JP2001010877A - 光触媒コーティング組成物及びその製造方法 - Google Patents

光触媒コーティング組成物及びその製造方法

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JP2001010877A JP11174425A JP17442599A JP2001010877A JP 2001010877 A JP2001010877 A JP 2001010877A JP 11174425 A JP11174425 A JP 11174425A JP 17442599 A JP17442599 A JP 17442599A JP 2001010877 A JP2001010877 A JP 2001010877A
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photocatalytic
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colloidal silica
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Koji Ono
宏次 大野
Mitsumasa Saito
光正 斎藤
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Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
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    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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    • C04B20/10Coating or impregnating
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光触媒活性、分散安定性に優れることは勿
論のこと、常温で容易に、かつ薄膜状に下地材に塗工で
き、しかも透明性の高い光触媒コーティング膜を形成し
て下地材の意匠性を低下させることがない光触媒コーテ
ィング組成物及びその製造方法を提供することを課題と
する。 【解決手段】 光触媒コーティング組成物は、シリカ
により表面処理されて中性〜アルカリ性の下で解膠安定
化させた光触媒微粒子と、コロイダルシリカと、水とを
少なくとも含むように構成し、その製造方法は、光触媒
微粒子と、コロイダルシリカと、水との混合物に、 0〜
1000ppmのNH3 または水溶性有機アミンを添加、ま
たは添加することなく中性〜アルカリ性に調整し、解砕
力を加えて解膠分散し、前記光触媒微粒子の表面処理と
分散安定化を同時に行うようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、分散安定性が高
く、透明性の高い光触媒コーティング膜を形成すること
ができる光触媒コーティング組成物及びその簡便な製造
方法に関し、詳しくは、コンクリート、モルタル等のセ
メント系下地材に常温下で塗工でき、しかも、このセメ
ント系下地材の意匠性を損なうことのない光触媒コーテ
ィング組成物及びその簡便かつ安価な製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】TiO2 に代表される光半導体からなる
光触媒は、励起波長よりも短波長の光を受けると有機物
や窒素酸化物、硫黄酸化物等の大気汚染物質を酸化分解
する光触媒活性を示すことが知られている。
【0003】そして、この光触媒活性を利用して、コン
クリート、モルタル等のセメント系材料にセルフクリー
ニング、大気浄化等の機能を付与する方法として、 光触媒微粒子がテトラアルコキシシランの加水分解
物のような無機バインダーに分散した光触媒塗料をコン
クリート、モルタル等のセメント系下地剤に塗工する方
法、 光触媒微粒子が混入された各種セメントを水と混練
し、この混練物をコンクリート、モルタル等のセメント
系下地材に塗工する方法、が知られている。
【0004】〔問題点〕しかしながら、前記の方法
は、アルコール等の有機溶剤を主溶媒とすることが避け
られず、吸入による中毒や爆発等の危険性が高くなり、
また、通常、加水分解触媒として用いられている酸のた
めにセメント系下地材の中性化を促進し、セメント系下
地材を劣化させるという問題点があった。
【0005】また、前記の方法は、セメントの水和反
応硬化時に光触媒微粒子がセメントの水和生成物中に取
り込まれやすく、添加量の割には光触媒活性はほとんど
発現しないため、大量の光触媒微粒子が必要となり、ま
た、薄膜状に塗工することが困難なため、光のエネルギ
ーが届かない深部にまで光触媒微粒子材料を使用するこ
ととなり無駄が多く、しかも、不透明であるために既存
の下地材の意匠性を損なうという問題点があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
における上記問題点に鑑みてなされたものであり、この
問題点を解決するため具体的に設定した課題は、光触媒
活性、分散安定性に優れることは勿論のこと、常温で容
易に、かつ薄膜状に下地材に塗工でき、しかも透明性の
高い光触媒コーティング膜を形成して下地材の意匠性を
低下させることがない光触媒コーティング組成物及びそ
の製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、光触媒微粒子
表面をシリカ処理することで、光触媒活性に悪影響を及
ぼす有機系界面活性剤を用いずに、中性〜アルカリ性の
下で光触媒微粒子を解膠分散可能であることを見い出
し、本発明を完成した。
【0008】即ち、本発明の請求項1に係る光触媒コー
ティング組成物は、シリカにより表面処理されて中性〜
アルカリ性の下で解膠安定化させた光触媒微粒子と、コ
ロイダルシリカと、水とを少なくとも含むことを特徴と
するものである。
【0009】そして、請求項2に係る光触媒コーティン
グ組成物は、前記光触媒微粒子の平均分散粒子径は 300
nm以下、前記コロイダルシリカの平均分散粒子径は 3
00nm以下であることを特徴とする。
【0010】更に、請求項3に係る光触媒コーティング
組成物は、前記光触媒微粒子の平均分散粒子径は 100n
m以下、前記コロイダルシリカの平均分散粒子径は 100
nm以下であることを特徴とする。
【0011】また、請求項4に係る光触媒コーティング
組成物は、光触媒微粒子と、コロイダルシリカと、水と
の混合物に、 0〜1000ppmのNH3 または水溶性有機
アミンを添加、または添加することなく中性〜アルカリ
性に調整し、解砕力を加えて解膠分散し、前記光触媒微
粒子の表面処理と分散安定化を同時に行うことを特徴と
する光触媒コーティング組成物の製造方法を提供する。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳述
する。ただし、この実施の形態は、発明の主旨をより良
く理解させるため具体的に説明するものであり、特に指
定のない限り、発明内容を限定するものではない。
【0013】〔光触媒コーティング組成物〕実施の形態
における光触媒コーティング組成物は、シリカにより表
面処理されて中性〜アルカリ性の下で解膠安定化させた
光触媒微粒子(好ましくは平均分散粒子径が 300nm以
下、より好ましくは平均分散粒子径が 100nm以下の光
触媒微粒子)と、コロイダルシリカ(好ましくは平均分
散粒子径が 300nm以下、より好ましくは 100nm以下
のコロイダルシリカ)とを少なくとも含んでいる。
【0014】ここに、シリカにより表面処理された光触
媒微粒子、特に平均分散粒子径が 300nm以下のそれ
は、中性〜アルカリ性の下でのシリカの表面電荷反発だ
けで解膠分散可能であり、平均分散粒子径が 300nmよ
り小さいと光触媒微粒子がより分散安定化がされて好ま
しい。また、シリカにより表面処理された光触媒微粒子
の平均分散粒子径が 100nmよりも小さいと、可視光線
の散乱を抑えることができるため、より透明な光触媒コ
ーティング膜を得ることができる。
【0015】一方、前記の水性コロイダルシリカは、セ
メント中のCaイオンと反応しケイ酸カルシウムを生成
し、このケイ酸カルシウムの生成を利用してセメント系
下地材の細孔封止が可能となり、例えばセメント系下地
材の中性化が抑制される。
【0016】このコロイダルシリカの平均分散粒子径は
300nm以下、より好ましくは 100nm以下が望まし
い。平均分散粒子径が 300nmより大きいと光触媒微粒
子と同様に沈降が生じやすいばかりか、反応性が低く、
得られる光触媒コーティング膜から光触媒微粒子及びシ
リカ微粒子の脱落が起きやすくなり、光触媒コーティン
グ膜の耐久性が低下する虞がある。また、平均分散粒子
径を 100nm以下とすると、可視光線の散乱を抑えるこ
とができ、より透明な光触媒コーティング膜を得ること
ができる。
【0017】〔製造方法〕本発明の光触媒コーティング
組成物は、例えば、次の方法により製造することができ
る。即ち、未処理の光触媒微粒子と、コロイダルシリカ
と、水との混合物に、必要に応じてpH調整剤を加え、
ボールミル、サンドミル等の分散機を用いて混合し、高
い解砕力を加えることにより、光触媒微粒子の表面処
理、解膠分散、安定化を同時に達成することにより、本
発明の光触媒コーティング組成物を1工程で製造するこ
とができる。
【0018】ここに、前記の光触媒微粒子及び前記のコ
ロイダルシリカの平均一次粒子径は、前記の処理により
光触媒微粒子を解膠分散可能であれば特に制限されない
が、それぞれ 300nm以下のものを用いるのが、得られ
る光触媒コーティング組成物が分散安定性、光触媒活性
等に優れるので好ましい。
【0019】前記のpHの調整にはNH3 及び/又は水
溶性有機アミンか、より好ましくはNH3 を用いる。添
加量は 0( 0を含む)〜 1000 ppmとし、より好まし
くは100〜 1000 ppmとする。Na、Kのような金属
を含むアルカリはセメント系下地材の劣化の原因となる
ばかりか、光触媒活性にも悪影響を及ぼすので好ましく
ない。水溶性有機アミンを用いることは可能であるが、
その場合、該有機アミンが分解するか降雨により流れ落
ちるまで十分な光触媒活性が発現しない。
【0020】pH調整剤の添加量が 100ppm以下の場
合はシリカの表面電荷による反発が小さく、凝集・沈降
を起こすため、光触媒微粒子の濃度をあまり高くできな
い。一方、pH調整剤の添加量が 1000 ppmを超えて
も無駄になるばかりか、臭気が立ち込めて不快である。
【0021】この光触媒微粒子の表面処理、解膠分散、
安定化を1工程で同時に達成することができる理由は、
必ずしも明確ではないが、次のように考えられる。即
ち、コロイダルシリカの表面は通常活性が高く、そのた
め、他の粒子に対しても吸着しやすい。一方、ミル中で
高い解砕力を受けた光触媒微粒子は、粉砕され、やはり
活性の高い新生表面を生じると考えられる。そのため、
通常はこの新生表面の活性のために、粉砕された微粒子
は再凝集を起こす。
【0022】しかしながら、実施の形態における光触媒
コーティング組成物の製造方法によれば、シリカがコロ
イド状態で安定化されている条件では、コロイダルシリ
カと反応した光触媒微粒子は、シリカ表面の電荷反発に
より再凝集が阻まれるため、分散安定化が実現される。
この表面処理は必ずしも強固なものではないが分散状態
を安定化するには十分であり、且つ、最終的にセメント
中のCaイオンと反応し、塗膜が硬化した際には十分な
強度を有するものとなる。
【0023】
【実施例】以下、実施例及び比較例を具体的に説明す
る。 〔実施例1〕平均一次粒子径 7nmのアナターゼ型Ti
2 微粒子(石原産業 (株) 製、ST− 01 ) 10 重量
部、平均一次粒子径 15 nmの水性コロイダルシリカ
(日産化学 (株) 製、スノーテックスN) 10 重量部
(SiO2 固形分換算) に 300ppm相当のNH3 と水
を加え、全量を 100重量部とした混合物と、1mm径の
ガラスビーズ 100重量部とをボールミルに入れ 24 時間
混合分散して解膠した後、ガラスビーズを除去して、実
施例1の光触媒コーティング組成物を得た。
【0024】〔実施例2〕水性コロイダルシリカとし
て、平均一次粒子径 350nmの水性コロイダルシリカ
(日産化学 (株) 製、試供品MP− 3040 )を用いた他
は実施例1に準じて、実施例2の光触媒コーティング組
成物を得た。
【0025】〔比較例〕実施例1に用いたアナターゼ型
TiO2 微粒子 20 重量部と、ポリカルボン酸系界面活
性剤1重量部と、水 79 重量部とを混合した混合物と、
1 mm径ガラスビーズ100 重量部とをボールミルに入れ
24 時間混合分散し、ガラスビーズを除去して得られた
分散液に、平均一次粒子径 15 nmの水性コロイダルシ
リカを混合し、比較例の光触媒コーティング組成物を得
た。
【0026】〔評価〕前記実施例1〜2、比較例の光触
媒コーティング組成物を以下の項目について評価した。 光触媒コーティング組成物の安定性、 得られる光触媒コーティング膜の透明性、 得られる光触媒コーティング膜の光触媒活性及びそ
の耐久性
【0027】「光触媒コーティング組成物の安定性」得
られた光触媒コーティング組成物 50 mlを 50 ml沈
降管に入れ静置し、上澄み部の経時変化を観察した。そ
の結果を表1に示した。
【0028】
【表1】
【0029】「得られる光触媒コーティング膜の透明
性」得られた光触媒コーティング組成物をコンクリート
ブロックの表面に固形分換算で2g/m2 となるように
室温下でスプレー塗工し、明度の変化を東京電色 (株)
製カラーアナライザーTC− 1800 mKIIを用い、JIS
Z 8722に規定の反射法により測定した。その結果を表2
に示した。
【0030】
【表2】
【0031】「得られる光触媒コーティング膜の光触媒
活性、及びその耐久性」得られた光触媒コーティング組
成物を白色モルタル板の表面に固形分換算で2g/m2
となるように室温下でローラー塗工した後、 JIS K 5400に準じたサンシャインウェザーリング
(1000時間)、または JIS A 6909に準じた温冷繰り返し負荷( 20 回)、
を施して光触媒コーティング膜付き試験片とした。
【0032】また、初期サンプルとして前記のいずれの
処置も施されていない光触媒コーティング膜付き試験片
を、光触媒無し試験片として水性コロイダルシリカのみ
を前記白色モルタル板上に塗工した試験片を、参照用の
試験片として準備した。そして、これらの試験片上にマ
ゼンタ色素を一定量塗布し、ブラックライト(2.4mW
/cm2 、λ= 350nm)を用いて紫外線を照射し、マ
ゼンタ色素の分解を色空間座標a値の変化で測定した。
その結果を図1,2,3に示す。
【0033】「評価結果」表1の結果より、実施例1,
2の光触媒コーティング組成物は十分な分散安定性を備
えていることが判明した。また、表2の結果より、実施
例の光触媒コーティング組成物は、比較例と同様、ほと
んど明度の変化は認められなかった。更に、図1,2,
3の結果より、実施例の光触媒コーティング組成物によ
り形成された光触媒コーティング膜では良好な光触媒活
性の耐久性が認められたが、比較例のそれでは光触媒活
性がほとんど発揮されないことが判明した。
【0034】
【発明の効果】以上のように、本発明の請求項1に係る
光触媒コーティング組成物は、シリカにより表面処理さ
れて中性〜アルカリ性の下で解膠安定化させた光触媒微
粒子と、コロイダルシリカと、水とを少なくとも含むよ
う構成されてなるので、光触媒活性、分散安定性に優れ
ることは勿論のこと、常温で容易に、かつ薄膜状に塗工
でき、しかも透明性の高い光触媒コーティング膜を形成
し得て、下地材の意匠性を低下させることがなく、既存
の建造物等に対しても容易に且つ低コストで活性の高い
光触媒コーティング処理を施すことができるという効果
を奏する。
【0035】また、請求項2に係る光触媒コーティング
組成物は、前記光触媒微粒子の平均分散粒子径が 300n
m以下、前記コロイダルシリカの平均分散粒子径が 300
nm以下となるよう構成されたことにより、前記の効果
に併せて、更に、得られる光触媒コーティング膜から光
触媒微粒子及びシリカ微粒子の脱落が起きにくく、光触
媒コーティング膜の耐久性がより向上するという効果を
奏する。
【0036】更に、請求項3に係る光触媒コーティング
組成物は、前記光触媒微粒子の平均分散粒子径が 100n
m以下、前記コロイダルシリカの平均分散粒子径が 100
nm以下となるよう構成されたことにより、前記の効果
に併せて、更に、可視光線の散乱を効率よく抑えること
ができ、より透明な光触媒コーティング膜を得ることが
できるという効果を奏する。
【0037】更に、請求項4の光触媒コーティング組成
物の製造方法は、光触媒微粒子と、コロイダルシリカ
と、水との混合物に、 0〜1000ppmのNH3 または水
溶性有機アミンを添加、または添加することなく中性〜
アルカリ性に調整し、分散機を用いて解膠し、前記光触
媒微粒子の表面処理と分散安定化を同時に行うよう構成
したことにより、前記の光触媒コーティング組成物を1
回の工程により簡便、かつ安価に製造することができる
という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1における耐久試験後光触媒モ
ルタルのマゼンタ色素分解活性を色空間a値の変化で示
すグラフである。
【図2】本発明の実施例2における耐久試験後光触媒モ
ルタルのマゼンタ色素分解活性を色空間a値の変化で示
すグラフである。
【図3】本発明に対する比較例におけるモルタルのマゼ
ンタ色素分解活性を色空間a値の変化で示すグラフであ
る。
フロントページの続き Fターム(参考) 4G028 BA01 4G069 AA01 AA03 AA08 AA09 BA00 BA02A BA02B BA02C BA04A BA04B BA21C BA48A BB01C BD01C BD06C BE14C CA01 CA07 CA10 CA11 CA12 CA13 EA08 EB18X EB18Y EB19 EC22Y ED03 ED04 ED05 FA01 FB06 FB16 FB23 FB24 FC02 FC04 FC08 FC09 FC10 4J038 AA011 HA156 HA446 KA04 KA12 KA15 KA20 LA04 LA06 MA08 MA10 NA17 NA26 PB05 PC04

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】シリカにより表面処理されて中性〜アルカ
    リ性の下で解膠安定化させた光触媒微粒子と、コロイダ
    ルシリカと、水とを少なくとも含むことを特徴とする光
    触媒コーティング組成物。
  2. 【請求項2】前記光触媒微粒子の平均分散粒子径が 300
    nm以下、前記コロイダルシリカの平均分散粒子径が 3
    00nm以下であることを特徴とする請求項1記載の光触
    媒コーティング組成物。
  3. 【請求項3】前記光触媒微粒子の平均分散粒子径が 100
    nm以下、前記コロイダルシリカの平均分散粒子径が 1
    00nm以下であることを特徴とする請求項1記載の光触
    媒コーティング組成物。
  4. 【請求項4】光触媒微粒子と、コロイダルシリカと、水
    との混合物に、0 〜 1000 ppmのNH3 または水溶性
    有機アミンを添加、または添加することなく中性〜アル
    カリ性に調整し、解砕力を加えて解膠分散し、前記光触
    媒微粒子の表面処理と分散安定化を同時に行うことを特
    徴とする光触媒コーティング組成物の製造方法。
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