業性もよ
い。また、希釈剤は濃縮工程で使用してもよい。エステ
ル化反応終了後に過剰の低級アルコール、および副生し
た水を濃縮除去するのが好ましいが、濃縮工程での体積
変化を小さくすることで、反応缶の熱効率が低下して濃
縮時間が延長される問題や、局部加熱で酒石酸低級アル
キルジエステルの品質が低下する問題を防ぐことが出来
る。
スラリー濃度になる量でよく、低級アルコールの使用量
によって異なるが、通常は酒石酸に対して１〜２０倍重
量が好ましく、さらに好ましくは２〜１０倍重量であ
る。この範囲であれば、経済効率も良好で、作業性もよ
い。また、希釈剤は濃縮工程で使用してもよい。エステ
ル化反応終了後に過剰の低級アルコール、および副生し
た水を濃縮除去するのが好ましいが、濃縮工程での体積
変化を小さくすることで、反応缶の熱効率が低下して濃
縮時間が延長される問題や、局部加熱で酒石酸低級アル
キルジエステルの品質が低下する問題を防ぐことが出来
る。
【００１３】そこで、濃縮工程に於いて留出する低級ア
ルコール、水、および希釈剤の量に見合った希釈剤を系
中に添加すれば、共沸脱水効率を高めると同時に局部加
熱による品質低下を防止することができる。
ルコール、水、および希釈剤の量に見合った希釈剤を系
中に添加すれば、共沸脱水効率を高めると同時に局部加
熱による品質低下を防止することができる。
【００１４】エステル化の反応温度は３０〜１２０℃が
好ましく、さらに好ましくは５０〜９０℃である。この
範囲であれば不純物の副生量も少ない。
好ましく、さらに好ましくは５０〜９０℃である。この
範囲であれば不純物の副生量も少ない。
【００１５】反応時間は低級アルコール、酸触媒の種類
や使用量、反応温度によって異なるが、通常は０.５〜
２０時間が好ましく、さらに好ましくは１〜６時間であ
る。この範囲で反応させることで、副生物の生成量を抑
えることが出来る。
や使用量、反応温度によって異なるが、通常は０.５〜
２０時間が好ましく、さらに好ましくは１〜６時間であ
る。この範囲で反応させることで、副生物の生成量を抑
えることが出来る。
【００１６】エステル化反応後、酸触媒を不活性化して
から濃縮する。酸触媒を不活性化することなく濃縮を行
うと、濃縮の工程で、酒石酸低級アルキルジエステルの
２量体などの不純物が生成し、高純度の酒石酸低級アル
キルジエステルを得ることが出来ない。ここで、酸触媒
を不活性化するには３級アミンおよび／または無機アル
キルで中和するのが好ましい。３級アミンとしては、ト
リエチルアミン等のトリアルキルアミンが使用できる。
また、無機アルカリとしてアルカリ金属やアルカリ土類
金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩等が使用できる。例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カル
シウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げら
れる。反応系に添加する際には、固体でも、或いは使用
した低級アルコールや希釈剤、水に溶解させたものでも
使用できる。使用量は系中の酸触媒に対し０．９〜１．
５当量が好ましく、さらに好ましくは１．０〜１．２当
量である。この範囲で添加することで、酒石酸低級ジア
ルキルエステルの収率を高め、純度を向上させることが
出来る。
から濃縮する。酸触媒を不活性化することなく濃縮を行
うと、濃縮の工程で、酒石酸低級アルキルジエステルの
２量体などの不純物が生成し、高純度の酒石酸低級アル
キルジエステルを得ることが出来ない。ここで、酸触媒
を不活性化するには３級アミンおよび／または無機アル
キルで中和するのが好ましい。３級アミンとしては、ト
リエチルアミン等のトリアルキルアミンが使用できる。
また、無機アルカリとしてアルカリ金属やアルカリ土類
金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩等が使用できる。例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カル
シウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げら
れる。反応系に添加する際には、固体でも、或いは使用
した低級アルコールや希釈剤、水に溶解させたものでも
使用できる。使用量は系中の酸触媒に対し０．９〜１．
５当量が好ましく、さらに好ましくは１．０〜１．２当
量である。この範囲で添加することで、酒石酸低級ジア
ルキルエステルの収率を高め、純度を向上させることが
出来る。
【００１７】また、濃縮は、酒石酸とも低級アルコール
とも反応せず、かつ水と共沸する有機溶媒を用いて共沸
濃縮をするのが好ましい。共沸濃縮をすることで、不純
物の生成を低減することが出来る。
とも反応せず、かつ水と共沸する有機溶媒を用いて共沸
濃縮をするのが好ましい。共沸濃縮をすることで、不純
物の生成を低減することが出来る。
【００１８】低級アルコール使用量を少なく、時間を短
く、収率を高く、かつ酒石酸低級アルキルジエステルの
２量体等の副生物を少なくするには、エステル化工程、
中和工程、共沸濃縮工程を繰り返す方法が好ましい。具
体的には、たとえば、酒石酸に対して低級アルコールを
２倍モル（カルボキシル基に対しては等モル）、希釈剤
を４倍重量、酸触媒０．０３倍モルを混合し、７０〜８
０℃で１〜２時間反応させると平衡組成（カルボキシル
基転化率 約６０〜７０％）に達する。ここで、酸触媒
を中和してから、副生水、未反応低級アルコール、希釈
剤を濃縮して系中の遊離水を除去するが、系内溶液量が
大きく変化しないよう希釈剤を添加しながら濃縮するの
が好ましい。次いで、低級アルコール、酸触媒を再度添
加し、同様に１〜２時間反応させて平衡組成としてか
ら、触媒中和、濃縮を繰り返すことで、合計のエステル
化反応時間が短縮できる。通常は、３〜４回繰り返すこ
とでほぼ定量的に酒石酸低級アルキルジエステルを合成
することができる。このような繰り返し反応方法を採用
すると、低級アルコール使用量が少なく、副生物生成を
抑制でき、かつ酒石酸低級アルキルジエステルの収率も
向上する。
く、収率を高く、かつ酒石酸低級アルキルジエステルの
２量体等の副生物を少なくするには、エステル化工程、
中和工程、共沸濃縮工程を繰り返す方法が好ましい。具
体的には、たとえば、酒石酸に対して低級アルコールを
２倍モル（カルボキシル基に対しては等モル）、希釈剤
を４倍重量、酸触媒０．０３倍モルを混合し、７０〜８
０℃で１〜２時間反応させると平衡組成（カルボキシル
基転化率 約６０〜７０％）に達する。ここで、酸触媒
を中和してから、副生水、未反応低級アルコール、希釈
剤を濃縮して系中の遊離水を除去するが、系内溶液量が
大きく変化しないよう希釈剤を添加しながら濃縮するの
が好ましい。次いで、低級アルコール、酸触媒を再度添
加し、同様に１〜２時間反応させて平衡組成としてか
ら、触媒中和、濃縮を繰り返すことで、合計のエステル
化反応時間が短縮できる。通常は、３〜４回繰り返すこ
とでほぼ定量的に酒石酸低級アルキルジエステルを合成
することができる。このような繰り返し反応方法を採用
すると、低級アルコール使用量が少なく、副生物生成を
抑制でき、かつ酒石酸低級アルキルジエステルの収率も
向上する。
【００１９】本発明法において、反応、中和、濃縮操作
を数回繰り返して得た反応液から、酒石酸低級アルキル
ジエステルを単離するには、通常の方法が採用できる。
例えば濃縮液に水を加えて極僅かに残留した酒石酸や酒
石酸低級アルキルモノエステル、中和塩等を水層に移行
させ、希釈剤溶液を濃縮することにより、目的とする酒
石酸低級アルキルジエステルを単離することができる。
或いは、真空蒸留で精製することもできる。
を数回繰り返して得た反応液から、酒石酸低級アルキル
ジエステルを単離するには、通常の方法が採用できる。
例えば濃縮液に水を加えて極僅かに残留した酒石酸や酒
石酸低級アルキルモノエステル、中和塩等を水層に移行
させ、希釈剤溶液を濃縮することにより、目的とする酒
石酸低級アルキルジエステルを単離することができる。
或いは、真空蒸留で精製することもできる。
【００２０】
【実施例】次に、本発明を実施例等にて具体的に説明す
る。尚、酒石酸低級アルキルジエステルの純度分析は下
記のキャピラリーガスクロマトグラフィーで実施した。 使用機器：島津ＧＣ−１４Ｂ カラム：ＴＣ−１７（ＧＬサイエンス（株）製）直径
０．５３ｍｍ×１５ｍ カラム温度：５０〜２８０℃（１０℃／分の割合で昇温
した） 注入および検出温度：２５０℃ 検出法：ＦＩＤ キャリアーガスおよびカラム圧：ヘリウムガス、６０ｋ
Ｐａ スプリット流量：１００ｍｌ／ｍｉｎ 実施例１ 温度計、コンデンサー、滴下ロート、撹拌機を装着した
１Ｌ三ッ口フラスコに、Ｄ−酒石酸（東レ（株）製、光
学純度９９．９％ｅｅ以上）１２０．１ｇ（０．８モ
ル）、エタノール（片山化学（株）製、特級試薬）７
３．７ｇ（１．６モル）、トルエン（片山化学（株）
製、１級試薬）４３２．３ｇを加え攪拌した。これに、
塩化水素ガスをエタノールに吹き込み調製した１０％塩
化水素エタノール溶液８．８ｇ（塩化水素０．０２４モ
ル）を加え、２時間８０℃下で加熱した。次いで苛性ソ
ーダ（片山化学（株）製、１級試薬）を水に溶解させ調
整した４８％苛性ソーダ水溶液２．０ｇ（苛性ソーダ
０．０２４モル）を加えた後、単蒸留装置を装着し、滴
下ロートによりトルエン１８０．１ｇを加えながら、減
圧下でフラスコ中の水とエタノールをトルエンとともに
７０℃下で留出させた。水、エタノール、トルエンの混
合物約２４０ｇを留出させた後、エタノール７３．７ｇ
（１．６モル）、１０％塩化水素エタノール溶液４．４
ｇ（塩化水素０．０１２モル）を加え、２時間８０℃下
で加熱した。次いで４８％苛性ソーダ水溶液１．０ｇ
（苛性ソーダ０．０１２モル）を加えた後、滴下ロート
によりトルエン１２０．１ｇを加えながら、減圧下でフ
ラスコの中の水とエタノールをトルエンとともに７０℃
下で蒸発させた。水、エタノール、トルエンの混合物約
１４５ｇを留出させた後、エタノール３６．９ｇ（０．
８モル）、１０％塩化水素エタノール溶液４．４ｇ（塩
化水素０．０１２モル）を加え、２時間８０℃下で加熱
した。次いで４８％苛性ソーダ水溶液１．０ｇ（苛性ソ
ーダ０．０１２モル）を加えた後、滴下ロートによりト
ルエン７２．０ｇを加えながら、減圧下でフラスコの中
の水とエタノールをトルエンとともに７０℃下で蒸発さ
せ、水、エタノール、トルエンの混合物約１０８ｇを留
出させた。反応液を３５℃以下まで放冷し、炭酸水素ナ
トリウム（片山化学（株）製、１級試薬）６．７ｇ
（０．０８モル）、塩化ナトリウム（片山化学（株）
製、１級試薬）を水に溶解させ調整した８％食塩水３３
ｇを反応液に加え、良く撹拌した後、有機層を分取し
た。有機層は再度飽和食塩水３３ｇで２回洗浄を行っ
た。分離した水層はトルエン３５０ｇで再度抽出を行
い、先の分取した有機層に加えた。ついで有機層を減圧
下、４０℃下で濃縮乾固し、溶媒を留去した後、ろ過し
てＤ−酒石酸ジエチルエステル１４０．５ｇを得た。取
得したＤ−酒石酸ジエチルエステル中の２量体等の不純
物は０．４％で、仕込みＤ−酒石酸に対するＤ−酒石酸
ジエチルエステルの収率は８５％であった。また、光学
純度は９９．９％ｅｅ以上で光学純度は低下していなか
った。
る。尚、酒石酸低級アルキルジエステルの純度分析は下
記のキャピラリーガスクロマトグラフィーで実施した。 使用機器：島津ＧＣ−１４Ｂ カラム：ＴＣ−１７（ＧＬサイエンス（株）製）直径
０．５３ｍｍ×１５ｍ カラム温度：５０〜２８０℃（１０℃／分の割合で昇温
した） 注入および検出温度：２５０℃ 検出法：ＦＩＤ キャリアーガスおよびカラム圧：ヘリウムガス、６０ｋ
Ｐａ スプリット流量：１００ｍｌ／ｍｉｎ 実施例１ 温度計、コンデンサー、滴下ロート、撹拌機を装着した
１Ｌ三ッ口フラスコに、Ｄ−酒石酸（東レ（株）製、光
学純度９９．９％ｅｅ以上）１２０．１ｇ（０．８モ
ル）、エタノール（片山化学（株）製、特級試薬）７
３．７ｇ（１．６モル）、トルエン（片山化学（株）
製、１級試薬）４３２．３ｇを加え攪拌した。これに、
塩化水素ガスをエタノールに吹き込み調製した１０％塩
化水素エタノール溶液８．８ｇ（塩化水素０．０２４モ
ル）を加え、２時間８０℃下で加熱した。次いで苛性ソ
ーダ（片山化学（株）製、１級試薬）を水に溶解させ調
整した４８％苛性ソーダ水溶液２．０ｇ（苛性ソーダ
０．０２４モル）を加えた後、単蒸留装置を装着し、滴
下ロートによりトルエン１８０．１ｇを加えながら、減
圧下でフラスコ中の水とエタノールをトルエンとともに
７０℃下で留出させた。水、エタノール、トルエンの混
合物約２４０ｇを留出させた後、エタノール７３．７ｇ
（１．６モル）、１０％塩化水素エタノール溶液４．４
ｇ（塩化水素０．０１２モル）を加え、２時間８０℃下
で加熱した。次いで４８％苛性ソーダ水溶液１．０ｇ
（苛性ソーダ０．０１２モル）を加えた後、滴下ロート
によりトルエン１２０．１ｇを加えながら、減圧下でフ
ラスコの中の水とエタノールをトルエンとともに７０℃
下で蒸発させた。水、エタノール、トルエンの混合物約
１４５ｇを留出させた後、エタノール３６．９ｇ（０．
８モル）、１０％塩化水素エタノール溶液４．４ｇ（塩
化水素０．０１２モル）を加え、２時間８０℃下で加熱
した。次いで４８％苛性ソーダ水溶液１．０ｇ（苛性ソ
ーダ０．０１２モル）を加えた後、滴下ロートによりト
ルエン７２．０ｇを加えながら、減圧下でフラスコの中
の水とエタノールをトルエンとともに７０℃下で蒸発さ
せ、水、エタノール、トルエンの混合物約１０８ｇを留
出させた。反応液を３５℃以下まで放冷し、炭酸水素ナ
トリウム（片山化学（株）製、１級試薬）６．７ｇ
（０．０８モル）、塩化ナトリウム（片山化学（株）
製、１級試薬）を水に溶解させ調整した８％食塩水３３
ｇを反応液に加え、良く撹拌した後、有機層を分取し
た。有機層は再度飽和食塩水３３ｇで２回洗浄を行っ
た。分離した水層はトルエン３５０ｇで再度抽出を行
い、先の分取した有機層に加えた。ついで有機層を減圧
下、４０℃下で濃縮乾固し、溶媒を留去した後、ろ過し
てＤ−酒石酸ジエチルエステル１４０．５ｇを得た。取
得したＤ−酒石酸ジエチルエステル中の２量体等の不純
物は０．４％で、仕込みＤ−酒石酸に対するＤ−酒石酸
ジエチルエステルの収率は８５％であった。また、光学
純度は９９．９％ｅｅ以上で光学純度は低下していなか
った。
【００２１】実施例２ 実施例１の方法においてエタノールの添加を、７３．７
ｇ（反応１回目）／３６．９（反応２回目）／３６．９
ｇ（反応３回目）とし、Ｄ−酒石酸をＬ−酒石酸（片山
化学（株）製、特級試薬、光学純度９９．５％ｅｅ以
上）とした以外は同様の操作を行い、Ｌ−酒石酸ジエチ
ルエステル１３９．４ｇを得た。取得したＬ−酒石酸ジ
エチルエステル中の２量体等の不純物は０．５％で、仕
込みＬ−酒石酸に対するＬ−酒石酸ジエチルエステルの
収率は８３％であった。また、光学純度は９９．５％ｅ
ｅ以上で光学純度は低下していなかった。
ｇ（反応１回目）／３６．９（反応２回目）／３６．９
ｇ（反応３回目）とし、Ｄ−酒石酸をＬ−酒石酸（片山
化学（株）製、特級試薬、光学純度９９．５％ｅｅ以
上）とした以外は同様の操作を行い、Ｌ−酒石酸ジエチ
ルエステル１３９．４ｇを得た。取得したＬ−酒石酸ジ
エチルエステル中の２量体等の不純物は０．５％で、仕
込みＬ−酒石酸に対するＬ−酒石酸ジエチルエステルの
収率は８３％であった。また、光学純度は９９．５％ｅ
ｅ以上で光学純度は低下していなかった。
【００２２】実施例３ 実施例１の方法においてエタノールの添加を、７３．７
ｇ（反応１回目）／３６．９（反応２回目）とし、３回
目の反応を行わなかった以外は同様の操作を行い、Ｄ−
酒石酸ジエチルエステル１０７．４ｇを得た。取得した
Ｄ−酒石酸ジエチルエステル中の２量体等の不純物は
０．２％で、仕込みＤ−酒石酸に対するＤ−酒石酸ジエ
チルエステルの収率は６５％であった。また、光学純度
は９９．９％ｅｅ以上で光学純度は低下していなかっ
た。
ｇ（反応１回目）／３６．９（反応２回目）とし、３回
目の反応を行わなかった以外は同様の操作を行い、Ｄ−
酒石酸ジエチルエステル１０７．４ｇを得た。取得した
Ｄ−酒石酸ジエチルエステル中の２量体等の不純物は
０．２％で、仕込みＤ−酒石酸に対するＤ−酒石酸ジエ
チルエステルの収率は６５％であった。また、光学純度
は９９．９％ｅｅ以上で光学純度は低下していなかっ
た。
【００２３】実施例４ 実施例１の方法においてエタノールの代わりに２−プロ
パノール（片山化学（株）製、１級試薬）を使用し、添
加量を、９６．０ｇ（反応１回目）／４８．０（反応２
回目）／９６．０ｇ（反応３回目）とした以外は同様の
操作を行い、Ｄ−酒石酸ジイソプロピルエステル１５
７．８ｇを得た。取得したＤ−酒石酸ジイソプロピルエ
ステル中の２量体等の不純物は０．３％で仕込みＤ−酒
石酸に対するＤ−酒石酸ジイソプロピルエステルの収率
は８４％であった。また、光学純度は９９．９％ｅｅ以
上で光学純度は低下していなかった。
パノール（片山化学（株）製、１級試薬）を使用し、添
加量を、９６．０ｇ（反応１回目）／４８．０（反応２
回目）／９６．０ｇ（反応３回目）とした以外は同様の
操作を行い、Ｄ−酒石酸ジイソプロピルエステル１５
７．８ｇを得た。取得したＤ−酒石酸ジイソプロピルエ
ステル中の２量体等の不純物は０．３％で仕込みＤ−酒
石酸に対するＤ−酒石酸ジイソプロピルエステルの収率
は８４％であった。また、光学純度は９９．９％ｅｅ以
上で光学純度は低下していなかった。
【００２４】比較例 実施例１の方法において苛性ソーダ水溶液の添加をなく
した以外は同様の操作を行い、Ｄ−酒石酸ジエチルエス
テル１３９．５ｇを得た。取得したＤ−酒石酸ジエチル
エステル中の２量体等の不純物は１．６％と多く、仕込
みＤ−酒石酸に対するＤ−酒石酸ジエチルエステルの収
率は８３％であった。また、光学純度は９９．９％ｅｅ
以上で光学純度は低下していなかった。
した以外は同様の操作を行い、Ｄ−酒石酸ジエチルエス
テル１３９．５ｇを得た。取得したＤ−酒石酸ジエチル
エステル中の２量体等の不純物は１．６％と多く、仕込
みＤ−酒石酸に対するＤ−酒石酸ジエチルエステルの収
率は８３％であった。また、光学純度は９９．９％ｅｅ
以上で光学純度は低下していなかった。
【００２５】
【発明の効果】酒石酸低級アルキルジエステルを製造す
るに際し、酒石酸と低級アルコールを酸触媒存在下にて
加熱してエステル化させたのち、酸触媒を不活性化して
から濃縮することで、２量体等の不純物の副生を抑制
し、かつ使用するアルコールを最小限に抑え、高収率で
高純度の酒石酸低級アルキルジエステルを製造できる。
るに際し、酒石酸と低級アルコールを酸触媒存在下にて
加熱してエステル化させたのち、酸触媒を不活性化して
から濃縮することで、２量体等の不純物の副生を抑制
し、かつ使用するアルコールを最小限に抑え、高収率で
高純度の酒石酸低級アルキルジエステルを製造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (6)
- 【請求項１】酒石酸および低級アルコールを酸触媒存在
下、エステル化させたのち、酸触媒を不活性化してから
濃縮することを特徴とする酒石酸低級アルキルジエステ
ルの製造法。 - 【請求項２】酒石酸および低級アルコールを酸触媒存在
下、エステル化する工程、酸触媒を不活性化する工程、
系中の副生水を除去する濃縮工程を繰り返すことを特徴
とする請求項１記載の酒石酸低級アルキルジエステルの
製造法。 - 【請求項３】系内の副生水を除去する際に、酒石酸とも
低級アルコールとも反応せず、かつ水と共沸する有機溶
媒を用いることを特徴とする請求項１または２記載の酒
石酸低級アルキルジエステルの製造法。 - 【請求項４】低級アルコールの使用量が酒石酸１モルに
対し、２〜６モルであり、酒石酸とも低級アルコールと
も反応せず、かつ水と共沸する有機溶媒を希釈剤として
用いることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記
載の酒石酸低級アルキルジエステルの製造法。 - 【請求項５】酸触媒を不活性化する手段が、３級アミン
および／または無機アルカリの添加による酸触媒の中和
であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記
載の酒石酸低級アルキルジエステルの製造法。 - 【請求項６】酒石酸が光学活性体である請求項１〜５の
いずれか１項記載の酒石酸低級アルキルジエステルの製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11181195A JP2001011015A (ja) | 1999-06-28 | 1999-06-28 | 酒石酸低級アルキルジエステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11181195A JP2001011015A (ja) | 1999-06-28 | 1999-06-28 | 酒石酸低級アルキルジエステルの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001011015A true JP2001011015A (ja) | 2001-01-16 |
Family
ID=16096519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11181195A Pending JP2001011015A (ja) | 1999-06-28 | 1999-06-28 | 酒石酸低級アルキルジエステルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001011015A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008308451A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Kawasaki Kasei Chem Ltd | リンゴ酸ジアルキルエステル及びその製造方法 |
| CN104003883A (zh) * | 2013-02-26 | 2014-08-27 | 东丽精细化工株式会社 | 高纯度酒石酸二烷基酯的制造方法 |
| JP2014169233A (ja) * | 2013-03-01 | 2014-09-18 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | 高純度光学活性酒石酸ジアルキルエステルの製造方法 |
-
1999
- 1999-06-28 JP JP11181195A patent/JP2001011015A/ja active Pending
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| JPN6009004195, Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ, 1984, Ｖｏｌ． ４０， Ｎｏ． ２２, ４６１７−４６２３ * |
| JPN6009004198, 実験化学講座２２ 有機合成ＩＶ−酸・アミノ酸・ペプチド−, 19921130, 第４版, ４３−４７頁, JP, 丸善株式会社 * |
| JPN6009004200, Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｓｃｉｅｎｃｅ, 1994, Ｖｏｌ． ４９， Ｎｏ．２４Ａ, ４６８１−４６８９ * |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008308451A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Kawasaki Kasei Chem Ltd | リンゴ酸ジアルキルエステル及びその製造方法 |
| CN104003883A (zh) * | 2013-02-26 | 2014-08-27 | 东丽精细化工株式会社 | 高纯度酒石酸二烷基酯的制造方法 |
| CN104003883B (zh) * | 2013-02-26 | 2016-08-17 | 东丽精细化工株式会社 | 高纯度酒石酸二烷基酯的制造方法 |
| JP2014169233A (ja) * | 2013-03-01 | 2014-09-18 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | 高純度光学活性酒石酸ジアルキルエステルの製造方法 |
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