JP2000348177A - 欠陥検出装置及びその欠陥検出方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体 - Google Patents

欠陥検出装置及びその欠陥検出方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体

Info

Publication number
JP2000348177A
JP2000348177A JP16177299A JP16177299A JP2000348177A JP 2000348177 A JP2000348177 A JP 2000348177A JP 16177299 A JP16177299 A JP 16177299A JP 16177299 A JP16177299 A JP 16177299A JP 2000348177 A JP2000348177 A JP 2000348177A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
correction table
defect detection
image
pitch
pitch correction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16177299A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Iwashita
正雄 岩下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP16177299A priority Critical patent/JP2000348177A/ja
Publication of JP2000348177A publication Critical patent/JP2000348177A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精度の実画像を得られ、欠陥検出感度を高
くすることが可能な欠陥検出装置を提供する。 【解決手段】 検査前に、画像入力手段1から予め寸法
の定まったパターンが描かれたレチクルを一定ピッチで
ずらしながら入力し、補正テーブル作成手段2によって
ピッチ補正テーブルを作成する。検査の時には補正テー
ブル作成手段2で作成されたピッチ補正テーブルを用
い、ピッチ補正手段3で入力画像にピッチ補正をかけて
ピッチ歪みを補正し、疑似欠陥を減らし、検査感度の向
上を図る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は欠陥検出装置及びそ
の欠陥検出方法並びにその制御プログラムを記録した記
録媒体に関し、特にスキャナから入力された画像と参照
画像とを比較して欠陥を検出する装置及び方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の欠陥検出装置において
は、図9に示すように、画像入力手段21と、参照画像
作成手段22と、誤差検出手段23と、判別手段24と
から構成されている。
【0003】画像入力手段21は欠陥を検出すべき画像
を2次元的にスキャンし、参照画像作成手段22はベク
トルで表現された設計データから入力画像と比較するた
めの参照画像を作成する。
【0004】誤差検出手段23は入力画像データと参照
画像とを比較して誤差を検出し、判別手段24は誤差が
予め与えられたしきい値の大きいか、小さいかを比較し
て欠陥の有無を判別する。
【0005】上記の構成においては画像入力手段21ま
たは参照画像作成手段22で画像全体の伸縮の補正や位
置合わせ、及び回転ズレの補正が行われている。尚、上
記の欠陥検出装置については、特公平8−10463号
公報等に開示されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の欠陥検
出装置では、スキャナのピッチに歪みがある場合、スキ
ャナから入力された画像と参照画像とがピッタリ一致せ
ず、実画像に歪みがある場合、疑似欠陥が多くなってし
まう。
【0007】また、疑似欠陥の発生を抑えるために、欠
陥かどうかを判別するためのスレショルド値を上げる
と、スレショルド値が大きくなってしまい、スレショル
ド値が大きくなると、小さな欠陥がスレショルド値以下
となり、欠陥を見つけることができなくなってしまう。
【0008】そこで、本発明の目的は上記の問題点を解
消し、高精度の実画像を得ることができ、欠陥検出感度
を高くすることができる欠陥検出装置及びその欠陥検出
方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体を提
供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明による欠陥検出装
置は、2次元にスキャンして画像を入力する画像入力手
段と、前記画像入力手段から入力された画像を予め作成
されたピッチ補正テーブルに基づいて線形補間によって
位置歪みを補正して出力するピッチ補正手段と、前記ピ
ッチ補正手段で補正された実画像と予め設計データから
作成された参照画像との比較を行ってそれらの誤差を検
出する誤差検出手段と、前記誤差検出手段で検出された
誤差が予め定められた一定値より大きければ欠陥が有る
と判断する欠陥判別手段とを備えている。
【0010】本発明による欠陥検出方法は、2次元にス
キャンして画像を入力するステップと、その入力された
画像を予め作成されたピッチ補正テーブルに基づいて線
形補間によって位置歪みを補正して出力するステップ
と、補正された実画像と予め設計データから作成された
参照画像との比較を行ってそれらの誤差を検出するステ
ップと、検出された誤差が予め定められた一定値より大
きければ欠陥が有ると判断するステップとを備えてい
る。
【0011】本発明による欠陥検出制御プログラムを記
録した記録媒体は、コンピュータに、スキャナから入力
された画像と参照画像とを比較して欠陥を検出させるた
めの欠陥検出制御プログラムを記録した記録媒体であっ
て、前記欠陥検出制御プログラムは前記コンピュータ
に、2次元にスキャンして画像を入力させ、その入力さ
れた画像を予め作成されたピッチ補正テーブルに基づい
て線形補間によって位置歪みを補正して出力させ、補正
された実画像と予め設計データから作成された参照画像
との比較を行ってそれらの誤差を検出させ、検出された
誤差が予め定められた一定値より大きければ欠陥が有る
と判断させている。
【0012】すなわち、本発明の欠陥検出方法は、LS
I(大規模集積回路)のフォトマスク製造時の原版とな
るレチクルに含まれる欠陥を検出可能な構成を提供する
ものである。
【0013】より具体的に、本発明の欠陥検出方法で
は、2次元にスキャンして入力された画像を、予め調整
用のテストパターンをスキャンして得られたピッチ補正
テーブルに基づいて線形補間によって位置歪みをサブピ
クセル単位で補正して出力している。
【0014】その結果を補正された実画像とし、この実
画像と予め設計データから作成された参照画像との比較
を行い、その差が一定値より大きければ欠陥が有ると判
断して欠陥検出を行う。これによって、実画像の中に紛
れ込む位置歪みを取り除いて疑似欠陥を少なくすること
が可能となるので、高感度の欠陥検出が可能となる。
【0015】
【発明の実施の形態】次に、本発明の一実施例について
図面を参照して説明する。図1は本発明の一実施例によ
る欠陥検出装置の構成を示すブロック図である。図1に
おいて、本発明の一実施例による欠陥検出装置は画像入
力手段1と、補正テーブル作成手段2と、ピッチ補正手
段3と、参照画像作成手段4と、誤差検出手段5と、判
別手段6とから構成されている。尚、画像入力手段1の
制御と、補正テーブル作成手段2とピッチ補正手段3と
参照画像作成手段4と誤差検出手段5と判別手段6とは
図示せぬコンピュータによっても実現され、その際、コ
ンピュータはプログラムの実行によってそれらを実現す
る。
【0016】画像入力手段1は画像を2次元的にスキャ
ンする。つまり、画像入力手段1はレチクル(図示せ
ず)を集光されたレーザビームを用いて機械的、光学的
にX軸方向及びY軸方向の両方向にスキャンし、その透
過光を光検出器(図示せず)で検出し、2次元の画像デ
ータを得る。
【0017】補正テーブル作成手段2は予め調整用のテ
ストパターンをスキャンして得られる補正テーブルを作
成する。つまり、補正テーブル作成手段2は検査に入る
前に予め用意された調整用のテストパターンをスキャン
して得られた画像から求めたあるY座標に対する位置ズ
レ誤差を表したテーブルを作成する。
【0018】ピッチ補正手段3は線形補間によって位置
歪みの補正をサブピクセル単位で行う。つまり、ピッチ
補正手段3は2次元的にスキャンして得られた画像デー
タに対して、ピッチ補正テーブルを参照してY方向の位
置歪み補正をかけ、位置歪みの無い実画像を得る。
【0019】参照画像作成手段4はベクトルで表現され
た設計データから参照画像を作成する。つまり、参照画
像作成手段4はエッジの始点及び終点からなるベクトル
によって表現された2値の図形データを256階調に多
値化し、丸めやボケ処理を施して実画像に近い参照画像
を作成する。
【0020】誤差検出手段5はピッチ補正された実画像
データと参照画像とを比較して誤差を検出する。つま
り、誤差検出手段5は実画像と参照画像との位置ズレを
1フレーム(512画素×512画素)に対してサブピ
クセル単位でアライメントし、対応する同一の位置の3
×3画素の差分和を求める。
【0021】判別手段6は誤差が予め与えられたしきい
値の大小を比較する。つまり、判別手段6は3×3画素
の差分和を予め与えられたしきい値と比較し、しきい値
よりも大きければ欠陥有り、しきい値よりも小さければ
欠陥無しと判断する。
【0022】図2は本発明の一実施例による欠陥検出装
置の処理動作を示すフローチャートである。これら図1
及び図2を参照して本発明の一実施例による欠陥検出装
置の処理動作について説明する。尚、図2に示す処理動
作は図示せぬ制御メモリに記録したプログラムを上記の
各手段が実行することで実現され、制御メモリとしては
ROM(リードオンリメモリ)やIC(集積回路)メモ
リ等が使用可能である。
【0023】まず、補正テーブル作成手段2は検査をす
る前の段階で、予め用意された調整用のテストパターン
をスキャンし、得られた画像の中に含まれるほぼ一定間
隔の正方形セルの重心位置を求める。また、補正テーブ
ル作成手段2はその重心位置同士の距離を求め、その値
を描画時に用いられた設計値と比較してどの程度の位置
ズレ誤差があるかどうかを求め、あるY座標に対する位
置ズレ誤差を求める(図2ステップS1)。
【0024】参照画像作成手段4はエッジの始点及び終
点からなるベクトルにより表現された2値の図形データ
から図形の塗りつぶし、7画素程度の大きさを持つガウ
シアンビームによるぼかし、各図形のコーナ付近を丸め
る処理を施し、256階調に多値化された参照画像を作
成する(図2ステップS2)。
【0025】画像入力手段1はX方向にステージ(図示
せず)を送ることでメカニカルに低速スキャンし、Y方
向にレーザ発振器(図示せず)から発生されたビームを
光偏向器(図示せず)[例えば、超音波光学デバイス
(AOD)等]によって高速にスキャンしてレチクルに
照射する。
【0026】画像入力手段1はレチクルの透過光を光検
出器(図示せず)で検出し、検出された光量をA/D
(アナログ/ディジタル)変換し、全体を一定のサイ
ズ、例えば512画素×512画素に細分化された2次
元の画像データを得る(図2ステップS3)。
【0027】ピッチ補正手段3は得られた2次元の画像
データに対して、補正テーブル作成手段2で作成された
ピッチ補正テーブルを参照してサブピクセル単位でY方
向の位置歪み補正をかけ、位置歪みの無い実画像を得る
(図2ステップS4)。
【0028】誤差検出手段5は実画像と参照画像との位
置ズレを一定のサイズ(512画素×512画素)に対
してサブピクセル単位でアライメントし、対応する同一
の位置の3×3画素の差分和を求める(図2ステップS
5)。
【0029】判別手段6は3×3画素の差分和を予め与
えられたしきい値と比較し、しきい値よりも大きければ
欠陥有りと判断し、しきい値よりも小さければ欠陥無し
と判断する(図2ステップS6)。
【0030】図3は図1の画像入力手段1の構成例を示
す図である。図3において、画像入力手段1はレーザ光
源11と、光偏向器12と、XYステージ14と、光検
出器15とから構成されている。
【0031】画像入力手段1はXYステージ14上に固
定されたレチクル13の上部からレーザビームをスポッ
ト光に絞って照射し、その透過光を光検出器15で受光
して電気信号に変換し、A/D変換した後に2次元の画
像データを得る。
【0032】図4は図1の補正テーブル作成手段2の処
理動作を示すフローチャートであり、図5は本発明の一
実施例で用いる調整用のテストパターンの一例を示す図
であり、図6は図5の調整用のテストパターンを一定間
隔ずらしてスキャンして得られた画像を示す図である。
【0033】図7は図1の補正テーブル作成手段2で求
められるピッチ曲線を示す図であり、図8は図1の補正
テーブル作成手段2で得られる補正曲線を示す図であ
る。これら図4〜図8を参照して補正テーブル作成手段
2の処理動作について説明する。
【0034】補正テーブル作成手段2は予め用意された
調整用のテストパターン(図5参照)を一定間隔(例え
ば、20画素)ずつずらしてスキャンし、そのスキャン
で得られた画像(図6参照)の中に含まれるほぼ一定間
隔(例えば、70画素)の正方形セルの重心位置を求め
る(図4ステップS11)。
【0035】補正テーブル作成手段2はその重心位置同
士のピッチを求め(図4ステップS12)(図6及び図
7参照)、それを累積して累積ピッチを求め(図4ステ
ップS13)、その値が描画の時に用いられた設計値と
比較してどの程度の位置ズレ誤差があるかどうかを求
め、隣接するセルの重心同士の2等分点のY座標に対す
る位置ズレ誤差を求める(図4ステップS14)(図8
参照)。
【0036】補正テーブル作成手段2は同一の正方形セ
ルをずらして求めた位置ズレ誤差を1フレーム内に含ま
れる正方形セルのペア毎にそれぞれ求めてP1,P2と
し、それらの平均値P=(P1+P2)/2を求め(図
4ステップS15)、その結果をピッチ補正テーブルと
する(図4ステップS16)。
【0037】ピッチ補正手段3は補正テーブル作成手段
2で作成されたピッチ補正テーブルを参照し、入力され
た画像に対してY方向の線形補間によって歪みの補正を
行う。補正の方法は入力された画像に対し、Y方向への
隣接する2点に対して、直線近似によるリサンプリング
を行う。
【0038】アドレス計算は求めたいY座標での値とそ
の値でのピッチ補正テーブルの内容とを加算した位置の
画像をリサンプリングする。すなわち、 R(Y)=A(y1)×(y−y1)+A(y1+1)×(y1+1−y) ……(1) ここで、R(Y)は求める結果画像値、A(y1)は元
々の入力画素値、Yは求めたい結果画像のアドレス値、
yはピッチ補正テーブルに入っている位置ズレ誤差、y
1はyの小数点以下を切り捨てた整数アドレス値であ
る。
【0039】参照画像作成手段4は白黒2値の設計デー
タに基づき、レチクル13上に描かれるべきパターンを
矩形や台形に分解して表現された元データから、実際に
レチクル13をスキャンして得られる濃淡のある、例え
ば256階調の実画像を作成するためのものである。
【0040】参照画像作成手段4はまず2値データを基
に各図形の中を塗りつぶし、256階調に多値化する。
この多値化は画像のサンプリング格子に含まれる図形の
面積に比例してサブピクセル単位で行われる。
【0041】参照画像作成手段4はこの多値化された画
像に対し、コーナの丸め処理を施す。これは直角のコー
ナの部分を円形に丸める処理である。用いられる円の半
径はレチクルによって異なるが、例えば1画素から3画
素程度である。
【0042】続いて、参照画像作成手段4はスキャンに
用いられるビームの大きさとそのプロファイルとに応じ
てぼかし処理を行う。これはビームの大きさとそのプロ
ファイルに対応するマスクデータと入力画像とのコンボ
リューションをとることによって行われる。例えば、ビ
ームの大きさが7×7で、プロファイルがガウシアンで
あれば、7×7のマスクデータが用いられる。
【0043】誤差検出手段5は参照画像と補正された実
画像との違いを見つけるためのものである。参照画像と
実画像とは微妙に位置ズレがあるので、最初にアライメ
ントを行う。位置ズレ量を求めるには参照画像と実画像
との差分和を実画像をサブピクセル、例えば1/4画素
単位で1フレーム全体(512画素×512画素)に対
して求め、その最小となる位置を求める。
【0044】誤差検出手段5は位置ズレ量が求められた
ら、実画像をその分ずらして参照画像と比較する。この
比較はそれぞれの画像の対応する同一の位置の3×3画
素の差分和を求め、その値が最大となる位置と最大値と
を求める。
【0045】判別手段6は3×3画素の差分和を予め与
えられたしきい値と比較し、しきい値よりも大きければ
欠陥有り、しきい値よりも小さければ欠陥無しと判別す
るためのものである。しきい値は疑似欠陥や画像に含ま
れる雑音、揺らぎ等を考慮し、欠陥が含まれない良品部
分を欠陥と誤らないように、予め良品部分をスキャンし
て3×3画素の差分和の最大値を求め、それよりもマー
ジンを含めて大きな値を設定する。
【0046】このように、ピッチ補正手段3でピッチ歪
み補正を行うことによって、スキャナ固有の歪みを取り
除くことができるので、サブピクセル単位でピッチ補正
を加えることで高精度の実画像を得ることができる。
【0047】実画像に歪みがあると、設計データから作
成された参照画像との差分に擬似的なピークが現れ、真
の欠陥との区別が付きにくくなるが、ピッチ補正手段3
によるピッチ歪み補正でスキャナ固有の歪みを取り除く
ことができるので、欠陥検出感度を高くすることができ
る。
【0048】セル間のピッチは描画時にバラツキがあ
り、必ずしも設計値通りにならないが、同一のセル間の
ピッチに着目することによって、セル間のピッチバラツ
キの影響を受けなくすることができる。
【0049】セル間のピッチのバラツキはガウシアン分
布に近い形をなしており、平均値の周りにほぼ対称に分
布していて、細かく揺らいでいるだけであり、平均的に
は長い寸法に対する位置精度が合っているので、複数の
セル間に着目して得られたピッチ補正曲線同士の平均値
を採ることによって、ピッチの寸法の絶対値が設計値に
最も近くなる。
【0050】エッジ位置はバラツキが大きく、光量の直
流レベルの変動やエッジのギザギザによる影響を受けや
すいのに対し、重心の方が変動が小さいため、重心を求
めることによって、エッジ位置によるよりも精度を高く
求めることができる。
【0051】尚、上記の説明では複数のピッチP1,P
2について、一定間隔ずつずらしながら、それぞれのピ
ッチ毎にそのバラツキを求めている(図5及び図6参
照)。しかしながら、予め用意された調整用のテストパ
ターンにバラツキが少なく、十分に等間隔な出来上がり
であれば、ずらしながら複数枚の画像をとって複数のピ
ッチ毎に求め、それらの平均を求める必要はなく、1枚
の画像から複数のピッチを一挙に求め、それらの値を基
にピッチ補正曲線を求めることができる。この方法は、
現状では描画時の揺らぎによってピッチの精度が十分に
得られないが、簡易的な方法として用いることができ
る。
【0052】また、上記の説明では複数のピッチP1,
P2について、それぞれ補正曲線を求め、その後それら
の平均値を求めて最終的な補正曲線としているが(図8
参照)、平均値ではなく中央値を求めても、ほぼ同様な
結果が得られる。これは通常ピッチの描画バラツキが描
画機の特性からガウシアン分布に近い形となり、平均値
と中央値とはほぼ等しくなることに依る。
【0053】さらに、上記の説明ではピッチを求めるの
に、正方形セルの重心位置から求めているが、重心の代
わりにエッジの位置を求めてピッチを算出する方法もあ
る。エッジ位置はビーム強度の変動や、描画されたエッ
ジのギザギザ、エッジプロファイルのダレによって変動
があり、位置精度は余り良くないが、ピッチを求めるの
に必要な領域の大きさが重心に比べ小さくて済むため、
ピッチを細かく求めることができるというメリットもあ
る。
【0054】さらにまた、上記の説明では重心位置を求
めるのに、サブピクセル単位で求めているが、これをピ
クセル単位で求める方法もある。ピクセル単位にする
と、補正曲線が粗くなり、誤差が大きくなる傾向がある
ので、疑似欠陥が増えることになるが、処理が簡便にな
るので、処理速度が速くなるというメリットがある。
【0055】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、2
次元にスキャンして画像を入力し、入力された画像を予
め作成されたピッチ補正テーブルに基づいて線形補間に
よって位置歪みを補正して出力し、補正された実画像と
予め設計データから作成された参照画像との比較を行っ
てそれらの誤差を検出し、検出された誤差が予め定めら
れた一定値より大きければ欠陥が有ると判断することに
よって、高精度の実画像を得らることができ、欠陥検出
感度を高くすることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による欠陥検出装置の構成を
示すブロック図である。
【図2】本発明の一実施例による欠陥検出装置の処理動
作を示すフローチャートである。
【図3】図1の画像入力手段の構成例を示す図である。
【図4】図1の補正テーブル作成手段の処理動作を示す
フローチャートである。
【図5】本発明の一実施例で用いる調整用のテストパタ
ーンの一例を示す図である。
【図6】図5の調整用のテストパターンを一定間隔ずら
してスキャンして得られた画像を示す図である。
【図7】図1の補正テーブル作成手段で求められるピッ
チ曲線を示す図である。
【図8】図1の補正テーブル作成手段で得られる補正曲
線を示す図である。
【図9】従来例による欠陥検出装置の構成を示すブロッ
ク図である。
【符号の説明】
1 画像入力手段 2 補正テーブル作成手段 3 ピッチ補正手段 4 参照画像作成手段 5 誤差検出手段 6 判別手段 11 レーザ光源 12 光偏向器 13 レチクル 14 XYステージ 15 光検出器
フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA17 AA49 CC18 DD00 EE00 FF04 FF61 GG04 JJ03 JJ19 JJ26 LL57 LL61 LL65 MM16 PP12 QQ03 QQ04 QQ13 QQ14 QQ23 QQ24 QQ42 RR05 RR09 UU06 2G051 AA56 AA61 AA65 AB02 AC21 BA10 BC05 CA03 CB02 EA11 EA12 EB01 EC01 ED07 ED13 ED23 GD02 GD06 2H095 BD04 BD28 5B057 AA03 BA11 CA12 CA16 CB12 CB16 CD06 CH07 DA03 DB02 DC03 DC06 DC32

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2次元にスキャンして画像を入力する画
    像入力手段と、前記画像入力手段から入力された画像を
    予め作成されたピッチ補正テーブルに基づいて線形補間
    によって位置歪みを補正して出力するピッチ補正手段
    と、前記ピッチ補正手段で補正された実画像と予め設計
    データから作成された参照画像との比較を行ってそれら
    の誤差を検出する誤差検出手段と、前記誤差検出手段で
    検出された誤差が予め定められた一定値より大きければ
    欠陥が有ると判断する欠陥判別手段とを有することを特
    徴とする欠陥検出装置。
  2. 【請求項2】 前記ピッチ補正手段は、前記位置歪みを
    サブピクセル単位で補正するよう構成したことを特徴と
    する請求項1記載の欠陥検出装置。
  3. 【請求項3】 調整用のテストパターンをスキャンして
    前記ピッチ補正テーブルを作成するピッチ補正テーブル
    作成手段を含むことを特徴とする請求項1または請求項
    2記載の欠陥検出装置。
  4. 【請求項4】 前記ピッチ補正テーブル作成手段は、縦
    横に等間隔に配置された正方形パターンを一定量ずつ一
    定方向にずらしてスキャンして前記ピッチ補正テーブル
    を求めるよう構成したことを特徴とする請求項3記載の
    欠陥検出装置。
  5. 【請求項5】 前記ピッチ補正テーブル作成手段は、前
    記正方形パターンの重心位置を求め、一定方向に隣接す
    るパターン同士の重心間の距離を求めてピッチとするよ
    うにしたことを特徴とする請求項4記載の欠陥検出装
    置。
  6. 【請求項6】 前記ピッチ補正テーブル作成手段は、前
    記重心位置をサブピクセル単位で精密に求めるようにし
    たことを特徴とする請求項5記載の欠陥検出装置。
  7. 【請求項7】 前記ピッチ補正テーブル作成手段は、同
    一の正方形セルを一定間隔でずらし、ピッチ累積誤差を
    求め、複数の隣接する正方形セルに関するピッチ累積誤
    差の平均値を求めるようにしたことを特徴とする請求項
    3から請求項6のいずれか記載の欠陥検出装置。
  8. 【請求項8】 前記ピッチ補正手段は、前記ピッチ補正
    テーブルに基づいて画素単位で直線補間する請求項1か
    ら請求項7のいずれか記載の欠陥検出装置。
  9. 【請求項9】 2次元にスキャンして画像を入力するス
    テップと、その入力された画像を予め作成されたピッチ
    補正テーブルに基づいて線形補間によって位置歪みを補
    正して出力するステップと、補正された実画像と予め設
    計データから作成された参照画像との比較を行ってそれ
    らの誤差を検出するステップと、検出された誤差が予め
    定められた一定値より大きければ欠陥が有ると判断する
    ステップとを有することを特徴とする欠陥検出方法。
  10. 【請求項10】 前記位置歪みを補正して出力するステ
    ップは、前記位置歪みをサブピクセル単位で補正するよ
    うにしたことを特徴とする請求項9記載の欠陥検出方
    法。
  11. 【請求項11】 調整用のテストパターンをスキャンし
    て前記ピッチ補正テーブルを作成するステップを含むこ
    とを特徴とする請求項9または請求項10記載の欠陥検
    出方法。
  12. 【請求項12】 前記ピッチ補正テーブルを作成するス
    テップ、縦横に等間隔に配置された正方形パターンを一
    定量ずつ一定方向にずらしてスキャンして前記ピッチ補
    正テーブルを求めるよう構成したことを特徴とする請求
    項11記載の欠陥検出方法。
  13. 【請求項13】 前記ピッチ補正テーブルを作成するス
    テップは、前記正方形パターンの重心位置を求め、一定
    方向に隣接するパターン同士の重心間の距離を求めてピ
    ッチとするようにしたことを特徴とする請求項12記載
    の欠陥検出方法。
  14. 【請求項14】 前記ピッチ補正テーブルを作成するス
    テップは、前記重心位置をサブピクセル単位で精密に求
    めるようにしたことを特徴とする請求項13記載の欠陥
    検出方法。
  15. 【請求項15】 前記ピッチ補正テーブルを作成するス
    テップは、同一の正方形セルを一定間隔でずらし、ピッ
    チ累積誤差を求め、複数の隣接する正方形セルに関する
    ピッチ累積誤差の平均値を求めるようにしたことを特徴
    とする請求項11から請求項14のいずれか記載の欠陥
    検出方法。
  16. 【請求項16】 前記位置歪みを補正して出力するステ
    ップは、前記ピッチ補正テーブルに基づいて画素単位で
    直線補間する請求項9から請求項15のいずれか記載の
    欠陥検出方法。
  17. 【請求項17】 コンピュータに、スキャナから入力さ
    れた画像と参照画像とを比較して欠陥を検出させるため
    の欠陥検出制御プログラムを記録した記録媒体であっ
    て、前記欠陥検出制御プログラムは前記コンピュータ
    に、2次元にスキャンして画像を入力させ、その入力さ
    れた画像を予め作成されたピッチ補正テーブルに基づい
    て線形補間によって位置歪みを補正して出力させ、補正
    された実画像と予め設計データから作成された参照画像
    との比較を行ってそれらの誤差を検出させ、検出された
    誤差が予め定められた一定値より大きければ欠陥が有る
    と判断させることを特徴とする欠陥検出制御プログラム
    を記録した記録媒体。
JP16177299A 1999-06-09 1999-06-09 欠陥検出装置及びその欠陥検出方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体 Pending JP2000348177A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16177299A JP2000348177A (ja) 1999-06-09 1999-06-09 欠陥検出装置及びその欠陥検出方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16177299A JP2000348177A (ja) 1999-06-09 1999-06-09 欠陥検出装置及びその欠陥検出方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000348177A true JP2000348177A (ja) 2000-12-15

Family

ID=15741620

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16177299A Pending JP2000348177A (ja) 1999-06-09 1999-06-09 欠陥検出装置及びその欠陥検出方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000348177A (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004258034A (ja) * 2003-02-25 2004-09-16 Lamda-Lite Enterprises Inc マルチバリアント・イメージ分析を用いた製造欠陥の検出及び報告システム及び方法
WO2006073155A1 (ja) * 2005-01-05 2006-07-13 Nec Corporation パターン欠陥検査のための装置、その方法及びそのプログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体
JP2006215528A (ja) * 2005-01-05 2006-08-17 Fujitsu Ltd レチクル検査装置およびレチクル検査方法
JP2007127499A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Nec Electronics Corp 非破壊検査装置および非破壊検査方法
JP2008026821A (ja) * 2006-07-25 2008-02-07 Toshiba Corp パターン評価方法と評価装置及びパターン評価プログラム
JP2008224256A (ja) * 2007-03-09 2008-09-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電極検査方法
US7539350B2 (en) 2005-03-24 2009-05-26 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Image correction method
US7577288B2 (en) 2005-09-06 2009-08-18 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Sample inspection apparatus, image alignment method, and program-recorded readable recording medium
US7590277B2 (en) 2004-07-15 2009-09-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Pattern inspecting method
US7643668B2 (en) 2005-09-26 2010-01-05 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Workpiece inspection apparatus, workpiece inspection method and computer-readable recording medium storing program
US7655904B2 (en) 2006-08-10 2010-02-02 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Target workpiece inspection apparatus, image alignment method, and computer-readable recording medium with program recorded thereon
US7764825B2 (en) 2006-08-24 2010-07-27 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Pattern inspection apparatus and method with enhanced test image correctability using frequency division scheme
US7796803B2 (en) 2006-08-24 2010-09-14 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Image correction method and apparatus for use in pattern inspection system
US7809181B2 (en) 2006-08-10 2010-10-05 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Pattern inspection apparatus, image alignment method, displacement amount estimation method, and computer-readable recording medium with program recorded thereon

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004258034A (ja) * 2003-02-25 2004-09-16 Lamda-Lite Enterprises Inc マルチバリアント・イメージ分析を用いた製造欠陥の検出及び報告システム及び方法
US7590277B2 (en) 2004-07-15 2009-09-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Pattern inspecting method
JP5146797B2 (ja) * 2005-01-05 2013-02-20 日本電気株式会社 パターン欠陥検査のための装置、その方法及びそのプログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体
WO2006073155A1 (ja) * 2005-01-05 2006-07-13 Nec Corporation パターン欠陥検査のための装置、その方法及びそのプログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体
JP2006215528A (ja) * 2005-01-05 2006-08-17 Fujitsu Ltd レチクル検査装置およびレチクル検査方法
JPWO2006073155A1 (ja) * 2005-01-05 2008-08-07 日本電気株式会社 パターン欠陥検査のための装置、その方法及びそのプログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体
US8391588B2 (en) 2005-01-05 2013-03-05 Nec Corporation Apparatus for examining pattern defects, a method thereof, and a computer-readable recording medium having recorded therein a program thereof
US7539350B2 (en) 2005-03-24 2009-05-26 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Image correction method
US7577288B2 (en) 2005-09-06 2009-08-18 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Sample inspection apparatus, image alignment method, and program-recorded readable recording medium
US7643668B2 (en) 2005-09-26 2010-01-05 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Workpiece inspection apparatus, workpiece inspection method and computer-readable recording medium storing program
JP2007127499A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Nec Electronics Corp 非破壊検査装置および非破壊検査方法
JP2008026821A (ja) * 2006-07-25 2008-02-07 Toshiba Corp パターン評価方法と評価装置及びパターン評価プログラム
JP4675854B2 (ja) * 2006-07-25 2011-04-27 株式会社東芝 パターン評価方法と評価装置及びパターン評価プログラム
US7809181B2 (en) 2006-08-10 2010-10-05 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Pattern inspection apparatus, image alignment method, displacement amount estimation method, and computer-readable recording medium with program recorded thereon
US7655904B2 (en) 2006-08-10 2010-02-02 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Target workpiece inspection apparatus, image alignment method, and computer-readable recording medium with program recorded thereon
US7764825B2 (en) 2006-08-24 2010-07-27 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Pattern inspection apparatus and method with enhanced test image correctability using frequency division scheme
US7796803B2 (en) 2006-08-24 2010-09-14 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Image correction method and apparatus for use in pattern inspection system
JP2008224256A (ja) * 2007-03-09 2008-09-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電極検査方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2984633B2 (ja) 参照画像作成方法およびパターン検査装置
JP3485052B2 (ja) 参照画像作成方法、パターン検査装置及び参照画像作成プログラムを記録した記録媒体
JP3028945B2 (ja) 多階調丸め補正処理方法およびパターン検査装置
JP3484042B2 (ja) パターン検査方法およびその装置
US4805123A (en) Automatic photomask and reticle inspection method and apparatus including improved defect detector and alignment sub-systems
JP4002655B2 (ja) パターン検査方法およびその装置
JP2000348177A (ja) 欠陥検出装置及びその欠陥検出方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体
US7024041B2 (en) Pattern inspection apparatus and method
US7519224B2 (en) Method and apparatus for compensating data image reproduced from holographic system
US20070053582A1 (en) Sample inspection apparatus, image alignment method, and program-recorded readable recording medium
US6400838B2 (en) Pattern inspection equipment, pattern inspection method, and storage medium storing pattern inspection program
JP4915166B2 (ja) ぼかしフィルタ設計方法
JPH01256871A (ja) 平均最大値を利用したシェーディング補正用基準データの生成方法
US6272260B1 (en) Method of and apparatus for processing an image filter
KR20080114493A (ko) 노광 패턴 데이터 검사 장치, 방법 및 프로그램
JP2009250937A (ja) パターン検査装置および方法
US6178268B1 (en) Method of and apparatus for processing image
US6888958B1 (en) Method and apparatus for inspecting patterns
JP2018040657A (ja) 検査装置及び検査方法
JP2003090717A (ja) 欠陥検査装置および欠陥検査方法
JP3626353B2 (ja) パターン検査装置およびパターン検査方法
JPS619769A (ja) 画像処理装置
CN118037859A (zh) 一种畸变解耦的相机标定方法及系统
JP2009058382A (ja) 多重スキャンによる画像取得方法、画像取得装置および試料検査装置
CN116681638A (zh) 缺陷分类方法及缺陷分类设备