JP2001004993A - 電極基板 - Google Patents
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Abstract
く、かつ、低コストで量産性に優れた、金属薄膜を有す
る電極基板を提供する。 【解決手段】少なくとも基板上に光反射性電極を形成し
た反射電極基板であって、前記光反射性電極を、基板側
から順次、窒化チタンからなる下引き層と、金属薄膜か
らなる光反射層と、酸化物からなる上側層とを積層した
積層膜としたことを特徴とする反射電極基板。
Description
置もしくはEL(エレクトロルミネッセンス)等の表示
装置、あるいは、太陽電池等の光電変換素子に組み込ま
れる反射電極または反射板に関する。
を有する2枚の電極板を対向させ、電極板間に液晶を挟
持した構成となっている。画面表示の際、対向した透明
電極間に電圧を印加することで液晶を駆動し、液晶を透
過した光の偏光を制御している。従来より、液晶表示装
置内に光源(ランプ)を内蔵した、バックライト型もし
くはライトガイド型の透過型液晶表示装置が広く用いら
れている。すなわち、透過型液晶表示装置は画面表示に
用いる光を装置内に内蔵した光源(ランプ)にて供給し
ている。
光源(ランプ)による消費電力が大いため電池駆動の場
合は使用時間が短く、さらに光源、電池等を組み込まね
ばならないため薄型化、小型化が難しく、本来液晶表示
装置が有すべき携帯用としての特徴を活かしきれていな
いという問題があった。
蔵しない反射型液晶表示装置の開発が活発となってい
る。
光として装置内に入射する外光を用いるものであり、従
来必要とされていた内蔵式の光源(ランプ)、光源用電
池を不要としている。また、透過型液晶表示装置では内
蔵式の光源(ランプ)より発せられた光を電極板に導く
ための導光板等の周辺部材を必要としていたが、反射型
液晶表示装置では電極板に入射する外光を利用するため
導光板を不必要としている。すなわち反射型液晶表示装
置は、光源、光源用電池、導光板等の部品を用いないた
め、軽量、薄型化が可能であり、また低消費電力である
ため携帯用として理想的な表示装置ということができ
る。
題が叫ばれている現在、低エネルギーでの使用が可能な
反射型液晶表示装置は好ましいものであり、携帯用表示
装置としての開発、実用化が望まれる製品といえる。
面表示に用いる光として観察者側から装置内に入射する
外光を用いる場合が多く、入射した光を観察者の位置に
反射するために観察者の位置と反対側に光反射板が必要
となる。光反射板として、液晶を挟持する2枚の基板の
観察者と反対側の基板の外側に金属膜を形成したプラス
チックフィルムやホログラムを配設したり、または、観
察者と反対側の基板(以下、背面側基板と呼称する)の
液晶と対向する面側に、直接金属膜を形成する(すなわ
ち、液晶を挟持する2枚の基板の内部に金属膜を形成す
る)方法がとられている。光反射板の形成位置として
は、視差の点から、液晶を挟持した2枚の基板(液晶パ
ネル)の内部に金属膜を形成する構成が優れているとい
える。液晶パネル内部に形成する光反射板としては、表
面に微小な凹凸を形成し光散乱性を持たせたり、電極機
能を兼備させる等の提案がなされている。
板の材質として、アルミが用いられていた。しかし、ア
ルミ薄膜で形成した光反射板では、実用上十分な光反射
率を確保することが難しかった。このため現在では、よ
り光反射率の高い銀薄膜を用いることが検討されてい
る。しかるに、銀は基板の材質であるガラスとの密着性
が低く、また、凝集や白濁(マイグレーション)を起こ
しやすいため、信頼性(耐久性)の確保という点で問題
が有るといえる。
示装置用反射電極板の信頼性(耐久性)を確保する手段
として、種々の試みがなされている。例えば本発明者ら
は、Na(ナトリウム)等のアルカリ金属が電極板を構
成するガラス基板から溶出し、これにより銀のマイグレ
ーションが促進されることを見いだしている。このため
本発明者らは、図2に示すように、ガラス基板30からの
アルカリ金属の溶出を防止するためにガラス基板30上に
SiO2 (酸化珪素)層34を形成し、しかる後にSiO
2 層34上に光反射電極としての銀層を形成することを提
案した。なお、市販されている基板の中には予めSiO
2 が表面にコートされたソーダガラス基板があるが、そ
のようなガラス基板を用いる場合であっても、ガラス基
板からのアルカリ金属の溶出防止を完全なものとするた
め、ガラス基板上へのSiO2 層の形成は必要といえ
た。
て形成した銀系薄膜とすること、および、図2に示すよ
うに、酸化物薄膜31および33にて銀系薄膜32を挟持した
積層膜25をSiO2 層34上に形成することも提案してい
る。すなわち、銀系薄膜32とSiO2 層34との間となる
酸化物薄膜31は、SiO2 層34と銀系薄膜32との密着層
としての役割を持たせたものであり、銀系薄膜32上に形
成する酸化物薄膜33は、銀系薄膜32の保護膜としての役
割を持たせたものである。
が生じていたものである。すなわち、基板上にSiO2
層34を成膜する際には基板に加熱を行う必要がある。な
お、常温にて基板上にSiO2 層34を成膜することは可
能だが、その場合には、SiO2 層34の成膜後に基板に
300℃以上のベーキングを行なう必要がある。いずれ
にしても、基板上へのSiO2 層34の成膜には加熱が必
要なため、基板上へのSiO2 層34の形成と、銀系薄膜
を酸化物薄膜にて挟持した多層構成の積層膜25の形成と
を一つの設備(装置)にて連続して行なうことは困難で
あった。このため、複数の設備装置が必要になり、ま
た、製造プロセスが複雑になるため製造コストが高くな
るという問題が生じたものである。
弱いためSiO2 層上に直接銀層を形成すると膜剥がれ
を生じてしまう。このため、上述したようにSiO2 層
34と銀系薄膜32との間に密着層(SiO2 層と銀系薄膜
との密着性を向上させるもので、酸化物薄膜31で形成さ
れる)を必要とした。しかし、SiO2 層34と銀系薄膜
32との間に密着層を形成することは、形成する層が1層
分増えるため製造コストが高くなり、また、成膜を2回
に分けなければならない。これによっても、設備装置や
製造プロセスが複雑になり製造コストが高くなるという
問題が生じた。
を持たせる等で、基板上に形成した多層構成の積層膜を
フォトリソプロセスを用い所定の電極パターン形状にエ
ッチング加工する場合がある。しかし、所定のパターン
形状へのエッチング加工の際、エッチングする積層膜が
異種金属を積層した多層構成であるため、異種金属同士
が接触していることによる電気化学的接触腐蝕を生じて
しまい、所望する形状にエッチングすることが困難とい
う問題が生じていた。また、エッチングの際に生じる積
層膜のサイドエッチングによりパターンギャップが広が
ると、電極パターンが所望するパターン幅よりも細くな
り、電極パターンを兼ねた反射膜の光の利用効率が低下
するという問題も生じていた。
ため、液晶パネルの製造中に光反射電極が断線してしま
うという問題も有った。
装置用の反射電極板(背面側電極基板)につき述べた
が、銀系薄膜が挟持された積層膜は、透明電極への適用
も可能である。すなわち、積層膜は、銀系薄膜および酸
化物薄膜の膜厚、酸化物薄膜の組成、素材等を適宜変更
することで透明電極とすることができ、太陽電池、もし
くはEL(エレクトロルミネッセンス)等に用いられる
透明電極基板、あるいは電磁波シールド膜等にも適用で
きる。積層膜を透明電極として基板上に形成した電極基
板においても、上述したと同様の問題(設備および工程
が複雑になり、生産コストが高くなる、所望する形状に
エッチングすることが困難等の問題)が生じるものであ
る。
に鑑みなされたもので、その課題とするところは、高い
信頼性(耐久性)を有しエッチング性が良く、かつ、低
コストで量産性に優れた、金属薄膜を有する電極基板を
提供することにある。
を解決すべく鋭意検討を行い、本発明に至ったものであ
る。
くとも基板上に光反射性電極を形成した反射電極基板で
あって、前記光反射性電極を、基板側から順次、窒化チ
タンからなる下引き層と、金属薄膜からなる光反射層
と、酸化物からなる上側層とを積層した積層膜としたこ
とを特徴とする反射電極基板としたものである。
層上に積層する上側層を、非晶質もしくは非晶質様の酸
化物にて形成したことを特徴とする請求項1に記載の反
射電極基板としたものである。
層上に積層する上側層を、酸化インジウムを含有する非
晶質もしくは非晶質様の酸化物にて形成したことを特徴
とする請求項1または2に記載の反射電極基板としたも
のである。
層上に積層する上側層を、酸化インジウムに酸化セリウ
ムを含有させた非晶質もしくは非晶質様の酸化物にて形
成したことを特徴とする請求項1、2または3に記載の
反射電極基板としたものである。
層上に積層する上側層の膜厚を10nm以下としたこと
を特徴とする請求項1、2、3または4に記載の反射電
極基板としたものである。
層の膜厚を8nm以上としたことを特徴とする請求項
1、2、3、4または5に記載の電極基板としたもので
ある。
膜からなる光反射層を、銀に金もしくは銅の少なくとも
一方を添加した銀合金であって、銀への金属の添加量を
3at%以下とした銀合金にて形成したことを特徴とす
る請求項1、2、3、4、5または6に記載の電極基板
としたものである。
膜からなる光反射層をアルミもしくはアルミ合金にて形
成したことを特徴とする請求項1、2、3、4、5また
は6に記載の電極基板としたものである。
電極基板とするため基板上に形成する光反射性電極を、
基板側から順次、窒化チタンからなる下引き層と、金属
薄膜からなる光反射層と、酸化物からなる上側層とを積
層した積層膜としている。下引き層となる窒化チタン
は、金属薄膜からなる光反射層との密着性が良く、ま
た、基板からNa(ナトリウム)等のアルカリ金属が光
反射層へ拡散することを防止するアルカリバリア効果を
有する。また、液晶パネル化のための製造工程において
光反射層に傷が入ったとしても、窒化チタンは硬度が高
く傷がつきにくいため断線せず、かつ、エッチングによ
るパターニング時にエッチング条件を最適な条件に設定
することで所望する形状にエッチング加工することが可
能となる。
に積層する上側層を、非晶質(アモルファス)もしくは
非晶質様(アモルファス様)の酸化物にて形成してい
る。上側層を構成する酸化物を粒界が無く緻密としたこ
とで、金属薄膜からなる光反射層と上側層との界面での
金属の粒界拡散を抑制できる。
に積層する上側層を、酸化インジウムを含有する非晶質
もしくは非晶質様の酸化物にて形成し、また請求項4に
おいては、光反射層上に積層する上側層を、酸化インジ
ウムに酸化セリウムを含有させた非晶質もしくは非晶質
様の酸化物にて形成している。すなわち、上側層を、酸
化インジウムを含有する非晶質もしくは非晶質様の酸化
物としたことで、信頼性を向上させること、および上側
層表面の電気的抵抗を下げることが可能となり、さら
に、酸化インジウムに酸化セリウムを添加することで耐
性の有る膜とすることができる。
に積層する上側層の膜厚を10nm以下とした。すなわ
ち、光反射層を保護する役割を有する上側層の膜厚を1
0nm以下とすることで、光反射層と上側層との積層体
の光反射率を高くすることが可能となる。
膜厚を8nm以上としている。これにより基板からのア
ルカリ金属の拡散を強固に防止し、かつ、光反射層に傷
が生じた場合でも下引き層により導電性を確保維持する
ことが可能となる。
らなる光反射層を、銀に金もしくは銅の少なくとも一方
を添加した銀合金とし、銀への金属の添加量を3at%
以下としている。これにより反射率の高い光反射層とす
ることができ、かつ、銀のマイグレーションを防止でき
る。
らなる光反射層をアルミもしくはアルミ合金にて形成し
ている。すなわち、請求項8においては、高価な銀に変
えて安価なアルミもしくはアルミ合金を用いるものであ
り、高い光反射率よりも安価な製造コストを反射電極基
板に要求された場合に有効となる。ここでアルミ合金と
するためアルミに添加する金属としては、Cu、Auの
他、Pd、Pt、Niおよび、Hf、Zr、Ti、Z
n、またはPr等のランタノイド系金属等があげられ、
添加する金属および、添加量は特に限定するものでな
く、適宜選択して構わない。
を行う。 (実施例1)図1に示すように、本実施例1に係わる電
極基板1は、SiO2 (酸化珪素)が表面にコートされ
たソーダガラス基板10上に積層膜5を形成している。積
層膜5は、スパッタリング法にて、下引き層(窒化チタ
ン層11)、銀系薄膜12、および上側層(酸化物薄膜層1
3)を順次積層成膜している。ちなみに膜厚は、窒化チ
タン層11を50nm、銀系薄膜12を 150nm、酸化物薄膜
層13を 8.5nmとした。
にて形成し、また、酸化物薄膜層13は酸化インジウムと
酸化セリウムからなる混合酸化物にて形成した。混合酸
化物の組成は、酸素原子を数に含めない金属原子のみの
at%(原子パーセント)にて、酸化インジウムを66.7
at%、酸化セリウムを33.3at%とした。次いで、銀
系薄膜12は、銀に金および銅を添加した銀合金にて形成
したもので、銀合金の組成は、銀98.5at%、金 1.0a
t%、銅 0.5at%とした。
は、以下の製造プロセスにて製造した。すなわち、ガラ
ス基板10に脱脂、洗浄、乾燥処理を行った後、ガラス基
板10をスパッタリング装置内に投入し、装置内を真空排
気した。
-4Paとなった段階でAr(アルゴン)ガスおよびN2
(窒素)ガスを導入し、スパッタリング装置内のガス圧
を0.35Paに調整した。このとき、導入ガス中のN
2 (窒素)は、導入ガス中のN2%で25%(例えば、導
入Arガス 100SCCMに対し、導入N2 ガスを25SCCMの割
合)とするよう調整した。次いで、上記ガスを導入後、
窒化チタンターゲットに電圧を印加し、RF(高周波)
スパッタリングにて基板10上に窒化チタン層11を形成し
た。
電およびガスの導入を停止し、スパッタリング装置内を
真空度5×10-4Paまで排気した。次いで、スパッタ
リング装置内にArガスを導入し、ガス圧を 0.4Paと
なるよう調整し、上記組成とした銀合金(銀、金、銅)
ターゲットに電圧を印加し、DC(直流)スパッタリン
グにて銀系薄膜12を形成した。
よびガスの導入を停止し、スパッタリング装置内を真空
度5×10-4Paまで排気した。次いで、Ar(アルゴ
ン)ガスおよびO2 (酸素)ガスを導入し、スパッタリ
ング装置内のガス圧を0.35Paに調整した。このとき、
導入ガス中のO2 (酸素)ガス量を0.75%(例えば、導
入Arガス 100SCCMに対し、導入O2 ガスを0.75SCCMの
割合)とするよう調整した。次いで、上記ガスを導入
後、上記組成とした混合酸化物(酸化インジウムおよび
酸化セリウム)ターゲットに電圧を印加し、DC(直
流)スパッタリングにて酸化物薄膜層13を形成し、3層
構成の積層膜5とした。
熱は行わず、成膜は真空を保ったまま連続して行った。
ものであり、その光反射率は、可視域の波長( 400〜 7
00nm)で88%以上と高反射率であり、また、面積抵抗
値は0.28Ω/□と低抵抗であった。
膜に以下のフォトリソプロセスを行い、所定のパターン
形状を有する積層膜とした。まず、上述した製造プロセ
スで得た積層膜5上に光感光性樹脂(ポジ型レジスト)
をスピンナーにて膜厚1μmにて塗布した後、オーブン
にて90℃、20分間の乾燥を行った。
ォトマスクを用い、露光装置にて光感光性樹脂にパター
ン露光を行った後、アルカリ現像液(水酸化カリウム
0.75重量%)にて現像を行った。これにより、パタ
ーン露光された光感光性樹脂部位を溶解除去し、所定の
積層膜5部位上に光感光性樹脂パターンを形成した。現
像後、再びオーブンにて90℃、30分間の乾燥を行った。
酸、硝酸、および酢酸を混合したエッチング液を用いた
ものであり、液温40℃のエッチング液中に約30秒間浸漬
してエッチングを行った(すなわち、エッチングによ
り、光感光性樹脂パターンより露出した積層膜5部位を
溶解除去した)。なおエッチングの際、酸化物薄膜層13
および銀系薄膜12がエッチングされたもので、窒化チタ
ン層11はエッチングされず、成膜時の状態で膜状に残留
していた。
せた後、過酸化水素とアンモニア水を混合させたエッチ
ング液にて窒化チタン層11をエッチングした。このとき
のエッチング液の液温は室温程度とし、エッチング時間
は約3分とした。
体に光照射した後、アルカリ剥膜液(水酸化カリウム1
重量%)を用い、光感光性樹脂パターンを剥膜した。次
いで、基板に 180℃、1時間の乾燥を行い、所定の形状
パターンとした積層膜(反射電極)を得た。
パターンとした積層膜は、エッチングの際のサイドエッ
チングが小さく抑えられており、エッチングで形成され
た電極パターンのギャップ(隣接する電極間の距離)は
約6μmと狭くできた。すなわち、サイドエッチングの
小さくできた分、電極パターンの幅を広くすることがで
き、光を有効に反射することが可能となった。また、本
実施例1で得られた基板上の所定の形状パターンとした
積層膜(反射電極)に故意に傷を付けた。傷は、ゼムク
リップの丸い部分で積層膜(反射電極)を軽くこすって
付けた。傷を付けた基板10を配線検査機にかけ、積層膜
(反射電極)の電気的断線を検査したところ、窒化チタ
ン層11には傷による断線が生じておらず、傷による積層
膜(反射電極)の断線は発生していなかった。
施例2に係わる電極基板1は、SiO2 (酸化珪素)が
表面にコートされたソーダガラス基板10上に積層膜5を
形成している。積層膜5は、スパッタリング法にて、下
引き層(窒化チタン層11)、銀系薄膜12、および上側層
(酸化物薄膜13)を順次積層成膜した後、所定のパター
ン形状に形成している。なお、本実施例2においては、
窒化チタン層11の膜厚を50nm、銀系薄膜12の膜厚を 150
nm、酸化物薄膜13の膜厚を 3.5nmとした。
し、酸化物薄膜13は酸化インジウムおよび酸化セリウム
からなる混合酸化物で形成し、その組成は、酸素原子を
数に含めない金属原子のみのat%(原子パーセント)
にて、酸化インジウムを66.7at%(原子パーセン
ト)、酸化セリウムを33.3at%(原子パーセント)と
した。次いで、銀系薄膜12は、銀に金および銅を添加し
た銀合金にて形成したもので、銀合金の組成は、銀98.5
at%(原子パーセント)、金 1.0at%(原子パーセ
ント)、銅 0.5at%(原子パーセント)とした。
は、以下の製造プロセスにて製造した。すなわち、ま
ず、ガラス基板10に脱脂、洗浄、乾燥処理を行った後、
ガラス基板10をスパッタリング装置内に投入した。本実
施例2で用いたスパッタリング装置はロードロックタイ
プと呼称されるものである。すなわち、装置内は例えば
水平方向に連続した3部屋に分割されており、搬送用ト
レーにセットされた基板が順次各部屋に搬送されてい
く。後述する成膜中の汚染が隣接した部屋での処理に影
響を及ぼさないよう、各部屋は所定の間隔をもって配置
され、また、シールドおよび排気の工夫も行っている。
また、ガラス基板10を投入後、スパッタリング装置内は
真空排気し、真空度が5×10 -4Paに達した段階でA
rガスを導入し、スパッタリング装置内が 0.4Paとな
るよう調整している。
基板10は、搬送用トレーにて水平搬送され、スパッタリ
ング装置内の各部屋を所定の速度で移動する。その際、
各部屋で順次、窒化チタン層11、銀系薄膜12、酸化物薄
膜13が成膜形成される。
10が通過する際、第一部屋内に設置した窒化チタンター
ゲットに電圧を印加し、DC(直流)スパッタリングに
て窒化チタン層11を形成した。同様に第二部屋内を基板
10が通過する際、上記組成とした銀合金(銀、金、およ
び銅)ターゲットに電圧を印加し、DC(直流)スパッ
タリングにて銀系薄膜12を形成した。次いで、第三部屋
内を基板10が通過する際、上記組成とした混合酸化物
(酸化インジウムおよび酸化セリウム)ターゲットに電
圧を印加し、DC(直流)スパッタリングにて酸化物薄
膜13を形成した。なおスパッタリングの際、第一部屋内
ではArガスに加えてN2 ガスを導入したものであり、
第一部屋内のN2 ガスの割合は25%(導入Arガス 100
SCCMに対し、導入N2 ガスを25SCCMの割合)とし、同様
に第三部屋内ではArガスに加えてO2 ガスを導入した
ものであり、第三部屋内のO2 ガスの割合は0.75%(導
入Arガス 100SCCMに対し、導入O2 ガスを0.75SCCMの
割合)とした。基板10への成膜中、基板10は無加熱とし
たものであり、上述した積層成膜を行った後、基板10に
180℃、1時間のベークを行った。
て形成したものであり、その光反射率は、可視域の波長
( 400〜 700nm)で90%以上と高反射率であり、ま
た、面積抵抗値は0.27Ω/□と低抵抗であった。
積層膜5に上記(実施例1)で記したのと同様のフォト
リソプロセスを行い、所定のパターン形状を有する積層
膜とした。
った積層膜は、エッチングの際のサイドエッチングが小
さく抑えられており、エッチングで形成された電極パタ
ーンのギャップ(隣接する電極間の距離)は約6μmと
狭くできた。すなわち、サイドエッチングの小さくでき
た分、電極パターンの幅を広くすることができ、光を有
効に反射することが可能となった。また、本実施例2で
得られた基板上の所定の形状パターンとした積層膜(反
射電極)に故意に傷を付けた。傷は、ゼムクリップの丸
い部分で積層膜(反射電極)を軽くこすって付けた。傷
を付けた基板10を配線検査機にかけ、積層膜(反射電
極)の電気的断線を検査したところ、窒化チタン層11に
は傷による断線が生じておらず、傷による積層膜(反射
電極)の断線は発生していなかった。
たが、本発明の実施形態は上述した説明および図面に限
定されるものではなく、本発明の趣旨に基づき種々の変
形を行っても構わないことはいうまでもない。
うに、従来、銀系薄膜をガラス板等の基板上に形成し電
極基板とするには、基板からのアルカリ金属の拡散によ
る銀のマイグレーションを防止するため、予め基板上に
SiO2 層を形成した後に銀系薄膜を形成していた。し
かしその場合、SiO2 層と銀系薄膜との密着性が悪い
ため、SiO2 層と銀系薄膜との間に酸化物薄膜からな
る密着層の形成を必要としていた。そのため、従来の電
極基板においては、製造プロセスが複雑となり、製造コ
ストが高くなっていた。また、基板上に酸化物薄膜にて
銀系薄膜を挟持した積層膜を形成後、積層膜を所定のパ
ターンとすべくフォトリソプロセスによりパターンニン
グを行うと、異種金属同士の接触による接触腐蝕を生じ
てしまい、所望する形状にエッチングすることが困難と
いう問題が生じていた。
かく傷がつきやすく断線を生じやすいものであった。
成する下引き層を、硬く傷がつきにくく、銀系薄膜との
密着性の良い導電性を有する窒化チタンとしている。窒
化チタンからなる下引き層は、基板からのNa等のアル
カリ金属の銀系薄膜への拡散を防止するアルカリバリア
効果を有することとなり、基板上へのSiO2 層の形成
を不要としている。すなわち本発明によれば、基板上へ
のSiO2 層の形成を不要とした分、層構成の単純な電
極基板を提供できる。すなわち、本発明によれば、製造
コストの低い電極基板の提供が可能となる。
ソプロセスで所定のパターン形状とするとき、下引き層
は銀系薄膜との密着性が良好であることから、エッチン
グの際に生じるサイドエッチングが防止された精度の良
い電極パターンを得ることができる。すなわち本発明に
よれば、品質の面においても良好な電極基板を提供する
ことが可能となる。さらに、下引き層は硬く傷がつきに
くいことから、傷による断線の心配も解消される。
造コストを低く押さえた品質の良い電極基板を得ること
ができる。
説明図。
図。
Claims (8)
- 【請求項1】少なくとも基板上に光反射性電極を形成し
た反射電極基板であって、前記光反射性電極を、基板側
から順次、窒化チタンからなる下引き層と、金属薄膜か
らなる光反射層と、酸化物からなる上側層とを積層した
積層膜としたことを特徴とする反射電極基板。 - 【請求項2】前記光反射層上に積層する上側層を、非晶
質もしくは非晶質様の酸化物にて形成したことを特徴と
する請求項1に記載の反射電極基板。 - 【請求項3】前記光反射層上に積層する上側層を、酸化
インジウムを含有する非晶質もしくは非晶質様の酸化物
にて形成したことを特徴とする請求項1または2に記載
の反射電極基板。 - 【請求項4】前記光反射層上に積層する上側層を、酸化
インジウムに酸化セリウムを含有させた非晶質もしくは
非晶質様の酸化物にて形成したことを特徴とする請求項
1、2または3に記載の反射電極基板。 - 【請求項5】前記光反射層上に積層する上側層の膜厚を
10nm以下としたことを特徴とする請求項1、2、3
または4に記載の反射電極基板。 - 【請求項6】前記下引き層の膜厚を8nm以上としたこ
とを特徴とする請求項1、2、3、4または5に記載の
電極基板。 - 【請求項7】前記金属薄膜からなる光反射層を、銀に金
もしくは銅の少なくとも一方を添加した銀合金であっ
て、銀への金属の添加量を3at%以下とした銀合金に
て形成したことを特徴とする請求項1、2、3、4、5
または6に記載の電極基板。 - 【請求項8】前記金属薄膜からなる光反射層をアルミも
しくはアルミ合金にて形成したことを特徴とする請求項
1、2、3、4、5または6に記載の電極基板。
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