JP2001000515A - 消臭装置 - Google Patents

消臭装置

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JP2001000515A
JP2001000515A JP11178352A JP17835299A JP2001000515A JP 2001000515 A JP2001000515 A JP 2001000515A JP 11178352 A JP11178352 A JP 11178352A JP 17835299 A JP17835299 A JP 17835299A JP 2001000515 A JP2001000515 A JP 2001000515A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 消臭装置において、使用済オゾンを簡易に安
全な濃度にまで希釈化して排気可能とすること。 【解決手段】 処置室11にオゾン含有空気を供給可能
とする送風機15とオゾン発生器16を有してなる消臭
装置10であって、処置室11に空気を導入して該処置
室11のオゾン含有空気のオゾン濃度を希釈するオゾン
濃度希釈用送風機31を有してなるもの。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は履物等の被消臭物を
消臭する消臭装置に関する。
【0002】
【従来の技術】靴、サンダル等の履物を乾式で短時間に
殺菌、消臭する、オゾン含有空気を用いた消臭装置とし
て、特開平11-114037 号公報に記載のものがある。従来
技術では、履物を処置室に入れ、その処置室自体にオゾ
ンを放射するものであり、履物の被消臭領域である内底
付近にオゾンを十分に浸透させるためには、オゾン放射
時間を延ばし、或いはオゾン濃度を上げることが必要と
なる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】然しながら、従来技術
には以下の問題点がある。 オゾンは高い殺菌消臭力を有する反面、高濃度のまま
処置室外に排気されると、人体に有害となる。同時に、
高濃度を安全レベルまで希釈するには、複雑で高価なオ
ゾン分解装置を備えることが必要となり、実用を損な
う。
【0004】オゾンは処置室の内部に供給されるに過
ぎず、履物の内部等、被消臭物の被消臭領域に局部集中
的に供給するものでなければ、被消臭領域に十分に浸透
させることができず、オゾン放射時間の延長やオゾン濃
度を上げることが必要となる。
【0005】オゾン放射口が被消臭物から離れた位置
にあり、然もオゾン放射口から被消臭物までの距離が被
消臭物の高低等の固体差によってより大きくなると、オ
ゾンが被消臭物に到達する以前に処置室内の大気と反応
して希釈化されてしまい、このような場合には、オゾン
放射時間をより延長し、オゾン濃度をより上げることが
必要となる。
【0006】本発明の課題は、消臭装置において、使用
済オゾンを簡易に安全な濃度にまで希釈化して排気可能
とすることにある。
【0007】また、本発明の課題は、オゾンを被消臭物
の被消臭領域に簡易に十分に浸透可能とすることにあ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の本発明
は、処置室に入れた被消臭物にオゾンを放射して消臭す
る消臭装置において、処置室に空気を送風する送風手段
と、送風手段から処置室に至る閉流路の中間に介装され
てオゾン含有空気を処置室に供給可能とするオゾン発生
手段と、処置室に空気を導入して該処置室のオゾン含有
空気のオゾン濃度を希釈するオゾン濃度希釈手段とを有
してなるようにしたものである。
【0009】請求項2記載の建物は、請求項1に記載の
本発明において更に、前記送風手段とオゾン発生手段が
生成したオゾン含有空気を閉流路のまま処置室に導くノ
ズルと、ノズルのオゾン放射口を被消臭物の被消臭領域
付近に位置付けるノズル移動手段を有してなるようにし
たものである。
【0010】請求項3記載の建物は、請求項2に記載の
本発明において更に、前記ノズルのオゾン放射口の位置
を検知するノズル位置検知手段と、ノズル位置検知手段
の検知結果に基づき、ノズル移動手段を制御するコント
ローラ部を有してなるようにしたものである。
【0011】
【作用】請求項1の本発明によれば下記、の作用が
ある。 オゾンによる被消臭物の消臭後、オゾン濃度希釈手段
が処置室に空気を導入して処置室のオゾン含有空気のオ
ゾン濃度を希釈するから、使用済オゾンを簡易に安全な
濃度にまで希釈化して排気できる。
【0012】送風手段がオゾン発生手段の上流側(外
気側)に排気されるから、オゾンの強い酸化力が送風手
段の構成材料を酸化してその故障率を高める如くを防止
できる。
【0013】請求項2の本発明によれば下記の作用が
ある。 オゾン放射ノズルのオゾン放射口が、オゾン発生手段
で生成したオゾン含有空気を閉流路のまま、被消臭物の
被消臭領域付近に位置付けられる。従って、オゾン含有
空気が、被消臭領域に放射される前段階で処置室の内部
空気と反応してそのオゾン濃度を希釈化されてしまうこ
となく、オゾンを被消臭物の被消臭領域に簡易に十分に
浸透させることができる。これにより、オゾン放射時間
を延長したり、オゾン濃度を上げることなく、高い消臭
効果を得ることができる。
【0014】請求項3の本発明によれば下記の作用が
ある。 オゾン放射ノズルのオゾン放射口がノズル位置検知手
段の検知結果に基づき、被消臭物の被消臭領域付近に的
確に位置付けられる。従って、より高い消臭効果を得る
ことができる。
【0015】
【発明の実施の形態】図1は消臭装置の第1実施形態を
示す模式図、図2はノズル移動手段を示す模式図、図3
は被消臭物検知手段を示す模式図、図4は消臭装置の消
臭手順を示す流れ図、図5は消臭装置の第2実施形態を
示す模式図である。
【0016】(第1実施形態)(図1〜図4) 消臭装置10は、図1〜図3に示す如くに構成され、被
消臭物1(消臭対象物)をオゾンの酸化力により殺菌、
消臭可能とするものであり、被消臭物1のための処置室
11と、機械室12とを区画形成している。被消臭物1
としては、履物、容器等、いずれであっても良い。
【0017】消臭装置10は、処置室11の正面に開閉
扉13を備えるとともに、扉13の全閉でオンする近接
スイッチ等の扉開閉検知装置14を備えている。
【0018】消臭装置10は、機械室12に、エアポン
プ、ファン等のオゾン供給用送風機15(送風手段)、
オゾン発生器16(オゾン発生手段)、オゾン放射ノズ
ル17、ノズル移動装置18(ノズル移動手段)を備え
ている。また、機械室12には送風機15に対する外気
取入口15Aが形成され、処置室11にはノズル17が
移動可能に貫通するノズル挿通口19が形成されてい
る。送風機15は外気を取入れ、この外気を、処置室1
1に至る閉流路たるオゾン供給管20の中間に介装され
ているオゾン発生器16に圧送し、これによって生成さ
れるオゾン含有空気を閉流路のままノズル17に供給
し、ひいてはノズル17のオゾン放射口17Aから被消
臭物1に放射可能とする。このとき、オゾン放射ノズル
17は、ノズル移動装置18により、被消臭物1の被消
臭領域付近(履物等の内側)に位置付けられ、オゾン放
射口17Aからオゾン含有空気を放射し、オゾン含有空
気を被消臭領域に至るまでにそのオゾン濃度が希釈化さ
れることを回避している。尚、ノズル移動装置18は、
モータ21の駆動によりノズル17を上下動し、モータ
21の回転量検出センサ22(ノズル位置検知手段)に
よりノズル17のオゾン放射口17Aの位置を検知可能
としている。ノズル17の上限位置はノズル上限検知セ
ンサ23により検知可能とされている。回転量検出セン
サ22、ノズル上限検知センサ23は例えば赤外線セン
サを採用できる。
【0019】消臭装置10は、機械室12に、エアポン
プ、ファン等のオゾン濃度希釈用送風機31(オゾン濃
度希釈手段)を備え、送風機31に対する外気取入口3
2が形成され、処置室11には希釈用空気流入口33が
形成されている。また、機械室12は、処置室11との
連通部にオゾン分解手段であるフィルタ34を備え、機
械室12には排気口35が形成されている。
【0020】消臭装置10は、処置室11の両側壁に被
消臭物検知センサ41を設けてある。被消臭物検知セン
サ41は、例えば高さ方向複数位置(3位置)のそれぞ
れに配置されて相対向する各一対の赤外線センサ41A
〜41Cから構成されている。赤外線センサ41A〜4
1Cの透光のいずれか1点でも遮光されたとき、処置室
11内に被消臭物1が存在することを検知する。被消臭
物検知センサ41は多点(3点)配置されることによ
り、例えばハイヒール等、靴底部に空間のある被消臭物
1でも検知できる。
【0021】消臭装置10は、機械室12にコントロー
ラ部51を配置してある。コントローラ部51は、マイ
クロコンピュータ、メモリ等からなるシーケンサ52を
備え、シーケンサ52は、被消臭物検知センサ41、扉
開閉検知装置14、モータ21の回転量検出センサ2
2、ノズル上限検知センサ23の検知信号を入力し、オ
ゾン供給用送風機15、オゾン濃度希釈用送風機31、
オゾン発生器16、ノズル移動装置18のモータ21に
作動指令を出力する。尚、シーケンサ52には、オゾン
放射ノズル17の下降、オゾン供給用送風機15による
オゾン放射、オゾン濃度希釈用送風機31によるオゾン
希釈の各表示ランプ53、54、55も接続されてい
る。
【0022】以下、消臭装置10による消臭手順につい
て説明する(図4)。 (1) シーケンサ52は、電源投入がなされることでスタ
ートして初期設定され起動する。消臭装置10が待機状
態であることを示すフラグFaが「1」であるか否かの
判断がなされ、「1」であると判断された場合に、処置
待機行程となる。
【0023】(2) 処置待機行程において、先ず被消臭物
検知センサ41から被消臭物1を検知したとの信号、及
び扉開閉検知装置14から扉13が閉鎖状態にある信号
の双方が入力されるとノズル移動行程に移る。このと
き、待機フラグFaは「0」となり、後述する希釈終了
フラグFb、被消臭物取出フラグFcも「0」となる。
これに対し、作業フラグFdは「1」となる。
【0024】(3) ノズル移動行程では、モータ21に下
降(正回転)信号を出力し、同時にノズル下降表示ラン
プ53を点灯させ、モータ12が回転する限り、ノズル
17は被消臭物1に向けて下降する。このとき、モータ
21の回転量検出センサ22は、モータ21の回転に応
ずる一定間隔で信号を送る。ノズル17の先端放射口1
7Aが被消臭物1に触れた場合には、モータ21の回転
が止まり、センサ22からの信号がなくなり、これを判
断した場合にモータ21に上昇(逆回転)信号を出力
し、ノズル17を少量だけ上昇させ、ノズル17の先端
放射口17Aと被消臭物1との間にオゾン放射間隔のみ
を確保する。これが終了するとオゾン放射行程に移る。
【0025】(4) オゾン放射行程では、オゾン供給用送
風機15及びオゾン発生器16に作動信号を出力し、オ
ゾンを被消臭物1に向けて放射すると同時にオゾン放射
表示ランプ54を点灯する。シーケンサ52に内蔵され
たタイマT1 がカウントを始め、該タイマT1 が設定値
(予め被消臭物1に応じて定めた放射作業時間で、例え
ば30秒間)に達すると、オゾン放射行程は終了する。オ
ゾン放射行程が終了すると希釈行程に移り、同時に作業
フラグFdは「0」となる。
【0026】(5) 希釈行程では、オゾン濃度希釈用送風
機31に作動信号を送り、処置室11の外部空気を大量
に処置室11の内部へ送り込み、処置室11の内部のオ
ゾン濃度を希釈し、希釈表示ランプ55を点灯する。同
時にタイマT2 がカウントを始め、該タイマT2 が設定
値(オゾン放射時間に合わせ、予め設定されたオゾン希
釈時間であり、例えば16秒)に達すると希釈行程を終了
し、希釈終了フラグFbが「1」になる。同時に、作業
フラグFdが「0」になることによって上昇行程にな
り、ノズル17が上限に達する(ノズル上限センサ23
の信号を受ける)まで回転モータ21に上昇(逆回転)
信号を送り、ノズル17を上昇させる。そして、作業フ
ラグFdが「0」の状態で、被消臭物1を取出す(被消
臭物検知センサ41からの入力がなくなる)と被消臭物
取出フラグFcが「1」になる。作業フラグFdが
「0」であり、希釈終了フラグFb及び被消臭物取出フ
ラグFcが「1」になると待機状態となり、待機フラグ
Faが「1」になる。このとき、一度消臭した被消臭物
1がそのまま処置室11の内部に残っていると、被消臭
物取出フラグFcが「0」のままであり、待機状態にな
ることはなく、よって続けて2回目の消臭作業が行なわ
れてしまうことがない。
【0027】尚、ノズル下降行程又はオゾン放射行程に
おいて、扉13が開くことが予想されるが、扉13が開
く(扉開閉検知装置14からの入力がなくなる)と、作
業フラグFdが「0」になり、ノズル下降行程及びオゾ
ン放射行程は終了する。前述の通りオゾン放射行程が終
了すると希釈行程に移り、これと同時に作業フラグFd
が「0」になることによって上昇行程となる。希釈行程
及び上昇行程が終了すると待機フラグFaが「1」にな
り待機状態になることも前述と同じである。
【0028】以上のように、被消臭物1を処置室11に
入れ、扉13を閉鎖することにより、上述(1) 〜(5) の
一連の消臭作業を自動的に行なう。
【0029】従って、本実施形態によれば、以下の作用
がある。 オゾンによる被消臭物1の消臭後、オゾン濃度希釈用
送風機31が処置室11に空気を導入して処置室11の
オゾン含有空気のオゾン濃度を希釈するから、使用済オ
ゾンを簡易に安全な濃度にまで希釈化して排気できる。
【0030】オゾン供給用送風機15がオゾン発生器
16の上流側(外気側)に排気されるから、オゾンの強
い酸化力がオゾン供給用送風機15の構成材料を酸化し
てその故障率を高める如くを防止できる。
【0031】オゾン放射ノズル17のオゾン放射口1
7Aが、オゾン発生器16で生成したオゾン含有空気を
閉流路のまま、被消臭物1の被消臭領域付近に位置付け
られる。従って、オゾン含有空気が、被消臭領域に放射
される前段階で処置室11の内部空気と反応してそのオ
ゾン濃度を希釈化されてしまうことなく、オゾンを被消
臭物1の被消臭領域に簡易に十分に浸透させることがで
きる。これにより、オゾン放射時間を延長したり、オゾ
ン濃度を上げることなく、高い消臭効果を得ることがで
きる。
【0032】オゾン放射ノズル17のオゾン放射口1
7Aがモータ21の回転量検出センサ22(モータ21
の回転量検出センサ22(ノズル位置検知手段))の検
知結果に基づき、被消臭物1の被消臭領域付近に的確に
位置付けられる。従って、より高い消臭効果を得ること
ができる。
【0033】上述、により、消臭装置10は被消臭
物1に見合った必要最小限のオゾン放射時間(送風機1
5及びオゾン発生器16が作動する消臭作業時間設定値
T1)だけオゾンを放射すれば足り、処置室11のサイ
ズに見合う多量のオゾン量を必要としない。このため、
オゾン供給量、オゾン排出量を抑制でき、結果として、
オゾン発生手段(オゾン発生器16)、オゾン分解手段
(フィルタ34)を簡易化でき、コスト低減できる。
【0034】扉開閉検知装置14と被消臭物検知セン
サ41を用いて、処置室11の扉13が閉鎖且つ被消臭
物1が有りのときのみ、送風機15とオゾン発生器16
を作動させてオゾンを放射するようにし、オゾン放射作
業中に扉13が開くことがあれば、即オゾン放射を停止
し、オゾン濃度希釈作業を行なう指令を出すことができ
る。これにより、扉13の開放時にオゾンの発生放出を
行なうことを防止できる。
【0035】(第2実施形態)(図5) 第2実施形態は、小サイズの被消臭物1を消臭可能とす
るものであり、被消臭物1としての小物を格納する容器
61を用いたものである。容器61は、ノズル17が浸
入できる開口61Aを備える。
【0036】被消臭物1を収容した容器61を処置室1
1に配置し、扉13を閉めることにより、第1実施形態
と同様の消臭作業が開始され、ノズル17が容器61に
入り、ノズル17の放射口17Aから放射されるオゾン
含有空気による消臭作業がなされる。
【0037】第2実施形態によれば、被消臭物1のサイ
ズに応じた容器61を用いることにより、処置室11の
容量に関係なく、被消臭物1のサイズに見合ったオゾン
量のみを用いて十分な消臭効果を得ることができ、消臭
作業時間も短く設定できる。
【0038】以上、本発明の実施の形態を図面により詳
述したが、本発明の具体的な構成はこの実施の形態に限
られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の
設計の変更等があっても本発明に含まれる。
【0039】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、消臭装置
において、使用済オゾンを簡易に安全な濃度にまで希釈
化して排気可能とすることができる。
【0040】また、本発明によれば、オゾンを被消臭物
の被消臭領域に簡易に十分に浸透させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は消臭装置の第1実施形態を示す模式図で
ある。
【図2】図2はノズル移動手段を示す模式図でる。
【図3】図3は被消臭物検知手段を示す模式図である。
【図4】図4は消臭装置の消臭手順を示す流れ図であ
る。
【図5】図5は消臭装置の第2実施形態を示す模式図で
ある。
【符号の説明】
1 被消臭物 10 消臭装置 11 処置室 15 オゾン供給用送風機(送風手段) 16 オゾン発生器(オゾン発生手段) 17 オゾン放射ノズル 17A オゾン放射口 18 ノズル移動装置(ノズル移動手段) 22 回転量検出センサ(ノズル位置検知手段) 31 オゾン濃度希釈用送風機(オゾン濃度希釈手段) 51 コントローラ部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 処置室に入れた被消臭物にオゾンを放射
    して消臭する消臭装置において、 処置室に空気を送風する送風手段と、 送風手段から処置室に至る閉流路の中間に介装されてオ
    ゾン含有空気を処置室に供給可能とするオゾン発生手段
    と、 処置室に空気を導入して該処置室のオゾン含有空気のオ
    ゾン濃度を希釈するオゾン濃度希釈手段とを有してなる
    ことを特徴とする消臭装置。
  2. 【請求項2】 前記送風手段とオゾン発生手段が生成し
    たオゾン含有空気を閉流路のまま処置室に導くノズル
    と、ノズルのオゾン放射口を被消臭物の被消臭領域付近
    に位置付けるノズル移動手段を有してなる請求項1記載
    の消臭装置。
  3. 【請求項3】 前記ノズルのオゾン放射口の位置を検知
    するノズル位置検知手段と、ノズル位置検知手段の検知
    結果に基づき、ノズル移動手段を制御するコントローラ
    部を有してなる請求項2記載の消臭装置。
JP11178352A 1999-06-24 1999-06-24 消臭装置 Withdrawn JP2001000515A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014039778A (ja) * 2012-08-24 2014-03-06 Panasonic Corp 空気清浄装置
JP2014090900A (ja) * 2012-11-05 2014-05-19 Panasonic Corp 空気清浄装置
JP2014166260A (ja) * 2013-02-28 2014-09-11 Fujitsu General Ltd 脱臭装置

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