JP2000505054A - 非対称置換ビフェニル類の製造方法 - Google Patents

非対称置換ビフェニル類の製造方法

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JP2000505054A JP9515320A JP51532097A JP2000505054A JP 2000505054 A JP2000505054 A JP 2000505054A JP 9515320 A JP9515320 A JP 9515320A JP 51532097 A JP51532097 A JP 51532097A JP 2000505054 A JP2000505054 A JP 2000505054A
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Abstract

(57)【要約】 一般式(II)のアリール・グリニャール化合物 (R=H、アルキル、アルコキシ、F、Clまたは4−フェニルメトキシ;X=Cl、BrまたはIであり、置換基Rを有する芳香族環はさらなる置換基を有するものであってもよい)と、ブロモベンゾニトリル(置換基を有するものであってもよい)を、10−100℃で、当該グリニャール化合物を少なくとも30分以上かけて徐々に添加するパラジウム触媒カップリングを包含する一般式(I)の非対称置換ビフェニル類

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称:非対称置換ビフェニル類の製造方法 本発明は非対称置換ビフェニルカルボニトリル類の製造方法に関する。 ある種のアンギオテンシンIIインヒビター類は、その分子の一部としてビフェ ニル残基を含む。これら薬学的に活性な物質の合成には、出発原料または中間物 質として非対称的に置換されたビフェニル類を使用する必要があり、それらの物 質から目的分子の最終的な合成を行うことができる。したがって非対称置換ビフ ェニル類を合成するための簡単かつ信頼性の高い方法で、経済的な全体プロセス 中に効果的に組み込むことができる方法が必要とされている。これは特に高い選 択性と高い収率を要求することになる。こうした点においてシアノ基を有するビ フェニル誘導体には特別な重要性がある。 非対称置換ビフェニル−およびビアリール化合物類はまた、液晶化合物および 電気光学的要素の一部、特に非線形光学要素として使用するのに好適である。 非対称置換シアノビフェニル類の合成用として従来示唆されている方法は、有 機−ホウ素、亜鉛または錫化合物とブロモベンゾニトリル類の反応である[J. Organometallic Chem.390(1990)389−398 ]。アリール・グリニャール化合物とヨウ素置換ベンゾニトリルのパラジウム触 媒カップリングについてもすでに記述がある。4'−メチルビフェニル−2−カ ルボニトリルを合成する方法も開示されており[欧州特許EP566468A] 、そこでは触媒としてマンガン塩の存在下でハロベンゾニトリルをハロゲン化4 −メチルフェニルーマグネシウムで処理する。これらの方法ではパラジウム触媒 作用の下では極めて低い収率となり、大いに改善の余地があることを示唆してい る。たとえば、欧州特許・EP 566468 Aの出願人は、触媒量のテトラキ ス(トリフェニルホスフィン)−パラジウムの存在下、65℃で6時間、2.2 当量の臭化4−メチルフェニルマグネシウムを2−ブロモベンゾニトリルと反応 させた場合の収率がわずか1%であることを認めている。この研究においては、 それらの反応物はすべて同時に混合されている。 理論的には、アリール・グリニャール化合物と電子吸引性のハロアリール化合 物とのカップリングは、望まれるビアリール・カップリング生成物を高い選択性 と高い収率で生成することが期待される[J.Organometallic Chem.390(1990)389−398、特に391頁表1参照]。現在 の技術水準においては、グリニャール試薬の付加に際してグリニャール試薬が反 応するアリールハロゲン化物の炭素−ハロゲン結合は基質分子中に存在すると思 われるその他すべての電子受容体よりもかなり反応性が高いことが必要である。 実際面ではこうしたことを配慮しなければならないため、もし高い選択性と高い 収率を達成しようとする場合には、ブロモベンゾニトリルをカップリング相手と して使用することができなくなる。 本発明は非対称置換シアノビフェニルおよびシアノビアリール化合物を高い選 択性と高い収率で合成するための簡単に実施できる方法を包含する。本発明のさ らなる目的は、ビフェニルまたはビアリール構造を組み込んだ化合物を得るため の一般的な方法も可能にすることにある。特に、非対称置換シアノビフェニル化 合物の高度に選択的、簡単かつ経済的な合成は、アンギオテンシンIIインヒビタ ーなどの目的分子の簡単な合成を可能にすることになる。 本発明者らは、アリール・グリニャール化合物の溶液をブロモベンゾニトリル および適切なパラジウム錯体触媒を含む反応溶液に徐々に添加(すなわち比較的 長い時問スケールで添加)すれば、ビフェニルカルボニトリルの形成の主反応を 伴うカップリングが起きることを発見した。反応物を一時にすべて混合する場合 に起きる主反応、すなわちニトリル基へのグリニャール化合物の付加は、この手 段によりほぼすべて抑制される。イミン類(および加水分解後のベンゾフェノン 類)の生成はほとんど認められない。 本法で得られる高い選択性は、ほぼ完全に所望のビフェニルカルボニトリルだ けを生成することになるが、これは現在の知識をベースとした場合には驚異的な ことである。本発明の方法のさらなる利点としては、簡単さ、物質の損失回避、 および高収率がある。 本発明は、下記一般式、[式中、Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子また は4−フェニルメトキシ基を意味し、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子 を意味する(ただし置換基Rを有する環はさらなる置換基を有するものであって もよい)] で表されるアリール・グリニャール化合物とブロモベンゾニトリル(置換基を有 するものであってもよい)とを温度10−100℃でパラジウム−触媒カップリ ング反応させることにより下記一般式、 (式中、Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子また は4−フェニルメトキシ基を意味する) で表される非対称置換ビフェニル類を合成する方法において、当該グリニャール 化合物を少なくとも30分間以上かけて徐々に添加し、かつパラジウム触媒をブ ロモベンゾニトリルに対して0.1から20.0%モルの濃度で添加することを特 徴とする方法を提供するものである。 本発明の方法において“徐々に添加する”ことの効果は、反応物が混合によっ て互いに直ちに接触することがなく、ブロモベンゾニトリルに対するグリニャー ル化合物の添加が制御されて長い時間スケールにわたって行われるということで ある。対照的に、即時添加の効果は、反応物が(たとえば)10分より短い時間 スケールで混合されるということである。本発明者らの研究が示すように、そう した方法は望ましい非対称置換ビフェニルカルボニトリルを高収率または高選択 性で生成させることにはならない。“徐々に添加する”とは、(たとえば)グリ ニャール化合物を0.5から2当量のブロモベンゾニトリルに少なくとも30分 以上かけて添加することを意味する。この場合、添加時間を最適化するために簡 単な実験が必要になるであろう。グリニャール化合物の添加時間は1−24時間 とすることができる。通常は4−18時間の範囲、好ましくは8−10時間であ る。いずれの場合でも、添加割合はイミン類やベンゾフェノン類の同時生成が最 少になるように調節される。この添加時間はまた添加される触媒の量と性質によ っても異なる。一連のパラジウム触媒がこの目的には好適である。一般に、この 触媒の濃度は(ブロモベンゾニトリルに対して)0.1から20.0%モル、好ま しくは1.0から2.0%モルである。 本発明に使用されるアリール・グリニャール化合物は下記の一般式を有する: 式中、Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子また は4−フェニルメトキシ基を意味し、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子 を意味する。芳香族環はさらにグリニャール基の反応性に干渉しない限り、さら に置換基を有するものでもよい。特に、アセタールおよびアルキル基はこの反応 には干渉しない。本発明において“アルキル基”とは基本的にどのような種類の 置換または非置換の炭素数1−30のアルキル基または炭素数3−20のシクロ アルキル基をも包含する。本発明者らの研究では、直鎖または分岐鎖のアルキル 基は炭素数25から30のあたりを限度として使用することができることを示し ている。ブロモベンゾニトリルもまた上記の定義に即したその他の置換基を含む ことができるが、自ずと望ましくない反応性または立体障害による制限が課せら れる。 所望の非対称置換ビフェニル類の収率は通常、従来技術の方法によるものより も本発明の方法によるものの方が高い。上記のように実施される反応は、前述の 合成ルートのほとんどのものとは対照的に補助的な塩基を全く必要としない。こ れは廃液の少ない、かつ単純なプロセスにつながる。 本発明の本質的な点は、アリール・グリニャール化合物溶液をその他の成分を 含む反応溶液に添加する時間の長さにあり、これが反応の方向に決定的な重要性 を持つ。下記の表1に示されているように、2%(モル)の酢酸パラジウム/ト リフェニルホスフィン触媒による臭化4−メトキシフェニルマグネシウムと4− ブロモベンゾニトリルとの反応において、反応物を即時に混合した場合は1対3 の比率で4'−メトキシビフェニル−4−カルボニトリルと4−ブロモ−4'−メ トキシベンゾフェノンイミンの混合物を生成する[比較実施例2参照]。予想さ れる通り、主反応はニトリル基に対するグリニャール化合物の付加である。反応 生成物のスペクトルは、ビフェニルカルボニトリルが高い選択性で形成されるよ うになる数時間の添加時間までは、添加時間が長くなるほどビフェニル化合物を より多く生成する方向に動く。 表1 グリニャール化合物の添加時間に対する生成物比率*a 注:[a]T=20−25℃;テトラヒドロフラン;2%(モル比) Pd(OAc)2/2PPh3;グリニャール化合物の1.1当量 [b]HPLCにより測定したA:B収率比。合計収率(A+B)は 90%以上 好適な触媒としてはPd(PPh34などのすべてのPd(0)錯体が含まれ 、これらは本発明に関わる種類の反応(しばしばスズキまたはヘック・カップリ ングと呼ばれる)において触媒活性があるものとして知られている。触媒活性の あるPd(0)化合物は、Pd(II)化合物からin situで作り出される。反応 の好ましい実施方法においては、触媒活性のある化合物はPdCl2とトリフェ ニルホスフィンの混合物(モル比1:2)をグリニャール化合物の影響下で添加 することによりin situで作り出される。添加する触媒の量は個々の反応系の要 求条件により異なる。一般には、パラジウム化合物はベンゾニトリルに対するモ ル濃度で0.1%から20%が添加される。触媒が大量になっても反応行程には 悪影響は及ぼさないが、経済的見地からは望ましくない。一例として表2に臭化 4−(フェニルメトキシ)フェニルマグネシウムと4−ブロモベンゾニトリルの カップリングにおける種々の触媒使用量を示す。 表2触媒量に対する生成物比率*a 注:[a]T=67−69℃;テトラヒドロフラン;グリニャール化合物の添 加時間(1.1当量)8−9時間。 [b]4−ブロモベンゾニトリルに対するモル% [c]HPLCにより測定されたCとDの収率比;(C+D)の合計収率 は95%以上。 グリニャール化合物に対して不活性の有機溶剤、たとえばテトラヒドロフラン 、2−メチルテトラヒドロフラン、非環式(鎖状)エーテルまたはアセタール類 は、すべて反応媒体として好適である。テトラヒドロフランおよび2−メチルテ トラヒドロフランが好ましい。 反応温度は10−100℃の範囲である。好ましくは反応温度は20−80℃ の範囲にある。 グリニャール化合物に対するブロモベンゾニトリルのモル比は好ましくは2: 1から1:2であり、特に1:1から1:1.2の範囲においては高い収率と良 好な品質の生成物を得ることができる。 本明細書に述べた方法は置換基がいかなる位置(オルソ、メタまたはパラ)の 非対称置換ビフェニルカルボニトリル類の合成も可能にする。グリニャール基に 適合性のあるブロモベンゾニトリル上のすべての官能基は置換基として許容され る。以下の例ではアルキル、ハロゲンおよびアルコキシ置換基を使用している。 本発明を以下の実施例によりさらに説明する。 実施例1 臭化4−メトキシフェニルマグネシウム(112g、16%テトラヒドロフラ ン溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(14g)、酢酸パラジウム(II)(0 .35g)およびトリフェニルホスフィン(0.81g)のテトラヒドロフラン (100ml)溶液に、20−25℃で9時間かけて滴下する。[HPLC:合 計収率 >90%;4'−メトキシビフェニル−4−カルボニトリルと4−ブロ モ−4'−メトキシベンゾフェノンイミンの比率 20:1] 水(20ml) を添加し、テトラヒドロフランを真空留去する。残渣物をトルエン(110ml )で抽出する。不溶性物質をフィルターでろ過し、ろ液を蒸発乾固させる。この 粗生成物をエタノールで再結晶し、4'−メトキシビフェニル−4−カルボニト リル(12g、75%)を固形物(融点102−104℃)として得る。 1H NMR(CDCL3):3.85(s,3H)、6.99(d,2H)、 7.52(d,2H)、7.62(d,2H)、7.68(d,2H)。 実施例 2 臭化4−メトキシフェニルマグネシウム(91g、14%テトラヒドロフラン 溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(10g)、酢酸パラジウム(II)(0. 25g)およびトリフェニルホスフィン(0.58g)のテトラヒドロフラン( 80ml)溶液に、20−25℃で6時間かけて滴下する。[HPLC:合計収 率 >90%;4'−メトキシビフェニル−4−カルボニトリルと4−ブロモ− 4'−メトキシベンゾフェノンイミンの比率 5:1]。 実施例 3 臭化4−メトキシフェニルマグネシウム(91g、14%テトラヒドロフラン 溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(10g)、酢酸パラジウム(II)(0. 25g)およびトリフェニルホスフィン(0.58g)のテトラヒドロフラン( 80ml)溶液に、20−25℃で2時間かけて滴下する。[HPLC:合計収 率 >90%;4'−メトキシビフェニル−4−カルボニトリルと4−ブロモ− 4'−メトキシベンゾフェノンイミンの比率 2:1]。 実施例 4 臭化4−(フェニルメトキシ)フェニルマグネシウム(759g、25%テト ラヒドロフラン溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(109g)、塩化パラジ ウム(II)(4.2g)およびトリフェニルホスフィン(13g)のテトラヒド ロフラン(420ml)溶液中に、20−25℃で9時間かけて滴下する。室温 まで冷却し、水(340ml)を加えた後、テトラヒドロフランを真空留去する 。トルエン(680ml)を加え、水相を85℃で分離する。有機相を温間フィ ルターろ過する(80−85℃)。[HPLC:合計収率 >90%;4'−( フェニルメトキシ)ビフェニル−4−カルボニトリルと4−ブロモ−4'−(フ ェニルメトキシ)ベンゾフェノンの比率 10:1]。トルエン(340ml) を留去する。室温まで冷却し、4'−(フェニルメトキシ)ビフェニル−4−カ ルボニトリル(融点146−148℃)を晶析させる(110g、64%)。 1H NMR(CDCL3):5.10(s,2H)、7.06(d,2H)、 7.32−7.47(m,5H)、7.52(d,2H)、7.62(d, 2H)、7.68(d,2H)。 実施例 5 臭化4−(フェニルメトキシ)フェニルマグネシウム(809g、27%テト ラヒドロフラン溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(128g)、塩化パラジ ウム(II)(0.50g)およびトリフェニルホスフィン(1.5g)のテトラヒ ドロフラン(500ml)還流溶液中に、8時間かけて滴下する。室温まで冷却 し、水(400ml)を加えた後、テトラヒドロフランを真空留去する。トルエ ン(800ml)を加え、水相を85℃で分離する。有機相を温間フィルターろ 過する。[HPLC:合計収率 >95%;4'−(フェニルメトキシ)ビフェニ ル−4−カルボニトリルと4−ブロモ−4'−(フェニルメトキシ)ベンゾフェ ノンの比率 >100:1]。トルエン(400ml)を留去する。室温まで冷 却し、4'−(フェニルメトキシ)ビフェニル−4−カルボニトリルを晶析させ る(178g、89%)。 実施例 6 臭化4−(フェニルメトキシ)フェニルマグネシウム(108g、21%テト ラヒドロフラン溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(13g)、塩化パラジウ ム(II)(51mg)およびトリフェニルホスフィン(150mg)のテトラヒ ドロフラン(50ml)還流溶液中に、8時間かけて滴下する。室温まで冷却し 、水(40ml)を加えた後、テトラヒドロフランを真空留去する。エタノール (30ml)と25%塩酸(2ml)を加え、この混合物を2時間還流する[H PLC:合計収率 >95%;4'−(フェニルメトキシ)ビフェニル−4−カ ルボニトリルと4−ブロモ−4'−(フェニルメトキシ)ベンゾフェノンの比率 >100:1]。 実施例 7 臭化4−(フェニルメトキシ)フェニルマグネシウム(108g、21%テト ラヒドロフラン溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(13g)、塩化パラジウ ム(II)(0.25g)およびトリフェニルホスフィン(0.75g)のテトラヒ ドロフラン(50ml)還流溶液中に、9時間かけて滴下する。室温まで冷却し 、水(40ml)を加えた後、テトラヒドロフランを真空留去する。エタノール (30ml)と25%塩酸(2ml)を加え、この混合物を2時間還流する[H PLC:合計収率 >95%;4'−(フェニルメトキシ)ビフェニル−4−カ ルボニトリルと4−ブロモ−4'−(フェニルメトキシ)ベンゾフェノンの比率 >100:1]。 実施例 8 臭化4−(フェニルメトキシ)フェニルマグネシウム(108g、21%テト ラヒドロフラン溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(13g)、塩化パラジウ ム(II)(0.51g)およびトリフェニルホスフィン(1.5g)のテトラヒ ドロフラン(50ml)還流溶液中に、9時間かけて滴下する。室温まで冷却し 、水(40ml)を加えた後、テトラヒドロフランを真空留去する。エタノール (30ml)と25%塩酸(2ml)を加え、この混合物を2時間還流する[H PLC:合計収率 >95%;4'−(フェニルメトキシ)ビフェニル−4−カ ルボニトリルと4−ブロモ−4'−(フェニルメトキシ)ベンゾフェノンの比率 >100:1]。 実施例 9 塩化4−メチルフェニルマグネシウム(610g、21%テトラヒドロフラン 溶液)を、2−ブロモベンゾニトリル(140g)、塩化パラジウム(II)(1 .4g)およびトリフェニルホスフィン(4.0g)のテトラヒドロフラン(37 5ml)還流溶液中に、8時間かけて滴下する。[HPLC:4'−メチルビフ ェニル−2−カルボニトリル >95%、2−ブロモ−4'−メチルベンゾフェ ノンイミン <0.2%]。室温まで冷却後、テトラヒドロフランを真空留去す る。水(100ml)とトルエン(360ml)を加える。水相を分離後、粗生 成物を110−112℃/0.1mbarで蒸留し、固形物として融点50−5 2℃の4'−メチルビフェニル−2−カルボニトリル(131g、88%)を得 る。 1H NMR(CDCL3):2.40(s,3H)、7.30(d,2H)、 7.37−7.52(m,4H)、7.59−7.66(m,1H)、 7.75(m,1H)。 実施例 10 塩化4−メチルフェニルマグネシウム(100g、20%テトラヒドロフラン 溶液)を、2−ブロモベンゾニトリル(22g)、塩化パラジウム(II)(0. 21g)およびトリフェニルホスフィン(0.63g)のテトラヒドロフラン( 60ml)還流溶液中に、2時間かけて滴下する。室温まで冷却し、水(40m l)を加えた後、テトラヒドロフランを真空留去する。エタノール(30ml) と25%塩酸(2ml)を加え、この混合物を2時間還流する。[HPLC:合 計収率 >90%;4'−メチルビフェニル−2−カルボニトリルと2−ブロモ −4'−メチルベンゾフェノンの比率 5:1]。 実施例 11 塩化4−メチルフェニルマグネシウム(111g、18%2−メチルテトラヒ ドロフラン溶液)を、2−ブロモベンゾニトリル(22g)、塩化パラジウム (II)(0.21g)およびトリフェニルホスフィン(0.63g)の2−メチル テトラヒドロフラン(60ml)還流溶液中に、8時間かけて滴下する。室温ま で冷却し、水(40ml)を加えた後、2−メチルテトラヒドロフランを真空留 去する。エタノール(30ml)と25%塩酸(2ml)を加え、この混合物を 2時間還流する。[HPLC:合計収率 >95%;4'−メチルビフェニル− 2−カルボニトリルと2−ブロモ−4'−メチルベンゾフェノンの比率 10: 1]。 実施例 12 塩化4−メチルフェニルマグネシウム(100g、20%ジエトキシメタン溶 液)を、2−ブロモベンゾニトリル(22g)、塩化パラジウム(II)(0.2 1g)およびトリフェニルホスフィン(0.63g)のジエトキシメタン(60 ml)還流溶液中に、9時間かけて滴下する。室温まで冷却し、水(40ml) を加えた後、ジエトキシメタンを真空留去する。エタノール(30ml)と25 %塩酸(2ml)を加え、この混合物を2時間還流する。[HPLC:合計収率 >95%;4'−メチルビフェニル−2−カルボニトリルと2−ブロモ−4'− メチルベンゾフェノンの比率 約100:1]。 実施例 13 塩化4−メチルフェニルマグネシウム(49g、20%テトラヒドロフラン溶 液)を、3−ブロモベンゾニトリル(10g)、酢酸パラジウム(II)(2.4 g)およびトリフェニルホスフィン(5.8g)のテトラヒドロフラン(200 ml)還流溶液中に、8時間かけて滴下する。室温まで冷却後、テトラヒドロフ ランを真空留去する。残渣物をトルエン/水(3:1)(200ml)に取り、 水相を分離する。溶剤を留去し、粗生成物をカラムクロマトグラフィ(キーゼル ゲル60;n−ヘキサン/アセトン3:1)で精製し、固形物として融点59− 61℃の4'−メチルビフェニル−3−カルボニトリルを得る。 1H NMR(CDCL3):2.41(s,3H)、7.29 (d,2H)、 7.46(d,2H)、7.49−7.63(m,2H)、7.77−7.85 (m,2H)。 実施例 14 塩化4−メチルフェニルマグネシウム(98g、20%テトラヒドロフラン溶 液)を、4−ブロモベンゾニトリル(20g)、塩化パラジウム(II)(0.7 8g)およびトリフェニルホスフィン(2.3g)のテトラヒドロフラン(10 0ml)還流溶液中に、5時間かけて滴下する。[HPLC:収率 91−93 %]。室温まで冷却後、テトラヒドロフランを真空留去する。残渣物をトルエン /水(1:1)(200ml)に取り、フィルターろ過する。水相を分離する。 溶剤を留去し、粗生成物をエタノールで再結晶し、固形物として融点107−1 09℃の4'−メチルビフェニル−4−カルボニトリルを得る。 1H NMR(CDCL3):2.41(s,3H)、7.29(d,2H)、 7.49(d,2H)、7.66(d,2H)、7.71(d,2H)。 実施例 15 臭化2−メチルフェニルマグネシウム(82g、31%テトラヒドロフラン溶 液)を、4−ブロモベンゾニトリル(20g)、塩化パラジウム(II)(0.7 8g)およびトリフェニルホスフィン(2.3g)のテトラヒドロフラン(10 0ml)還流溶液中に、11時間かけて滴下する。[HPLC:収率 92−9 4%]。室温まで冷却後、テトラヒドロフランを真空留去する。残渣物をトルエ ン/水(3:1)(300ml)に取り、水相を分離する。溶剤を留去し、粗生 成物をn−ヘキサン/アセトン(3:1)を使用してキーゼルゲル60のカラム クロマトグラフィで精製する。これにより2'−メチルビフェニル−4−カルボ ニトリルを油状物として得る。 1H NMR(CDCL3):2.25(s,3H)、7.10−7.32(m, 4H)、7.43(d,2H)、7.71(d,2H)。 実施例 16 臭化3−メトキシフェニルマグネシウム(95g、29%テトラヒドロフラン 溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(20g)、塩化パラジウム(II)(0. 78g)およびトリフェニルホスフィン(2.3g)のテトラヒドロフラン(2 00ml)還流溶液中に、9時間かけて滴下する。[HPLC:収率 90−9 2%]。室温まで冷却後、テトラヒドロフランを真空留去する。残渣物をトルエ ン/水(3:1)(300ml)に取り、水相を分離する。溶剤を留去し、粗生 成物をn−ヘキサン/アセトン(3:1)を使用してキーゼルゲル60のカラム クロマトグラフィで精製する。これにより3'−メトキシビフェニル−4−カル ボニトリルを油状物として得る。 1H NMR(CDCL3):3.87(s,3H)、6.94−6.98(m, 1H)、7.10(t,1H)、7.14−7.19(m,1H)、7.40 (t,1H)、7.67(d,2H)、7.72(d,2H)。 実施例 17 臭化4−メトキシフェニルマグネシウム(280g、15%テトラヒドロフラ ン溶液)を、2−ブロモベンゾニトリル(32g)、塩化パラジウム(II)(1 .3g)およびトリフェニルホスフィン(3.8g)のテトラヒドロフラン(21 0ml)還流溶液中に、7時間かけて滴下する。[HPLC:収率 94−95 %]。室温まで冷却し、水(50ml)を加えた後、テトラヒドロフランを真空 留去する。残渣物をトルエン(230ml)で抽出する。不溶性物質をフィルタ ーろ過し、溶剤を留去する。粗生成物をエタノールで再結晶し固形物として融点 82−83℃の4'−メトキシビフェニル−2−カルボニトリルを得る。1H NMR(CDCL3):3.90(s,3H)、7.02(d,2H)、 7.36−7.52(m,4H)、7.59−7.65(m,1H)、 7.74(d,1H)。 実施例 18 臭化4−オクチルオキシフェニルマグネシウム(124g、25%テトラヒド ロフラン溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(17g)、塩化パラジウム(II )(0.68g)およびトリフェニルホスフィン(2.0g)のテトラヒドロフ ラン(100ml)還流溶液中に、10時間かけて滴下する。[HPLC:収率 92−94%]。室温まで冷却した後テトラヒドロフランを真空留去する。水 (20ml)とトルエン(150ml)を加え、混合物を温間ろ過する(80− 5℃)。水相を分離し、溶剤を留去する。粗生成物をエタノール/n−ヘキサン で再結晶し、固形物として4'−オクチルオキシビフェニル−4−カルボニトリ ルを得る。 1H NMR(CDCL3):0.89(t,3H)、1.29−1.50(m, 10H)、1.81(quint,2H)、4.00(t,2H)、6.99 (d,2H)、7.52(d,2H)、7.63(d,2H)、7.68(d, 2H)。 実施例 19 塩化4−クロロフェニルマグネシウム(114g、18%テトラヒドロフラン 溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(20g)、塩化パラジウム(II)(0. 78g)およびトリフェニルホスフィン(2.3g)のテトラヒドロフラン(1 00ml)還流溶液中に、7時間かけて滴下する。[HPLC:収率 75−7 9%]。室温まで冷却した後テトラヒドロフランを真空留去する。残渣物をトル エン/水(1:1)(200ml)に取り、ろ過する。水相を分離し、溶剤を留 去する。粗生成物をイソプロパノール/エタノールで晶析し、固形物として融点 128−130℃の4'−クロロビフェニル−4−カルボニトリルを得る。 1H NMR(CDCL3):2.41(s,3H)、7.46(d,2H)、 7.53(d,2H)、7.65(d,2H)、7.74(d,2H)。 実施例 20 臭化2,5−ジメチルフェニルマグネシウム(84g、20%テトラヒドロフ ラン溶液)を、4−ブロモ−2−メチルベンゾニトリル(16g)、塩化パラジ ウム(II)(0.57g)およびトリフェニルホスフィン(1.7g)のテトラヒ ドロフラン(100ml)還流溶液中に、5時間かけて滴下する。[HPLC: 収率 90−95%]。室温まで冷却した後テトラヒドロフランを真空留去する 。 残渣物をトルエン/水(1:1)(200ml)に取り、ろ過する。水相を分離 し、溶剤を留去する。粗生成物をエタノールで晶析し、固形物として融点96− 97℃の3,2',5'−トリメチルビフェニル−4−カルボニトリルを得る。 1H NMR(CDCL3):2.19(s,3H)、2.34(s,3H)、 2.58 (s,3H)、6.99(s,1H)、7.08−7.25(m,3H) 、 7.62(d,1H)。 比較例 1 臭化4−メトキシフェニルマグネシウム(78g、15%テトラヒドロフラン 溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(10g)のテトラヒドロフラン(80m l)溶液中に、20−25℃で2時間かけて滴下する。水(20ml)を加えた 後、テトラヒドロフランを真空留去する。残渣物をトルエン(100ml)で抽 出し、溶剤を真空留去する。n−ヘキサン/アセトン(3:1)を使用してキー ゼルゲル60のカラムクロマトグラフィにより4−ブロモ−4'−メトキシベン ゾフェノンイミン(3.5g、34%)を単離する。 1H NMR(CDCL3):3.84(s,3H)、6.93(d,2H)、 7.41−7.61(m,6H)、9.5(s,1H)。 比較例 2 臭化4−メトキシフェニルマグネシウム(91g、14%テトラヒドロフラン 溶液)を、4−ブロモベンゾニトリル(10g)、酢酸パラジウム(II)(0. 25g)およびトリフェニルホスフィン(0.58g)のテトラヒドロフラン( 80ml)溶液中に、20−25℃で30秒間かけて滴下する。[HPLC:合 計収率 >90%、4'−メトキシビフェニル−4−カルボニトリルと4−ブロ モ−4'−メトキシベンゾフェノンイミンの比率 1:3]。 これらの実施例から以下の結論を導き出すことができる: ・無触媒反応においては、たとえベンゾニトリルを徐々に添加したとしても、 競合するベンゾフェノンイミン生成物が主体となる[比較例1参照]。 ・徐々に添加するパラジウム触媒反応では、明らかに所望の生成物が主体とな る[すべての実施例参照]。 必要ならば、特定の反応成分に対してどの程度の触媒濃度が最も適切であるか を求めるために簡単な実験を実施するのがよい。PdCl2/2PPh3などのパ ラジウムベース触媒の場合、添加時間6−10時間での濃度限界はブロモベンゾ ニトリルをベースとして約0.4%モルである。これ以上の濃度では反応の方向 は明白に望ましい生成物側に移行する。当然のことながら、選択する溶剤、反応 物および反応温度に応じて、望ましい選択性および収率からずれが生じうる。し かしながら、これらの課題は、より高い触媒濃度やより長時間の添加時間を選択 することにより調節することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD ,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN, CU,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,G E,HU,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR ,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV, MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,P L,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK ,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,UZ, VN,YU (72)発明者 モザンドル・トーマス ドイツ国 D―78315 ラドルフツェル, インザイレンホッファー 5

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.下記一般式、 [式中、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を意味し、Rは水素原子、ア ルキル基、アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子または4−フェニルメトキシ基 を意味する(ただし置換基Rを有する環はさらなる置換基を有するものであって もよい)] で表されるアリール・グリニャール化合物と置換基を有していてもよいブロモベ ンゾニトリルとを、温度10−100℃でパラジウム触媒カップリング反応させ ることにより下記一般式、 (式中、Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子また は4−フェニルメトキシ基を意味する) で表される非対称置換ビフェニル類を製造する方法において、当該グリニャール 化合物を少なくとも30分間以上かけて徐々にブロモベンゾニトリルに添加し、 かつパラジウム触媒を当該ベンゾニトリルに対して0.1から20.0%モルの濃 度で存在させることを特徴とする方法。 2.グリニャール化合物の添加時間を1から24時間とすることを特徴とする請 求項1に記載の方法。 3.グリニャール化合物の添加時間を4から18時間とすることを特徴とする請 求項1に記載の方法。 4.グリニャール化合物の添加時間を8から10時間とすることを特徴とする 請求項1に記載の方法。 5.触媒濃度がブロモベンゾニトリルに対して1.0から2.0%モルであること を特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の方法。 6.Rが炭素数30以下のアルキル基であることを特徴とする請求項1から5の いずれかに記載の方法。 7.Rが炭素数20以下のアルキル基であることを特徴とする請求項6に記載の 方法。 8.Rが直鎖または分岐鎖のアルキル基またはシクロアルキル基であることを特 徴とする請求項1〜7に記載の方法。 9.グリニャール化合物の芳香族環がさらにアセタール基またはアルキル基で置 換されていることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の方法。 10.触媒がPd(0)錯体であることを特徴とする請求項1から9のいずれか に記載の方法。 11.Pd(0)錯体がPd(PPh34であることを特徴とする請求項10に 記載の方法。 12.反応が20℃から80℃の温度範囲で実施されることを特徴とする請求項 1から11のいずれかに記載の方法。 13.ブロモベンゾニトリルがさらにアルキル基もしくはアルコキシ基、ハロゲ ンまたは4−フェニルメトキシ基で置換されていることを特徴とする請求項1か ら12のいずれかに記載の方法。 14.グリニャール化合物に対するブロモベンゾニトリルのモル比率が2:1か ら1:2の範囲であることを特徴とする請求項1から13のいずれかに記載の方 法。 15.グリニャール化合物に対するブロモベンゾニトリルのモル比率が1:1か ら1:1.2の範囲であることを特徴とする請求項14に記載の方法。 16.請求項1に記載され、かつ実施例1から20のいずれかを参照することで 実質的に記述されていることに基づく方法。
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