JP2000506179A - ピリミジルフェニルエーテル及びピリミジルベンジルエーテル、その製造、その製造用中間体、及びその使用方法 - Google Patents

ピリミジルフェニルエーテル及びピリミジルベンジルエーテル、その製造、その製造用中間体、及びその使用方法

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JP2000506179A JP9532253A JP53225397A JP2000506179A JP 2000506179 A JP2000506179 A JP 2000506179A JP 9532253 A JP9532253 A JP 9532253A JP 53225397 A JP53225397 A JP 53225397A JP 2000506179 A JP2000506179 A JP 2000506179A
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Abstract

(57)【要約】 式I: [但し、Qが、C(CO2CH3)=CHCH3、C(CO2CH3)=CHOCH3、C(CONHCH3)=CHOCH3、C(CONH2)=NOCH3、C(CONHCH3)=NOCH3又はN(OCH3)−CO2CH3を表し;nが0又は1を表し;R1が水素又は炭素原子を介して結合した有機基を表し;R2が、水素、シアノ、ハロゲン又は炭素原子、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を介して結合した有機基を表し;R3が、水素、ハロゲン、C1〜C4アルキル又はC1〜C2ハロアルキルを表し;R4が、水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン又は炭素原子、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を介して結合した有機基を表し;yが、0、1、2又は3を表し、且つyが2又は3を表す場合はR5が互いに異なっていても良く;R5が、シアノ、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル又はC1〜C4アルコキシを表す。]で表されるピリミジルフェニルエーテル又はピリミジルベンジルエーテル、又はその塩もしくはそのN−オキシド;その製造方法、その製造用中間体及びその用途。

Description

【発明の詳細な説明】 ピリミジルフェニルエーテル及びピリミジルベンジルエーテル、その製造、 その製造用中間体、及びその使用方法 本発明は、式I: [但し、Qが、C(CO2CH3)=CHCH3、C(CO2CH3)=CHOCH3 、C(CONHCH3)=CHOCH3、C(CONH2)=NOCH3、 C(CONHCH3)=NOCH3又はN(OCH3)−CO2CH3を表し; nが0又は1を表し; R1が水素、又は炭素原子を介して結合した有機基を表し; R2が、水素、シアノ、ハロゲン、又は炭素原子、酸素原子、硫黄原子もしく は窒素原子を介して結合した有機基を表し; R3が、水素、ハロゲン、C1〜C4アルキル又はC1〜C2ハロアルキルを表し ; R4が、水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、又は炭素原子、酸素原子、硫黄原 子もしくは窒素原子を介して結合した有機基を表し; yが、0,1、2又は3を表し、且つyが2又は3を表す場合はR5が互いに 異なっていても良く; R5が、シアノ、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル又はC1 〜C4アルコキシを表す。] で表されるピリミジルフェニルエーテル又はピリミジルベンジルエーテル、又は その塩もしくはそのN−オキシドに関する。 更に、本発明は、上記化合物の製造するための方法及び中間体、及び有害菌類 及び有害動物の防除のために上記化合物を使用する方法に関する。 殺菌性、又は殺菌性及び殺虫性を有するが、ピリミジル部分の置換基が本発明 の化合物とは異なる、ピリミジルフェニルエーテル及びピリミジルベンジルエー テルについては、下記の文献(即ち、EP−A254426、EP−A2785 95、EP−A299694、EP−A363818、EP−A35061)E P−A398692、EP−A407873、EP−A477631、EP−A 513580、JP−A04/182461、WO−A93/15046)に記 載されている。 本発明は、活性度が改善され且つ作用の適用範囲が拡大した化合物を提供する ことにある。 本発明者等は、上記目的が、冒頭に記載した化合物Iにより達成されることを 見出した。また、これらの化合物を製造するための方法及び中間体、並びに有害 動物及び有害菌類の防除にこれらの化合物を使用する方法についても見出した。 化合物Iは、それ自体文献に公知の方法により、種々な経路で得ることができ る。 例えば、基Qの合成は、冒頭で引用した文献に開示されており、一般に、また 特にその中に記載された方法で行われる。 化合物Iを合成する場合、通常、式IIaのピリミジン誘導体を、式IIIaのフェ ノール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反応させて、式IVaの対応する エーテルに転化し、次いでIVaをO−置換ヒドロキシルアミン(R1−O−NH2 )又はその塩と反応させてIを得る手順が実施される。 式IIaの上記L1が求核的に置換可能な脱離基、例えばハロゲン(例、弗素、塩 素、臭素又は沃素)、又はアルキルスルホナート或いはアリールスルホナート( 例、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナ ート又はメチルフェニルスルホナート)、を表す。 1a)IIaとIIIaとの反応は、通常、不活性溶剤中、塩基の存在下で0〜13 0℃、好ましくは20〜80℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、te rt−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン )、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、ケトン(例、アセ トン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン及びtert−ブチルメチルケトン )、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる 。特に、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド及び アセトンが好ましい。これらの混合物も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウム 、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属ア ミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカリ 金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウム )、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合物 、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニ ルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム )及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコキシド(例、ナト リムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウムter t−ブトキシド及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基、例えば第 3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルエチ ルアミン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリジン (collidine)、ルチジン(lutidine)及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び2 環アミンを挙げることができる。炭酸カリウム、水素化ナトリウム及びカリウム tert−ブチラートが特に好ましい。一般に、塩基は 触媒量で用いられるが 、等モルあるいは過剰で用いることができ、あるいは所望により溶剤として使用 することもできる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。収率の点で、IIIaに対し てIIaを過剰に使用することが有利であろう。 1b)IVaとO−置換ヒドロキシルアミン又はその塩との反応は、通常、不活 性溶剤中、0〜80℃、好ましくは20〜60℃の範囲で、O−置換ヒドロキシ ルアミンがその塩から遊離している場合には、酸の存在或いは不存在下、又は塩 基の存在或いは不存在下で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ter t−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン) 、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、アルコール(例、メ タノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール 及びtert−ブタノール)、更にジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミ ド及びピリジンを挙げることができる。特に、メタノール及びピリジンが好まし い。これらの混合物も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウム 、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属ア ミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカリ 金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウム )、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合物 、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニ ルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム )及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコキシド(例、ナト リムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウムter t−ブトキシド及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基、例えば第 3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルエチ ルアミン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリジン 、ルチジン及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び2環アミンを挙げることが できる。特にピリジン及び水酸化ナトリウムが好ましい。一般に、塩基は触媒量 で用いられるが、等モルあるいは過剰で用いることができ、あるいは所望により 溶剤として使用することもできる。 使用される酸、酸性触媒としては、無機酸(例、フッ化水素酸、塩酸、臭化水 素酸、硫酸及び過塩素酸)、ルイス酸(例、三フッ化硼素、三塩化アルミニウム 、塩化鉄(III)、塩化錫(IV)、塩化チタン(IV)及び塩化亜鉛(II)、及び有機酸( 例、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、クエン酸及びトリフルオロ酢酸)を挙げ ることができる。一般に、酸は 触媒量で用いられる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。収率の点から、IVaに対 してヒドロキシルアミン又はその塩を過剰に使用することが有利であろう。 同様に、化合物Iは、まず式IIaのピリミジン誘導体を、O−置換ヒドロキシ ルアミン(R1−O−NH2)又はその塩と反応させて式Vaの対応する化合物に転 化し、次いでVaをIIIaのフェノール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反 応させてIとすることにより得られる。 反応は、一般に、また特に上記方法により行われる。 nが1の場合の化合物Iは、式IIbのピリミジンアルコールを式IIIbのベンジ ル化合物と反応させて式IVbの対応するベンジルエーテルに転化し、そして次い でIVbをO−置換ヒドロキシルアミン(R1−O−NH2)又はその塩と反応さ せてIとすることにより得ることが好ましい。 式IIIbにおけるL2は、求核的に置換可能な脱離基、例えばハロゲン(例、塩 素、臭素又は沃素)、又はアルキルスルホナート或いはアリールスルホナート( 例、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナ ート又はメチルフェニルスルホナート)、を表す。 2a)IIbとIIIbとの反応は、通常、不活性溶剤中、塩基の存在下で0〜13 0℃、好ましくは20〜60℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ter t−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン) 、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、ケトン(例、アセト ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン及びtert−ブチルメチルケトン) 、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることがで きる。特に、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド及び アセトンが好ましい。これらの混合物も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウム 、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属ア ミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカリ 金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウム )、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合物 、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニ ルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム )及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコキシド(例、ナト リムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウムter t−ブトキシド及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基、例えば第 3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルエチ ルアミン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリジン 、ルチジン及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び2環アミンを挙げることが できる。炭酸カリウム、水素化ナトリウム及びカリウムtert−ブチラートが 特に好ましい。一般に、塩基は 触媒量で用いられるが、等モルあるいは過剰で 用いることができ、あるいは所望により溶剤として使用することもできる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。収率を得るため、IIIbに 対してIIbを過剰に使用することが有利である場合がある。 2b)IVbとO−置換ヒドロキシルアミン又はその塩との反応は、通常及び特 に、前記1b)の項で記載した条件で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ter t−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン) 、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、アルコール(例、メ タノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール 及びtert−ブタノール)、更にジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミ ド及びピリジンを挙げることができる。特に、メタノール及びピリジンが好まし い。これらの混合物も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウム 、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属ア ミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカリ 金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウム )、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合物 、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニ ルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム )及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコキシド(例、ナト リムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウムter t−ブトキシド及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基、例えば第 3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルエチ ルアミン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリジン 、ルチジン及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び2環アミンを挙げることが できる。特にピリジン及び水酸化ナトリウムが好ましい。一般に、塩基は触媒量 で用いられるが、等モルあるいは過剰で用いることができ、あるいは所望により 溶剤として使用することもできる。 使用される酸、酸性触媒としては、無機酸(例、フッ化水素酸、塩酸、臭化水 素酸、硫酸及び過塩素酸)、ルイス酸(例、三フッ化硼素、三塩化アルミニウム 、塩化鉄(III)、塩化錫(IV)、塩化チタン(IV)及び塩化亜鉛(II)、及び有機酸( 例、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、クエン酸及びトリフルオロ酢酸)を挙げ ることができる。一般に、酸は 触媒量で用いられる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。収率の点から、IIIbに対 してIIbを過剰に使用することが有利であろう。 同様に、nが1の場合の化合物Iは、まず式IIaのピリミジンアルコールを、 O−置換ヒドロキシルアミン(R1−O−NH2)又はその塩と反応させて式Vbの 対応する化合物に転化し、次いでVbを式IIIbのベンジル化合物と不活性溶剤中で 反応させてIとすることにより得られる。 反応は、一般に、また特に上記方法により行われる。 上記方法で化合物Iの製造に必要で、且つ冒頭で述べた文献に知られていない 式IIIa及びIIIbの出発物質は、これらの公報に記載の方法に従う同様な方法で製 造することができる。 式IIaの出発物質は、式VIaの適宜置換されたピリミジンを式VIIaの活性カルボ ン酸と不活性溶剤中、有機金属塩基の存在下に反応させることにより得られる (参照、J.Organomet.Chem.56(1973),53-66;Chem.Ber.L125(1992),1169- 1190)。 式VIaのY1は、ハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素及び沃素、特に臭素及 び沃素を表す。 式VIIのL3は、ハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素及び沃素、特に塩素; またはアミド或いはエステル基を表す。化合物VIIaの代わりに対応するシアニド R2−C≡Nを使用することもできる。 この反応は、通常、不活性溶剤中、有機金属塩基の存在下で−75〜40℃、 好ましくは−75〜0℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、te rt−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン )、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる 。特に、ジエチルエーテル及びテトラヒドロフランが好ましい。これらの混合物 も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、有機金属化合物、特にアルキルアルカリ金属( 例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニルリチウム)、ハロゲン化アル キルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム)を挙げることができる。特に n−ブチルリチウムが好ましい。一般に、塩基を等モルまたは過剰に使用するこ とができる。 一般に、出発材料を、互いに等モル量で反応させる。収率の点で、VIaに対し てVIIaを過剰に使用することが有利であろう。 別の方法では、化合物IIaは、一般式VIIIaのハロゲン化ピリミジンカルボニル を有機金属化合物(R2−M;Mは金属イオン当量である)と不活性溶剤中で反 応させることによっても得られる[参照、DE−A3838243、EP−A4 46872]。 特に好適な金属(M)はリチウム、マグネシウム、銅及び亜鉛である。 式VIIIaのL4は、ハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素及び沃素、特に塩素 を表す。 この反応は、通常、不活性溶剤中、有機金属塩基の存在下で−80〜20℃、 好ましくは−75〜0℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、te rt−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン )を挙げることができる。特に、ジエチルエーテル及びテトラヒドロフランが好 ましい。これらの混合物も使用することができる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。収率の点で、VIIIaに対 して有機金属化合物を過剰に使用することが有利であろう。 別の方法によれば、化合物IIaは、一般式VIIIaのハロゲン化ピリミジンカルボ ニルを式IXのマロン酸エステルと不活性溶剤中で反応させて対応するトリケトン VIIIbに転化し、次いでVIIIbを反応させてIIaとすることによっても得られる[ 参照、Tetrahedron48 (22)(1992),9233]. 式VIIIb及びIXaのRyは、R2の基である。 式VIIIb及びIXaのRは、互いに独立してC1〜C4アルキル、特にメチル及びエ チルを表す。 3a)VIIIaとIXaとの反応は、通常、不活性溶剤中、塩基の存在下、及びルイ ス酸(例、塩化マグネシウム)の存在もしくは不存在下に、0〜120℃、好ま しくは20〜80℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ter t−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン) 、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、ケトン(例、アセト ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン及びtert−ブチルメチルケトン) 、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる。 特に、トルエンが好ましい。これらの混合物も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウ ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属 アミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカ リ金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウ ム)、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合 物、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェ ニルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウ ム)及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコキシド(例、ナ トリムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウムte rt−ブトキシド及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基、例えば 第3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルエ チルアミン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリジ ン、ルチジン及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び2環アミンを挙げること ができる。特に水酸化ナトリウム及びトリエチルアミンが好ましい。一般に、塩 基は等モル量で用いられるが、過剰でも用いることができ、あるいは所望により 溶剤として使用することもできる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。収率の点で、VIIIaに対 してIXaを過剰に使用することが有利であろう。 3b)VIIIbとIIaとの脱炭酸は、通常、不活性溶剤中、塩基の存在又は不存在 下に、60〜200℃、好ましくは100−160℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp−キ シレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化ベンゼン)、ニトリル(例、アセトニ トリル及びプロピオニトリル)、アルコール(例、メタノール、エタノール、n −プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール及びtert−ブタノール )、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる 。特に、水及びジメチルスルホキシドが好ましい。これらの混合物も使用するこ とができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウム 、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属ア ミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカリ 金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウム )、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合物 、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニ ルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム )及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコキシド(例、ナト リムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウムter t−ブトキシド及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基、例えば第 3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミ ン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリジン、ルチ ジン及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び2環アミンを挙げることができる 。特に水酸化ナトリウム及びナトリウムメタノラートが好ましい。一般に、塩基 は触媒量で用いられるが、等モル量或いは過剰で用いることができ、或いは所望 により、溶剤として使用することもできる。 式IIbの出発材料は、式VIaの適当に置換されたピリミジン誘導体をアルコラー ト(R’−O-+;R’はC1〜C4アルキル、M+は当量のアルカリ金属カチオ ン又はアルカリ土類金属カチオン、特にナトリウム又はカリウム)と、塩基の存 在下に反応させて式VIbの対応するアルキルピリミジルエーテルに転化させ、次 いでVIbを、上記方法(VIaの反応)と同様にして式VIIaの活性化カルボン酸と反 応させることにより対応するエーテルIIcに転化させ、その後IIcを開裂してIIb とすることにより得られる。 4a)VIaのVIbへのエーテル化は、通常、不活性溶剤の存在下で、0〜120 ℃、好ましくは20〜80℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ter t−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン) 、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、ケトン(例、アセト ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン及びtert−ブチルメチルケトン) 、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる。 特に、ジメチルホルムアミドが好ましい。これらの混合物も使用することができ る。 一般に、ピリミジン誘導体VIaとアルコラートとは、互いに等モル量で反応さ せる。収率の点で、VIaに対してアルコラートを過剰に、或いは溶剤として使用 することが有利な場合がある。 4b)エーテルVIbと活性化カルボン酸VIIaとの反応は、一般にまた特に、化 合物VIaから化合物IIaの製造で記載した条件下で行われる。 4c)IIcのIIbへのエーテル開裂は、通常、不活性溶剤中、酸の存在下に、0 〜130℃、好ましくは60〜100℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、アルコール (例、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブ タノール及びtert−ブタノール)、更にジメチルスルホキシド、ジメチルホ ルムアミド及びピリジンを挙げることができる。特に、塩化メチレンが好ましい 。これらの混合物も使用することができる。 使用される酸及び酸性触媒としては、無機酸(例、フッ化水素酸、塩酸、臭化 水素酸、硫酸及び過塩素酸)、ルイス酸(例、三フッ化硼素、三塩化アルミニウ ム、塩化鉄(III)、塩化錫(IV)、塩化チタン(IV)及び塩化亜鉛(II)、及び有機酸 (例、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、クエン酸及びトリフルオロ酢酸)を挙 げることができる。一般に、酸は 触媒量で用いられるが、等モル量或いは過剰 で用いることができ、或いは所望により、溶剤として使用することもできる。 更に、式IVaで表される中間体は、式Xaのエーテルを、 a)式VIIbの活性化カルボン酸と、不活性溶剤中、有機金属塩基の存在下に反 応させるか;或いは b)式XIの有機錫化合物を不活性溶剤中で反応させるか、 することにより得ることができる。 式XaのY1は、ハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素及び沃素、特に臭素及 び沃素を表す。 式VIIbのY2は、ハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素及び沃素、特に塩素 を表す。 式XIの基RXは、相互に独立してアルキルを表す。 5a)エーテルXaと活性化カルボン酸VIIbとの反応は、一般に、また特に、化 合物VIaから化合物IIaの製造で記載した条件下で行われる。 5b)エーテルXaと有機錫化合物XIとの反応は、通常不活性溶剤中、触媒(例 、Pd[P(C6533及びPdCl2)の存在下に、−70〜40℃、特に −70〜0℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、te rt−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン )、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、更にジメチルスル ホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる。特に、テトラヒドロ フラン及びジエチルエーテルが好ましい。これらの混合物も使用することが できる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。収率の点で、エーテルXa に対して有機錫化合物XIを過剰に使用することが有利であろう。 式Vcの中間体は、アルキルピリミジルエーテルVIIIeをニトロ化してVdを得、 次いでVdを試薬R1−Y5と反応させてVcを形成することにより得ることができる 。 5は、求核的に置換可能な脱離基、例えばハロゲン(例、弗素、塩素、臭素 又は沃素)、又はアルキルスルホナート或いはアリールスルホナート(例、メチ ルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナート又は メチルフェニルスルホナート)、を表す。 6a)VIIIeのVdへのニトロ化は、一般に、また特に、文献[参照、Houben-We yl,E14b,Part 1,287頁以下、及びLiebigs Ann.Chem.737(1970),39]に記 載の方法に従い通常行われる。 6b)VdのVcへのエーテル化は、一般に、また特に、文献[参照、Houben-Wey l,E14b,Part 1,370頁以下]に記載の方法に従い通常行われる。 別の好ましい方法により、化合物Vcは式XIIで表されるβ−ジカルボニルを、 式XIIIで表されるアミジン、グアニジン、尿素またはチオ尿素と反応させ、対応 するピリミジンVIIId'を形成し、VIIId'を加水分解してケトンVIIIcとし、次い でVIIIcをO−置換ヒドロキシルアミン(R1−O−NH2)又はその塩と反応さ せてIを形成することにより得られる。 式XIIのRは、炭素原子数1〜4個のアルキル基(好ましくはメチル又はエチ ル)を表す。 式XII、VIIId'及びVIIIc'のRZは、アルキル基、好ましくは炭素原子数1〜4 個のアルキル基、特に好ましくはメチル又はエチル、を表し;2個の基RZは合 体してエチレン鎖又はプロピレン鎖を形成することができる。 7a)XIIとXIIIとの反応は、一般に、また特に0〜120℃、好ましくは2 0〜80℃の範囲、特に溶剤の沸点において通常行われる。通常使用される溶剤 は、アルコール、特にメタノール又はエタノールである。 化合物VIIIは、その塩の形、特にハロゲン化水素塩(例、塩酸塩又は臭化水素 塩)として、使用することもできる。塩を使用する場合、塩基の存在下で反応を 行うことが望ましい。この塩基の例としては、アルカリ土類金属アルコキシド、 アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド又はアルカリ金属水酸化 物(例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムtert−ブ トキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化カルシウム)を挙げる ことができる。 7b)VIIId〜VIIIcの加水分解は、不活性溶剤中、酸の存在下に、通常0〜1 30℃、好ましくは20〜130℃で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ter t−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン) 、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、ケトン(例、アセト ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン及びtert−ブチルメチルケトン) 、アルコール(例、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノ ール、n−ブタノール及びtert−ブタノール)、更にジメチルスルホキシド 及びジメチルホルムアミドを挙げることができる。特に、ジオキサンが好ましい 。これらの混合物も使用することができる。 使用される酸及び酸性触媒としては、無機酸(例、フッ化水素酸、塩酸、臭化 水素酸、硫酸及び過塩素酸)、ルイス酸(例、三フッ化硼素、三塩化アルミニウ ム、塩化鉄(III)、塩化錫(IV)、塩化チタン(IV)及び塩化亜鉛(II)、これらの中 では特に塩酸が好ましく、更に有機酸(例、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、 クエン酸及びトリフルオロ酢酸)を挙げることができる。一般に、酸は 触媒量 で用いられるが、等モル量或いは過剰で用いることができ、或いは所望により、 溶剤として使用することもできる。 7c)VIIIcのVcへのオキシム化は、一般に、また特に、IVbからIの製造を記 した2b)の前述の条件下で行われる。 本発明の化合物Iの製造の際、フェニル或いはベンジル部分(式III、IV及び X)を含む出発材料及び中間体、及び式(I)のエーテルが、基Qを既に含んで いるか否か、またこの位置が冒頭で引用した文献に記載された方法に従うQに転 化することができる基によって占められているか否かについては一般に問題では ない。重要な点は、基Qが、上記工程(式III、IV、X及びI)のいずれかで合 成することができることである。 一般式II: で表される新規な中間体において、置換基R2、R3及びR4は冒頭で述べたもの と同義であり、そしてL及びZは下記の意味を有する: Lはヒドロキシル又は求核的に置換可能な脱離基を表し; Zは酸素又は基NOR1(R1は冒頭で述べたものと同義である)を表す。 一般式X: で表される新規な中間体において、置換基Q、R3、R4及びR5、及びインデッ クスn及びyは上述の意味を有し、そしてYは下記の基:ハロゲン又は基CO− R2(R2は冒頭で述べたものと同義である)を表す。 反応混合物は、それ自体公知の方法、例えば、反応混合物を水と混合し、次い で層分離、所望により粗生成物のクロマトグラフィによる精製により、仕上げら れる。中間体と生成物は、無色又は淡褐色の粘ちょうな油状物として得られる場 合があり、それらは減圧下、比較的高温で揮発成分を除去して精製或いは単離さ れる。中間体及び最終生成物を固形物として得た場合、それらは再結晶又は温浸 (digestion)により精製することもできる。 化合物Iは、そのC=C−結合、C=N−結合に起因して、製造中にE/Z異 性体混合物として得ることができるが、例えば、この混合物は結晶化あるいはク ロマトグラフィ分析による慣用法で個々の化合物に分離することができる。 しかしながら、合成により異性体混合物が得られた場合、個々の異性体は、使 用のための調製中或いは使用時に、時々互いに部分的に転化する(例えば、光、 酸或いは塩基に曝す時)場合もあるので、異性体の分離は一般に絶対に必要とい うものではない。このような同様の転化は使用後、例えば、植物の処理中、処理 した植物中、あるいは防除すべき有害菌類及び有害動物(害虫)内でも、起こり 得る。 C=NOR1の二重結合に関して、化合物IのE異性体がその活性の点から好 ましい(OR1基に関してR2基づく立体配座)。 上記多数の式で使用された記号の定義において、共通の用語は、下記の基を一 般に表すものである: ハロゲン: 弗素、塩素、臭素及び沃素; アルキル基: 炭素原子数1〜4、1〜6、1〜8又は1〜10の直鎖又は分岐飽和炭化水素基 、例えばC1〜C6アルキル(例、メチル、エチル、プロピル、1−メチルエチル 、ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチル 、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、2,2 −ジメチルプロピル、1−エチルプロピル、ヘキシル、1,1−ジメチルプロピ ル、1,2−ジメチルプロピル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3 −メチルペンチル、4−メチルペンチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジ メチルブチル、1,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、2,3−ジ メチルブチル、3,3−ジメチルブチル、1−エチルブチル、2−エチルブチル 、1,1,2−トリメチルプロピル、1,2,2−トリメチルプロピル、1−エ チル-1−メチルプロピル及び1−エチル−2−メチルプロピル); ハロアルキル基: 炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐アルキル基(上記のような)で、且つこの 基の水素原子のいくつか又は全てが上記ハロゲンで置換された基、例えばC1〜 C2ハロアルキル(例、クロロメチル、ブロモメチル、ジクロロメチル、トリク ロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロ フルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、1−クロ ロエチル、1−ブロモエチル、1−フルオロエチル、2−フルオロエチル、2, 2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2−クロロ−2−フ ルオロエチル、2−クロロ−2,2−ジフルオロエチル、2,2−ジクロロ−2 −フルオロエチル、2,2,2−トリクロロエチル及びペンタフルオロエチル) ; アルコキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10の直鎖 又は分岐アルキル基; ハロアルコキシ基: 炭素原子数1〜10の上記の直鎖又は分岐アルキル基で、且つこの基の水素原 子のいくつか又は全てが上記ハロゲンで置換され、そして酸素原子(−O−)を 介して骨格に結合するアルキル基; アルキルチオ基: 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10又は1 〜4の直鎖又は分岐アルキル基; アルキルアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10の直 鎖又は分岐アルキル基; ジアルキルアミノ基: 窒素原子を介して骨格に結合する、互いに独立に、上記の炭素原子数1〜10 の直鎖又は分岐アルキル基; アルキルカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10 の直鎖又は分岐アルキル基; アルコキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10 の直鎖又は分岐アルコキシ基; アルキルチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10 のアルキルチオ基; アルキルアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10 のアルキルアミノ基; ジアルキルアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記のジアルキルアミノ基 ; アルキルカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数 1〜10の直鎖又は分岐アルキル基; アルキルカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1 〜10の直鎖又は分岐アルキル基; アルキルカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子 数1〜10の直鎖又は分岐アルキル基; アルキルスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜1 0の直鎖又は分岐アルキル基; アルコキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜1 0の直鎖又は分岐アルコキシ基; アルキルチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜1 0の直鎖又は分岐アルキルチオ基; アルキルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜1 0の直鎖又は分岐アルキルアミノ基; ジアルキルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜1 0の直鎖又は分岐ジアルキルアミノ基; アルケニル基: 任意の位置に二重結合を有する炭素原子数2〜4、2〜6、2〜8又は2〜1 0の直鎖又は分岐の不飽和炭化水素基、例えばC2〜C6アルケニル(例、エテニ ル、1−プロペニル、2−プロペニル、1−メチルエテニル、1−ブテニル、2 −ブテニル、3−ブテニル、1−メチル−1−プロペニル、2−メチル−1−プ ロペニル、1−メチル-2−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、1−ペ ンテニル、2−ペンテニル、3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−メチル−1 −ブテニル、2−メチル−1−ブテニル、3−メチル−1−ブテニル、1−メチ ル−2−ブテニル、2−メチル−2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、1 −メチル−3−ブテニル、2−メチル−3−ブテニル、3−メチル−3−ブテニ ル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、1,2−ジメチル−1−プロペニル、 1,2−ジメチル−2−プロペニル、1−エチル−1−プロペニル、1−エチル −2−プロペニル、1−ヘキセニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、4−ヘ キセニル、5−ヘキセニル、1−メチル−1−ペンテニル、2−メチル−1−ペ ンテニル、3−メチル−1−ペンテニル、4−メチル−1−ペンテニル、1−メ チル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペンテニル、3−メチル−2−ペンテ ニル、4−メチル−2−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、2−メチル −3−ペンテニル、3−メチル−3−ペンテニル、4−メチル−3−ペンテニル 、1−メチル-4−ペンテニル、2−メチル−4−ペンテニル、3−メチル−4 −ペンテニル、4−メチル−4−ペンテニル、1,1−ジメチル−2−ブテニル 、1,1−ジメチル−3−ブテニル、1,2−ジメチル−1−ブテニル、1,2 −ジメチル−2−ブテニル、1,2−ジメチル−3−ブテニル、1,3−ジメチ ル−1−ブテニル、1,3−ジメチル−2−ブテニル、1,3−ジメチル−3− ブテニル、2,2−ジメチル−3−ブテニル、2,3−ジメチル−1−ブテニル 、2,3−ジメチル−2−ブテニル、2,3−ジメチル−3−ブテニル、3,3 −ジメチル−1−ブテニル、3,3−ジメチル−2−ブテニル、1−エチル−1 −ブテニル、1−エチル−2−ブテニル、1−エチル−3−ブテニル、2 −エチル−1−ブテニル、2−エチル−2−ブテニル、2−エチル−3−ブテニ ル、1,1,2−トリメチル−2−プロペニル、1−エチル−1−メチル−2− プロペニル、1−エチル−2−メチル−1−プロペニル及び1−エチル−2−メ チル−2−プロペニル; ハロアルケニル基: 任意の位置に1個の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不 飽和炭化水素基(上記のような)で、且つこの基の水素原子のいくつか又は全て がハロゲン(特に、弗素、塩素及び臭素)で置換された基; アルケニルオキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接してい ない任意の位置に1個の二重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐の 不飽和炭化水素基; ハロアルケニルオキシ基: 炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐のアルケニルオキシ基(上記のような)で 、この基の水素原子のいくつか又は全てが上記ハロゲン(特に、弗素、塩素及び 臭素)で置換された基; アルケニルチオ基: 硫黄(−S−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接していない 任意の位置に1個の二重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐の不飽 和炭化水素基; アルケニルアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接して いない任意の位置に1個の二重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐 の不飽和炭化水素基; アルケニルカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置に1個 の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不飽和炭化水素基; アルケニルオキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜10 の直鎖又は分岐のアルケニルオキシ基; アルケニルチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜10 の直鎖又は分岐のアルケニルチオ基; アルケニルアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜10 の直鎖又は分岐のアルケニルアミノ基; アルケニルカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位 置に1個の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不飽和炭化水 素基; アルケニルカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置 に1個の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不飽和炭化水素 基; アルケニルカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する、上記の任意の 位置に1個の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不飽和炭化 水素基; アルケニルスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置に1 個の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不飽和炭化水素基; アルケニルオキシスルホニル基: スルホニル基(-SO2−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜10 の直鎖又は分岐のアルケニルオキシ基; アルケニルチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜1 0の直鎖又は分岐のアルケニルチオ基; アルケニルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜1 0の直鎖又は分岐のアルケニルアミノ基; アルキニル基: 任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数2〜4、2〜6、2〜8及び 2〜10の直鎖又は分岐炭化水素基、例えばC2〜C6アルキニル(例、エチニル 、1−プロピニル、2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブチニ ル、1−メチル-2−プロピニル、1−ペンチニル、2−ペンチニル、3−ペン チニル、4−ペンチニル、1−メチル−2−ブチニル、1−メチル−3−ブチニ ル、2−メチル−3−ブチニル、3−メチル−1−ブチニル、1,1−ジメチル −2−プロピニル、1−エチル−2−プロピニル、1−ヘキシニル、2−ヘキシ ニル、3−ヘキシニル、4−ヘキシニル、5−ヘキシニル、1−メチル−2−ペ ンチニル、1−メチル−3−ペンチニル、1−メチル-4−ペンチニル、2−メ チル−3−ペンチニル、2−メチル−4−ペンチニル、3−メチル−1−ペンチ ニル、3−メチル−4−ペンチニル、4−メチル−1−ペンチニル、4−メチル −2−ペンチニル、1,1−ジメチル−2−ブチニル、1,1−ジメチル−3− ブチニル、1,2−ジメチル−3−ブチニル、2,2−ジメチル−3−ブチニル 、3,3−ジメチル−1−ブチニル、1−エチル−2−ブチニル、1−エチル− 3−ブチニル、2−エチル−3−ブチニル及び1−エチル−1−メチル−2−プ ロピニル; ハロアルキニル基: 任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不 飽和炭化水素基(上記のような)で、且つこれら基の水素原子のいくつか又は全 てがハロゲン(特に、弗素、塩素及び臭素)で置換された基; アルキニルオキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接してい ない任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐不 飽和炭化水素基; ハロアルキニルオキシ基: 任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐のア ルキニルオキシ基(上記のような)で、且つこれら基の水素原子のいくつか又は 全てがハロゲン(特に、弗素、塩素及び臭素)で置換された基; アルキニルチオ基: 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接してい ない任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐不 飽和炭化水素基; アルキニルアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接して いない任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐 不飽和炭化水素基; ァルキニルカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置に1個 の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐不飽和炭化水素基; アルキニルオキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜1 0の直鎖又は分岐アルキニルオキシ基; アルキニルチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜1 0の直鎖又は分岐アルキニルチオ基; アルキニルアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜1 0の直鎖又は分岐アルキニルアミノ基; アルキニルカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位 置に1個の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐不飽和炭化水素 基; アルキニルカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置 に1個の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐不飽和炭化水素 基; アルキニルカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する、上記の任意の 位置に1個の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐不飽和炭化水 素基; アルキニルスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置に1 個の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐不飽和炭化水素基; アルキニルオキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜 10の直鎖又は分岐アルキニルオキシ基; アルキニルチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜 10の直鎖又は分岐アルキニルチオ基; アルキニルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜 10の直鎖又は分岐アルキニルアミノ基; シクロアルキル基: 炭素環員3〜6、3〜8、3〜10又は3〜12を有する単環の飽和炭化水素 基、例えばC3〜C8シクロアルキル(例、シクロプロピル、シクロブチル、シク ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル及びシクロオクチル); シクロアルコキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環員を有 する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルチオ基: 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環員を有 する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環員を 有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環 員を有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルコキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環 員を有する単環のシクロアルコキシ基; シクロアルキルチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環 員を有する単環のシクロアルキルチオ基; シクロアルキルアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環 員を有する単環のシクロアルキルアミノ基; シクロアルキルカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12 の炭素環員を有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の 炭素環員を有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する、上記の3〜1 2の炭素環員を有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素 環員を有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルコキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2-)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環 員を有する単環のシクロアルコキシ基; シクロアルキルチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素 環員を有する単環のシクロアルキルチオ基; シクロアルキルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素 環員を有する単環のシクロアルキルアミノ基; 炭素原子とは別に、環員として酸素、硫黄又は窒素から選ばれるヘテロ原子を 含んでも良い飽和もしくは部分的に不飽和の環式基:上記の3〜12個の炭素環 員を有するシクロアルキル、又は炭素原子とは別に、環員として1〜3個の窒素 原子及び/又は1個の酸素又は硫黄原子、又は1個又は2個の酸素及び/又は硫 黄原子を含む5員又は6員の複素環基(ヘテロシクリル)、 例えば、2−テトラヒドロフラニル、3−テトラヒドロフラニル、2−テトラ ヒドロチエニル、3−テトラヒドロチエニル、2−ピロリジニル、3−ピロリジ ニル、3−イソオキサゾリジニル、4−イソオキサゾリジニル、5−イソオキサ ゾリジニル、3−イソチアゾリジニル、4−イソチアゾリジニル、5−イソチア ゾリジニル、3−ピラゾリジニル、4−ピラゾリジニル、5−ピラゾリジニル、 2−オキサゾリジニル、4−オキサゾリジニル、5−オキサゾリジニル、2−チ アゾリジニル、4−チアゾリジニル、5−チアゾリジニル、2−イミダゾリジニ ル、4−イミダゾリジニル、1,2,4−オキサジアゾリジン−3−イル、1, 2,4−オキサジアゾリジン−5−イル、1,2,4−チアジアゾリジン−3− イル、1,2,4−チアジアゾリジン−5−イル、1,2,4−トリアゾリジン −3−イル、1,3,4−オキサジアゾリジン−2−イル、1,3,4−チアジ アゾリジン−2−イル、1,3,4−トリアゾリジン−2−イル、2,3−ジヒ ドロフラ−2−イル、2,3−ジヒドロフラ−3−イル、2,4−ジヒドロフラ −2−イル、2,4−ジヒドロフラ−3−イル、2,3−ジヒドロチエン−2− イル、2,3−ジヒドロチエン−3−イル、2,4−ジヒドロチエン−2−イル 、2,4−ジヒドロチエン−3−イル、2,3−ピロリン−2−イル、2,3− ピロリン−3−イル、2,4−ピロリン−2−イル、2,4−ピロリン−3−イ ル、2,3−イソオキサゾリン−3−イル、3,4−イソオキサゾリン−3−イ ル、4,5−イソオキサゾリン−3−イル、2,3−イソオキサゾリン−4− イル、3,4−イソオキサゾリン−4−イル、4,5−イソオキサゾリン−4− イル、2,3−イソオキサゾリン−5−イル、3,4−イソオキサゾリン−5− イル、4,5−イソオキサゾリン−5−イル、2,3−イソチアゾリン−3−イ ル、3,4−イソチアゾリン−3−イル、4,5−イソチアゾリン−3−イル、 2,3−イソチアゾリン−4−イル、3,4−イソチアゾリン−4−イル、4, 5−イソチアゾリン−4−イル、2,3−イソチアゾリン−5−イル、3,4− イソチアゾリン−5−イル、4,5−イソチアゾリン−5−イル、2,3−ジヒ ドロピラゾール−1−イル、2,3−ジヒドロピラゾール−2−イル、2,3− ジヒドロピラゾール−3−イル、2,3−ジヒドロピラゾール−4−イル、2, 3−ジヒドロピラゾール−5−イル、3,4−ジヒドロピラゾール−1−イル、 3,4−ジヒドロピラゾール−3−イル、3,4−ジヒドロピラゾール−4−イ ル、3,4−ジヒドロピラゾール−5−イル、4,5−ジヒドロピラゾール−1 −イル、4,5−ジヒドロピラゾール−3−イル、4,5−ジヒドロピラゾール −4−イル、4,5−ジヒドロピラゾール−5−イル、2,3−ジヒドロオキサ ゾール−2−イル、2,3−ジヒドロオキサゾール−3−イル、2,3−ジヒド ロオキサゾール−4−イル、2,3−ジヒドロオキサゾール−5−イル、3,4 −ジヒドロオキサゾール−2−イル、3,4−ジヒドロオキサゾール−3−イル 、3,4−ジヒドロオキサゾール−4−イル、3,4−ジヒドロオキサゾール− 5−イル、2−ピペリジニル、3−ピペリジニル、4−ピペリジニル、1,3− ジオキサン−5−イル、2−テトラヒドロピラニル、4−テトラヒドロピラニル 、2−テトラヒドロチエニル、3−テトラヒドロピリダジニル、4−テトラヒド ロピリダジニル、2−テトラヒドロピリミジニル、4−テトラヒドロピリミジニ ル、5−テトラヒドロピリミジニル、2−テトラヒドロピラジニル、1,3,5 −テトラヒドロトリアジン−2−イル及び1,2,4−テトラヒドロトリアジン −3−イル; ヘテロシクリルオキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員の複素環基; ヘテロシクリルチオ基: 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員の複素環基; ヘテロシクリルアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員の複素環基 ; ヘテロシクリルカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員の複素 環基; ヘテロシクリルオキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記のヘテロシクリルオキ シ基; ヘテロシクリルチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記のヘテロシクリルチオ 基; ヘテロシクリルアミノカルボニル基: アミノカルボニル基(−NHCO−)を介して骨格に結合する上記の5員又は 6員の複素環基; ヘテロシクリルカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6 員の複素環基; ヘテロシクリルカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員 の複素環基; ヘテロシクリルカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する上記の5員又は 6員の複素環基; ヘテロシクリルスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員の複 素環基; ヘテロシクリルオキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記のヘテロシクリルオ キシ基; ヘテロシクリルチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記のヘテロシクリルチ オ基; ヘテロシクリルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記のヘテロシクリルア ミノ基; アリール基: 6〜14の炭素環員を有する単一核(単一環)〜三核の芳香族環基、例えば、 フェニル、ナフチル及びアントラセニル; アリールオキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核の芳香族環基 ; アリールチオ基: 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核の芳香族環基 ; アリールアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核の芳香族環 基; アリールカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核の芳香 族環基; アリールオキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のアリ ールオキシ基; アリールチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のアリ ールチオ基; アリールアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のアリ ールアミノ基; アリールカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三 核の芳香族環基; アリールカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核 の芳香族環基; アリールカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜 三核の芳香族環基; アリールスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核の芳 香族環基; アリールオキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のア リールオキシ基; アリールチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のア リールチオ基; アリールアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のア リールアミノ基; 炭素原子とは別に、環員として酸素、硫黄又は窒素から選ばれるヘテロ原子を 含んでも良い芳香族環基:上記のアリール或いは単一核もしくは二核のヘテロア リール、例えば 1〜4個の窒素原子、又は1〜3個の窒素原子及び1個の酸素又は硫黄原子を 有する5員のヘテロアリール:5員のヘテロアリール基で、環員として、炭素環 員以外に1〜4個の窒素原子、又は1〜3個の窒素原子及び1個の酸素又は硫黄 原子を有しても良い基(例えば、2−フリル、3−フリル、2−チエニル、3− チエニル、2−ピロリル、3−ピロリル、3−イソオキサゾリル、4−イソオキ サゾリル、5−イソオキサゾリル、3−イソチアゾリル、4−イソチアゾリル、 5−イソチアゾリル、3−ピラゾリル、4−ピラゾリル、5−ピラゾリル、2− オキサゾリル、4−オキサゾリル、5−オキサゾリル、2−チアゾリル、4−チ アゾリル、5−チアゾリル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、1,2,4 −オキサジアゾール−3−イル、1,2,4−オキサジアゾール−5−イル、1 ,2,4−チアジアゾール−3−イル、1,2,4−チアジアゾール−5−イル 、1,2,4−トリアゾール−3−イル、1,3,4−オキサジアゾール−2− イル、1,3,4−チアジアゾール−2−イル及び1,3,4−トリアゾール− 2−イル)、 1〜3個の窒素原子、又は1個の窒素原子及び1個の酸素又は硫黄原子を有す る5員のベンゾ縮合ヘテロアリール:5員のヘテロアリール基で、炭素原子の他 に、環員として1〜4個の窒素原子、又は1〜3個の窒素原子及び1個の硫黄又 は酸素原子を有しても良く、そして2個の隣接する炭素環員又は隣接する1個の 窒素と1個の炭素環員が、ブタ−1,3−ジエン−1,4−ジイル基により橋か けされても良い基、 1〜4個の窒素原子を有する窒素を介して結合する5員のヘテロアリール基、 又は1〜3個の窒素原子を有し、窒素を介して結合するベンゾ縮合した5員のヘ テロアリール基:5員のヘテロアリール環基で、炭素原子の他に、環員として1 〜4個の窒素原子、又は1〜3個の窒素原子を有してもよく、そして2個の隣接 する炭素環員又は隣接する1個の窒素と1個の炭素環員がブタ−1,3−ジエン −1,4−ジイル基により橋かけされても良いもので、そしてこれらの環は窒素 環員の1個を介して骨格に結合している基、 1〜3個の窒素原子又は1〜4個の窒素原子を有する6員のヘテロアリール基 :6員のヘテロアリール環基で、炭素原子の他に、環員として1〜3個の窒素原 子又は1〜4個の窒素原子を有しても良い基(例、2−ピリジニル、3−ピリジ ニル、4−ピリジニル、3−ピリダジニル、4−ピリダジニル、2−ピリミジニ ル、4−ピリミジニル、5−ピリミジニル、2−ピラジニル、1,3,5−ト リアジン−2−イル及び1,2,4−トリアジン−3−イル); ヘテロアリールオキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテロ芳香 族環基; ヘテロアリールチオ基: 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテロ芳香 族環基; ヘテロアリールアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテロ芳 香族環基; ヘテロアリールカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテ ロ芳香族環基; ヘテロアリールオキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテ ロアリールオキシ基; ヘテロアリールチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテ ロアリールチオ基; ヘテロアリールアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテ ロアリールアミノ基; ヘテロアリールカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三 核のヘテロ芳香族環基; ヘテロアリールカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核 のヘテロ芳香族環基; ヘテロアリールカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜 三核のヘテロ芳香族環基; ヘテロアリールスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘ テロ芳香族環基; ヘテロアリールオキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘ テロアリールオキシ基; ヘテロアリールチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘ テロアリールチオ基; ヘテロアリールアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘ テロアリールアミノ基; アルキレン基: 1〜5個のCH2−基から構成される2価の非分岐鎖、例えば、CH2、CH2 CH2、CH2CH2CH2、CH2CH2CH2CH2及びCH2CH2CH2CH2CH2 ; オキシアルキレン基: 2〜4個のCH2−基から構成される2価の非分岐鎖で、且つ2価の一方が酸 素原子を介して骨格に結合する基、例えば、OCH2CH2、OCH2CH2CH2 、及びOCH2CH2CH2CH2; オキシアルキレンオキシ基: 1〜3個のCH2−基から構成される2価の非分岐鎖で、且つ2価の両方が酸 素原子を介して骨格に結合する基、例えば、OCH2O、OCH2CH2O及びO CH2CH2CH2O; アルケニレン基: 1〜3個のCH2基を有し、任意の位置に1個のCH=CH−基を有する2価 の非分岐鎖、例えば、CH=CHCH2、CH2CH=CHCH2、CH= CHCH2CH2、CH2CH=CHCH2CH2及びCH=CHCH2CH2CH2; オキシアルケニレン基: 0〜2個のCH2基を有し、任意の位置に1個のCH=CH−基を有する2価 の非分岐鎖で、2価の一方は酸素原子を介して骨格に結合する基、例えば、OC H=CH、OCH=CHCH2、OCH2CH=CH、OCH2CH=CHCH2、 OCH=CHCH2CH2及びOCH2CH2CH=CH; オキシアルケニレンオキシ基: 0〜2個のCH2基を有し、任意の位置に1個のCH=CH−基を有する2価 の非分岐鎖で、2価の両方が酸素原子を介して骨格に結合する基、例えば、OC H=CHO、OCH=CHCH2O、OCH2CH=CHCH2O及びOCH=C HCH2CH2O; 有機基: 無置換又は置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテ ロシクリル、アリール又はヘテロアリール。 アルキル、アルケニル及びアルキニル基に関する場合の、用語「無置換又は置 換(の)」は、これらの基が、部分的又は完全にハロゲン化されても良いか[即 ち、これらの基の水素原子の幾つか或いは全てが上述の同一又は異なったハロゲ ン(好ましくは弗素、塩素又は臭素)で置換されていても良い]、及び/又は下 記の1〜3個(好ましくは1個)の基で置換されていても良いことを表す意図で 使用されている。上記の基の例: シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノ、ホルミル、カルボキシル、アミノカ ルボニル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、ア ルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル 、アルキルカルボニルオキシ、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカ ルボニル、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキル カルボニル−N−アルキルアミノ及びアルコキシカルボニル−N−アルキルアミ ノ(これらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有することが好ましく、特に 1〜4個有することが好ましい); シクロアルキル、シクロアルコキシ、シクアルキルチオ、シクロアルキルアミ ノ、シクロアルキル−N−アルキルアミノ、ヘテロシクリル(複素環基)、ヘテ ロシクリルオキシ、ヘテロシクリルチオ、ヘテロシクリルアミノ又はヘテロシク リル−N−アルキルアミノ(これらは無置換或いは慣用基で置換されており、こ れらの環は、3〜12員の環員を有し、好ましくは3〜8員、特に3〜6員の環 員を有し、そしてこれらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有することが好 ましく、特に1〜4個有することが好ましい); アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールアミノ、アリール−N− アルキルアミノ、アリールアルコキシ、アリールアルキルチオ、アリールアルキ ルアミノ、アリールアルキル−N−アルキルアミノ、ヘテロアリール、ヘテロア リールオキシ、ヘテロアリールチオ、ヘテロアリールアミノ、ヘテロアリール− N−アルキルアミノ、ヘテロアリールアルコキシ、ヘテロアリールアルキルチオ 、ヘテロアリールアルキルアミノ及びヘテロアルキル−N−アルキルアミノ(こ れらは無置換或いは慣用基で置換されており、アリール基は、6〜10員の環員 を有し、特に6員の環員を有し(フェニル)、またヘテロアリール基は5又は6 員の環員を有し、そしてこれらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有するこ とが好ましく、特に1〜4個有することが好ましい)。 環式(飽和、不飽和或いは芳香族の)基に関する場合の、用語「無置換又は置 換(の)」は、これらの基が、部分的又は完全にハロゲン化されても良いか[即 ち、これらの基の水素原子の幾つか或いは全てが上述の同一又は異なったハロゲ ン(好ましくは弗素、塩素又は臭素、特に弗素又は塩素)で置換されていても良 い]、及び/又は下記の1〜4個(特に1〜3個)の基で置換されていても良い ことを表す意図で使用されている。上記の基の例: シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノ、カルボキシル、アミノカルボニル、 アルキル、ハロアルキル、アルケニル、ハロアルケニル、アルケニルオキシ、ハ ロアルケニルオキシ、アルキニル、ハロアルキニル、アルキニルオキシ、ハロア ルキニルオキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチ オ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカル ボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルア ミノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、ア ルキルカルボニル−N−アルキルアミノ及びアルコキシカルボニル−N−アルキ ルアミノ(これらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有することが好ましく 、特に1〜4個有することが好ましく、またこれらの基の上記アルケニル又はア ルキニル基は炭素原子を2〜8個有し、好ましくは2〜6個、特に2〜4個有す る); 及び/又は1〜3個の(特に1個)の下記の基: シクロアルキル、シクロアルコキシ、シクアルキルチオ、シクロアルキルアミ ノ、シクロアルキル−N−アルキルアミノ、ヘテロシクリル(複素環基)、ヘテ ロシクリルオキシ、ヘテロシクリルチオ、ヘテロシクリルアミノ又はヘテロシク リル−N−アルキルアミノ(これらは無置換或いは慣用基で置換されており、こ れらの環は、3〜12員の環員を有し、好ましくは3〜8員、特に3〜6員の環 員を有し、そしてこれらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有することが好 ましく、特に1〜4個有することが好ましい); アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールアミノ、アリール−N− アルキルアミノ、アリールアルコキシ、アリールアルキルチオ、アリールアルキ ルアミノ、アリールアルキル−N−アルキルアミノ、ヘテロアリール、ヘテロア リールオキシ、ヘテロアリールチオ、ヘテロアリールアミノ、ヘテロアリール− N−アルキルアミノ、ヘテロアリールアルコキシ、ヘテロアリールアルキルチオ 、ヘテロアリールアルキルアミノ及びヘテロアルキル−N−アルキルアミノ(こ れらは無置換或いは慣用基で置換されており、アリール基は、6〜10員の環員 を有し、特に6員の環員を有し(フェニル)、またヘテロアリール基は5又は6 員の環員を有し、そしてこれらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有するこ とが好ましく、特に1〜4個有することが好ましい); 及び/又は1又は2個の(特に1個)の下記の基: ホルミル、 CRiii=NORiv[Riiiが水素、アルキル、シクロアルキル及びアリールを 表し、そしてRivがアルキル、アルケニル、ハロアルケニル、アルキニル及びア リルアルキルを表し(上記アルキルは炭素原子数1〜6を有することが好まし く、特に1〜4であり、上記シクロアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基 は炭素原子数3〜8を有することが好ましく、特に3〜6である)、そしてアリ ールが特に無置換又は慣用基で置換されたフェニル基である。]、又は NRV−CO−D−Rvi[RVが水素、ヒドロキシル、C1〜C6アルキル、C2 〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C1〜C6アルコキシ、C2〜C6アルケ ニルオキシ、C2〜C6アルキニルオキシ、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルキル 、C1〜C6アルコキシC1〜C6アルコキシ及びC1〜C6アルコキシカルボニルを 表し、Rviが水素、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニ ル、C3〜C6シクロアルキル、C3〜C6シクロアルケニル、アリール、アリール C1〜C6アルキル、ヘテロアリール及びヘテロアリールC1〜C6アルキルを表し 、Dが直接結合、酸素又は窒素を表し、そしてこの窒素がRviで記載された基の 1個を結合して有しても良い。]、及び/又は 上記環式基において、環式基の2個の隣接炭素原子が、結合状態で、C3〜C5 アルキレン、C3〜C5アルケニレン、オキシC2〜C4アルキレン、オキシC1〜 C3アルキレンオキシ、オキシC2〜C4アルケニレン、オキシC2〜C4アルケニ レンオキシ又はブタジエンジイル基を有していても良く、そしてこれらの架橋基 は部分的或いは完全にハロゲン化され、及び/又は1〜3個、特に1又は2個の 下記の基:C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1 〜C4ハロアルコキシ及びC1〜C4アルキルチオを結合して有していても良い。 慣用基は、特に下記の置換基:ハロゲン、シアノ、C1〜C4アルキル、C1〜 C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4ア ルキルアミノ、ジC1〜C4アルキルアミノ及びC1〜C4アルキルチオを意味する と理解すべきである。 式Iの特に好ましい化合物は、QがC(CO2CH3)=CHCH3、C(CO2 CH3)=CHOCH3、C(CO2CH3)=NOCH3、C(CONHCH3)= NOCH3又はN(OCH3)−CO2CH3を表す化合物である。 式Iの他の特に好ましい化合物は、R1が水素、又は下記の基:無置換もしく は置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル 、アリール又はヘテロアリールの1個を表す化合物である。 更に、特に好ましい化合物Iは、R1が無置換又は置換のC1〜C6アルキルの ものである。 同様に、特に好ましい化合物Iは、R1が無置換又は置換のC3〜C6アルケニ ルのものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R1が無置換又は置換のC3〜C6アルキニ ルのものである。 他の特に好ましい化合物Iは、R1がC1〜C6ハロアルキルのものである。 更に、特に好ましい化合物Iは、R1がC3〜C6ハロアルケニルのものである 。 同様に、特に好ましい化合物Iは、R1がアリールC1〜C2アルキル(アリル 基は無置換でも置換されていてもよい)のものである。 特に好ましい化合物Iは、R1がアリールC1〜C2アルキル(アリル基は、部 分的に或いは完全にハロゲン化されていても、及び/又は下記の置換基:C1〜C4 アルキル、C1〜C4ハロアルキル及びC1〜C4アルコキシの内1〜3個の基を 有していても良い)のものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R1がC3〜C6シクロアルキルC1〜C2ア ルキル(シクロアルキル基は無置換でも置換されていてもよい)のものである。 特に好ましい化合物Iは、R1がC3〜C6シクロアルキルC1〜C2アルキル( シクロアルキル基は、部分的に或いは完全にハロゲン化されていても、及び/又 は1〜3個のC1〜C4アルキルを有していても良い)のものである。 更に、特に好ましい化合物Iは、R1がヘテロアリールC1〜C2アルキル(ヘ テロアリール基は無置換でも置換されていてもよい)のものである。 特に好ましい化合物Iは、R1がヘテロアリールC1〜C2アルキル(ヘテロア リル基は、部分的に或いは完全にハロゲン化されていても、及び/又は下記の置 換基:C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル及びC1〜C4アルコキ シの内1〜3個の基を有していても良い)のものである。 さらにまた、特に好ましい化合物Iは、R2が水素、または下記の置換基:無 置換もしくは置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテ ロシクリル、アリール又はヘテロアリール(これらの基は直接(炭素原子を介し て)或いは酸素、硫黄或いは窒素原子を介して骨格に結合することができる)の 内の1個を表す場合の化合物である。 特に好ましい化合物Iは、R2が無置換又は置換C1〜C6アルキルのものであ る。 さらにまた、特に好ましい化合物Iは、R2が無置換又は置換C2〜C6アルケ ニルのものである。 同様に特に好ましい化合物Iは、R2が無置換又は置換C2〜C6アルキニルの ものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R2がC3〜C6シクロアルキルのものであ る。 他の特に好ましい化合物Iは、R2がアリールのものである。 更に、特に好ましい化合物Iは、R2がヘテロアリールのものである。 さらに、特に好ましい化合物Iは、R3が水素、C1〜C3アルキル又はC1〜C2 ハロアルキル、特に水素、メチル、フッ素、塩素、エチル、イソプロピル及び トリフルオロメチルを表す場合の化合物である。 特に好ましい化合物Iは、R3が水素のものである。 さらに特に好ましい化合物Iは、R3がハロゲン、特に弗素、塩素及び臭素、 のものである。 同様に、特に好ましい化合物Iは、R3がメチルのものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R3がC1ハロアルキル、特にトリフルオロ メチルのものである。 更に好ましい化合物Iは、R4が水素のものである。 特に好ましい化合物Iは、R4がハロゲン、特に弗素、塩素及び臭素、のもの である。 さらに、特に好ましい化合物Iは、R4がC1〜C2アルキルであるものであ る。 同様に、特に好ましい化合物Iは、R4がC1〜C2アルコキシであるものであ る。 さらに、特に好ましい化合物Iは、R4がシアノのものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R4がニトロのものである。 更に、特に好ましい化合物Iは、yが0、1、2又は3を表す(yが2又は3 の場合、R5が異なっても良い)場合の化合物である。 特に好ましい化合物Iは、yが0又は1のものである。 さらにまた、特に好ましい化合物Iは、R5がシアノ、ハロゲン、C1〜C3ア ルキル、C1〜C2ハロアルキル又はC1〜C3アルコキシ、特にシアノ、弗素、塩 素、メチル、エチル、イソプロピル、トリフルオロメチル、メトキシ又はエトキ シを表す場合の化合物である。 特に好ましい化合物Iは、R5がメチルのものである。 さらにまた、特に好ましい化合物Iは、R5がメトキシのものである。 同様に、特に好ましい化合物Iは、R5が弗素のものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R5が塩素のものである。 他の特に好ましい化合物Iは、R5がトリフルオロメチルのものである。 さらにまた、特に好ましい化合物Iは、R5がOCH2Oのものである。 特に、その用途に点から、下記の表にまとめられた化合物Iが好ましい。さら にまた、1個の置換基のために表に記載された基は、それ自体、基の組合せを考 慮しない、問題の置換基の特に好ましい態様である。 [表1] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合物。 [表2] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合物。 [表3] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化合物。 [表4] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合物。 [表5] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合物。[表6] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合物。 [表7] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合物。 [表8] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合物。 [表9] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合物。 [表10] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される化合物。 [表11] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IB.1で表される化合物。 [表12] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IB.2で表される化合物。[表13] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IB.3で表される化合物。 [表14] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IB.4で表される化合物。 [表15] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IB.5で表される化合物。[表16] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IB.6で表される化合物。 [表17] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IB.7で表される化合物。 [表18] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IB.8で表される化合物。[表19] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IB.9で表される化合物。 [表20] R2がメチル、R3が水素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IB.10で表される化合物。 [表21] R2がメチル、R3がメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合物。 [表22] R2がメチル、R3がメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合物。 [表23] R2がメチル、R3がメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化合物。 [表24] R2がメチル、R3がメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合物。 [表25] R2がメチル、R3がメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合物。 [表26] R2がメチル、R3がメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合物。 [表27] R2がメチル、R3がメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合物。 [表28] R2がメチル、R3がメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合物。 [表29] R2がメチル、R3がメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合物。 [表30] R2がメチル、R3がメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される化合物。 [表31] R2がメチル、R3が塩素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合物。 [表32] R2がメチル、R3が塩素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合物。 [表33] R2がメチル、R3が塩素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化合物。 [表34] R2がメチル、R3が塩素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合物。 [表35] R2がメチル、R3が塩素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合物。 [表36] R2がメチル、R3が塩素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合物。 [表37] R2がメチル、R3が塩素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合物。 [表38] R2がメチル、R3が塩素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合物。 [表39] R2がメチル、R3が塩素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合物。 [表40] R2がメチル、R3が塩素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される化合物。 [表41] R2がメチル、R3が弗素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合物。 [表42] R2がメチル、R3が弗素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合物。 [表43] R2がメチル、R3が弗素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化合物。 [表44] R2がメチル、R3が弗素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合物。 [表45] R2がメチル、R3が弗素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合物。 [表46] R2がメチル、R3が弗素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合物。 [表47] R2がメチル、R3が弗素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合物。 [表48] R2がメチル、R3が弗素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合物。 [表49] R2がメチル、R3が弗素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合物。 [表50] R2がメチル、R3が弗素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される化合物。 [表51] R2がメチル、R3が臭素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合物。 [表52] R2がメチル、R3が臭素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合物。 [表53] R2がメチル、R3が臭素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化合物。 [表54] R2がメチル、R3が臭素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合物。 [表55] R2がメチル、R3が臭素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合物。 [表56] R2がメチル、R3が臭素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合物。 [表57] R2がメチル、R3が臭素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合物。 [表58] R2がメチル、R3が臭素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合物。 [表59] R2がメチル、R3が臭素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合物。 [表60] R2がメチル、R3が臭素、R4が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される化合物。 [表61] R2がメチル、R3がトリフルオロメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そ して各化合物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合 物。 [表62] R2がメチル、R3がトリフルオロメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そ して各化合物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合 物。 [表63] R2がメチル、R3がトリフルオロメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化 合物。 [表64] R2がメチル、R3がトリフルオロメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そ して各化合物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合 物。 [表65] R2がメチル、R3がトリフルオロメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そ して各化合物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合 物。 [表66] R2がメチル、R3がトリフルオロメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そ して各化合物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合 物。 [表67] R2がメチル、R3がトリフルオロメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そ して各化合物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合 物。 [表68] R2がメチル、R3がトリフルオロメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そ して各化合物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合 物。 [表69] R2がメチル、R3がトリフルオロメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そ して各化合物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合 物。 [表70] R2がメチル、R3がトリフルオロメチル、R4が水素、R5 yが水素であり、そ して各化合物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される 化合物。 化合物Iは殺菌剤として好適である。 化合物Iは、広範囲な植物病理学的菌類、特に子嚢菌類、藻菌類または担子菌 類に対して優れた作用を示し、秀でている。これらは組織的に活性である場合も あり、茎葉または土壌殺菌剤として植物保護に使用可能である。 これらは種々の農作物、例えばコムギ、ライ麦、大麦、オート麦、稲、トウモ ロコシ、芝、綿花、大豆、コーヒー、サトウキビ、ブドウ、果実および観賞用植 物、および野菜、例えばキュウリ、豆類、ウリ、並びにこれら植物の種子におけ る多種細菌を防除するために特に重要である。 上記化合物は次のような植物病菌類の防除に特に適している。 穀物類のエリシペ・グラミニス(Erysiphe graminis;うど ん粉病)、 ウリ科のエリシペ・キコラケアラム(Erysiphecichoracea rum)およびスフェロテカ・フリギネア(Sphaerotheca ful iginea)、 リンゴのポドスフェラ・ロイコトリカ(Podosphaeraleucot richa)、 ブドウのウンキヌラ・ネカトル(Uncinulanecator)、 穀物類のプッキニア(Puccinia)種、 綿花、稲およびシバのリゾクトニア種(Rhizoctonia)、 穀物類およびサトウキビのウスチラゴ(Ustilago)種、 リンゴのベンツリア・イネクアリス(Venturiainaeqalis; 腐敗病)、 穀物類のヘルミントスポリウム種(Helminthosporium)、 コムギのセプトリア・ノドルム(Septorianodorum)、 イチゴ、ブドウ、野菜及び観賞用植物のボトリチス・キネレア(Botryt is cinerea;灰色カビ)、 ナンキンマメのセルコスポラ・アラキジコラ(Cercosporaarac hdicola)、 コムギおよびオオムギのシュードケルコスポレラ・ヘルポトリコイデス (Pseudocercosporellaherpotrichoides )、 イネのピリクラリア・オリザエ(Pyriculariaorizae) ジャガイモおよびトマトのフィトピトラ・インフェスタンス(Phytoph thora infestans)、 種々の植物のフサリウム(Fusarium)およびベルチキルリウム(Ve rticillium)種、 ブドウのプラスモパラ・ビチコラ(Plasmoparaviticola) 、及び果実および野菜のアルテルナリア(Alternaria)種。 さらに、化合物Iは、資材(例、木材、紙、繊維あるいは布地)の保護に、ま た貯蔵保護における有害菌類の防除に好適である。 化合物Iは、有害菌類(細菌)、または有害菌類による被害から保護されるべ き植物、種子、資材または土壌を殺菌有効量の有効成分で処理することにより施 与される。これらは、細菌により資材、植物または種子に被害がもたらされる以 前または以後に施与される。 これらは、例えば溶液、エマルジョン、懸濁液、ダスト剤、粉末、ペースト及 び顆粒等の慣用処方(組成物)に加工することができる。処方は全く使用目的次 第であるが、いずれにせよ化合物Iの微細且つ均一な分配が保証されるべきであ る。 処方は、公知の方法で、例えば有効成分を溶剤および/またはキャリヤーで、 場合により乳化剤および分散助剤を使用して増量することにより得られるが、こ の際希釈剤として水を使用する場合には、補助溶媒として別の有機溶媒を使用す ることができる。このための好適な助剤としては、主として溶剤、例えば芳香族 化合物(例、キシレン)、塩素化芳香族化合物(例、クロロベンゼン)、パラフ ィン(例、石油留分)、アルコール(例、メタノール、ブタノール)、ケトン( 例、シクロヘキサノン)、アミン(例、エタノールアミン、ジメチルホルムアミ ド)および水;キャリヤー、例えば磨砕天然鉱物(例、カオリン、クレー、タル ク、白亜)、磨砕合成鉱物(例、高分散性シリカ、珪酸塩);乳化剤、例えば 非イオン性および陰イオン性乳化剤(例、ポリオキシエチレン−脂肪アルコール エーテル、アルキルスルホナート及びアリールスルホナート)及び分散剤、例え ばリグニン−亜硫酸廃液及びメチルセルロースが該当する。 殺菌剤組成物は、一般に有効成分を0.1〜95重量%、好ましくは0.5〜 90重量%の量で含む。 所望の効果に応じて、植物保護で使用する際の施与率は、1ha(ヘクタール )あたり有効成分0.01〜2.0kgの範囲である。 種子を処理する場合、種子1kgにあたりに0.001〜0.lg、特に0. 01〜0.05gの量の有効成分が一般的に必要とされる。 資材の保護あるいは貯蔵保護で使用する際、その施与率は、使用する土地及び 所望の効果に応じて異なる。資材保護の一般の施与率は、例えば処理資材1m3 あたり有効成分0.001g〜2.0kgの範囲、好ましくは0.005g〜1 .0kgの範囲である。 本発明の試薬は、殺菌剤として、他の有効成分、例えば除草剤、殺虫剤、生長 抑制剤、殺菌剤または肥料と共に用いることも可能である。 各種殺菌剤を混合することにより、得られる殺菌効果の範囲が拡大する場合も 多い。 以下に本発明の化合物とともに使用可能な化合物を列挙するが、これは組み合 わせの可能性を示すためのものであって、これらに限定するものではない。 硫黄、 ジチオカルバマート及びその誘導体、例えば 鉄(III)ジメチルジチオカルバマート、 亜鉛ジメチルジチオカルバマート、 亜鉛エチレンビスジチオカルバマート、 マンガンエチレンビスジオカルバマート、 マンガン−亜鉛−エチレンジアミン−ビス−ジチオカルバマート、 テトラメチルチウラムジスルフィド、 亜鉛−(N,N−エチレンビスジチオカルバマート)のアンモニア錯化合物、 亜鉛(N,N’−プロピレンビスジチオカルバマート)のアンモニア錯化合 物、 亜鉛(N,N’−プロピレンビスジチオカルバマート)、 N、 N’−ポリプロピレンビス(チオカルバモイル)ジスルフィド; ニトロ誘導体、例えば ジニトロ−(1−メチルヘプチル)フェニルクロトナート、 2−sec−ブチル−4,6−ジニトロフェニル−3,3−ジメチルアクリラ ート、 2−sec−ブチル−4,6−ジニトロフェニルイソプロピルカルボナート、 ジイソプロピル5−ニトロイソフタラート; 複素環式物質、例えば 2−ヘプタデシル−2−イミダゾリンアセタート、 2,4−ジクロロ−6−(o−クロロアニリノ)−s−トリアジン、 O,O−ジエチルフタルイミドホスホノチオエート、 5−アミノ−1−[ビス(ジメチルアミノ)ホスフィニル]−3−フェニル− 1,2,4−トリアゾール、 2,3−ジシアノ−1,4−ジチオアントラキノン、 2−チオ−1,3−ジチオロ−[4,5−b]−キノキサリン、 1−(ブチルカルバモイル)−2−ベンズイミダゾール−カルバミン酸メチル エステル、 2−メトキシカルボニルアミノベンズイミダゾール、 2−(2−フリル)ベンズイミダゾール、 2−(4−チアゾーリル)ベンズイミダゾール、 N−(1,1,2,2−テトラクロロエチルチオ)テトラヒドロフタルイミド 、 N−トリクロロメチルチオテトラヒドロフタルイミド、 N−トリクロロメチルチオフタルイミド、 N−ジクロロフルオロメチルチオ−N’,N’−ジメチル−N−フェニルスル ファアミド、 5−エトキシ−3−トリクロロメチル−1,2,3−チアジアゾール、 2−チオシアナートメチルチオベンゾチアゾール、 1,4−ジクロロ−2,5−ジメトキシベンゼン、 4−(2−クロロフェニルヒドラゾノ)−3−メチル-5−イソキサゾロン、 ピリジン−2−チオール−1−オキシド、 8−ヒドロキシキノリン及びその銅塩、 2,3−ジヒドロ−5−カルボキシアニリド−6−メチル−1,4−オキサチ イン、 2,3−ジヒドロ−5−カルボキシアニリド−6−メチル−1,4−オキサチ イン−4,4−ジオキシド、 2−メチル−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−3−カルボキシアニリド、 2−メチルフラン−3−カルボキシアニリド、 2,5−ジメチルフラン−3−カルボキシアニリド、 2,4,5−トリメチルフラン−3−カルボンキシアニリド、 シクロヘキシル−2,5−ジメチルフラン−3−カルボキシアミド、 N−シクロヘキシル−N−メトキシ−2,5−ジメチルフラン−3−カルボキ シアミド、 2−メチルベンズアニリド、 2−ヨードベンズアニリド、 N−ホルミル−N−モルホリン−2,2,2−トリクロロエチルアセタール、 ピペラジン−1,4−ジイルビス(2,2,2−トリクロロエチル)ホルムア ミド、 1−(3,4−ジクロロアニリノ)−1−ホルミルアミノ−2,2,2−トリ クロロエタン、 2,6−ジメチル−N−トリデシルモルホリン及びその塩、 2,6−ジメチル-N−シクロドデシルモルホリン及びその塩、 N−[3−(p−tert−ブチルフェニル)−2−メチルプロピル]−シス −2,6−ジメチルモルホリン、 N−[3−(p−tert−ブチルフェニル)−2−メチルプロピル]ピペリ ジン、 1−[2−(2,4−ジクロロフェニル)−4−エチル−1,3−ジオキソラ ン−2−イルエチル]−1H−1,2,4−トリアゾール、 1−[2−(2,4−ジクロロフェニル)−4−n−プロピル−1,3−ジオ キソラン−2−イルエチル]−1H−1,2,4−トリアゾール、 N−(n−プロピル)−N−(2,4,6−トリクロロフェノキシエチル)− N’−イミダゾリル尿素、 1−(4−クロロフェノキシ)−3,3−ジメチル−l−(1H−1,2,4 −トリアゾール−1−イル)−2−ブタノン、 1−(4−クロロフェノキシ)−3,3−ジメチル−l−(IH−1,2,4 −トリアゾール−1−イル)−2−ブタノール、 α−(2−クロロフェニル)−α−(4−クロロフェニル)−5−ピリミジン メタノール、 5−ブチル−2−ジメチルアミノ−4−ヒドロキシ−6−メチル−ピリミジン 、 ビス(p−クロロフェニル)−3−ピリジンメタノール、 1,2−ビス−(3−エトキシカルボニル−2−チオウレイド)ベンゼン、 1,2−ビス−(3−メトキシカルボニル−2−チオウレイド)ベンゼン; 及び、種々の殺菌剤、例えば ドデシルグアニジンアセタート、 3−[3−(3,5−ジメチル−2−オキシシクロヘキシル)−2−ヒドロキ シエチル]グルタルイミド、 ヘキサクロロベンゼン、 メチルN−(2,6−ジメチルフェニル)−N−2−フロイル−DL−アラニ ナート、 DL−N−(2,6−ジメチルフェニル)−N−(2’−メトキシアセシル) アラリンのメチルエステル、 N−(2,6−ジメチルフェニル)−N−クロロアセチル−D,L−2−アミ ノブチロラクトン、 DL−N−(2,6−ジメチルフェニル)−N−(フェニルアセチル)アラニ ンのメチルエステル、 5−メチル−5−ビニル−3−(3,5−ジクロロフェニル)−2,4−ジオ キソ−1,3−オキサゾリジン、 3−[3,5−ジクロロフェニル−(5−メチル−5−メトキシメチル]−1 ,3−オキサゾリジン−2,4−ジオン、 3−(3,5−ジクロロフェニル)−1−イソプロピルカルバモイルヒダント イン、 N−(3,5−ジクロロフェニル)−1,2−ジメチルシクロプロパン−1, 2−ジカルボキシイミド、 2−シアノ−[N−(エチルアミノカルボニル)−2−メトキシイミノ]アセ トアミド、 1−[2−(2,4−ジクロロフェニル)ペンチル]−1H−1,2,4−ト リアゾール、 2,4−ジフルオロ−α−(1H−1,2,4−トリアゾリル−1−メチル) ベンズヒドリルアルコール、 N−(3−クロロ−2,6−ジニトロ−4−トリフルオロメチルフェニル)− 5−トリフルオロメチル−3−クロロ−2−アミノピリジン、 1−((ビス−(4−フルオロフェニル)メチルシニル)メチル)−1H−1 ,2,4−トリアゾール; ストロビルリン(strobilurin)、例えば メチルE−メトキシイミノ[α−(o−トリルオキシ)−o−トリル]アセテ ート、 メチルE−2−{2−[6−(2−シアノフェノキシ)ピリミジン−4−イル オキシ]フェニル}−3−メトキシアクリラート、 メチルE−メトキシイミノ−[α−(2−フェノキシフェニル)]アセトアミ ド、 メチルE−メトキシイミノ[α−(2,5−ジメチルフェノキシ)−o−トリ ル]アセトアミド; アニリノピリミジン、例えばN−(4,6−ジメチルピリミジン−2−イル) アニリン、 N−[4−メチル−6−(1−プロピニル)ピリミジン−2−イル]アニリン 、 N−(4−メチル−6−シクロプロピルピリミジン−2−イル)アニリン; フェニルピロール、例えば 4−(2,2−ジフルオロ−1,3−ベンゾジオキソール−4−イル)−ピロ ール−3−カルボニトリル; 桂皮酸アミド、例えばN−3−(4−クロロフェニル)−3−(3,4−ジメ トキシフェニル)−アクリル酸モルホリン。 式Iの化合物は、さらに、昆虫類、蜘蛛形類、線形動物類などの有害生物を防 除するために適している。これらは、作物保護における殺虫剤、及び衛生学、貯 蔵材料保護、及び獣医学における殺虫剤として使用することができる。 害虫には次のものがある。すなわち、 鱗翅目(Lepidoptera)の害虫には例えばアグロテス・イプシロン (Agrotis ypsilon)、アグロテス・セゲタム(Agrotis segetum)、アラバマ・アルジラセア(Alabama argill acea)、アンチカルシア・ゲマタリス(Anticarsia gemma talis)、アルギレスチア・コンジュゲラ(Argyresthia co njugella)、オートグラフア・ガマ(Autographa gamm a)、ブパラス・ピニアリウス(Bupalus piniarius)、カコ エシア・ムリナナ(Cacoecia murinana)、カプア・レチキュ ラナ(Capua reticulana)、ケイマトビア・ブルマタ(Che imatobia brumata)、チョリストネウラ・フミフェラナ(Ch oristoneura fumiferana)、チョリストネウラ・オクシ デンタリス(Choristoneura occidentalis)、シル ピス・ウニプンクタ(Cirphis unipuncta)、チデイア・ポモ ネーラ(Cydia pomonella)、デンドロリマス・ピニ(Dend rolimus pini)、ダイアファニア・ニチダリス(Diaphania nitida lis)、ダイアトラエア・グランディオセーラ(Diatraea gran diosella)、エアリアス・インスラナ(Eariasinsulana )、エラスモパルパス・リグノセーラス(Elasmopalpus lign osellus)、オイポエシリア・アムピグエーラ(Eupoecilia ambiguella)、エベトリア・ブーリアナ(Evetria boul iana)、フェルチア・サブテーラネア(Feltia subterran ea)、ガレリア メロネーラ(Galleria mellonella)、 グラホリタ・フネブラナ(Grapholita funebrana)、グラ ホリタ・モレスタ、(Grapholita molesta)、ヘリオテス・ アルミゲラ(Heliothis armigera)、ヘリオテス・ピレセン ス(Heliothis virescens)、ヘリオテス・ジー(Heli othis zea)、ヘールラ・アンダリス(Hellula undali s)、ヒベルニア・デフォリアリア(Hibernia defoliaria )、ヒファントリア・クネア(Hyphantria cunea)、ヒポノム ータ・マリネラス(Hyponomeuta malinellus)、ケイフ ェリア・リコペルシセーラ(Keifferia lycopersicell a)、ラムブディナ・フィセラリア(Lambdina fiscellari a)、ラフィグマ・エクシグア(Laphygma exigua)、ロイコプ テラ・カフィーラ(Leucoptera coffeella)、ロイコプテ ラ・シテルラ(Leucoptera scitella)、リソコレーチス・ ブランカルデーラ(Lithocolletis blancardella) 、ロベシア・ボトラナ(Lobesia botrana)、ロクソステーゲ・ スティクティカリス(Loxostege sticticalis)、リマン トリア・ディスパー(Lymantria dispar)、リマントリア・モ ナチャ(Lymantria monacha)、リオネチア・クレルケーラ( Lyonetia clerkella)、マラコソマ・ノイストリア (Malacosoma neustria)、マメストラ・ブラシーカエ( Mamestra brassicae)、オルギィア・プソイドツガタ(Or gyia pseudotsugata)、オストリニア・ヌビラリス(Ost rinia nubilalis)、パノリス・フラメア(Panolis f lammea)、ペクチノフォラ・ゴシィピエーラ(Pectinophora gossypiella)、ペリドロマ・サウシア(Peridroma s aucia)、ファレラ・ブスファーラ(Phalera bucephala )、フトリマエア・オペルキュレーラ(Phthorimaea opercu lella)、フィロクニティス・シトレーラ(Phyllocnitis c itrella)、ピエリス・ブラシーカ(Pieris brassicae )、プラティペナ・スカブラ(Plathypena scabra)、プルテ ーラ・キシロステーラ(Plutella xylostella)、スードプ ルシア・インクルデンス(Pseudoplusia includens)、 フィアシオニア・フルストラナ(Phyacionia frustrana) 、スクロビパルプラ・アブソルタ(Scrobipalpula absolu ta)、シトトロガ・セレレーラ(Sitotroga cerelella) 、スパルガノティス・ピレリアナ(Sparganothis pilleri ana)、スポドプテラ・フルジペルダ(Spodoptera frugip erda)、スポドプテラ・リトラリス(Spodoptera littor alis)、スポドプテラ・リチュラ(Spodoptera litura) 、タウマトポエア・ピティオカムパ(Thaumatopoea pityoc ampa)、トリトリックス・ビリダナ(Tortrix viridana) ,トリコプルシア・ニ(Trichoplusia ni)、ザイラフェラ・カ ナデンシス(Zeiraphera canadensis)が属する。 鞘翅目(Coleoptera)としては例えばアグリラス・シヌアタス(A grilus sinuatus)、アグリオテス・リネアタス(Agriot es lineatus)、アグリオテス・オブスキュラス(Agriotes obscurus)、アンフィマーラス・ソルスティティア リス(Amphimallus solstitialis)、アニサンドラス ・ディスパー(Anisandrus dispar),アンソノムス・グラン ディス(Anthonomus grandis)、アンソノムス・ポモラム( Anthonomus pomorum)、アトマリア・リネアリム(Atom aria linearis)、ブラストファグス・ピニペルダ(Blasto phagus piniperda)、ブリトファガ・ウンダタ(Blitop haga undata)、ブルカス・ルフィマヌス(Bruchus ruf imanus)、ブルカス・ピソラム(Bruchus pisorum)、ブ ルカス・レンティス(Bruchus lentis)、ブルカス・ベチュラエ (Bruchusbetulae)、カシィーダ・ネビュローサ(Cassid a nebulosa)、セロトマ・トリフルカタ(Cerotoma tri furcata)、シュートリーンカス・アッシミリス(Ceuthorrhy nchus assimilis)、シュートリーンカス・ナピ(Ceutho rrhynchus napi)、チャエトクネマ・ティビアリル(Chaet ocnema tibialis)、コノデラス・ベスペルティナス(Cono derus vespertinus)、クリオセリス・アスパラギー(Cri oceris asparagi)、ダイアブロティカ・ロンジコロニス(Di abrotica longicornis)、ダイアブロティカ・12−プン クタタ(Diabrotica 12−punctata)、ダイアブロティカ ・ビルジフェラ(Diabrotica virgifera)、エピラシュナ ・バリベスティス(Epilachna varivestis)、エピトリッ クス・ヒルティペニス(Epitrix hirtipennis)、オイティ ノボスラス・ブラシリエンシス(Eutinobothrus brasili ensis)、ヒロビウス・アビエティス(Hylobius abietis )、ヒペラ・ブルネイペニス(Hypera brunneipennis)、 ヒペラ・ポスティカ(Hypera postica)、イプス・ティポグラフ ァス(Ips typographus)、レマ.ビリネアタア(Lema bilineata)、レマ・メラノプス(Lema melanopus)、 レプチノタルサ・デセムリネアタ(Leptinotarsa decemli neata)、リモニウス・カリフォルニカス(Limonius calif ornicus)、リソルホプトラス・オリゾフィラス(Lissorhopt rus oryzophilus)、メラノタス・コミュニス(Melanot us communis)、メリゲテス・アエネウス(Meligethes aeneus)、メロロンタ・ヒポカスタニ(Melolontha hipp ocastani)、メロロンタ.メロロンタ(Melolontha mel olontha)、オウレマ・オリザエ(Oulema oryzae)、オル ティオリーンカス・サルカタス(Ortiorrhynchus sulcat us)、オティオリーンカス・オバタス(Otiorrhynchus ova tus)、ファエドン・コックレアリア(Phaedon cochleari ae)、ピロトレタ・クリソセファラ(Phyllotreta chryso cephala)、フィロフィガ・エスピー(Phyllophaga sp. )、フィロペルサ・ホルティコラ(Phyllopertha hortico la)、フィロトレタ・ネモラム(Phyllotreta nemorum) 、フィロトレタ・ストリオラタ(Phyllotreta striolata )、ポピーリア・ジャポニカ(Popillia japonica)、シトナ ・リネアタス(Sitona lineatus)、シトフィラス・グラナリア (Sitophilus granaria)が属する。 双翅目(Diptera)としてはアエデス・アエジプティ(Aedes a egypti)、アエデス・ベクサンス(Aedes vexans)、アナス トレフ・ルーデンス(Anastrepha ludens)、アノフェレス・ マクリペニス(Anopheles maculipennis)、セラティテ ィス・カピタタ(Ceratitis capitata)、クリソミヤ・ベジ ーアナ(Chrysomya bezziana)、クリソミヤ・ホミニポラッ クス(Chrysomya hominivorax)、クリソミヤ・マセーラ リア(Chrysomya macellaria)、コンタリニア・ソ ルジヒコラ(Contarinia sorghicola)、コルディロビア ・アンスロポファガ(Cordylobia anthropophaga)、 キュレックス.ピピエンス(Culex pipiens)、ダカス・キュキュ ルビタエ(Dacus cucurbitae)、ダカス・オレアレ(Dacu s oleae)、ダシネウラ・ブラシーカ(Dasineura brass icae)、ファニア・カニキュラリス(Fannia caniculari s)、ガステロフィラス・インティティナリス(Gasterophilus intestinalis)、グロシナ・モルシタンス(Glossinamo rsitans)、ヘマトビア・イリタンス(Haematobia irri tans)、ハプロディプロシス・エケストリス(Haplodiplosis equestris)、ヒーレミア・プラチュラ(Hylemyia plat ura)、ヒポデルマ・リネアタ(Hypoderma lineata)、リ リオミザ・サチバエ(Liriomyza sativae)、リリオミザ・ト リフォリィ(Liriomyza trifolii)、ルシリア・カプリナ( Lucilia caprina)、ルシリア・クプリナ(Lucilia c uprina)、ルシリア・セリカタ(Lucilia sericata)、 リコリア・ペクトラリス(Lycoria pectoralis)、マエティ オラ・デストラクター(Mayetiola destructor)、ムスカ ・ドメスティカ(Musca domestica)、ムシーナ・スタビュラン ス(Muscina stabulans)、オエストラス・オビス(Oest rus ovis)、オッシネーラ・フリット(Oscinella frit )、ペゴミア・ヒソシャーミ (Pegomya hysocyami)、フォ ルビア・アンティカ(Phorbia antiqua)、フォルビア・ブラシ ーカ(Phorbia brassicae)、フォレビア・コアルクタタ(P horbia coarctata)、ラゴレティス.セラシ(Rhagole tis cerasi)、ラゴレティス・ポモネーラ (Rhagoletis pomonella)、タバナス・ボビヌス(Ta banus bovinus)、ティプラ・オレラセア(Tipula ole racea)、ティプラ・パルドサ(Tipula paludosa)が属す る。 総翅目(Thysanoptera)として例えばフランクリニエーラ・フス カ(Frankliniella fusca)、フランクリニエーラ・オクシ デンタリス(Frankliniella occidentalis)、フラ ンクリニエーラ・トリティシ(Frankliniella tritici) 、シルトスリップス・シトリ (Scirtothrips citri)、ス リップス・オリザエ(Thrips oryzae)、スリップス・パルミ(T hrips palmi)、スリップス・タバシ(Thrips tabaci )が属する。 膜翅目(Hymenoptera)としては例えばアサリア・ロザエ(Ath alia rosae)、アタ・セファロテス(Atta cephalote s)、アタ・セックスデンス(Atta sexdens)、アタ・テキサナ( Atta texana)、ホプロカンパ・ミヌタ(Hoplocampa m inuta)、ホプロカンパ・テスチュディネア(Hoplocampa te studinea)、モノモリウム・ファラオニス(Monomorium p haraonis)、ソレノプシス・ゲミナタ(Solenopsis gem inata)、ソレノプシス・インビクタ(Solenopsis invic ta)が属する。 異翅亜目(Heteroptera)としては例えばアクロステルナム・ヒラ レ(Acrosternum hilare)、ブリサッス・ロイコプテラス( Blissus leucopterus)、シルトペルティス・ノタタス(C yrtopeltis notatus)、ディスデルカス・シングラタス(D ysdercus cingulatus)、ディスデルカス・インテルメディ アス(Dysdercus intermedius)、オイリーガスター・イ ンテグリセプス(Eurygaster integriceps)、オイスチ スタス・インピクティベントリス(Euschistus impictiventris)、レプトグローサス・フィロープス(Lept oglossus phyllopus)、リーガス.リネオラリス(Lygu s lineolaris)、リーガス・プラテンシス(Lygus prat ensis)、ネザラ・ビリデウラ(Nezara viridula)、ピエ ズマ・カドラタ(Piesma quadrata)、ソルベア・インスラリス (Solubea insularis)、ティアンタ・ペルディトール(Th yanta perditor)が属する。 同翅亜目(Homoptera)には例えばアシルトシフォン・オノブリーシ ス(Acyrthosiphon onobrychis)、アデルゲス・ラリ シス(Adelges laricis)、アフィドラ・ナスチュルティ(Ap hidula nasturtii)、アフィス・ファバエ(Aphis fa bae)、アフィス・ポミ(Aphis pomi)、アフィス・サンブシ(A phis sambuci)、ブラチーカウダス・カルデゥイ(Brachyc audus cardui)、ブレビコリネ・ブラシイーカ(Brevicor yne brassicae)、セロシィファ・ゴシィープイ(Cerosip ha gossypii)、ドレフュシア・ノルドマンニィアナエ(Dreyf usia nordmannianae)、ドレフュシア・ピセエア(Drey fusia piceae)、デイサフイス・ラジコラ(Dysaphis r adicola)、ディサウラコルツム・スードソラニ(Dysaulacor thum pseudosolani)、エムポアスカ・ファバエー(Empo asca fabae)、マクロシフム・アベナエ(Macrosiphum avenae)、マクロシフム・オイフォルビア(Macrosiphum e uphorbiae)、マクロシフォン・ロザエ(Macrosiphon r osae)、メグーラ.ビシア(Megoura viciae)、メトポロフ ィウム・ディルホダム(Metopolophium dirhodum)、ミ ゾデス・ペルシカエ(Myzodes persicae)、ミザス・セラシー (Myzus cerasi)、ニラパルバタ.ルゲンス(Nilaparva ta lugens)、ペムフィガス・バルサリウス(Pemphigus burs arius)、ペルキンシェラ・サッカリシダ(Perkinsiella s accharicida)、フォロドン・フムリー(Phorodon hum uli)、プシーラ・マリ(Psylla mali)、プシーラ・ピリ(Ps ylla piri)、ロパロミーズス・アスカロニカス(Rhopalomy zus ascalonicus)、ロパロシィフム・マイディス(Rhopa losiphum maidis)、サパフィス・マラ(Sappaphis mala)、サパフィス・マリー(Sappaphis mali)、シザフィ ス・グラミナム(Schizaphis graminum)、シゾネウラ・ラ ヌジイノサ(Schizoneura lanuginosa)、トリアロイロ デス・バポラリオラム(Trialeurodes vaporariorum )、ビテウス・ビティフォリー(Viteus vitifolii)が属する 。 等翅目(Isoptera)には例えばカロテルメス・フラビコーリス(Ca lotermes flavicollis)、ロイコテルミス・フラビペス( Leucotermes flavipes)、レティキュリテルメス・ルシフ グス(Reticulitermes lucifuqus)、テルメス・ナタ レンシス(Termes natalensis)が属する。 直翅目(Orthoptera)には例えばアチタ・ドメスチカ(Achet a domestica)、ブラッタ・オリエンタリス(Blatta ori entalis)、ブラテラ・ジェルマニカ(Blattella germa nica)、フォルフィキュラ・アウリキュラリア(Forficula au ricularia)、グリーロタルパ・グリーロタルパ(Gryllotal pa gryllotalpa)、ロカスタ・ミグラトリア(Locusta migratoria)、メラノプラス・ビビタタス(Melanoplus bivittatus)、メラノプラス・フェムルールブラム(Melanop lus femurrubrum)、メラノプラス・メキシカナス(Melan oplus mexicanus)、メラノプラス・サングイニペス(Mela noplus sanguinipes)、メラノプラス・スプレタス(Melanoplus spretus)、ノマダリクス・セプテムファシィアータ(Nomadac ris septemfasciata)、ペリプラネタ・アメリカーナ(Pe riplaneta americana)、シストセルサ・アメリカーナ(S chistocerca americana)、シストセルサ・ペレグリナ( Schistocerca peregrina)、スタウロノタス・マロッカ ナス(Stauronotus maroccanus)、タキシネス・アシー ナモラス(Tachycines asynamorus)が属する。 蛛形類(Acarina)例えばアムブリオンマ・アメリカナム(Ambly omma americanum)、アムブリオンマ・バリエガタム(Ambl yomma variegatum)、アルガス・ペルシカス(Argas p ersicus)、ブーフィラス・アンヌラタス(Boophilus ann ulatus)、ブーフィラス・デコロラタス(Boophilus deco loratus)、ブーフィラス・ミクロプラス(Boophilus mic roplus)、ブレビパルパス・フォエニシス(Brevipalpus p hoenicis)、ブリオビア・プラエティオサ(Bryobia prae tiosa)、デルマセントール・シルバラム(Dermacentor si lvarum)、エオテトラニーカス・カルピニ(Eotetranychus carpini)、エリオフェス・シエルドニ(Eriphyes sheld oni)、ヒアロムマ・トランカタム(Hyalomma truncatum )、イクソデス・リシナス(Ixodes ricinus)、イクソデス・ル ビカンダス(Ixodes rubicundus)、オルニトドラス・マウバ タ(Ornithodorus moubata)、オトビウス・メグニニ(O tobius megnini)、パラテラニーカス・ピロサス(Parate ranychus pilosus)、ダルマニサス・ガリーナエ(Derma nyssus gallinae)、フィロカプトルタ・オレイボラ(Phyl locaptruta oleivora)、ポリファゴタルソ ネムス・ラタス(Polyphagotarsonemus latus)、プ ソロプテス・オビス(Psoroptes ovis)、リピセファラス・アペ ンディキュラタス(Rhipicephalus appendiculatu s)、リピセファラス・エヴェルトシー(Rhipicephalus eve rtsi)、サルコプテス・スカビエイ(Sarcoptes scabiei )、テトラニカス・シンナバリナス(Tetranychus cinnaba rinus)、テトラニカス・カンザワイ(Tetranychus kanz awai)、テトラニカス・パシフィカス(Tetranychus paci ficus)、テトラニカス・テラリウス(Tetranychus tela rius)、テトラニカス・ウルチィカエ(Tetranychus urti cae)が属する。 線虫類として例えば根状虫線虫には、例えばメロイドギーネ・ハプラ(Mel oidogyne hapla)、メロイドギーネ・インコグニタ(Meloi dogyne incognita)、メロイドギーネ・ジャバニカ(Melo idogyne javanica)が属する。 包嚢形成線虫には、例えばグロボデラ・ロストチーエンシス(Globode ra rostochiensis)、ヘテロデラ・アベナエ(Heterod era avenae)、ヘテロデラ・グリシネス(Heterodera g lycines)、ヘテロデラ・シャツティー(Heterodera sch atii)、ヘテロデラ・トリフォリー(Heterodera trifol ii)、幹および葉線虫には、例えばベロノライムス・ロンジカウダタス(Be lonolaimus longicaudatus)、ジチレンカス・デスト ラクター(Ditylenchus destructor)、ジチレンカス・ ディプサシ(Ditylenchus dipsaci)、ヘリオコチレンカス ・マルチシンクタス(Heliocotylenchus multicinc tus)、ロンジドラス・エロンガタス(Longidorus elonga tus)、ラドフォラス・シミリス(Radopholus similis) 、ロチレンカス・ロブスタス (Rotylenchus robustus)、トリコドラス・プリミティバ ス(Trichodorus primitivus)、チレンコリーンカス・ クレイトニ(Tylenchorynchus claytoni)、チレンコ リーンカス・ドビウス(Tylenchorynchus dubius)、プ ラチーレンカス・ネグレクタス(Pratylenchus neglectu s)、プラチーレンカス・ペネトランス(Pratylenchus pene trans)、プラチーレンカス・キュルビタタス(Pratylenchus curvitatus)、プラチーレンカス・グッディイー(Pratyle nchus goodeyi)が属する。 有効成分は、それだけで、あるいは公知の配合助剤を用いて得られる処方(組 成物)の形又はそれらから得られる施与形態で、適用することができる。例えば 直接的に噴霧可能な溶液、粉末、懸濁液もしくは分散液、エマルジョン、油性分 散液、ペースト、ダスト剤、散布剤または顆粒の形で、噴霧法、ミスト法、ダス ト法、散布法または散水法によって施与することができる。施与形態は、完全に 使用目的に基づいて決定される。いずれの場合にも、本発明の有効成分の可能な 限りの微細分配が保証されるべきである。 直接使用できる調製物の有効成分の濃度は、比較的広い範囲で変更することが できる。一般に、0.0001〜10%の範囲、好ましくは0.01〜1%の範 囲である。 有効成分は、超低量(ULV)法により非常に良好に施与されるが、95重量 %を上回る有効成分を含有する調製物または添加剤を全く含有しない有効成分を 用いることも可能である。 屋外の条件で、有効成分の有害生物を防除するための施与率は、0.1〜2. 0kg/ha.(ヘクタール)が一般的で、0.2〜1.0kg/ha.が好ま しい。 直接噴霧可能の溶液、乳濁液、ペーストまたは油分散液を製造するために好適 な物質として、中位乃至高位の沸点の鉱油留分、例えば燈油またはディーゼル油 、更にコールタール油等、並びに植物性または動物性の油、脂肪族、環状およ び芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン、パラフィン、テトラヒドロナフ タリン、アルキル置換ナフタリンまたはその誘導体、メタノール、エタノール、 プロパノール、ブタノール、クロロホルム、四塩化炭素、シクロヘキサノール、 シクロヘキサノン、クロルベンゼン、イソホロン等、強極性溶剤、例えばN,N −ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、水を 挙げることができる。 水性施与形態は、乳濁液濃縮物、ペースト、または湿潤可能な粉末(噴霧可能 粉末、油性分散液)から水の添加により製造することができる。乳濁液、ペース トまたは油分散液の製造は、物質をそのまま、または油または溶剤中に溶解して 、湿潤剤、粘着付与剤、分散剤または乳化剤により水中に均質に混合することに より行うことができる。あるいは有効物質、湿潤剤、粘着付与剤、分散剤または 乳化剤および所望により溶剤または油よりなる濃縮物を製造することもでき、こ れは水にて希釈するのに適する。 好適な界面活性剤としては次のものが挙げることができる:リグニンスルホン 酸、フェノールスルホン酸、ナフタリンスルホン酸、ジブチルナフタリンスルホ ン酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩及びアンモニウム塩;アルキルアリ ールスルホナート、アルキルスルファート、アルキルスルホナート、脂肪アルコ ールスルファート、脂肪酸及びそのアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩;硫 酸化脂肪アルコールグリコールエーテルの塩;並びにスルホン化ナフタリンおよ びナフタリン誘導体とホルムアルデヒドとの縮合生成物、ナフタリン或はナフタ リンスルホン酸とフェノールおよびホルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキ シエチレン−オクチルフェノールエーテル、エトキシル化イソオクチルフェノー ル、エトキシル化オクチルフェノール、エトキシル化ノニルフェノール、アルキ ルフェニルポリグリコールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコールエーテ ル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、イソトリデシルアルコール、脂 肪アルコール/エチレンオキシド縮合物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエ チレンアルキルエーテル、またはポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ラウ リルアルコールポリグリコールエーテルアセタート、ソルビットエステル、リグ ニン−亜硫酸廃液およびメチルセルロース。 粉末剤、散布剤及びダスト剤は活性物質と固体担体物質とを混合または一緒に 磨砕することにより製造することができる。 一般に、処方は、有効成分を、0.01〜95重量%、好ましくは0.1〜9 0重量%の量で含む。有効成分は90−100%の純度(NMRスペクトルによ る)のもの、好ましくは95〜100%の純度のものが使用される。 例えば、下記のように処方することができる: I.5重量部の本発明の化合物を、微粒状カオリン95重量部と密に混和する 。かくして有効成分5重量%を含有するダスト剤が得られる。 II.30重量部の本発明の化合物を、粉末状シリカゲル92重量部およびこの シリカゲルの表面上に吹きつけられたパラフィン油8重量部よりなる混合物と密 に混和する。かくして良好な接着性を有する有効成分の製剤が得られる(有効成 分含有量は23重量%)。 III.10重量部の本発明の化合物を、キシレン90重量部、エチレンオキシ ド8乃至10モルをオレイン酸N−モノエタノールアミド1モルに付加した付加 生成物6重量部、ドデシルベンゼンスルホン酸のカルシウム塩2重量部およびエ チレンオキシド40モルをヒマシ油1モルに付加した付加生成物2重量部よりな る混合物中に溶解する(有効成分含有量は9重量%)。 IV.20重量部の本発明の化合物を、シクロヘキサノン60重量部、イソブタ ノール30重量部、エチレンオキシド7モルをイソオクチルフェノール1モルに 付加した付加生成物5重量部およびエチレンオキシド40モルをヒマシ油1モル に付加した付加生成物5重量部よりなる混合物中に溶解する(有効成分含有量は 16重量%)。 V.80重量部の本発明の化合物を、ジイソブチルナフタリン−α−スルホン 酸のナトリウム塩3重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルホン酸のナトリウ ム塩10重量部及び粉末状シリカゲル7重量部と充分に混和し、かつハンマーミ ル中において磨砕する(有効成分含有量は80重量%)。 VI.90重量部の本発明の化合物Iを、N−メチル−α−ピロリドン10重量 部と混合し、極めて小さい滴の形での使用に好適な溶液が得られる(有効成分含 有量は90重量%)。 VII.20重量部の本発明の化合物を、シクロヘキサノン40重量部、イソブ タノール30重量部、エチレンオキシド7モルをイソオクチルフェノール1モル に付加した付加生成物20重量部およびエチレンオキシド40モルをヒマシ油1 モルに付加した付加生成物10重量部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を 水100000重量部に注ぎかつ細分散することにより有効成分0.02重量% を含有する水性分散液が得られる。 VIII.20重量部の本発明の化合物Iを、ジイソブチルナフタリン−α−スル ホン酸のナトリウム塩3重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルホン酸のナト リウム塩17重量部および粉末状シリカゲル60重量部と充分に混和し、かつハ ンマーミル中において磨砕する。この混合物を水20000重量部に細分散する ことにより有効成分0.1重量%を含有する噴霧液が得られる。 粒状体(例えば被覆粒状体、含浸粒状体および均質粒状体)は、有効物質を固 体担体物質に結合させることにより製造することができる。 固体担体物質の例としては、鉱物土(例えば、シリカ、シリカゲル、珪酸塩、 タルク、カオリン、アタクレー(attaclay)、石灰石、石灰、白亜、膠塊粒土、石 灰質黄色粘土、クレイ、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、 酸化マグネシウム、磨砕合成物質)、及び肥料(例えば、硫酸アンモニウム、燐 酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素)及び植物性生成物(例えば、穀物粉 、樹皮、木材およびクルミ穀粉、セルロース粉末)および他の固形担体物質であ る。 種々のタイプの油、除草剤、殺虫剤、他の殺菌剤または殺バクテリア剤を、有 効成分に、加えて混合することができる。所望により施与(タンク混合)直前に 加えることができる。これらの薬剤は、本発明の薬剤と1:10〜10:1の範 囲(重量比)で混合することができる。 [合成例] 下記の合成例で示される記録は、希望の出発物質を部分変更することにより他 の化合物Iを得るために使用することができる。得られた化合物とその物理デー タは下記の表に示す。 [実施例1] メチルE−2−メトキシイミノ−2−[(2−[2−ベンジルオキシイミノエ タ−1’−イル)−ピリミジン−4−イル)]オキシメチル)フェニル]アセテ ート(化合物No.I.38) 第1工程:4−ヒドロキシ−2−(ベンジルオキシイミノエタ−1’−イル) ピリミジン 2.5gの4−ヒドロキシ−2−アセチルピリミジン塩酸塩、3gの20%濃 度水酸化ナトリウム水溶液及び2.16gのベンジルオキシアミン塩酸塩を、3 5mlのメタノールに導入し、この混合物を10%濃度HCl水溶液を用いてp H5に調整した。その後、それを40℃で4時間攪拌し、次いで室温で14時間 攪拌した。反応混合物を濃縮した。残った粗生成物をメチルtert−ブチルエ ーテルに採取した。有機層を集め、水洗し、乾燥した。混合物を再濃縮した。残 った粗生成物を酢酸エチルを用いてシリカゲル上で精製した。こうして、2.6 gの4−ヒドロキシ−2−(ベンジルオキシイミノエタ−1’−イル)ピリミジ ンを、淡黄色の固体として得た(融点:142−143℃)。 第2工程:表題化合物 1.82gの4−ヒドロキシ−2−(ベンジルオキシイミノエタ−1’−イル )ピリジン、2.15gのメチルE−2−メトキシイミノ−2−[2−(ブロ モエチル)フェニル]アセテート及び1.55gの炭酸カリウムを、30mlの ジメチルホルムアミドに加え、50℃で4時間攪拌し、その後室温で14時間攪 拌した。反応混合物を水で処理し、次いでメチルtert−ブチルエーテルを用 いて抽出した。有機層を集め、水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、再濃縮した 。残った粗生成物を、シクロヘキサン/メチルtert−ブチルエーテル(1: 1)を用いてシリカゲル上で精製した。こうして1.7gの表題化合物を淡色樹 脂として得た。 IR(cm-1):1728,1567,1440,1323,1288,12 20,1069,1046,1019,986。 [実施例2] N−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[2−(ベンジルオキシ イミノエタ−1’−イル)−ピリミジン−4−イル)]オキシメチル)フェニル ]アセトアミド(化合物No.I.39) 4.4gのメチルエステル(実施例1の表題化合物)を、80mlのテトラヒ ドロフランに溶解し、3.0gの40%濃度メチルアミン水溶液で処理した。混 合物を45℃で5時間攪拌した。反応混合物を冷却した後、濃縮した。残渣を1 00mlのメチルtert−ブチルエーテルに採取した。有機層を水洗し、硫酸 ナトリウム上で乾燥し、次いで蒸発乾涸した。こうして、無色固体の表題化合物 4.3g(融点:83〜84℃)を得た。 [実施例3] メチルE−2−メトキシイミノ−2−[(2−[2−エチル−6−(メトキシ イミノエタ−1’−イル)−ピリミジン−4−イル)]オキシメチル)フェニル ]アセテート(化合物No.I.1) 第1工程:エチル3−(2−メチル−1,3−ジオキソラン−2−イル)−3 −オキソプロピオネート 236gのカリウムtert−ブチレートを、1.3L(リットル)の炭酸ジ エチルに懸濁させ、懸濁液を60℃に加熱した。この温度で、500mlの炭酸 ジエチルに溶解した2−メチル−2−アセチル−1,3−ジオキソランを、3時 間で滴下した。攪拌を60℃で3時間続けた。冷却時に、混合物を、2Lの10 %濃度硫酸に注ぎ、有機層を分離し、水層を酢酸エチルを用いて抽出した。集め た有機層を乾燥し、炭酸ジエチルを蒸発させて、残渣として粗生成物を得、真空 蒸留して精製した。こうして、生成物を収率65%で得た(沸点:69−72℃ /0.08ミリバール)。 第2工程: 4−ヒドロキシ−2−エチル−6−(2−メチル−1,3−ジオ キソラン−2−イル)ピリミジン 54.3gのプロピオンアミジン塩酸塩を350mlのエタノールに溶解した 。90gの30%濃度ナトリウムメタノラート溶液を30分で滴下し、そして混 合物を15分間攪拌した。その後、101gの第1工程の生成物を1時間で滴下 した。混合物を8時間還流し、その後攪拌を14時間続けた。反応混合物を濃縮 した。残渣を320mlの10%濃度の水酸化ナトリウム溶液に溶解し、その後 3回、各回150mlのメチルtert−ブチルエーテルを用いて洗浄した。水 層を塩酸でpH5に調整した。その結果沈殿した生成物をろ別し、乾燥した。こ うして、47.6gの無色固体の生成物を得た(融点:117−120℃)。 第3工程: 4−ヒドロキシ−2−エチル−6−アセチルピリミジン 20gの第2工程のピリミジンを、200mlのジオキサンに導入した。10 0mlの5Nの塩酸を室温にて滴下した。混合物を3時間還流した。冷却時に、 反応混合物を氷中に注ぎ、水酸化ナトリウムの希薄溶液で中性にし、塩化ナトリ ウムで飽和し、そして酢酸エチルで抽出した。有機層を集め、乾燥した。溶剤を 蒸発させ、残渣として無色固体の生成物(融点:153−155℃)を得た。 第4工程: メチルE−2−メトキシイミノ−2−[(2−[2−エチル−6 −アセチルピリミジン−4−イル)]オキシメチル)フェニル]アセテート 7gの第3工程のピリミジンを、12gのメチルE−2−メトキシイミノ−2− [2−(ブロモエチル)フェニル]アセテート及び10gの炭酸カリウムを、2 50mlのジメチルホルムアミド中で、60℃で8時間攪拌した。反応混合物を ろ過した。ろ液濃縮後に残った残渣を酢酸エチルに溶解した。この有機層を、水 酸化ナトリウムの希薄溶液で洗浄し、その後水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥、 再濃縮した。得られた粗生成物は精製無しで、第5工程で使用した。 第5工程:表題化合物 2gの第4工程で得られた生成物と0.5gのメトキシアミン塩酸塩を、10 0mlのメタノール中で6時間還流した。冷却時に、混合物をろ過した。ろ液を 濃縮した後に残った残渣を、酢酸エチルに溶解した。この有機層を水洗し、硫酸 ナトリウム上で乾燥し、そして再濃縮した。残った粗生成物を、シリカゲル上で ヘプタン/酢酸エチル(8:2)を用いて精製した。こうして、無色固体の1g の表題化合物(融点:90−92℃)を得た。 [実施例4] N−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[2−エチル−6−(メ トキシイミノエタ−1’−イル)ピリミジン−4−イル]オキシメチル)フェニ ル]アセトアミド(化合物No.I.23) 0.3gのメチルエステル(実施例の3の表題化合物)を、100mlのテト ラヒドロフランに溶解させ、50mlの40%メチルアミン水溶液で処理した。 混合物を40℃で8時間攪拌した。冷却時に、このバッチを濃縮した。残渣を1 00mlのメチルtert−ブチルエーテルに採取した。有機層を水洗し、硫酸 ナトリウム上で乾燥し、そして蒸発乾涸した。0.3gの淡色樹脂の表題化合物 を得た。 [有害菌類に対する作用例] 下記の試験により、一般式Iの化合物の殺菌作用を示した: 有効成分を、70重量%のシクロヘキサノン、20重量%のNekanil( 登録商標)LN(Lutensol(登録商標)AP6、エトキシル化アルキル フェノールを基礎とする乳化作用および分散作用を有する湿潤剤)および10重 量%のEmulphor(登録商標)EL(Emulan(登録商標)EL、エ トキシル化脂肪アルコールを基礎とする乳化剤)から成る混合物中の濃度20重 量%の乳濁液として調製し、所望の濃度に水で希釈した。 プラズモパラ・ビチコラ(Plasmopara viticola;ブドウ 蔓のうどん粉病)に対する作用 「Muller−Thurgau」種の鉢植えのブドウの蔓に、上記の有効成 分の調製液を、滴り落ちる程度に噴霧した(施与率:250ppm)。8日後、 植物にプラスモパラ・ビチコラの遊走子水性懸濁液を噴霧し、20〜30℃、高 大気湿度の環境に5日間保管した。評価する前に、植物を高大気湿度の環境に再 び16時間保管した。評価は目視で行った。 この試験において、本発明の化合物(即ち、本発明の1、3、5、7、11、 14、17、18、20、22、25、26、27、28、29、30、31、 32、33、34、35、36、37、38及び39)で処理された作物は、被 害領域15%であり、一方未処理の作物(対照)は被害領域は80%であった。 [有害動物に対する作用例] 有害動物に対する一般式Iの化合物の作用を以下の実験で示した: 有効成分を a)0.1%濃度アセトン溶液、または b)70重量%のシクロヘキサノン、20重量%のNekanil(登録商標) LN(Lutensol(登録商標)AP6、エトキシル化アルキルフェノール を基礎とする乳化作用および分散作用を有する湿潤剤)および10重量%のEm ulphor(登録商標)EL(Emulan(登録商標)EL、エトキシル化 脂肪アルコールを基礎とする乳化剤)の混合物中に分散させた10%濃度エマル ジョンとして調製し、 a)の場合はアセトンで、b)の場合は水で希釈し、所望の濃度を得た。 実験の終了後、本発明の化合物が未処理対照に比較してなお80〜100%の 阻害率または致死率を与える、最低濃度(作用の限界または最低濃度)が、各場 合について測定された。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1998年3月4日(1998.3.4) 【補正内容】 請求の範囲 1.式I: [但し、Qが、C(CO2CH3)=CHCH3、C(CO2CH3)= CHOCH3、C(CONHCH3)=CHOCH3、C(CO2CH3)= NOCH3、 C(CONHCH3)=NOCH3又はN(OCH3)−CO2CH3を表し; nが0又は1を表し; R1が水素、又は無置換或いは置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル 、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール或いはヘテロアリールを表し; R2が、水素、又は無置換或いは置換されたアルキル、アルケニル、アルキニ ル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリールを表し、且 つこれらの基は骨格に直接(炭素原子を介して)又は酸素原子、硫黄原子或いは 窒素原子を介して結合しており; R3が、水素、ハロゲン、C1〜C4アルキル又はC1〜C2ハロアルキルを表し ; R4が、水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、又は無置換或いは置換されたアル キル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール或 いはヘテロアリールを表し、且つこれらの基は骨格に直接(炭素原子を介して) 又は酸素原子、硫黄原子或いは窒素原子を介して結合しており; yが、0、1、2又は3を表し、且つyが2又は3を表す場合はR5が互いに 異なっていても良く; R5が、シアノ、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル又 はC1〜C4アルコキシを表す。] で表されるピリミジルフェニルエーテル又はピリミジルベンジルエーテル、又は その塩もしくはそのN−オキシド。 2.式IIa: [但し、L1が求核的に置換可能な脱離基を表す。] で表されるピリミジン誘導体を、式IIIa: で表されるフェノール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反応させて、式 IVa: で表される対応するエーテルに転化する工程、次いでIVaをO−置換ヒドロキシ ルアミン(R1−O−NH2)又はその塩と反応させてIを得る工程を含む請求 項1に記載の化合物Iの製造方法。 3.請求項2に記載の式IIaのピリミジン誘導体を、O−置換ヒドロキシルアミ ン(R1−O−NH2)又はその塩と反応させて式Va:で表される対応する化合物に転化させる工程、次いでVaを請求項2に記載された 式IIIaのフェノール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反応させてIを得 る工程を含む請求項1に記載の化合物Iの製造方法。 4.式IIb: で表されるヒドロキシピリミジンを、式IIIb: [但し、L2が求核的に置換可能な脱離基を表す。] で表されるベンジル化合物と不活性溶剤中で反応させて、式IVb: で表される対応するベンジルエーテルに転化する工程、次いでIVbをO−置換ヒ ドロキシルアミン(R1−O−NH2)又はその塩と反応させてIを得る工程を含 む、nが1の場合の請求項1に記載の化合物Iの製造方法。 5.請求項4に記載の式IIbのヒドロキシピリミジンを、O−置換ヒドロキシル アミン(R1−O−NH2)又はその塩と反応させて式Vb:で表される対応する化合物に転化させる工程、次いでVbを請求項4に記載の式II Ibのベンジル化合物と不活性溶剤中で反応させてIを得る工程を含む、nが1の 場合の請求項1に記載の化合物Iの製造方法。 6.式Xa: [但し、Y1がハロゲン原子を表す。] で表されるエーテルを、 a)式VIIb: [但し、Y2がハロゲン原子、アミド基又はエステル基を表す。] で表される活性化カルボン酸、又は対応するシアニドR2−C≡Nと、不活性溶 剤中で、有機金属塩基の存在下に反応させる工程、或いは b)式XI: [但し、RXが相互に独立してアルキルを表す。] で表される有機錫化合物と、不活性溶剤中で反応させる工程のいずれかの工程を 含む請求項2に記載の化合物IVaの製造方法。 7.式II: [但し、置換基R2、R3及びR4が請求項1と同義であり、 Lがヒドロキシル、ハロゲン、アルキルスルホネート又はアリールスルホネー トを表し、 Zが基NOR1(R1が請求項1と同義である)を表す。] で表される化合物。 8.固体もしくは液体の担体と、請求項1に記載の式Iの化合物とを含む有害生 物又は有害菌類の防除に好適な組成物。 9.有効量の、請求項1に記載の式Iの化合物を用いて、有害菌類を、又は菌類 感染から保護すべき資材、植物、土壌或いは種子を、処理する工程を含む有害菌 類の防除方法。 10.有効量の、請求項1に記載の式Iの化合物を用いて、有害生物を、又はこ れらから保護すべき資材、植物、土壌或いは種子を、処理する工程を含む有害生 物の防除方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),UA(AM,AZ,BY ,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AU,BG ,BR,CA,CN,CZ,GE,HU,IL,JP, KR,LV,MX,NO,NZ,PL,RO,RU,S G,SI,SK,TR,UA,US (72)発明者 ザウター,フーベルト ドイツ国、D―68167、マンハイム、ネカ ルプロメナーデ、20 (72)発明者 グロテ,トーマス ドイツ国、D―67105、シファーシュタッ ト、ブレスラウァ、シュトラーセ、6 (72)発明者 ミュラー,ベルント ドイツ国、D―67227、フランケンタール、 ジャン―ガンス―シュトラーセ、21 (72)発明者 キルストゲン,ラインハルト ドイツ国、D―67434、ノイシュタット、 エルケンブレヒトシュトラーセ、23エー (72)発明者 バイァ,ヘルベルト ドイツ国、D―68159、マンハイム、デー 3.4 (72)発明者 プトック,アルネ ドイツ国、D―67067、ルートヴィッヒス ハーフェン、アイヒェンシュトラーセ、23 (72)発明者 ラック,ミヒャエル ドイツ国、D―69123、ハイデルベルク、 ザントヴィンゲルト、67 (72)発明者 ハロイス,アルブレヒト ドイツ国、D―67063、ルートヴィッヒス ハーフェン、ボイテナー、シュトラーセ、 10 (72)発明者 レール,フランツ ドイツ国、D―67105、シファーシュタッ ト、ゼバスティアン―クナイプ―シュトラ ーセ、2 (72)発明者 アマーマン,エーバーハルト ドイツ国、D―64646、ヘペンハイム、フ ォン―ガーゲルン―シュトラーセ、2 (72)発明者 ハリース,フォルカー ドイツ国、D―67227、フランケンタール、 イメンゲルテンヴェーク、29エー (72)発明者 ロレンツ,ギーゼラ ドイツ国、D―67434、ハムバッハ、エル レンヴェーク、13 (72)発明者 シュトラトマン,ズィークフリート ドイツ国、D―67117、リムブルガーホー フ、ドナースベルクシュトラーセ、9

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式I: [但し、Qが、C(CO2CH3)=CHCH3、C(CO2CH3)=CHOCH3 、C(CONHCH3)=CHOCH3、C(CONH2)=NOCH3、 C(CONHCH3)=NOCH3又はN(OCH3)−CO2CH3を表し; nが0又は1を表し; R1が水素、又は炭素原子を介して結合した有機基を表し; R2が、水素、シアノ、ハロゲン、又は炭素原子、酸素原子、硫黄原子もしく は窒素原子を介して結合した有機基を表し; R3が、水素、ハロゲン、C1〜C4アルキル又はC1〜C2ハロアルキルを表し ; R4が、水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、又は炭素原子、酸素原子、硫黄原 子もしくは窒素原子を介して結合した有機基を表し; yが、0、1、2又は3を表し、且つyが2又は3を表す場合はR5が互いに 異なっていても良く; R5が、シアノ、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル又はC1 〜C4アルコキシを表す。] で表されるピリミジルフェニルエーテル又はピリミジルベンジルエーテル、又は その塩もしくはそのN−オキシド。 2.R1が水素、又は下記の基:即ち、無置換或いは置換されたアルキル、アル ケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロア リールから選ばれる1個の基を表す請求項1に記載の式Iで表される化合物。 3.R2が水素、又は下記の基:即ち、無置換或いは置換されたアルキル、アル ケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロア リールから選ばれる1個の基を表し、且つこれらの基は骨格に直接(炭素原子を 介して)又は酸素原子、硫黄原子もしくは窒素原子を介して結合している請求項 1に記載の式Iで表される化合物。 4.R4が、シアノ、ニトロ、ハロゲン、又は下記の基:即ち、無置換或いは置 換されたアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル 、アリール又はヘテロアリールから選ばれる1個の基を表し、且つこれらの基は 骨格に直接(炭素原子を介して)又は酸素原子、硫黄原子もしくは窒素原子を介 して結合している請求項1に記載の式Iで表される化合物。 5.式IIa: [但し、L1が求核的に置換可能な脱離基を表す。] で表されるピリミジン誘導体を、式IIIa: で表されるフェノール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反応させて、式 IVa: で表される対応するエーテルに転化する工程、次いでIVaをO−置換ヒドロキシ ルアミン(R1−O−NH2)又はその塩と反応させてIを得る工程を含む請求項 1に記載の化合物Iの製造方法。 6.請求項5に記載の式IIaのピリミジン誘導体を、O−置換ヒドロキシルアミ ン(R1−O−NH2)又はその塩と反応させて式Va: で表される対応する化合物に転化させる工程、次いでVaを請求項5に記載された 式IIIaのフェノール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反応させてIを得 る工程を含む請求項1に記載の化合物Iの製造方法。 7.式IIb: で表されるピリミジンアルコールを、式IIIb: [但し、L2が求核的に置換可能な脱離基を表す。] で表されるベンジル化合物と不活性溶剤中で反応させて、式IVb: で表される対応するベンジルエーテルに転化する工程、次いでIVbをO−置換ヒ ドロキシルアミン(R1−O−NH2)又はその塩と反応させてIを得る工程を含 む、nが1の場合の請求項1に記載の化合物Iの製造方法。 8.請求項7に記載の式IIbのピリミジンアルコールを、O−置換ヒドロキシル アミン(R1−O−NH2)又はその塩と反応させて式Vb: で表される対応する化合物に転化させる工程、次いでVbを請求項7に記載の式II Ibのベンジル化合物と不活性溶剤中で反応させてIを得る工程を含む、nが1の 場合の請求項1に記載の化合物Iの製造方法。 9.式Xa: [但し、Y1がハロゲン原子を表す。] で表されるエーテルを、 a)式VIIb: [但し、Y2がハロゲン原子、アミド基又はエステル基を表す。] で表される活性化カルボン酸、又は対応するシアニドR2−C≡Nと、不活性溶 剤中で、有機金属塩基の存在下に反応させる工程、或いは b)式XI: [但し、RXが相互に独立してアルキルを表す。] で表される有機錫化合物と、不活性溶剤中で反応させる工程のいずれかの工程を 含む請求項5に記載の化合物IVaの製造方法。 10.式II: [但し、置換基R2、R3、R4及びインデックスxが請求項1と同義であり、 Lがヒドロキシル又は求核的に置換可能な脱離基を表し、 Zが酸素又は基NOR1(R1が請求項1と同義である)を表す。] で表される化合物。 11.請求項10に記載の化合物IIを中間体として使用する方法。 12.式X: [但し、置換基Q、R2、R3、R4及びR5、そしてインデックスn、x及びyが 請求項1と同義であり、そしてYがハロゲン又はCO−R2(R2は請求項1と同 義である)を表す。] で表される化合物。 13.請求項12に記載の化合物Xを中間体として使用する方法。 14.固体もしくは液体の担体と、請求項1に記載の式Iの化合物とを含む有害 生物又は有害菌類の防除に好適な組成物。 15.有害生物又は有害菌類の防除に好適な組成物を製造するために請求項1に 記載の化合物Iを使用する方法。 16.有効量の、請求項1に記載の式Iの化合物を用いて、有害菌類を、又は菌 類感染から保護すべき資材、植物、土壌或いは種子を、処理する工程を含む有害 菌類の防除方法。 17.有効量の、請求項1に記載の式Iの化合物を用いて、有害生物を、又はこ れらから保護すべき資材、植物、土壌或いは種子を、処理する工程を含む有害生 物の防除方法。
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