JP2001002609A - フルオレンの回収方法及びフルオレン骨格を有するジオールの精製方法 - Google Patents
フルオレンの回収方法及びフルオレン骨格を有するジオールの精製方法Info
- Publication number
- JP2001002609A JP2001002609A JP11171288A JP17128899A JP2001002609A JP 2001002609 A JP2001002609 A JP 2001002609A JP 11171288 A JP11171288 A JP 11171288A JP 17128899 A JP17128899 A JP 17128899A JP 2001002609 A JP2001002609 A JP 2001002609A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorene
- carbon atoms
- general formula
- crude product
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】一般式(1)のジオール化合物の製造工程におい
て、当該化合物の簡易な精製方法、さらには反応原料で
あるフルオレンの簡易な回収方法を提供する。 【解決手段】フルオレン、下記一般式(1) 【化１】 [式中Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって炭素数1〜8のアル
キレン基を示す]で表わされるジオール化合物、及び下
記一般式(2) 【化２】 [式中Ｒ3は炭素数1〜8のアルキレン基を示す]で表され
る化合物を含有する粗生成物を、炭素数1〜4のアルコー
ルで処理してフルオレンを回収する方法；フルオレンが
回収された上記粗組成物を、芳香族炭化水素で処理して
一般式(1)で表されるジオール化合物を精製する方法；
並びにこれらを含むプロセス。
て、当該化合物の簡易な精製方法、さらには反応原料で
あるフルオレンの簡易な回収方法を提供する。 【解決手段】フルオレン、下記一般式(1) 【化１】 [式中Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって炭素数1〜8のアル
キレン基を示す]で表わされるジオール化合物、及び下
記一般式(2) 【化２】 [式中Ｒ3は炭素数1〜8のアルキレン基を示す]で表され
る化合物を含有する粗生成物を、炭素数1〜4のアルコー
ルで処理してフルオレンを回収する方法；フルオレンが
回収された上記粗組成物を、芳香族炭化水素で処理して
一般式(1)で表されるジオール化合物を精製する方法；
並びにこれらを含むプロセス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフルオレン骨格を有
するジオールの製造工程におけるフルオレンの回収方法
及びジオールの精製方法、並びにこれらを含むプロセス
に関する。
するジオールの製造工程におけるフルオレンの回収方法
及びジオールの精製方法、並びにこれらを含むプロセス
に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般式（１）
【０００３】
【化７】
【０００４】［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なっ
て、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。］で表され
る、フルオレン骨格を有するジオールは、エポキシ樹
脂、ポリエステル、ポリウレタン等の製造原料として有
用な物質である。従来、上記ジオールの製造工程におい
て、精製はカラムクロマトグラフィー等を用いて行って
いたが、より容易に実施できる精製法は未だ知られてい
ない。
て、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。］で表され
る、フルオレン骨格を有するジオールは、エポキシ樹
脂、ポリエステル、ポリウレタン等の製造原料として有
用な物質である。従来、上記ジオールの製造工程におい
て、精製はカラムクロマトグラフィー等を用いて行って
いたが、より容易に実施できる精製法は未だ知られてい
ない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、一般式
（１）のジオール化合物の製造工程において、当該化合
物の簡易な精製方法、さらには反応原料であるフルオレ
ンの簡易な回収方法を提供することを目的とする。
（１）のジオール化合物の製造工程において、当該化合
物の簡易な精製方法、さらには反応原料であるフルオレ
ンの簡易な回収方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究し
た結果、反応の粗生成物を特定の溶媒を用いて処理する
ことにより上記目的を達成することを見出し、本発明を
完成した。
た結果、反応の粗生成物を特定の溶媒を用いて処理する
ことにより上記目的を達成することを見出し、本発明を
完成した。
【０００７】即ち、本発明は下記の各項に示す発明を提
供するものである。
供するものである。
【０００８】項１ フルオレン、下記一般式（１）
【０００９】
【化８】
【００１０】［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なっ
て、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。］で表わされ
るジオール化合物、及び下記一般式（２）
て、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。］で表わされ
るジオール化合物、及び下記一般式（２）
【００１１】
【化９】
【００１２】［式中、Ｒ3は、炭素数１〜８のアルキレ
ン基を示す。］で表される化合物を含有する粗生成物
を、炭素数１〜４のアルコールで処理してフルオレンを
回収する方法。
ン基を示す。］で表される化合物を含有する粗生成物
を、炭素数１〜４のアルコールで処理してフルオレンを
回収する方法。
【００１３】項２ フルオレン、下記一般式（１）
【００１４】
【化１０】
【００１５】［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なっ
て、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。］で表わされ
るジオール化合物、及び下記一般式（２）
て、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。］で表わされ
るジオール化合物、及び下記一般式（２）
【００１６】
【化１１】
【００１７】［式中、Ｒ3は、炭素数１〜８のアルキレ
ン基を示す。］で表される化合物を含有する粗生成物
を、炭素数１〜４のアルコールで処理してフルオレンを
回収した後、芳香族炭化水素で処理して一般式（１）で
表されるジオール化合物を精製する方法。
ン基を示す。］で表される化合物を含有する粗生成物
を、炭素数１〜４のアルコールで処理してフルオレンを
回収した後、芳香族炭化水素で処理して一般式（１）で
表されるジオール化合物を精製する方法。
【００１８】項３ フルオレンと下記一般式（３）
【００１９】
【化１２】
【００２０】（Ｒ4及びＲ5は、同一又は異なって、水素
原子又は炭素数１〜７のアルキル基を示す。ただし、Ｒ
4及びＲ5の炭素数の合計は０〜７である。）で表される
カルボニル化合物とを反応させ、得られた粗生成物を炭
素数１〜４のアルコールで処理してフルオレンを回収し
て当該フルオレンを上記反応に再利用し、粗生成物から
フルオレンが回収された混合物を芳香族炭化水素で処理
して下記一般式（１）
原子又は炭素数１〜７のアルキル基を示す。ただし、Ｒ
4及びＲ5の炭素数の合計は０〜７である。）で表される
カルボニル化合物とを反応させ、得られた粗生成物を炭
素数１〜４のアルコールで処理してフルオレンを回収し
て当該フルオレンを上記反応に再利用し、粗生成物から
フルオレンが回収された混合物を芳香族炭化水素で処理
して下記一般式（１）
【００２１】
【化１３】
【００２２】［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なっ
て、炭素原子数１〜８のアルキレン基を示す。］で表わ
されるジオール化合物を精製するプロセス。
て、炭素原子数１〜８のアルキレン基を示す。］で表わ
されるジオール化合物を精製するプロセス。
【００２３】
【発明の実施の形態】上記一般式において、炭素原子数
１〜８のアルキレン基としては、メチレン、ジメチレ
ン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタ
メチレン基等の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が例示
される。これらの中でも、炭素数１〜４の直鎖状のアル
キレン基が好ましく、メチレン基が最も好ましい。
１〜８のアルキレン基としては、メチレン、ジメチレ
ン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタ
メチレン基等の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が例示
される。これらの中でも、炭素数１〜４の直鎖状のアル
キレン基が好ましく、メチレン基が最も好ましい。
【００２４】一般式（１）で表されるジオール化合物に
おいて、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なっていてもよいが、
同一であることが好ましい。
おいて、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なっていてもよいが、
同一であることが好ましい。
【００２５】炭素数１〜７のアルキル基としては、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル基等の
直鎖状又は分岐状のアルキル基が例示される。これらの
中でも、炭素数１〜３の直鎖状のアルキル基が好まし
く、メチル基が最も好ましい。
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル基等の
直鎖状又は分岐状のアルキル基が例示される。これらの
中でも、炭素数１〜３の直鎖状のアルキル基が好まし
く、メチル基が最も好ましい。
【００２６】一般式（３）で表されるカルボニル化合物
としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、バレルアルデヒ
ド、ヘキサナール、ヘプタナール、オクタナール等の炭
素数１〜８のアルデヒド；アセトン、エチルメチルケト
ン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノ
ン、２−オクタノン等の炭素数３〜８のケトン等が好ま
しく例示される。カルボニル化合物としては、特にホル
ムアルデヒド及びアセトアルデヒドが好ましい。
としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、バレルアルデヒ
ド、ヘキサナール、ヘプタナール、オクタナール等の炭
素数１〜８のアルデヒド；アセトン、エチルメチルケト
ン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノ
ン、２−オクタノン等の炭素数３〜８のケトン等が好ま
しく例示される。カルボニル化合物としては、特にホル
ムアルデヒド及びアセトアルデヒドが好ましい。
【００２７】一般式（１）で表されるジオールは、例え
ばフルオレンと一般式（３）で表されるカルボニル化合
物とを反応させて得ることができる。フルオレンと一般
式（３）のカルボニル化合物とを反応させる際に、フル
オレンに対し２倍モル程度のカルボニル化合物を反応さ
せると、一般式（１）のジオールを効率よく製造するこ
とができる。該反応は、通常、フルオレンとカルボニル
化合物とを混合し、溶媒の存在下又は不存在下におい
て、例えば−３０〜３０℃程度、好ましくは−２０〜２
０℃程度の温度条件下、０．５分〜１時間程度、好まし
くは１〜３０分程度、必要に応じて攪拌することにより
行うことができる。
ばフルオレンと一般式（３）で表されるカルボニル化合
物とを反応させて得ることができる。フルオレンと一般
式（３）のカルボニル化合物とを反応させる際に、フル
オレンに対し２倍モル程度のカルボニル化合物を反応さ
せると、一般式（１）のジオールを効率よく製造するこ
とができる。該反応は、通常、フルオレンとカルボニル
化合物とを混合し、溶媒の存在下又は不存在下におい
て、例えば−３０〜３０℃程度、好ましくは−２０〜２
０℃程度の温度条件下、０．５分〜１時間程度、好まし
くは１〜３０分程度、必要に応じて攪拌することにより
行うことができる。
【００２８】上記反応を溶媒の存在下で行うと、塩基を
用いた場合に、塩基と反応原料を均一に混合できるので
好ましい。溶媒としては、特に限定されるものではない
が、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラヒドロ
フラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等の
非プロトン性極性溶媒等が好ましく例示される。また、
溶媒としてはピリジンも好ましく例示される。溶媒の使
用量は適宜設定できるが、通常フルオレン１ｇ当たり５
〜５００ｍＬ程度である。
用いた場合に、塩基と反応原料を均一に混合できるので
好ましい。溶媒としては、特に限定されるものではない
が、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラヒドロ
フラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等の
非プロトン性極性溶媒等が好ましく例示される。また、
溶媒としてはピリジンも好ましく例示される。溶媒の使
用量は適宜設定できるが、通常フルオレン１ｇ当たり５
〜５００ｍＬ程度である。
【００２９】上記反応は塩基、特に強塩基の存在下で行
うのが好ましく、例えば、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、ｔ−ブチルカリウム、ベンジルトリ
メチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム等が好ましく例示でき
る。塩基の使用量は、通常、フルオレン１モル当たり
０．０５〜５モル程度である。
うのが好ましく、例えば、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、ｔ−ブチルカリウム、ベンジルトリ
メチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム等が好ましく例示でき
る。塩基の使用量は、通常、フルオレン１モル当たり
０．０５〜５モル程度である。
【００３０】溶媒と塩基を併用する場合は、カルボニル
化合物の種類等に応じて適宜組み合わせて用いることが
できるが、ＤＭＳＯとナトリウムエトキシド、ピリジン
とベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ＴＨ
Ｆとベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジ
メチルホルムアミドとナトリウムメトキシド等の組み合
わせが好ましい。これら組み合わせは、反応終了後、例
えば水を加えることにより反応物と塩基とを容易に分離
することができるので好ましい。
化合物の種類等に応じて適宜組み合わせて用いることが
できるが、ＤＭＳＯとナトリウムエトキシド、ピリジン
とベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ＴＨ
Ｆとベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジ
メチルホルムアミドとナトリウムメトキシド等の組み合
わせが好ましい。これら組み合わせは、反応終了後、例
えば水を加えることにより反応物と塩基とを容易に分離
することができるので好ましい。
【００３１】反応は、酸を添加することにより終了する
ことができ、反応終了後、例えば、必要に応じて反応液
に水を加えて反応液を希釈し、次いで塩化ナトリウムを
加えて飽和させ、酢酸エチル等を用いた抽出により得ら
れた抽出液を減圧蒸留等により濃縮することができる。
ことができ、反応終了後、例えば、必要に応じて反応液
に水を加えて反応液を希釈し、次いで塩化ナトリウムを
加えて飽和させ、酢酸エチル等を用いた抽出により得ら
れた抽出液を減圧蒸留等により濃縮することができる。
【００３２】反応液には、目的化合物である一般式
（１）で表されるジオール化合物、未反応のフルオレン
及び副生成物である一般式（２）で表される化合物が含
まれている。本発明における「粗生成物」は少なくとも
これら３成分を含有していればよい。例えば、粗生成物
は、上記反応における反応液、当該反応液に酸を加えて
中和したもの、これらの抽出液、濃縮物等のいずれであ
ってもよい。
（１）で表されるジオール化合物、未反応のフルオレン
及び副生成物である一般式（２）で表される化合物が含
まれている。本発明における「粗生成物」は少なくとも
これら３成分を含有していればよい。例えば、粗生成物
は、上記反応における反応液、当該反応液に酸を加えて
中和したもの、これらの抽出液、濃縮物等のいずれであ
ってもよい。
【００３３】フルオレンの回収 フルオレン、一般式（１）で表されるジオール化合物及
び一般式（２）で表される化合物を含有する粗生成物、
例えば上記反応における反応液、抽出液、濃縮物等を炭
素数１〜４のアルコールで処理することにより、高純度
のフルオレンを回収することができる。
び一般式（２）で表される化合物を含有する粗生成物、
例えば上記反応における反応液、抽出液、濃縮物等を炭
素数１〜４のアルコールで処理することにより、高純度
のフルオレンを回収することができる。
【００３４】炭素数１〜４のアルコールとしては、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙
げられる。アルコールは、粗生成物に対して、重量比で
通常５〜３００倍程度、好ましくは１０〜１００倍程使
用する。
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙
げられる。アルコールは、粗生成物に対して、重量比で
通常５〜３００倍程度、好ましくは１０〜１００倍程使
用する。
【００３５】フルオレンの回収は、例えば、粗生成物を
アルコールに溶解し、これを冷却してフルオレンを析出
させ、析出したフルオレンを濾過、必要に応じて乾燥す
ることにより行うことができる。具体的には、粗生成物
に所定量のアルコールを加えて５０℃程度〜アルコール
の沸点程度の温度で、１分〜２時間程度攪拌して充分溶
解させた後、フルオレンが析出するまで冷却する。例え
ば室温〜−１０℃程度まで冷却すると、効率よくフルオ
レンを析出させることができるので好ましい。析出した
フルオレンは濾過により回収され、濾液は一般式（１）
のジオール化合物の精製のために、例えば下記の処理に
供される。
アルコールに溶解し、これを冷却してフルオレンを析出
させ、析出したフルオレンを濾過、必要に応じて乾燥す
ることにより行うことができる。具体的には、粗生成物
に所定量のアルコールを加えて５０℃程度〜アルコール
の沸点程度の温度で、１分〜２時間程度攪拌して充分溶
解させた後、フルオレンが析出するまで冷却する。例え
ば室温〜−１０℃程度まで冷却すると、効率よくフルオ
レンを析出させることができるので好ましい。析出した
フルオレンは濾過により回収され、濾液は一般式（１）
のジオール化合物の精製のために、例えば下記の処理に
供される。
【００３６】上記粗生成物を炭素数１〜４のアルコール
で処理して回収したフルオレンは、純度が極めて高いの
で、原料として再利用使用することができ、例えば一般
式（１）のジオール化合物を得るための上記反応の原料
として再利用することができる。
で処理して回収したフルオレンは、純度が極めて高いの
で、原料として再利用使用することができ、例えば一般
式（１）のジオール化合物を得るための上記反応の原料
として再利用することができる。
【００３７】ジオールの精製 粗生成物からフルオレンが回収された残りの混合物（例
えば上記回収方法における濾液）には一般式（１）で表
されるジオール化合物が含まれているが、当該混合物を
芳香族炭化水素で処理すると、極めて高純度のジオール
化合物が得られる。
えば上記回収方法における濾液）には一般式（１）で表
されるジオール化合物が含まれているが、当該混合物を
芳香族炭化水素で処理すると、極めて高純度のジオール
化合物が得られる。
【００３８】芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トル
エン、キシレン等のベンゼン環を１個有する炭化水素が
挙げられる。これら芳香族炭化水素は、処理される粗生
成物に対して、重量比で１〜１０００倍程度用いるのが
好ましい。
エン、キシレン等のベンゼン環を１個有する炭化水素が
挙げられる。これら芳香族炭化水素は、処理される粗生
成物に対して、重量比で１〜１０００倍程度用いるのが
好ましい。
【００３９】一般式（１）のジオール化合物の精製は、
例えばフルオレンが回収された後の混合物を、芳香族炭
化水素に溶解し、冷却してジオールを析出させ、析出し
たジオールを濾過、必要に応じて乾燥することにより行
うことができる。フルオレンが回収された後の混合物と
して、上記に例示した回収方法における濾液を使用する
場合は、例えば減圧蒸留等により濃縮させ、所定量の芳
香族炭化水素を加えて５０℃程度〜芳香族炭化水素の沸
点程度の温度で、１分〜２時間程度攪拌して充分溶解さ
せた後、ジオールが析出するまで冷却する。例えばトル
エンを用いる場合は、室温〜−１０℃程度まで冷却する
と効率よくジオールを析出させることができる。得られ
たジオールは、純度が極めて高く高品質である。
例えばフルオレンが回収された後の混合物を、芳香族炭
化水素に溶解し、冷却してジオールを析出させ、析出し
たジオールを濾過、必要に応じて乾燥することにより行
うことができる。フルオレンが回収された後の混合物と
して、上記に例示した回収方法における濾液を使用する
場合は、例えば減圧蒸留等により濃縮させ、所定量の芳
香族炭化水素を加えて５０℃程度〜芳香族炭化水素の沸
点程度の温度で、１分〜２時間程度攪拌して充分溶解さ
せた後、ジオールが析出するまで冷却する。例えばトル
エンを用いる場合は、室温〜−１０℃程度まで冷却する
と効率よくジオールを析出させることができる。得られ
たジオールは、純度が極めて高く高品質である。
【００４０】フルオレンの回収及びジオールの精製を含
むプロセス 本発明には、フルオレンと一般式（３）で表されるカル
ボニル化合物とを反応させ、得られた粗生成物を炭素数
１〜４のアルコールで処理してフルオレンを回収して上
記反応に再利用し、粗生成物よりフルオレンが回収され
た混合物を芳香族炭化水素で処理して一般式（１）で表
わされるジオール化合物を精製するプロセスも含まれ
る。フルオレンと一般式（３）のカルボニル化合物との
反応、フルオレンの回収方法及びジオール化合物の精製
方法については、上記と同様にして行うことができる。
むプロセス 本発明には、フルオレンと一般式（３）で表されるカル
ボニル化合物とを反応させ、得られた粗生成物を炭素数
１〜４のアルコールで処理してフルオレンを回収して上
記反応に再利用し、粗生成物よりフルオレンが回収され
た混合物を芳香族炭化水素で処理して一般式（１）で表
わされるジオール化合物を精製するプロセスも含まれ
る。フルオレンと一般式（３）のカルボニル化合物との
反応、フルオレンの回収方法及びジオール化合物の精製
方法については、上記と同様にして行うことができる。
【００４１】
【実施例】実施例１ 攪拌器、冷却管及びビュレットを備えた内容積１,００
０ｍＬの容器に、フルオレン２６．５ｇ、ホルムアルデ
ヒド５．０ｇ及びジメチルスルホキシド２００ｍＬを仕
込んだ。当該混合物を０℃にて攪拌しながら、ナトリウ
ムエトキシド０．８ｇの５ｍＬエタノール溶液を３０秒
かけて滴下した後、反応温度を０℃に保ち、３分間攪拌
を続けた。
０ｍＬの容器に、フルオレン２６．５ｇ、ホルムアルデ
ヒド５．０ｇ及びジメチルスルホキシド２００ｍＬを仕
込んだ。当該混合物を０℃にて攪拌しながら、ナトリウ
ムエトキシド０．８ｇの５ｍＬエタノール溶液を３０秒
かけて滴下した後、反応温度を０℃に保ち、３分間攪拌
を続けた。
【００４２】塩酸での中和により反応を終了させた後、
反応液に２００ｍＬの水を加えて希釈した。次いで、食
塩５００ｇを反応液に加えて飽和させ、酢酸エチルを用
いて抽出した。抽出液を減圧蒸留により濃縮し、得られ
た粗生成物にエタノール１０００ｍＬを加え、６０℃に
て攪拌して完全に溶解させた後、１０℃まで冷却した。
析出した結晶を、濾過により分離・回収した。得られた
結晶は、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲによりフルオレンと同定
された。また、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲチャートには非常
にクリアーなピークがみられ、極めて高純度のフルオレ
ンが回収されていることがわかった。
反応液に２００ｍＬの水を加えて希釈した。次いで、食
塩５００ｇを反応液に加えて飽和させ、酢酸エチルを用
いて抽出した。抽出液を減圧蒸留により濃縮し、得られ
た粗生成物にエタノール１０００ｍＬを加え、６０℃に
て攪拌して完全に溶解させた後、１０℃まで冷却した。
析出した結晶を、濾過により分離・回収した。得られた
結晶は、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲによりフルオレンと同定
された。また、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲチャートには非常
にクリアーなピークがみられ、極めて高純度のフルオレ
ンが回収されていることがわかった。
【００４３】次いで濾液を濃縮して混合物を得、ベンゼ
ン１０００ｍＬを加えて６０℃にて攪拌して完全に溶解
させた後、１５℃まで冷却した。析出した結晶を濾過し
て分離し、乾燥させて製品を得た。得られた製品は1Ｈ
−ＮＭＲ及びＩＲにより９，９’−ビス（ヒドロキシメ
チル）フルオレン（ＢＨＭＦ）と同定された。収率は７
２％（２６．０ｇ）であった。図１に示す1Ｈ−ＮＭＲ
チャート及び図２に示すＩＲチャートには、非常にクリ
アなピークがみられ、極めて高純度のＢＨＭＦが得られ
たことがわかる。
ン１０００ｍＬを加えて６０℃にて攪拌して完全に溶解
させた後、１５℃まで冷却した。析出した結晶を濾過し
て分離し、乾燥させて製品を得た。得られた製品は1Ｈ
−ＮＭＲ及びＩＲにより９，９’−ビス（ヒドロキシメ
チル）フルオレン（ＢＨＭＦ）と同定された。収率は７
２％（２６．０ｇ）であった。図１に示す1Ｈ−ＮＭＲ
チャート及び図２に示すＩＲチャートには、非常にクリ
アなピークがみられ、極めて高純度のＢＨＭＦが得られ
たことがわかる。
【００４４】実施例２ 攪拌器、冷却管及びビュレットを備えた内容積５００ｍ
Ｌの容器に、フルオレン１６．６ｇ、アセトアルデヒド
４．６ｇ及びＴＨＦ１５０ｍＬを仕込んだ。当該混合物
を−１０℃にて攪拌しながら、ベンジルトリメチルアン
モニウムヒドロキシド０．５ｇの５ｍＬメタノール溶液
を３０秒かけて滴下した後、反応温度を−１０℃に保
ち、１０分間攪拌を続けた。塩酸での中和により反応を
終了させた後、反応液に１５０ｍＬの水を加えて希釈し
た。次いで、食塩３００ｇを反応液に加えて飽和させ、
酢酸エチルを用いて抽出した。抽出液を減圧蒸留により
濃縮し、析出した結晶を、濾過により分離・回収した。
得られた結晶は、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲによりフルオレ
ンと同定された。また、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲチャート
には非常にクリアーなピークがみられ、極めて高純度の
フルオレンが回収されていることがわかった。
Ｌの容器に、フルオレン１６．６ｇ、アセトアルデヒド
４．６ｇ及びＴＨＦ１５０ｍＬを仕込んだ。当該混合物
を−１０℃にて攪拌しながら、ベンジルトリメチルアン
モニウムヒドロキシド０．５ｇの５ｍＬメタノール溶液
を３０秒かけて滴下した後、反応温度を−１０℃に保
ち、１０分間攪拌を続けた。塩酸での中和により反応を
終了させた後、反応液に１５０ｍＬの水を加えて希釈し
た。次いで、食塩３００ｇを反応液に加えて飽和させ、
酢酸エチルを用いて抽出した。抽出液を減圧蒸留により
濃縮し、析出した結晶を、濾過により分離・回収した。
得られた結晶は、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲによりフルオレ
ンと同定された。また、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲチャート
には非常にクリアーなピークがみられ、極めて高純度の
フルオレンが回収されていることがわかった。
【００４５】次いで実施例１と同様にして結晶を析出さ
せ、当該結晶を濾過して分離し、乾燥させて製品を得
た。得られた製品は、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲにより９，
９−ビス（ヒドロキシメチル）フルオレン（ＢＨＭＦ）
と同定された。収率は６９％（１４．６ｇ）であった。
1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲチャートには非常にクリアなピー
クがみられ、極めて高純度のＢＨＭＦが得られたことが
わかった。
せ、当該結晶を濾過して分離し、乾燥させて製品を得
た。得られた製品は、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲにより９，
９−ビス（ヒドロキシメチル）フルオレン（ＢＨＭＦ）
と同定された。収率は６９％（１４．６ｇ）であった。
1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲチャートには非常にクリアなピー
クがみられ、極めて高純度のＢＨＭＦが得られたことが
わかった。
【００４６】
【発明の効果】本発明によれば、フルオレンの回収及び
一般式（２）のジオール化合物の精製を容易に行うこと
が可能となる。
一般式（２）のジオール化合物の精製を容易に行うこと
が可能となる。
【図１】実施例１で得られたＢＨＭＦの1Ｈ−ＮＭＲチ
ャート。
ャート。
【図２】実施例１で得られたＢＨＭＦのＩＲチャート。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 須田 康裕 大阪府大阪市中央区平野町四丁目１番２号 大阪瓦斯株式会社内 (72)発明者 孫 軍 大阪府大阪市中央区平野町四丁目１番２号 大阪瓦斯株式会社内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC41 AD15 AD17 BB11 BB14 BC51 BD42 BD51 BD52 FC56 FE11
Claims (3)
- 【請求項１】 フルオレン、 下記一般式（１） 【化１】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、炭素数１〜
８のアルキレン基を示す。］で表わされるジオール化合
物、及び下記一般式（２） 【化２】 ［式中、Ｒ3は、炭素数１〜８のアルキレン基を示
す。］で表される化合物を含有する粗生成物を、炭素数
１〜４のアルコールで処理してフルオレンを回収する方
法。 - 【請求項２】 フルオレン、 下記一般式（１） 【化３】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、炭素数１〜
８のアルキレン基を示す。］で表わされるジオール化合
物、及び下記一般式（２） 【化４】 ［式中、Ｒ3は、炭素数１〜８のアルキレン基を示
す。］で表される化合物を含有する粗生成物を、炭素数
１〜４のアルコールで処理してフルオレンを回収した
後、芳香族炭化水素で処理して一般式（１）で表される
ジオール化合物を精製する方法。 - 【請求項３】 フルオレンと下記一般式（３） 【化５】 （Ｒ4及びＲ5は、同一又は異なって、水素原子又は炭素
数１〜７のアルキル基を示す。ただし、Ｒ4及びＲ5の炭
素数の合計は０〜７である。）で表されるカルボニル化
合物とを反応させ、得られた粗生成物を炭素数１〜４の
アルコールで処理してフルオレンを回収して当該フルオ
レンを上記反応に再利用し、粗生成物からフルオレンが
回収された混合物を芳香族炭化水素で処理して下記一般
式（１） 【化６】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、炭素原子数
１〜８のアルキレン基を示す。］で表わされるジオール
化合物を精製するプロセス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11171288A JP2001002609A (ja) | 1999-06-17 | 1999-06-17 | フルオレンの回収方法及びフルオレン骨格を有するジオールの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11171288A JP2001002609A (ja) | 1999-06-17 | 1999-06-17 | フルオレンの回収方法及びフルオレン骨格を有するジオールの精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001002609A true JP2001002609A (ja) | 2001-01-09 |
Family
ID=15920545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11171288A Pending JP2001002609A (ja) | 1999-06-17 | 1999-06-17 | フルオレンの回収方法及びフルオレン骨格を有するジオールの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001002609A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001002751A (ja) * | 1999-06-16 | 2001-01-09 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン骨格を有するポリウレタン及びその製造方法 |
-
1999
- 1999-06-17 JP JP11171288A patent/JP2001002609A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001002751A (ja) * | 1999-06-16 | 2001-01-09 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン骨格を有するポリウレタン及びその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2559332B2 (ja) | フルオレン誘導品の製造方法及びその精製方法 | |
| JP2001002609A (ja) | フルオレンの回収方法及びフルオレン骨格を有するジオールの精製方法 | |
| JPH0421674A (ja) | ２―クロロ―５―（アミノメチル）チアゾールの製造方法 | |
| JP4519564B2 (ja) | １−アミノシクロプロパンカルボン酸の精製方法及び製造方法 | |
| CN114524803B (zh) | 一种喹啉化合物中间体的合成方法 | |
| CN111848361B (zh) | 新型环三藜芦烃类似物及其衍生物、制备方法和应用 | |
| JP3291987B2 (ja) | Ｏ，ｓ−ジメチル−ｎ−アセチルホスホルアミドチオエートの精製法 | |
| JP3790880B2 (ja) | 新規な２，４，６−トリメルカプト−１，３，５−トリアジンのトリリチウム塩又はトリカリウム塩の水和物並びに水和物及び無水物の製造法 | |
| JPH03271273A (ja) | ２―クロロ―５―（アミノメチル）ピリジンの製造方法 | |
| JP4478437B2 (ja) | メチレンノルカンファーの製造方法 | |
| JP3787866B2 (ja) | ｐ−クレゾールの２核体ジメチロール化合物の製造方法 | |
| JP4340914B2 (ja) | 新規な２，４，６−トリメルカプト−１，３，５−トリアジンのトリリチウム塩又はトリカリウム塩の水和物並びに水和物及び無水物の製造法 | |
| JP2024060692A (ja) | ジアミンの製造方法 | |
| JP2023177660A (ja) | ルテニウム錯体の製造方法、並びにルテニウム錯体及びこれを用いたジアミンの製造方法 | |
| JPH08134038A (ja) | カルバジン酸の製造法 | |
| JP2023152806A (ja) | ４，４’－ジヒドロキシビフェニル－３，３’－ジカルボン酸の製造方法 | |
| CN117683003A (zh) | 一种恩格列净中间体合成新工艺 | |
| JPH1045715A (ja) | ２，３，３−トリメチル−４，５−ベンズインドレニンの製造方法 | |
| CN116375714A (zh) | 卡巴地那非类药物关键中间体的制备方法 | |
| CN114524802A (zh) | 一种喹啉化合物的合成方法 | |
| JPS58167553A (ja) | Ｎ，ｎ′−メチレンビスフエニルアセトアミドの製法 | |
| JPH09110764A (ja) | ビスアルキルフェノール系化合物の製造方法 | |
| JP2002308839A (ja) | ２−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸の製造方法 | |
| JPH1160550A (ja) | スルホニルオキシトロポン類の製造方法 | |
| JP2009029753A (ja) | フェニルアゾメチンデンドリマー（ｄｐａ）類の合成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061205 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061213 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070411 |