JP2001007065A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】エッチング処理及び洗浄処理を行う際に、基板
の汚染を防止し、かつ処理効率を向上できる基板処理装
置を提供する。 【解決手段】ウエハＷに所定の処理を行う基板処理装置
であって、ウエハＷを搬送する第１搬送機構４と、ウエ
ハＷの表面にエッチング処理を行う複数のエッチング処
理部ＶＰＣ及びウエハＷに処理液を供給して洗浄処理を
行う複数の洗浄処理部ＤＴＣを含み、第１搬送機構４の
周囲に配置された複数の処理部ＶＰＣ、ＤＴＣと、エッ
チング処理部ＶＰＣから洗浄処理部ＤＴＣへウエハを搬
送する第２搬送機構７と、を備え、第１搬送機構４は、
エッチング処理部ＶＰＣへウエハＷを搬入するととも
に、洗浄処理部ＤＴＣからウエハＷを搬出する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶用ガラス基板等の基板にエッチング処理、洗浄処理等
の所定の処理を行う基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造工程では、基板の一種
である半導体ウエハ（以下単に「ウエハ」という。）の
表面に薄膜を形成したり、ウエハの表面に形成された薄
膜をエッチング処理してパターニングしたり、ウエハの
表面に付着したパーティクルや薬液を除去するためにウ
エハを洗浄したり、洗浄後のウエハを乾燥したりする処
理が行われる。例えば、エッチング工程では、フッ酸系
の薬液を用いてウエハの表面に形成された薄膜をエッチ
ング処理が行われ、洗浄工程では、超音波振動が付与さ
れた純水による超音波洗浄等の洗浄処理が行われる。

【０００３】エッチング処理及び洗浄処理を実行するた
めに従来から用いられている基板処理装置は、例えば、
エッチング処理のためのエッチング処理部と、超音波洗
浄を行うための洗浄処理部とを直線的な搬送路に沿って
直列に配置し、搬送路の一端にインデクサ部を配置した
構成となっている。インデクサ部は、複数のウエハを収
納することができるカセットが複数個載置されるカセッ
ト載置部と、いずれかのカセットから１枚のウエハを取
り出し、かついずれかのカセットに１枚のウエハを収納
するインデクサロボットとを備えている。

【０００４】エッチング処理部及び洗浄処理部に沿って
いる搬送路には、この搬送路に沿って、往復直線移動す
ることができる主搬送ロボットが設けられている。この
主搬送ロボットは、第１のハンド及び第２のハンドを有
しており、例えば、第１のハンドでインデクサロボット
から１枚のウエハを受け取り、第１のハンドがそのウエ
ハを保持しつつ主搬送ロボットがエッチング処理部の前
まで搬送路を走行する。そして、エッチング処理が終了
したウエハを第２のハンドによってエッチング処理部か
ら搬出し、次いで、第１のハンドに保持しているウエハ
をエッチング処理部に搬入する。

【０００５】次に、第２のハンドがウエハを保持しつつ
主搬送ロボットは、洗浄処理部の前まで搬送路を走行
し、この洗浄処理部から第１のハンドによって洗浄処理
は終了したウエハを搬出し、次いで、第２のハンドに保
持しているウエハを洗浄処理部に搬入する。その後、主
搬送ロボットは、インデクサロボットの近傍まで走行
し、インデクサロボットから未処理のウエハを第２のハ
ンドで受け取り、第１のハンドに保持している処理済の
ウエハをインデクサロボットに受け渡す。こうして、主
搬送ロボットは、搬送路を往復直線走行しつつ各処理部
及びインデクサ部との間でウエハの受け渡しを行う。こ
れにより、ウエハにより一連のエッチング処理及び洗浄
処理が行える。

【０００６】なお、搬送路に沿って直線的に移動する主
搬送ロボットの往復直線走行を可能とするために、搬送
路には、リニアガイド、ボールねじ及びモータ等の機構
部品を有する駆動機構が設けられている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
基板処理装置では、搬送路に沿った長い直動部を有する
駆動機構に対しては効果的なシール方法がなく、そのた
め各機構部品が、エッチング処理部や洗浄処理部から流
れ出る薬液雰囲気にさらされて腐食する恐れがある。そ
ればかりではなく、薬液雰囲気が基板処理装置外部へ流
出する恐れもある。

【０００８】また、従来の基板処理装置では、主搬送ロ
ボットが、複数の処理工程の処理部にわたってウエハを
搬送するため、エッチング処理や洗浄処理を通して清浄
になったウエハをエッチング処理前または洗浄処理前の
汚染された状態のウエハを持つハンドで洗浄処理後のウ
エハを持つことになる。そのため、ウエハが再汚染され
る恐れがある。

【０００９】また、主搬送ロボットの一対のハンドの役
割も明確に定められているわけではなく、使用していな
い側のハンドが各処理部に対するウエハの受け取りのた
めに用いられるようになっている。そのため、汚染され
ているウエハを保持したことのあるハンドで、洗浄処理
後のウエハを再度保持し、そのウエハを再汚染してしま
う場合もあり得る。

【００１０】さらに、主搬送ロボットは一対のハンドを
有しているとはいえ、主搬送ロボットが各処理部それぞ
れに対してウエハの搬入・搬出という動作を行っている
ので、一連のウエハの処理のスループットが悪いという
問題もある。

【００１１】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであって、エッチング処理及び洗浄処理を行う際に、
基板の汚染を防止し、かつ処理効率を向上できる基板処
理装置を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために、本発明は、基板に所定の処理を行う基板処理装
置であって、基板を搬送する第１搬送手段と、基板の表
面にエッチング処理を行う複数のエッチング処理部及び
基板に処理液を供給して洗浄処理を行う複数の洗浄処理
部を含み、前記第１搬送手段の周囲に配置された複数の
処理部と、前記エッチング処理部から前記洗浄処理部へ
基板を搬送する第２搬送手段と、を備え、前記第１搬送
手段は、前記エッチング処理部へ基板を搬入するととも
に、前記洗浄処理部から基板を搬出することを特徴とす
る。

【００１３】また、本発明は、前記第１搬送手段を収納
する第１搬送室と、前記第２搬送手段を収納する第２搬
送室と、前記第１搬送室及び前記第２搬送室の間に設け
られた隔壁と、をさらに備えたことを特徴とする。

【００１４】また、本発明は、前記隔壁が、第１隔壁で
あり、さらに、前記エッチング処理部を収納するエッチ
ング処理室と、前記洗浄処理部を収納する洗浄処理室
と、前記第１搬送室及び前記エッチング処理室の間に設
けられた第２隔壁と、前記第１搬送室及び前記洗浄処理
室の間に設けられた第３隔壁と、を備え、前記第２隔壁
には、前記第１搬送手段によって前記エッチング処理部
へ基板を搬入するための第１開口が形成されているとと
もに、前記第１開口を開閉するための第１開閉部材を備
え、前記第３隔壁には、前記第１搬送手段によって前記
洗浄処理部から基板を搬出するための第２開口が形成さ
れているとともに、前記第２開口を開閉するための第２
開閉部材を備えたことを特徴とする。

【００１５】また、本発明は、前記第１搬送手段を収納
する第１搬送室と、前記エッチング処理部を収納するエ
ッチング処理室と、前記第１搬送室及び前記エッチング
処理室の間に設けられた隔壁と、をさらに備え、前記隔
壁には、前記第１搬送手段によって前記エッチング処理
部へ基板を搬入するための開口が形成されているととも
に、前記開口を開閉するための開閉部材を備えたことを
特徴とする。

【００１６】また、本発明は、前記第１搬送手段を収納
する第１搬送室と、前記洗浄処理部を収納する洗浄処理
室と、前記第１搬送室及び前記洗浄処理室の間に設けら
れた隔壁と、をさらに備え、前記隔壁には、前記第１搬
送手段によって前記洗浄処理部から基板を搬出するため
の開口が形成されているとともに、前記開口を開閉する
ための開閉部材を備えたことを特徴とする。

【００１７】また、本発明は、前記第２搬送手段を収納
する第２搬送室と、前記エッチング処理部を収納するエ
ッチング処理室と、前記第２搬送室及び前記エッチング
室の間に設けられた隔壁と、をさらに備え、前記隔壁に
は、前記第２搬送手段によって前記エッチング処理部か
ら基板を搬出するための開口が形成されているととも
に、前記開口を開閉するための開閉部材を備えたことを
特徴とする。

【００１８】また、本発明は、前記第２搬送手段を収納
する第２搬送室と、前記洗浄処理部を収納する洗浄処理
室と、前記第２搬送室及び前記洗浄処理室の間に設けら
れた隔壁と、をさらに備え、前記隔壁には、前記第２搬
送手段によって前記洗浄処理室へ基板を搬入するための
開口が形成されているとともに、前記開口を開閉するた
めの開閉部材を備えたことを特徴とする。

【００１９】また、本発明は、前記エッチング処理部
が、基板を載置する載置部と、前記載置部に載置された
基板の上方に配置され、基板の表面をエッチング処理を
行うための蒸気を基板へ供給する供給手段とを有し、前
記載置部を収納し、かつエッチング処理を行うためのエ
ッチング処理空間と、非エッチング処理空間とを前記エ
ッチング処理室内に形成するように、前記エッチング処
理空間と非エッチング処理空間との雰囲気を遮断させる
遮断手段を備えたことを特徴とする。

【００２０】また、本発明は、前記遮断手段が、前記載
置部の周囲に配置され、前記供給手段に対して上下移動
可能な枠部と、前記枠部と前記エッチング処理室の底部
とに取り付けられた蛇腹部材と、前記枠部を前記供給手
段に対して上下移動させる駆動手段と、を備えたことを
特徴とする。

【００２１】また、本発明は、前記洗浄処理部が、基板
の洗浄を行った後、さらに基板の乾燥を行うことを特徴
とする。

【００２２】また、本発明は、第１搬送手段が、同一場
所において前記エッチング処理部へ基板を搬入するとと
もに、前記洗浄処理部からの基板の搬出を行うことを特
徴とする。

【００２３】さらに、本発明は、前記第１搬送手段が、
前記エッチング処理部へ基板を搬入する第１搬送アーム
と、前記洗浄処理部から基板を搬出する第２搬送アーム
とを備えたことを特徴とする。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明に係
る基板処理装置の一実施の形態を説明する。図１は、本
発明の一実施の形態に係る基板処理装置の全体の構成を
示す簡略化した平面図である。この基板処理装置は、基
板の一種であるウエハＷに対してエッチング処理、処理
液の一種である純水等の洗浄液による洗浄処理、ウエハ
Ｗを回転させながらウエハＷを乾燥する乾燥処理を行う
装置である。

【００２５】この基板処理装置は、カセット載置部１及
びインデクサロボット２を有するインデクサ部ＩＮＤを
備えている。カセット載置部１は、複数枚のウエハＷを
それぞれ収納することができるカセットＣを複数個（図
１では４つ）かつ一直線状に配列されている。カセット
載置部１におけるカセットＣの配列方向に沿って、搬送
路３が設けられており、この搬送路３上をインデクサロ
ボット２が矢印Ａに示す方向に往復直線移動するように
なっている。なお、カセットＣのかわりに複数枚のウエ
ハＷを密閉状態で収容するポッド（ＰＯＤ）でもよい。

【００２６】インデクサロボット２は、搬送路３に沿っ
て並置されたウエハ取り出し用ハンド２１及びウエハ収
納用ハンド２２を有している。この一対のハンド２１及
び２２は、キャリッジ２３の上側に共通に取り付けられ
ており、この一つのハンド２１及び２２は、同時に矢印
Ａに示す方向に移動するようになっている。このキャリ
ッジ２３の移動により、各ハンド２１，２２は、それぞ
れ独立に、カセット載置部１に載置された任意のカセッ
トＣにアクセスすることができる。ウエハ収納用ハンド
２２は、専ら、エッチング処理等の処理が終了した清浄
なウエハＷをカセットＣに収納するために用いられ、ウ
エハ取り出し用ハンド２１は、専ら、エッチング処理等
の処理前のウエハＷをカセットＣから取り出すために用
いられる。

【００２７】カセット載置部１とインデクサロボット２
とは、カセット室２０に収容されている。このカセット
室２０において搬送路３の中間付近の位置には、第１搬
送手段に相当する第１搬送機構４を収容した第１搬送室
５が結合されている。この第１搬送室５の周囲には、一
方側にインデクサ部ＩＮＤから遠い側から順番に、エッ
チング処理部ＶＰＣ（ベーパー・プロセス・チャンバ）
を収容したエッチング処理室６、第２搬送手段に相当す
る第２搬送機構７を収容した第２搬送室８、洗浄処理部
に相当する洗浄・乾燥処理部ＤＴＣ（ドライ・タスク・
チャンバ）を収容した洗浄・乾燥処理室９が配置されて
いる。また、他方側にもインデクサ部ＩＮＤから遠い側
から順番に、エッチング処理部ＶＰＣを収容したエッチ
ング室６、第２搬送機構７を収容した第２搬送室８、洗
浄・乾燥処理部ＤＴＣを収容した洗浄・乾燥処理室９が
配置されている。

【００２８】エッチング処理室６に収容されたエッチン
グ処理部ＶＰＣは、ウエハＷの表面にフッ酸（ＨＦ）等
をベーパー状にしてウエハＷの表面に供給し、ウエハＷ
の表面のエッチング処理を行うものである。なお、エッ
チング処理室６及びエッチング処理部ＶＰＣの詳細な内
容については後述する。第２搬送機構７は、エッチング
処理室６から洗浄・乾燥処理室９へウエハＷを搬送する
ものである。また、洗浄・乾燥処理部ＤＴＣは、ウエハ
Ｗを回転させつつウエハＷに純水を供給して、ウエハＷ
の表面を洗浄する働きを有するとともに、ウエハＷを高
速に回転させつつウエハＷを乾燥させる働きを有してい
る 。したがって、エッチング処理部ＶＰＣ及び洗浄・
乾燥処理部ＤＴＣによる処理がウエハＷに施されること
によって、ウエハＷに対してエッチング処理、洗浄処
理、乾燥処理の一連の処理が行われ、清浄なウエハＷが
得られる。

【００２９】第１搬送機構４は、インデクサ部ＩＮＤ、
エッチング処理室６、洗浄・乾燥処理室９との間でウエ
ハＷの受け渡しを行うものである。この第1搬送機構４
は、ウエハ搬入アーム４１とウエハ搬出アーム４２とを
有している。第１搬送室５の底部に固定台４３が固定さ
れており、この固定台４３の上部に回転台４４が矢印Ｂ
に示すように固定台４３に対して回転可能に設けられて
いる。ウエハ搬入アーム４１とウエハ搬出アーム４２と
は、それぞれ回転台４４に対して回転可能に設けられて
おり、それぞれ３本アーム部から構成されている。ウエ
ハ搬入アーム４１は、エッチング処理室６に搬入すべき
ウエハＷを保持するために用いるためのものであり。ウ
エハ搬出アーム４２は、洗浄乾燥処理室９から搬出すべ
きウエハＷを保持するために用いられるものである。な
お、第１搬送機構４は、ウエハ搬入アーム４１とウエハ
搬出アーム４２とを有しており、処理前のアームと処理
後のアームとをそれぞれ専用にしているので、ウエハＷ
の汚染を防止できる。

【００３０】第２搬送機構７は、ウエハ搬送アーム７１
を有している。第２搬送室８の底部に固定台７２が固定
されており、この固定台７２の上部にウエハ搬送アーム
７１が固定台７２に対して回転可能に設けられている。
ウエハ搬送アーム７１は、ウエハＷを保持つつ、エッチ
ング処理室６から洗浄・乾燥処理室９へウエハＷを搬送
するためのみに用いられる。

【００３１】第１搬送室５とエッチング処理室６との間
には、両室の雰囲気が混合することを防止する目的で隔
壁３１が設けられている。また、第１搬送室５と洗浄・
乾燥処理室９との間にも、両室の雰囲気が混合すること
を防止する目的で隔壁３２が設けられている。また、エ
ッチング処理室６と第２搬送室８との間にも、エッチン
グ処理室６から第２搬送室８への雰囲気の流入を防止す
る目的で隔壁３３が設けられている。さらに、洗浄・乾
燥処理室９と第２搬送室８との間にも、洗浄・乾燥処理
室９から第２搬送室８への雰囲気の流入を防止する目的
で隔壁３４が設けられている。また、第１搬送室５と第
２搬送室８との間には、両室の雰囲気が混合することを
防止する目的で隔壁３５が設けられている。

【００３２】各隔壁３１，３２，３３，３４には、ウエ
ハを通過させるための開口３１０，３２０，３３０，３
４０が形成されており、この開口３１０〜３４０を通し
て、ウエハＷの受け渡しが行われる。各開口３１０〜３
４０に関連して、この開口３１０〜３４０を開閉するた
めのシャッタ５１，５２，５３，５４が設けられてい
る。これらのシャッタ５１〜５４は、通常は閉塞されて
おり、第１搬送機構４及び第２搬送機構７によるウエハ
Ｗの受け渡しの際にみに開放される。これにより、各処
理室間の雰囲気の移動が可及的に抑制される。その結
果、クロスコンタミネーションが生じたり、また、前工
程の雰囲気が後の工程による処理済のウエハＷに悪影響
を与えることを抑制できる。なお、第１搬送機構４と第
２搬送機構７との間ではウエハＷの搬送を行わないの
で、隔壁３５には、開口は形成されていない。

【００３３】次に、エッチング処理室６を説明する。図
２は、エッチング処理室の概略構成を示す図である。エ
ッチング処理室６には、上側に気化器６０、下側にエッ
チング処理部ＶＰＣが収容されており、エッチング処理
室６は第１搬送室５及び第２搬送室８等の他の処理室か
ら隔壁３１及び隔壁３３によって密閉された状態となっ
ている。

【００３４】気化器６０は、内部に気化室６００を有し
ており、気化室６００にはフッ酸（ＨＦ）と純水（Ｈ２
Ｏ）との混合液が収容されている。気化室６００の上部
には、窒素ガス（Ｎ２ガス）を気化室６００の内部に供
給するための供給口６０１が形成され、この供給口６０
１は供給管６０２を介して窒素ガス供給源６０３に連通
接続されている。また、供給管６０２の途中には開閉弁
６０４が設けられ、この開閉弁６０４の開閉制御によっ
て、気化室６００へ供給される窒素ガスの供給量が制御
される。

【００３５】エッチング処理室６の下側に設けられたエ
ッチング処理部ＶＰＣには、供給手段に相当する逆Ｕ字
状のチャンバ６１を備えている。このチャンバ６１は、
内部に分散室６１０を有しているとともに、側部には供
給口６１１が形成されており、分散室６１０の下部には
複数の微小孔６１３が形成された板状部材６１２が取り
付けられている。なお、チャンバ６１の供給口６１１
は、接続管６１４を介して気化器６０の側部に形成され
た排出口６０５と連通接続されている。

【００３６】板状部材６１２の下方には、板状部材６１
２と対向してウエハＷを載置するための載置台６２が配
置されている。この載置台６２は、電動モータ６５に連
動連結されて鉛直方向の軸芯周りで回転される回転軸６
４の上部に一体可能に連結されている。載置台６２に
は、ウエハＷの裏面を支持するために上下移動可能な３
本の支持ピン６２１が設けられている（図２おいては２
本のみ図示している）。また、ウエハＷの表面に対して
エッチング処理を行う際に、支持ピン６２１に支持され
たウエハＷを熱処理するために、載置台６２内にはヒー
タ６２２が内臓されている。

【００３７】載置台６２の周囲には遮蔽機構６３が設け
られている。この遮蔽機構６３は、チャンバ６１の下方
において矢印Ｃに示すように上下方向に移動する円筒状
の枠部６３０と、この枠部６３０の下部とエッチング処
理室６の底部とを連結させる蛇腹部材６３１と、枠部６
３０を上下方向に移動させる駆動機構６３２とを備えて
いる。駆動機構６３２は、エアシリンダ６３２ａとロッ
ド６３２ｂと支持部材６３２ｃを備えており、エアシリ
ンダ６３２ａのロッド６３２ｂの先端は支持部材６３２
ｃを介して枠部６３０の側部に連結されている。そし
て、このエアシリンダ６３２ａのロッド６３２ｂの伸縮
により枠部６３０は、矢印Ｃに示すように上下方向に移
動する。枠部６３０が最も上方に位置したとき（図２に
示す状態）、枠部６３０は、チャンバ６１の最下部に嵌
め込まれ、チャンバ６１、枠部６３０、蛇腹部材６３１
及びエッチング処理室６の底部により、密閉されたエッ
チング処理空間６ａが形成される。なお、エッチング処
理室６内のエッチング処理空間６ａ外の空間が非エッチ
ング処理空間６ｂとなり、ウエハＷの表面をエッチング
処理する際には、枠部６３０を最も上方へ移動させて、
エッチング処理空間６ａと非エッチング処理空間６ｂと
を形成する。

【００３８】エッチング処理室６の底部には、エッチン
グ処理空間６ａのフッ酸等によるベーパー状の雰囲気を
エッチング処理室６外へ排出するための排出機構６７が
設けられている。この排出機構６７は、エッチング処理
室６の底部に形成された複数の排出口６７０を備えてお
り（図２では２つ）、この排出口６７０にはそれぞれ排
出管６７１が接続されており、排出管６７１を介してエ
ッチング処理室６外へベーバー雰囲気が排出される。ま
た、排出管の６７１途中には開閉弁６７１が設けられ、
この開閉弁６７１の開閉制御によって、エッチング処理
室６から排出される排出量が制御される。

【００３９】エッチング処理室６の第１搬送室５側の側
方には、上述したように、隔壁３１が設けられ、この隔
壁３１にはウエハＷを通過させるための開口３１０が形
成されており、この開口３１０を通して、ウエハ搬入ア
ーム４１によってエッチング処理室６へのウエハＷの搬
入が行われる。この開口３１０に関連して、この開口３
１０を開閉するためのシャッタ５１が設けられている。

【００４０】また、図２では省略されているが、エッチ
ング処理室６の第２搬送室８側の側方には、上述したよ
うに、隔壁３３が設けられ、この隔壁３３にはウエハＷ
を通過させるための開口３３０が形成されており、この
開口３３０を通して、ウエハ搬送アーム７１によってエ
ッチング処理室６からのウエハＷの搬出が行われる。こ
の開口３３０に関連して、この開口３３０を開閉するた
めのシャッタ５３が設けられている。

【００４１】したがって、エッチング処理室６は、隔壁
３１、隔壁３３等により密閉した空間が形成され、この
第１の空間の中にチャンバ６１、枠部６３０、蛇腹部材
６３１及びエッチング処理室６の底部により、密閉され
たエッチング処理空間６ａが形成される。そのため、エ
ッチング処理室６は２重構造となっており、第１搬送室
５及び第２搬送室８とエッチング処理部ＶＰＰＣとの雰
囲気の混合をさらに有効に防止することができる。

【００４２】次に、洗浄・乾燥処理室９を説明する。図
３は洗浄・乾燥処理室の概略構成を示す図である。

【００４３】洗浄・乾燥処理部ＤＴＣのスピンベース９
０は、図示しないモータに伝動連結されており、軸Ｊ周
りに回転する回転軸９１の上端部に一体的に連結され、
軸Ｊ周りに回転可能である。このスピンベース９０に
は、ウエハＷの外周端部を３箇所以上で保持するための
３個以上の保持部材９０１が設けられている。ウエハＷ
は外周端部がこれら保持部材９０１に３箇所以上で保持
され、スピンベース９０の表面から所定の距離離れた状
態で水平姿勢で保持される。

【００４４】スピンベース９０の中心部には、保持部材
９０１に保持されたウエハＷのスピンベース９０側の下
面（この実施の形態のようにウエハＷをスピンベース９
０の上方で保持する洗浄・乾燥処理では通常は裏面にな
る）に純水等の洗浄液を供給するノズル９２が設けられ
ている。このノズル９２には、回転軸９１に内設された
洗浄液供給管９２０及び管９２１等を介して洗浄液供給
部９２２に接続されており、洗浄液供給部９２２からノ
ズル９２へ洗浄液が供給されるようになっている。

【００４５】また、ノズル９２の周囲には窒素ガス等の
不活性ガスやドライエアー等の気体を保持部材９０１に
保持されたウエハＷのスピンベース９０側の下面とスピ
ンベース９０の対向面とのスピンベース側空間９３へ供
給する気体供給口９５が設けられている。このノズル９
５には、洗浄液供給管９２０と同軸に回転軸９１に内設
された気体供給路９５０及び管９５１等を介して気体供
給部９５２に接続されており、気体供給部９５２からウ
エハＷの下面へ気体が供給されるようになっている。

【００４６】保持部材９０１に保持されたウエハＷの上
方には、遮蔽部材９６が設けられている。この遮蔽部材
９６は、アーム９６１に連結されており、このアーム９
６１を介して図示しない昇降機構により遮蔽部材９６保
持部材３に保持されたウエハＷに対して接離させるため
に、矢印Ｄに示すように昇降可能になっている。保持部
材９０１に保持されたウエハＷの遮蔽部材９６側の上面
（この実施の形態のようにウエハＷをスピンベース９０
の上方で保持する洗浄・乾燥処理では通常は表面にな
る）に対向する対向面９６２が形成されている。

【００４７】遮蔽部材９６の中心部には、保持部材９０
１に保持されたウエハＷのスピンベース９０側の上面に
洗浄液を供給するノズル９７が設けられている。このノ
ズル９７には、アーム９６１に内設された洗浄液供給管
９７０及び管９７１等を介して洗浄液供給部９７２に接
続されており、洗浄液供給部９７２からノズル９７へ洗
浄液が供給されるようになっている。

【００４８】また、ノズル９７の周囲には窒素ガス等の
不活性ガスやドライエアー等の気体を保持部材９０１に
保持されたウエハＷのスピンベース９０側の上面と遮蔽
部材９６の対向面９６２とのスピンベース側空間９８へ
供給する気体供給口９９が設けられている。この気体供
給口９９には、洗浄液供給管９７０と同軸にアーム９６
１に内設された気体供給路９９０及び管９９１等を介し
て気体供給部９９２に接続されており、気体供給部９９
２から気体供給口９９へ気体が供給されるようになって
いる。

【００４９】洗浄・乾燥処理室９の第１搬送室５側の側
方には、上述したように、隔壁３２が設けられ、この隔
壁３２にはウエハＷを通過させるための開口３２０が形
成されており、この開口３２０を通して、ウエハ搬出ア
ーム４２によって洗浄・乾燥処理室９からのウエハＷの
搬出が行われる。この開口３２０に関連して、この開口
３２０を開閉するためのシャッタ５２が設けられてい
る。

【００５０】また、図３では省略されているが、洗浄・
乾燥処理室９の第２搬送室８側の側方には、上述したよ
うに、隔壁３４が設けられ、この隔壁３４にはウエハＷ
を通過させるための開口３４０が形成されており、この
開口３４０を通して、ウエハ搬送アーム７１によって洗
浄・乾燥処理室９へのウエハＷの搬入が行われる。この
開口３４０に関連して、この開口３４０を開閉するため
のシャッタ５４が設けられている。

【００５１】次に、この基板処理装置における１枚のウ
エハの一連の処理工程を説明する。まず、インデクサロ
ボット２のウエハ取り出し用ハンド２１によっていずれ
かのカセットＣから１枚のウエハＷが取り出される。こ
のウエハＷは図１に示す受け渡し位置Ｐ０において、第
１搬送機構４のウエハ搬入アーム４１に受け渡される。
ウエハＷがウエハ搬入アーム４１にウエハＷが受け渡さ
れると、エッチング処理室６の開口３１０のシャッタ５
１は「開」となる。ウエハ搬入アーム４１は受け取った
ウエハＷを２つあるいずれかのエッチング処理室６内の
エッチング処理部ＶＰＣの載置台６２に載置させる。

【００５２】載置台６２にウエハＷが載置されると、シ
ャッタ５１を「閉」にするとともに、エアシリンダ６３
２ａを駆動させることによって枠部６３０を矢印Ｃに示
すように上方に移動させて、チャンバ６１、枠部６３
０、蛇腹部材６３１及びエッチング処理室６の底部によ
り、密閉されたエッチング処理空間６ａを形成する。次
に、電動モータ６５の駆動を開始し、ヒータ６２２が
「ＯＮ」になり、分散室６１０から板状部材６１２に形
成された微小孔６１３を介してウエハＷの表面にフッ酸
のベーパーが供給され、ウエハＷの表面のエッチング処
理が行われる。

【００５３】なお、フッ酸のベーパーは次のように生成
される。まず、開閉弁６０４を「開」にして、窒素ガス
供給源６０３から気化器６０内の気化室６００へ窒素ガ
スが供給される。供給された窒素ガスは、気化室６００
にあるフッ酸（ＨＦ）と純水（Ｈ２Ｏ）との混合液と混
ざり合い、気化室６００にフッ酸のベーパーが生成され
る。生成されたフッ酸のベーパーは、気化器６０の排出
口６０５、接続管６１４及びチャンバ６１の供給口６１
１を介して分散室６１０へ供給される。分散室６１０へ
供給されたフッ酸のベーパーは分散室６１０で分散さ
れ、板状部材６１２に形成された複数の微小孔６１３を
通って、載置台６２に載置されたウエハＷの表面全体に
均等に供給される。

【００５４】エッチング処理が行われている際、電動モ
ータ６５が制御されてウエハＷは２０〜３００ｒｐｍの
回転数で回転され、かつヒータ６２２は、２０〜１００
℃に設定されている。所定の時間エッチング処理が行わ
れるとフッ酸のベーパーのウエハＷの表面への供給を停
止させ、電動モータ６５が制御されてウエハＷの回転も
停止させるともに、ヒータ６２２を「ＯＦＦ」にする。

【００５５】エッチング処理が終了すると、エアシリン
ダ６３２ａを駆動させることによって枠部６３０を矢印
Ｃに示すように下方に移動させるとともに、シャッタ５
３を「開」にする。そして、エッチング処理部ＶＰＣの
載置台６２に載置されたウエハＷが、第２搬送機構７の
搬送アーム７１によってエッチング処理室６から搬出さ
れる。ウエハＷがエッチング処理室６から搬出される
と、シャッタ５３が「閉」になるとともに、シャッタ５
４が「開」になる。搬送アーム７１は、受け取ったウエ
ハＷを洗浄・乾燥処理室９内の保持部材９０１へ搬送
し、保持部材９０１は、スピンベース９０から所定の距
離離れた状態でウエハＷを保持する。

【００５６】ウエハＷが保持部材９０１に載置される
と、シャッタ５１を「閉」にする。次に、遮蔽部材９６
を矢印Ｄに示すように下降させて遮蔽部材９６の対向面
９６２とウエハＷとを所定の距離まで近接させ、図示し
なモータを駆動させることによりスピンベース９０の回
転を開始する。スピンベース９０の回転が開始される
と、ノズル９２からウエハＷの下面に純水等の洗浄液が
供給されるとともに、ノズル９７からウエハＷの上面に
純水等の洗浄液が供給され、ウエハＷの表裏面の洗浄処
理が行われる。所定の時間洗浄処理が行われると、ノズ
ル９２及びノズル９７からの洗浄液の供給が停止され
る。

【００５７】ウエハＷの洗浄処理が終了すると、ウエハ
Ｗの回転を継続させた状態で、気体供給口９５から窒素
ガス（Ｎ２ガス）等の不活性ガスがウエハＷの下面に供
給されるとともに、気体供給口９９から同じく窒素ガス
（Ｎ２ガス）等の不活性ガスがウエハＷの上面に供給さ
れ、ウエハＷの乾燥処理が行われる。ウエハＷは、ウエ
ハＷの回転に伴って洗浄液がウエハＷの周囲に飛散さ
れ、ウエハＷの表裏面に不活性ガスが供給されることに
よって、ウエハＷの表裏面が乾燥する。所定の時間乾燥
処理が行われると、気体供給口９５及び気体供給口９９
からの不活性ガスの供給が停止され、図示しないモータ
を制御してウエハＷの回転を停止させる。

【００５８】ウエハＷの乾燥処理が終了すると、シャッ
タ５２を「開」にする。次に、洗浄・乾燥処理が終了し
たウエハＷは、第１搬送機構４のウエハ搬出アーム４２
により洗浄・乾燥処理室９から搬出され、さらに図１に
示すウエハ受け渡し位置Ｐ０において、ウエハ搬出アー
ム４２からインデクサロボット２のウエハ収納用ハンド
２２に受け渡される。ウエハ収納用ハンド２２は、ウエ
ハＷをいずれかのカセットＣに収納する。以上により、
１枚のウエハＷの一連の処理工程が終了する。

【００５９】なお、一連の処理工程の終了したウエハＷ
の次にウエハ取り出し用ハンド２１によってカセットＣ
から取り出されたウエハＷは、上述の処理工程で使用さ
れたエッチング処理室６、第２搬送室８及び洗浄・乾燥
処理室９と異なるエッチング処理室６、第２搬送室８及
び洗浄・乾燥処理室９が使用される。

【００６０】以上説明した本発明の一実施の形態に係る
基板処理装置によれば次のような効果が得られる。

【００６１】まず、第１搬送機構４及び第１搬送室５の
周囲に複数のエッチング処理部ＶＰＣと複数の洗浄・乾
燥処理部ＤＴＣとを含む複数の処理部を配置し、第１搬
送機構４は、エッチング処理部ＶＰＣへウエハＷを搬入
するとともに、洗浄・乾燥処理部ＤＴＣからウエハＷを
搬出し、第２搬送機構７はエッチング処理部ＶＰＣから
洗浄・乾燥処理部ＤＴＣへウエハＷを搬送するので、第
１搬送機構４と第２搬送機構７のウエハＷの搬送の役割
分担によってウエハＷの汚染を防止でき、かつウエハＷ
のエッチング処理及び洗浄処理の処理効率を向上でき
る。

【００６２】また、第１搬送機構４を収納する第１搬送
室５と第２搬送機構を収納する第２搬送室８との間に隔
壁３５が設けられているので、第１搬送室５と第２搬送
室との雰囲気の混合を防止することができる。その結
果、処理工程の段階の異なる第１搬送機構４によって搬
送されるウエハＷと第２搬送機構８によって搬送される
ウエハＷへの汚染を防止できる。

【００６３】また、第１搬送機構４を収納する第１搬送
室５とエッチング処理部ＶＰＣを収納するエッチング処
理室６との間に隔壁３１が設けられているので、第１搬
送室５とエッチング処理室６との雰囲気の混合、特に、
エッチング処理室６から第１搬送室５への雰囲気の流入
を防止できる。

【００６４】また、第１搬送機構４を収納する第１搬送
室５と洗浄・乾燥処理部ＤＴＣを収納する洗浄・乾燥処
理室９との間に隔壁３２が設けられているので、第１搬
送室５と洗浄・乾燥処理室６との雰囲気の混合を防止で
きる。

【００６５】また、第２搬送機構７を収納する第２搬送
室８とエッチング処理部ＶＰＣを収納するエッチング処
理室６との間に隔壁３３が設けられているので、エッチ
ング処理室６から第２搬送室８への雰囲気の流入を防止
できる。

【００６６】また、第２搬送機構７を収納する第２搬送
室８と洗浄・乾燥処理部ＤＴＣを収納する洗浄・乾燥処
理室９との間に隔壁３４が設けられているので、洗浄・
乾燥処理室９から第２搬送室８への雰囲気の流入を防止
できる。

【００６７】また、エッチング処理室６内において、遮
断機構６３によってエッチング処理空間６ａと非エッチ
ング処理空間６ｂとを形成し、エッチング処理を行う際
には、遮断機構６３によってエッチング処理空間６ａを
密閉空間にしている。その結果、隔壁３１と遮断機構６
３とによってエッチング処理室６は２重構造になるの
で、エッチング処理室６から第１搬送室５への雰囲気の
流入をさらに確実に防止できる。また、隔壁３３と遮断
機構６３とによってエッチング処理室６は２重構造にな
るので、エッチング処理室６から第２搬送室８への雰囲
気の流入をさらに確実に防止できる。

【００６８】また、遮断機構６３は、チャンバ６１の下
方において矢印Ｃのように上下方向に移動する円筒状の
枠部６３０と、この枠部６３０の下部とエッチング処理
室６の底部とを連結させる蛇腹部材６３１と、枠部６３
０を矢印Ｃに示すように上下方向に移動させる駆動機構
６３２とを備えているので、簡易な構成で遮断機構６３
を実現できる。

【００６９】また、第１搬送機構４の固定部４３が第１
搬送室５の底部に固定された状態で、ウエハ搬入アーム
４１とウエハ搬出アーム４２とが、それぞれウエハＷの
搬送を行っているので、第１搬送機構４の移動スペース
は不要となり、第１搬送機構のフットプリントが小さく
てすむ。さらに、第１搬送機構４そのものを移動させた
りする必要はないので、スループットも向上できる。

【００７０】なお、上述した本発明の一実施の形態で
は、エッチング処理部ＶＰＣ及び洗浄・乾燥処理部ＤＴ
Ｃをそれぞれ２つ設けたが、第１搬送機構４の周囲に、
エッチング処理部ＶＰＣ及び洗浄・乾燥処理部ＤＴＣを
それぞれ３つ以上設けたものでもよい。

【００７１】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、基板の表面にエッチング処理を行う複数のエッ
チング処理部及び基板に処理液を供給して洗浄処理を行
う複数の洗浄処理部を含む複数の処理部を第１搬送手段
の周囲に配置し、第１搬送手段は、エッチング処理部へ
基板を搬入するとともに、洗浄処理部から基板を搬出
し、また、第２搬送手段は、エッチング処理部から洗浄
処理部へ基板を搬送するので、第１搬送手段と第２搬送
手段の役割分担によって基板の汚染を防止でき、かつ基
板のエッチング処理、洗浄処理の処理効率を向上できる
という効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の全
体の構成を示す簡略化した平面図である。

【図２】エッチング処理室の概略構成を示す図である。

【図３】洗浄・乾燥処理室の概略構成を示す図である。

【符号の説明】

４ 第１搬送機構 ５ 第１搬送室 ６ エッチング処理室 ６ａ エッチング処理空間 ６ｂ 非エッチング処理空間 ７ 第２搬送機構 ８ 第２搬送室 ９ 洗浄・乾燥処理室 ３１ 隔壁 ３２ 隔壁 ３３ 隔壁 ３４ 隔壁 ３５ 隔壁 ４１ ウエハ搬入アーム ４２ ウエハ搬出アーム ４３ 固定台 ５１ シャッタ ５２ シャッタ ５３ シャッタ ５４ シャッタ ６１ チャンバ ６２ 載置台 ６３ 遮断機構 ７１ ウエハ搬送アーム ３１０ 開口 ３２０ 開口 ３３０ 開口 ３４０ 開口 ６３０ 枠部 ６３１ 蛇腹部材 ６３２ 駆動機構 ＶＰＣ エッチング処理部 ＤＴＣ 洗浄・乾燥処理部 Ｗ ウエハ

フロントページの続き (72)発明者 増市 幹雄 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 高村 幸宏 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 5F043 EE02 EE36

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項1】基板に所定の処理を行う基板処理装置であ
   って 基板を搬送する第１搬送手段と、 基板の表面にエッチング処理を行う複数のエッチング処
   理部及び基板に処理液を供給して洗浄処理を行う複数の
   洗浄処理部を含み、前記第１搬送手段の周囲に配置され
   た複数の処理部と、 前記エッチング処理部から前記洗浄処理部へ基板を搬送
   する第２搬送手段と、を備え、 前記第１搬送手段は、前記エッチング処理部へ基板を搬
   入するとともに、前記洗浄処理部から基板を搬出するこ
   とを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】請求項１に記載の基板処理装置であって、 前記第１搬送手段を収納する第１搬送室と、 前記第２搬送手段を収納する第２搬送室と、 前記第１搬送室及び前記第２搬送室の間に設けられた隔
   壁と、をさらに備えたことを特徴とする基板処理装置。
3. 【請求項３】請求項２に記載の基板処理装置であって、 前記隔壁は、第１隔壁であり、さらに、 前記エッチング処理部を収納するエッチング処理室と、 前記洗浄処理部を収納する洗浄処理室と、 前記第１搬送室及び前記エッチング処理室の間に設けら
   れた第２隔壁と、 前記第１搬送室及び前記洗浄処理室の間に設けられた第
   ３隔壁と、を備え、 前記第２隔壁には、前記第１搬送手段によって前記エッ
   チング処理部へ基板を搬入するための第１開口が形成さ
   れているとともに、前記第１開口を開閉するための第１
   開閉部材を備え、 前記第３隔壁には、前記第１搬送手段によって前記洗浄
   処理部から基板を搬出するための第２開口が形成されて
   いるとともに、前記第２開口を開閉するための第２開閉
   部材を備えたことを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】請求項１に記載の基板処理装置であって、 前記第１搬送手段を収納する第１搬送室と、 前記エッチング処理部を収納するエッチング処理室と、 前記第１搬送室及び前記エッチング処理室の間に設けら
   れた隔壁と、をさらに備え、 前記隔壁には、前記第１搬送手段によって前記エッチン
   グ処理部へ基板を搬入するための開口が形成されている
   とともに、前記開口を開閉するための開閉部材を備えた
   ことを特徴とする基板処理装置。
5. 【請求項５】請求項１に記載の基板処理装置であって、 前記第１搬送手段を収納する第１搬送室と、 前記洗浄処理部を収納する洗浄処理室と、 前記第１搬送室及び前記洗浄処理室の間に設けられた隔
   壁と、をさらに備え、 前記隔壁には、前記第１搬送手段によって前記洗浄処理
   部から基板を搬出するための開口が形成されているとと
   もに、前記開口を開閉するための開閉部材を備えたこと
   を特徴とする基板処理装置。
6. 【請求項６】請求項１に記載の基板処理装置であって、 前記第２搬送手段を収納する第２搬送室と、 前記エッチング処理部を収納するエッチング処理室と、 前記第２搬送室及び前記エッチング室の間に設けられた
   隔壁と、をさらに備え、 前記隔壁には、前記第２搬送手段によって前記エッチン
   グ処理部から基板を搬出するための開口が形成されてい
   るとともに、前記開口を開閉するための開閉部材を備え
   たことを特徴とする基板処理装置。
7. 【請求項７】請求項１に記載の基板処理装置であって、 前記第２搬送手段を収納する第２搬送室と、 前記洗浄処理部を収納する洗浄処理室と、 前記第２搬送室及び前記洗浄処理室の間に設けられた隔
   壁と、をさらに備え、 前記隔壁には、前記第２搬送手段によって前記洗浄処理
   室へ基板を搬入するための開口が形成されているととも
   に、前記開口を開閉するための開閉部材を備えたことを
   特徴とする基板処理装置。
8. 【請求項８】請求項３、請求項４、請求項６のいずれか
   に記載の基板処理装置であって、 前記エッチング処理部は、基板を載置する載置部と、前
   記載置部に載置された基板の上方に配置され、基板の表
   面をエッチング処理を行うための蒸気を基板へ供給する
   供給手段とを有し、 前記載置部を収納し、かつエッチング処理を行うための
   エッチング処理空間と、非エッチング処理空間とを前記
   エッチング処理室内に形成するように、前記エッチング
   処理空間と非エッチング処理空間との雰囲気を遮断させ
   る遮断手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。
9. 【請求項９】請求項８に記載の基板処理装置であって、 前記遮断手段は、前記載置部の周囲に配置され、前記供
   給手段に対して上下移動可能な枠部と、前記枠部と前記
   エッチング処理室の底部とに取り付けられた蛇腹部材
   と、前記枠部を前記供給手段に対して上下移動させる駆
   動手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
10. 【請求項１０】請求項１乃至請求項９のいずれかに記載
    の基板処理装置であって、 前記洗浄処理部は、基板の洗浄を行った後、さらに基板
    の乾燥を行うことを特徴とする基板処理装置。
11. 【請求項１１】請求項１乃至請求項１０のいずれかに記
    載の基板処理装置であって、 第１搬送手段は、同一場所において前記エッチング処理
    部へ基板を搬入するとともに、前記洗浄処理部からの基
    板の搬出を行うことを特徴とする基板処理装置。
12. 【請求項１２】請求項１乃至請求項１１のいずれかに記
    載の基板処理装置であって、 前記第１搬送手段は、前記エッチング処理部へ基板を搬
    入する第１搬送アームと、前記洗浄処理部から基板を搬
    出する第２搬送アームとを備えたことを特徴とする基板
    処理装置。