JP2000502467A - ポジ型フォトレジスト用の混合溶剤系 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.少なくとも一種の水不溶性で水性アルカリ可溶性の膜形成性のノボラック樹 脂; 少なくとも一種の o-ジアゾナフトキノン系感光化剤; 及びプロピレング リコールアルキルエーテルアセテートと 3-メチル-3-メトキシブタノールとを含 むフォトレジスト溶剤混合物の混合物から本質的になる、フォトレジストとして 使用するのに適した感光性ポジ型感光性組成物。 2.プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート成分が、プロピレングリ コールメチルエーテルアセテートである請求の範囲第1項の組成物。 3.着色剤、アンチストライエーション剤、可塑剤、粘着促進剤、増速剤、溶剤 及び界面活性剤からなる群から選択される一種またはそれ以上の添加物を更に含 む請求の範囲第1項の組成物。 4.3-メチル-3-メトキシブタノール溶剤が、溶剤混合物の約 10〜約 90 重量% の量で存在し、その残りが、3-メチル-3-メトキシブタノールとプロピレングリ コールアルキルエーテルアセテートの合計が使用した溶剤の 100%を構成するよ うな量のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートからなる請求の範囲 第1項の組成物。 5.ノボラック樹脂が、該組成物の重量を基準として約5%〜約 40%の量で存 在する請求の範囲第1項の組成物。 6.ジアゾナフトキノンが、該組成物の固体部分の重量を基準として約5%〜約 35%の量で存在する請求の範囲第1項の組成物。 7.ジアゾナフトキノン成分が、ヒドロキシまたはポリヒドロキシアリール化合 物、アリールアミン類あるいはポリアミン類とジアゾスルホニルクロライドとの 反応生成物から選択される一種またはそれ以上の化合物からなる請求の範囲第1 項の組成物。 8.感光化剤が、2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン-(1,2)- ジアジド-5-スルホニルクロライドとの、エステル化度約 45%の縮合生成物であ る請求の範囲第1項の組成物。 9.基体、及びこの基体に付着した請求の範囲第1項の組成物からなる感光性要 素。 10.基体が、ケイ素、アルミニウム、ポリマー性樹脂、二酸化ケイ素、ドープし た二酸化ケイ素、窒化ケイ素、タンタル、銅、ポリシリコン、セラミック及びア ルミニウム/銅混合物からなる群から選択された一種またはそれ以上の成分から なる請求の範囲第9項の要素。 11.少なくとも一種の水不溶性で水性アルカリ可溶性の膜形成性ノボラック樹脂 ;少なくとも一種のオルト-ジアゾナフトキノン系感光化剤;及びプロピレング リコールアルキルエーテルアセテートと 3-メチル-3-メトキシブタノールとを含 むフォトレジスト溶剤混合物の混合物を形成させることからなる、フォトレジス トとして使用するのに適したポジ型感光性組成物の製造方法。 12.プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート成分が、プロピレングリ コールメチルエーテルアセテートである請求の範囲第 11 項の方法。 13.着色剤、アンチストライエーション剤、可塑剤、粘着促進剤、増速剤、溶剤 及び界面活性剤からなる群から選択される一種またはそれ以上の添加物を更に含 む請求の範囲第 11 項の方法。 14.3-メチル-3-メトキシブタノール溶剤が、溶剤混合物の約 10〜約 90 重量% の量で存在し、その残りが、3-メチル-3-メトキシブタノールとプロピレングリ コールアルキルエーテルアセテートの合計が使用した溶剤の 100%を構成するよ うな量のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートからなる請求の範囲 第 11 項の方法。 15.ノボラック樹脂が、該組成物の重量を基準として約5%〜約 40%の量で存 在する請求の範囲第 11 項の方法。 16.ジアゾナフトキノンが、該組成物の固体部分の重量を基準として約5%〜約 35%の量で存在する請求の範囲第 11 項の方法。 17.ジアゾナフトキノン成分が、ヒドロキシまたはポリヒドロキシアリール化合 物、アリールアミン類またはポリアミン類とジアゾスルホニルクロライドとの反 応生成物から選択される一種またはそれ以上の化合物からなる請求の範囲第11項 の方法。 18.感光化剤が、2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン-(1,2)- ジアジド-5-スルホニルクロライドとの、エステル化度約 45%の縮合生成物であ る請求の範囲第 11 項の方法。
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