JP2000344741A - タキキニンアンタゴニストとしての3−アゼチジニルアルキルピペリジンまたは−ピロリジン - Google Patents

タキキニンアンタゴニストとしての3−アゼチジニルアルキルピペリジンまたは−ピロリジン

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】治療薬である、N置換窒素複素環式化合物のア
ゼチジニルアルキル誘導体、その製造方法の提供。 【解決手段】式(1)の構造を有する化合物及びそれら
の薬学的に許容しうる塩。例えば、式(2)で表される
1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフェニル)−
3−(3−[3−モルホリノアゼチジン−1−イル]プ
ロピル)ピペリジン。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、治療薬、具体的に
は、N置換窒素複素環式化合物のアゼチジニルアルキル
誘導体、並びにこのような複素環式化合物の製造方法、
その製造において用いられる中間体、このような化合物
を含有する組成物およびその使用に関する。
【0002】
【従来の技術】国際特許公開第WO96/05193号は、種々
の(アゼチジン−1−イルアルキル)ラクタムをタキキ
ニンアンタゴニストとして開示している。
【0003】
【課題を解決するための手段】本複素環式化合物は、ヒ
トニューロキニン−1(NK1)、ニューロキニン−2
(NK2)若しくはニューロキニン−3(NK3)受容体
またはそれらの2種類若しくはそれ以上の組合わせに作
用するニューロキニンA(NKA)、ニューロキニンB
(NKB)およびサブスタンスPを含めたタキキニンの
アンタゴニストである。したがって、それら複素環式化
合物は、関節炎、乾癬、喘息または炎症性腸疾患などの
炎症性疾患;不安、うつ病、痴呆または精神病などの中
枢神経系(CNS)障害;機能性腸疾患、過敏性腸症候
群、胃食道逆流、便失禁、大腸炎またはクローン病など
の胃腸(GI)障害;ヘリコバクター・ピロリ(Helico
bacter pylori)または他のウレアーゼ陽性グラム陰性
細菌によって引き起こされる疾患;失禁、反射亢進、不
能症または膀胱炎などの尿性器管障害;慢性閉塞性気道
疾患などの肺疾患;湿疹、接触皮膚炎、アトピー性皮膚
炎、じんま疹、湿疹様皮膚炎または鼻炎などのアレルギ
ー;ツタウルシなどの過敏性障害;アンギナまたはレー
ノー病などの血管痙攣性疾患;癌または線維芽細胞増殖
に関係した疾患などの増殖性疾患;強皮症または好酸性
肝蛭症などの線維症または膠原病;肩/手症候群などの
反射性交感神経性ジストロフィー;アルコール症などの
嗜癖障害;ストレス関連身体障害;糖尿病性神経障害、
神経痛、カウザルギー、疼痛性神経障害、熱傷、疱疹性
神経痛または疱疹後神経痛などの末梢神経障害;アルツ
ハイマー病または多発性硬化症などの神経病理学的障
害;全身性エリテマトーデスなどの免疫増強または抑圧
に関係した障害;結合組織炎、嘔吐、咳、急性または慢
性痛、片頭痛などのリウマチ疾患;増殖性網膜症などの
眼疾患;インフルエンザ;または感冒を予防するまたは
治療するのに有用である。
【0004】本誘導体は、ヒトNK1、NK2およびNK
3受容体またはそれらの2種類若しくはそれ以上の組合
わせに作用するNKA、NKBおよびサブスタンスPを
含めたタキキニンの特に強力な且つ選択的アンタゴニス
トである。それらは、関節炎、乾癬、喘息または炎症性
腸疾患などの炎症性疾患;不安、うつ病、痴呆または精
神病などの中枢神経系(CNS)障害;機能性腸疾患、
過敏性腸症候群、胃食道逆流、便失禁、大腸炎またはク
ローン病などの胃腸(GI)障害;失禁または膀胱炎な
どの尿性器管障害;慢性閉塞性気道疾患などの肺疾患;
湿疹、接触皮膚炎または鼻炎などのアレルギー;ツタウ
ルシなどの過敏性障害;糖尿病性神経障害、神経痛、カ
ウザルギー、疼痛性神経障害、熱傷、疱疹性神経痛また
は疱疹後神経痛などの末梢神経障害;咳または急性若し
くは慢性痛を治療するまたは予防するのに特に有用であ
る。
【0005】本発明は、式
【0006】
【化3】
【0007】[式中、Rは、C3−C7シクロアルキル、
アリールまたはC1−C6アルキルであり、前記C1−C6
アルキルは、場合により、フルオロ、−COOH、−C
OO(C1−C4)アルキル、C3−C7シクロアルキル、
アダマンチル、アリールまたはhet1で置換されてい
て、そして前記C3−C7シクロアルキルは、場合によ
り、C1−C4アルキル、C3−C7シクロアルキル、C1
−C4アルコキシ、ヒドロキシ、フルオロ、フルオロ
(C1−C4)アルキルおよびフルオロ(C1−C4)アル
コキシからそれぞれ独立して選択される1個または2個
の置換基で置換されていて;Aは、COまたはSO2
あり;R1は、フェニル、ベンジル、ナフチル、チエニ
ル、ベンゾチエニルまたはインドリルであり、それぞれ
場合により、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、
ハロおよびトリフルオロメチルからそれぞれ独立して選
択される1個または2個の置換基で置換されていて;R
2は、−CO2H、−CONR34、−CONR5(C3
7シクロアルキル)、−NR5(C2−C5アルカノイ
ル)、−NR34、−NR5CONR56、(C3−C7
シクロアルキル−C1−C4アルキル)R5N−、(C3
7シクロアルキル−C1−C4アルキル)2N−、−NR
5COCF3、−NR5SO2CF3、−NR5(SO21
4アルキル)、−NR5SO2NR56、−NR5(SO
2アリール)、−N(アリール)(SO21−C4アルキ
ル)、−OR5、−O(C3−C7シクロアルキル)、−
SO2NR56、het3、または式
【0008】
【化4】
【0009】を有する基であり;R3およびR4は、それ
ぞれ独立して、H、およびC1−C4アルキルであって、
場合により、ヒドロキシ、C1−C4アルコキシ、−S
(O)p(C1−C4アルキル)、アミノ、−NH(C1
4アルキル)、−N(C1−C4アルキル)2またはhe
2で置換されたものから選択され;R5およびR6は、
それぞれ独立して、H、C1−C4アルキルおよびC3
7シクロアルキル−C1−C4アルキルから選択され、
前記C1−C4アルキルおよびC 3−C7シクロアルキル−
C1−C4アルキルは、場合によりフルオロで置換されて
いて;R7は、H、C1−C4アルキル、ヒドロキシ、フ
ルオロ(C1−C4)アルキルまたはフェニルであり、前
記フェニルは、場合により、C1−C4アルキル、フルオ
ロ(C1−C4)アルキル、ハロ、C1−C4アルコキシお
よびフルオロ(C1−C4)アルコキシからそれぞれ独立
して選択される1個または2個の置換基で置換されてい
て;R8は、H、フルオロ、ヒドロキシ、C1−C4アル
コキシ、C2−C5アルカノイルまたはC2−C5アルカノ
イルオキシであり;R9は、−NR56、−NR5COR
5、−NR5SO2CF3、−NR5(SO2 1−C4アルキ
ル)、−NR5SO2NR56、−NR5COO(C1−C
4アルキル)、−NR5CONR56、−NR5(SO2
ルホリノ)、−NR5(SO2アリール)、−N(アリー
ル)(SO21−C4アルキル)または式
【0010】
【化5】
【0011】を有する基であり;Xは、C1−C4アルキ
レンであり;X1は、直接結合またはC1−C6アルキレ
ンであり;X2は、直接結合、CO、SO2またはNR5
COであり;Wは、メチレン、CO、CH(OH)、C
(OH)2、CH(C1−C4アルコキシ)、CHCO
2H、CHCO2(C1−C4アルキル)、CHCONR5
6、CHF、CF2、CH(アゼチジン−1−イル)、
CH(ピロリジン−1−イル)、CH(ピペリジン−1
−イル)、CH(モルホリノ)、CH(ベンゾオキサゾ
ール−2−イル)、CHR9、O、S(O)p、NR5
N(C3−C7シクロアルキル)、NSO2(C1−C4
ルキル)、NSO2NR56、NSO2CF3、NSO
2(モルホリノ)、NSO2(アリール)、
【0012】
【化6】
【0013】NCONR56、NCOR5、NCO(ア
リール)またはNCO2(C1−C4アルキル)であり;
1は、メチレン、CO、CH(OH)、C(OH)2
CH(C1−C4アルコキシ)、CHCO2H、CHCO2
(C1−C4アルキル)、CHCONR56、CHF、C
2、CH(アゼチジン−1−イル)、CH(ピロリジ
ン−1−イル)、CH(ピペリジン−1−イル)、CH
(モルホリノ)またはCHR9であり;W2は、W1、−
CH21−、−CH2WCH2−または−CH2CH2WC
2−であり;mは、0、1または2であり;nは、W
がメチレン以外である場合、1または2であり、そして
Wがメチレンである場合、0、1または2であり;p
は、0、1または2であり;qは、1または2であり;
rは、1、2、3または4であり;R、R2、R9および
Wの定義で用いられる「アリール」は、ナフチルまたは
フェニルであって、それぞれ場合により、C1−C4アル
キル、ハロ、−OR5、フルオロ(C1−C4)アルキ
ル、C2−C5アルカノイル、−CONR56、−SO 2
NR56またはフェニルで置換されたものを意味し;R
の定義で用いられる「het1」は、チエニル、または
1個若しくは2個の窒素ヘテロ原子かまたは1個の窒素
ヘテロ原子および1個の酸素若しくは硫黄ヘテロ原子を
含有する5員または6員環ヘテロアリール基であって、
それぞれ場合により、C1−C4アルキル、C1−C4アル
コキシ、ハロ、フルオロ(C1−C4アルキル)およびフ
ルオロ(C1−C4アルコキシ)からそれぞれ独立して選
択される1個または2個の置換基で置換されたものを意
味し;R3およびR4の定義で用いられる「het2
は、窒素、酸素およびS(O)pからそれぞれ独立して
選択される1個または2個のヘテロ原子を含有する4〜
7員環の非芳香族複素環式基を意味し、前記基は、場合
により、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシおよび
フルオロ(C1−C4)アルキルからそれぞれ独立して選
択される1個または2個の置換基でC置換され、そして
前記環窒素ヘテロ原子は、場合により、H、C1−C4
ルキル、C2−C5アルカノイル、−CONR 56または
−SO2NR56置換基を有し;そしてR2の定義で用い
られる「het3」は、1〜4個の窒素ヘテロ原子を含
有する、場合によりベンゾ縮合しN結合した5員環ヘテ
ロアリール基を意味し、これは、場合により、ベンゾ縮
合した部分中を含めて、C1−C4アルキル、フルオロお
よびフルオロ(C1−C4)アルキルからそれぞれ独立し
て選択される1個または2個の置換基で置換される]を
有する化合物およびそれらの薬学的に許容しうる塩を提
供する。
【0014】上の定義において、「ハロ」という用語
は、フルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードを意味し、
そして3個またはそれ以上の炭素原子を含有するアルキ
ル基、アルキレン基およびアルコキシ基並びに4個また
はそれ以上の炭素原子を含有するアルカノイル基は、直
鎖または分岐状鎖でありうる。
【0015】好ましくは、Rは、アリール、場合により
フルオロで置換されたC3−C7シクロアルキル、または
3−C7シクロアルキルで置換されたC1−C6アルキル
である。
【0016】更に好ましくは、Rは、場合によりC1
4アルコキシで置換されたフェニル、場合によりフル
オロで置換されたC3−C7シクロアルキル、またはC3
−C7シクロアルキルで置換されたC1−C6アルキルで
ある。
【0017】最も好ましくは、Rは、フェニル、2−メ
トキシフェニル、シクロプロピル、シクロヘキシル、
4,4−ジフルオロシクロヘクス−1−イルまたはシク
ロプロピルメチルである。
【0018】好ましくは、AはCOである。
【0019】好ましくは、R1は、場合により1個また
は2個のハロ置換基で置換されたフェニルである。
【0020】更に好ましくは、R1は、フルオロおよび
クロロからそれぞれ独立して選択される1個または2個
の置換基で場合により置換されたフェニルである。
【0021】また更に好ましくは、R1は、フェニル、
3,4−ジフルオロフェニル、3−クロロフェニル、4
−クロロフェニルまたは3,4−ジクロロフェニルであ
る。
【0022】最も好ましくは、R1は3,4−ジクロロ
フェニルである。
【0023】好ましくは、R2は、−CONR34、−
CONR5(C3−C7シクロアルキル)、−NR34
het3、または式
【0024】
【化7】
【0025】を有する基であり、この場合、R3および
4は、それぞれ独立して、C1−C4アルキル、および
ヒドロキシまたはC1−C4アルコキシで置換されたC1
−C4アルキルから選択され、R5およびR6は、それぞ
れ独立して、H、場合によりフルオロで置換されたC1
−C4アルキル、およびC3−C7シクロアルキル−C1
4アルキルから選択され、R7は、H、ヒドロキシまた
はフェニルであり、R8は、ヒドロキシまたはC2−C5
アルカノイルオキシであり、Wは、メチレン、CH(O
H)、CHF、CO、CH(C1−C4アルコキシ)、C
HCO2H、CHCO2(C1−C4アルキル)、CH(ベ
ンゾオキサゾール−2−イル)、CHNR56、CHN
5COR5、CHNR5(SO21−C4アルキル)、C
HNR5COO(C1−C4アルキル)、O、S(O)p
NR5、NSO2(C1−C4アルキル)、NSO2NR5
6、NSO2(モルホリノ)、NCONR56、NCOR
5、NCO(アリール)またはNCO2(C1−C4アルキ
ル)であり、nは、Wがメチレン以外である場合、1ま
たは2であり、そしてWがメチレンである場合、0また
は1であり、そしてpは、0、1または2である。
【0026】更に好ましくは、R2は、−CONR
34、−CONR5(C3−C7シクロアルキル)、−N
34、1個若しくは2個の窒素ヘテロ原子を含有する
N結合した5員環ヘテロアリール基、または式
【0027】
【化8】
【0028】を有する基であり、この場合、R3および
4は、それぞれ独立して、メチル、およびヒドロキシ
またはメトキシで置換されたC1−C4アルキルから選択
され、R 5およびR6は、それぞれ独立して、H、メチ
ル、トリフルオロメチルおよびシクロプロピルメチルか
ら選択され、R7は、H、ヒドロキシまたはフェニルで
あり、R8は、ヒドロキシまたはアセチルオキシであ
り、Wは、メチレン、CH(OH)、CHOCH3、C
HF、CO、CHOCH2CH3、CHO(CH22CH
3、CHOC(CH33、CHCO2H、CHCO2
3、CHCO2CH2CH3、CH(ベンゾオキサゾール
−2−イル)、CHNH2、CHNHCH2(シクロプロ
ピル)、CHNHCOCH3、CHNHSO2CH3、C
HNHCO2C(CH33、O、S(O)p、NH、NC
3、NCH2(シクロプロピル)、NSO2CH3、NS
2NH2、NSO2NHCH3、NSO2N(CH32
NSO2(モルホリノ)、NCONH2、NCONHCH
3、NCOCH3、NCOCF3、NCO(フェニル)ま
たはNCO2C(CH33であり、nは、Wがメチレン
以外である場合、1または2であり、そしてWがメチレ
ンである場合、0または1であり、そしてpは、0、1
または2である。
【0029】また更に好ましくは、R2は、N−(2−
メトキシエチル)−N−メチルカルバモイル、N−シク
ロヘキシルカルバモイル、N−(2−ヒドロキシエチ
ル)−N−メチルアミノ、N−(2−ヒドロキシ−2−
メチルプロピル)−N−メチルアミノ、N−(2−メト
キシエチル)−N−メチルアミノ、イミダゾール−1−
イル、3−ヒドロキシピロリジン−1−イル、ピペリジ
ン−1−イル、2,6−ジメチルピペリジン−1−イ
ル、3−ヒドロキシピペリジン−1−イル、4−ヒドロ
キシピペリジン−1−イル、4−メトキシピペリジン−
1−イル、4−エトキシピペリジン−1−イル、4−
(n−プロポキシ)ピペリジン−1−イル、4−(t−
ブトキシ)ピペリジン−1−イル、4−カルボキシピペ
リジン−1−イル、4−メトキシカルボニルピペリジン
−1−イル、4−エトキシカルボニルピペリジン−1−
イル、4−(ベンゾオキサゾール−2−イル)ピペリジ
ン−1−イル、4−アミノピペリジン−1−イル、4−
シクロプロピルメチルアミノピペリジン−1−イル、4
−アセトアミドピペリジン−1−イル、4−メタンスル
ホンアミドピペリジン−1−イル、4−(t−ブトキシ
カルボニルアミノ)ピペリジン−1−イル、モルホリ
ノ、2−フェニルモルホリノ、ホモモルホリノ、チオモ
ルホリノ、1−オキソチオモルホリノ、1,1−ジオキ
ソチオモルホリノ、ピペラジン−1−イル、4−メチル
ピペラジン−1−イル、4−シクロプロピルメチルピペ
ラジン−1−イル、4−メタンスルホニルピペラジン−
1−イル、4−アミノスルホニルピペラジン−1−イ
ル、4−メチルアミノスルホニルピペラジン−1−イ
ル、4−ジメチルアミノスルホニルピペラジン−1−イ
ル、4−モルホリノスルホニルピペラジン−1−イル、
4−カルバモイルピペラジン−1−イル、4−N−メチ
ルカルバモイルピペラジン−1−イル、4−アセチルピ
ペラジン−1−イル、4−トリフルオロアセチルピペラ
ジン−1−イル、4−ベンゾイルピペラジン−1−イ
ル、4−(t−ブトキシカルボニル)ピペラジン−1−
イル、ピロリジン−1−イルカルボニル、ピペリジン−
1−イルカルボニル、3−オキソモルホリノ、3−ヒド
ロキシ−8−アザビシクロ[3,2,1]オクト−8−
イル、3−アセチルオキシ−8−アザビシクロ[3,
2,1]オクト−8−イル、4−フルオロピペリジン−
1−イルまたは4−オキソピペリジン−1−イルであ
る。
【0030】最も好ましくは、R2は、4−アミノピペ
リジン−1−イル、4−カルボキシピペリジン−1−イ
ル、4−ヒドロキシピペリジン−1−イル、モルホリ
ノ、1−オキソチオモルホリノ、4−アミノスルホニル
ピペラジン−1−イル、4−メタンスルホニルピペラジ
ン−1−イル、4−メチルアミノスルホニルピペラジン
−1−イル、4−モルホリノスルホニルピペラジン−1
−イル、4−フルオロピペリジン−1−イルまたは4−
オキソピペリジン−1−イルである。
【0031】好ましくは、Xは、エチレンまたはプロピ
レンである。
【0032】好ましくは、X1は直接結合である。
【0033】好ましくは、X2は直接結合である。
【0034】好ましくは、mは、0または1である。
【0035】式(I)を有する化合物の薬学的に許容し
うる塩には、それらの酸付加塩および塩基塩が含まれ
る。
【0036】適当な酸付加塩は、無毒性塩を形成する酸
から形成され、そして例は、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨ
ウ化水素酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、硝酸塩、リン酸
塩、リン酸水素塩、酢酸塩、マレイン酸塩、フマル酸
塩、乳酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、グルコン酸塩、コ
ハク酸塩、安息香酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼン
スルホン酸塩およびp−トルエンスルホン酸塩である。
【0037】適当な塩基塩は、無毒性塩を形成する塩基
から形成され、そして例は、アルミニウム塩、カルシウ
ム塩、リチウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、ナト
リウム塩、亜鉛塩およびジエタノールアミン塩である。
【0038】適当な塩の論評については、ベルゲ(Berg
e)ら,J.Pharm.Sci.,66,1-19(1977)を参照されたい。
【0039】式(I)を有する化合物は、1個またはそ
れ以上の不斉炭素原子を有しているので、2種類または
それ以上の立体異性体の形で存在しうる。本発明は、式
(I)を有する化合物の個々の立体異性体およびそれら
の混合物を包含する。
【0040】ジアステレオ異性体の分離は、慣用的な技
法によって、例えば、式(I)を有する化合物またはそ
の適当な塩若しくは誘導体の立体異性体混合物の分別結
晶、クロマトグラフィーまたは高性能液体クロマトグラ
フィーによって行うことができる。式(I)を有する化
合物の個々の鏡像異性体もまた、該当する光学的に純粋
な中間体から、或いは、該当するラセミ化合物の高性能
液体クロマトグラフィーなどの分割によって適当なキラ
ル支持体を用いてまたは該当するラセミ化合物と適当な
光学的に活性な酸若しくは塩基との反応によって形成さ
れたジアステレオ異性体塩の分別結晶によって製造する
ことができる。
【0041】式(I)を有する好ましい化合物およびそ
の塩は、下記の式(IA)においてNアシル化されたま
たはNスルホニル化された環に対する基XおよびR1
結合の位置で示された立体化学を有する。
【0042】
【化9】
【0043】式(I)を有する化合物の好ましい例は、 (i)Rがフェニルであり、AがCOであり、R1
3,4−ジクロロフェニルであり、R2がモルホリノで
あり、Xがプロピレンであり、X1が直接結合であり、
そしてmが1である; (ii)Rがフェニルであり、AがCOであり、R1
3,4−ジクロロフェニルであり、R2が4−アミノス
ルホニルピペラジン−1−イルであり、Xがプロピレン
であり、X1が直接結合であり、そしてmが1である; (iii)Rがシクロヘキシルであり、AがCOであり、
1が3,4−ジクロロフェニルであり、R2がモルホリ
ノであり、Xがプロピレンであり、X1が直接結合であ
り、そしてmが1である; (iv)Rがシクロヘキシルであり、AがCOであり、R
1が3,4−ジクロロフェニルであり、R2が4−アミノ
スルホニルピペラジン−1−イルであり、Xがプロピレ
ンであり、X1が直接結合であり、そしてmが1であ
る; (v)Rがシクロプロピルであり、AがCOであり、R
1が3,4−ジクロロフェニルであり、R2がモルホリノ
であり、Xがプロピレンであり、X1が直接結合であ
り、そしてmが1である; (vi)Rがシクロプロピルであり、AがCOであり、R
1が3,4−ジクロロフェニルであり、R2が4−アミノ
スルホニルピペラジン−1−イルであり、Xがプロピレ
ンであり、X1が直接結合であり、そしてmが1であ
る; (vii)Rがフェニルであり、AがCOであり、R1
3,4−ジクロロフェニルであり、R2がモルホリノで
あり、Xがエチレンであり、X1が直接結合であり、そ
してmが0である; (viii)Rが2−メトキシフェニルであり、AがCOで
あり、R1が3,4−ジクロロフェニルであり、R2がモ
ルホリノであり、Xがエチレンであり、X1が直接結合
であり、そしてmが0である; (ix)Rがフェニルであり、AがCOであり、R1
3,4−ジクロロフェニルであり、R2がモルホリノで
あり、Xがエチレンであり、X1が直接結合であり、そ
してmが1である; (x)Rが2−メトキシフェニルであり、AがCOであ
り、R1が3,4−ジクロロフェニルであり、R2がモル
ホリノであり、Xがエチレンであり、X1が直接結合で
あり、そしてmが1である; (xi)Rがフェニルであり、AがSO2であり、R1
3,4−ジクロロフェニルであり、R2がモルホリノで
あり、Xがエチレンであり、X1が直接結合であり、そ
してmが1である; (xii)Rがシクロプロピルメチルであり、AがCOで
あり、R1が3,4−ジクロロフェニルであり、R2がモ
ルホリノであり、Xがエチレンであり、X1が直接結合
であり、そしてmが1である; (xiii)Rがシクロプロピルメチルであり、AがCOで
あり、R1が3,4−ジクロロフェニルであり、R2が4
−メタンスルホニルピペラジン−1−イルであり、Xが
エチレンであり、X1が直接結合であり、そしてmが1
であるもの、または上の式(IA)においてNアシル化
されたまたはNスルホニル化された環に対する基Xおよ
びR1の結合の位置で示された立体化学を有するいずれ
かのこのような化合物、或いはそれらのいずれかの薬学
的に許容しうる塩である。
【0044】本発明によって提供された式(I)を有す
る化合物は、次の方法によって製造することができる。
【0045】(1)Xが(C0−C3アルキレン)CH2
−であり、そのメチレン基がアゼチジン窒素原子に対し
て結合していて、そしてR、R1、A、R2、X1および
mが式(I)の化合物について前に定義の通りである式
(I)の化合物は、出発物質として、式
【0046】
【化10】
【0047】(式中、R、A、R1およびmは、式
(I)の化合物について前に定義の通りである)を有す
る化合物、および式
【0048】
【化11】
【0049】(式中、R2およびX1は、式(I)の化合
物について前に定義の通りである)を有する化合物また
はその酸付加塩を用いる還元的アミノ化によって製造す
ることができる。その反応は、好ましくは、適当な酸、
例えば、酢酸の存在下で行われる。
【0050】反応は、安定であり且つ単離可能でありう
る式
【0051】
【化12】
【0052】を有する中間体イミニウム塩の最初の形成
によって進行する。その反応は、好ましくは、式(III
A)を有する中間体の単離を伴うことなく行われ、この
場合、それは現場で還元されて式(I)の化合物を与え
る。
【0053】典型的な手順において、式(II)を有する
アルデヒドを、最初に、適当な溶媒、例えば、テトラヒ
ドロフラン中において式(III)を有するアゼチジンと
反応させた後、その混合物を、適当な酸、例えば、酢酸
の存在下において適当な還元剤、例えば、水素化トリア
セトキシホウ素ナトリウムまたは水素化シアノホウ素ナ
トリウムで処理して、必要な生成物を与える。式(II
I)を有するアゼチジン酸付加塩を出発物質として用い
る場合、還元剤を加える前に、適当な酸受容体、例え
ば、トリエチルアミンを加えることができる。
【0054】その反応は、典型的に、室温で行われる。
【0055】式(II)を有する出発アルデヒドは、スキ
ーム1で示された方法によって製造することができる。
【0056】
【化13】
【0057】
【化14】
【0058】式中、R、A、R1およびmは、式(I)
の化合物について前に定義の通りであり、そしてZおよ
びZ1は、それぞれ適当な脱離基、例えば、クロロ、ブ
ロモ、ヨード、メタンスルホニルオキシ、p−トルエン
スルホニルオキシまたはトリフルオロメチルスルホニル
オキシであり、そしてR−A−Z2は、RCO2H若しく
はアミンのアシル化に適当なその誘導体、またはアミン
のスルホニル化に適当なRSO22である。
【0059】Z2の例には、クロロ、ブロモおよびヨー
ドが含まれる。
【0060】典型的な手順において、式(IV)を有する
アセトニトリル誘導体を、適当な塩基、例えば、水素化
ナトリウムを用いて最初に脱プロトン化した後、好まし
くはZがブロモである式(V)を有するアルキル化剤を
用いて現場でアルキル化する。その反応は、典型的に、
適当な溶媒、例えば、テトラヒドラフラン中において、
脱プロトン化には約0℃でおよびアルキル化にはほぼ室
温で行われる。反応は、相転移条件下においても、適当
な塩基、例えば、水酸化ナトリウム、適当な相転移触
媒、例えば、塩化テトラ−n−ブチルアンモニウムおよ
び適当な溶媒、例えば、シクロヘキサン、n−ペンタン
またはトルエンを用いて行うことができる。
【0061】次に、製造される式(VI)を有するアセト
ニトリル誘導体を、適当な塩基、例えば、リチウムジイ
ソプロピルアミドを用いて最初に脱プロトン化した後、
好ましくはZ1がブロモである式(VII)の化合物を用い
て現場でアルキル化する。その反応は、典型的に、適当
な溶媒、例えば、テトラヒドラフラン中において約−7
0℃で、反応を完了させるためにほぼ室温まで加温しな
がら行われる。ヨウ化テトラ−n−ブチルアンモニウム
は、場合により、反応速度を増加させるために、式(VI
I)を有する化合物の添加後に加えることができる。
【0062】次に、製造された式(VIII)を有する化合
物を還元し、そして適当な条件下において、例えば、ラ
ニーニッケルを用いて水素の雰囲気下において大気圧お
よび室温で、溶媒としてアンモニア性エタノールを用い
て環化して、式(IX)を有するラクタムにする。
【0063】次に、式(IX)を有するラクタムを、適当
な還元剤、例えば、水素化アルミニウムリチウムなどの
金属水素化物を用いて、窒素雰囲気下などの適当な条件
下においておよびテトラヒドロフランなどの適当な溶媒
中において還元する。
【0064】次に、そのように製造された環状アミン
(X)を、RSO22と、または酸若しくは酸誘導体R
COZ2と反応させる。A=COに典型的な手順では、
酸塩化物RCOClを、トリエチルアミンなどの適当な
塩基、アミン(X)およびジクロロメタンなどの適当な
溶媒の混合物に対して加える。A=SO2に典型的な手
順では、塩化スルホニルRSO2Clを、トリエチルア
ミンなどの適当な塩基、アミン(X)およびジクロロメ
タンなどの適当な溶媒の混合物に対して加える。
【0065】次に、製造された式(XI)を有する(スル
ホン)アミドを、適当なC1−C4アルコール、例えば、
メタノール中の塩化水素飽和溶液を用いてほぼ室温で処
理して、テトラヒドロピラン保護基を除去する。その脱
保護は、適当なイオン交換樹脂、例えば、アンバリイス
ト(Amberiyst)15(商標)を用いておよび適当な溶
媒、例えば、メタノール中においても行うことができ
る。
【0066】製造された式(XII)を有するアルコール
を、適当な条件下、例えば、スワーン(Swern)酸化条
件下(塩化オキサリル、ジメチルスルホキシド、トリエ
チルアミンおよび溶媒としてジクロロメタンを用いるこ
と)において酸化して式(II)を有するアルデヒドにす
る。
【0067】式(II)を有するアルデヒドの別の製造方
法をスキーム2で図示する。
【0068】
【化15】
【0069】式中、R、A、R1およびmは、式(I)
の化合物について前に定義の通りであり、そしてR−A
−Z2は、上のスキーム1に関して前に定義の通りであ
る。
【0070】式(XIII)を有する出発シアノ−酸は、慣
用法によって製造することができる。 典型的な手順に
おいて、式(XIII)を有するシアノ−酸のニトリル基
を、適当な系、例えば、接触水素添加を用いて還元し且
つ環化する。反応は、典型的に、適当な溶媒、例えば、
氷酢酸中において室温および高圧で、および酸化白金な
どの適当な触媒上で行われる。
【0071】次に、そのように製造されたラクタム(XI
V)を還元して環状アミン(XV)にする。典型的な手順
では、ラクタム(XIV)の溶液を、テトラヒドロフラン
などの適当な溶媒中の水素化アルミニウムリチウムなど
の適当な還元系に対して加える。
【0072】次に、そのように製造された環状アミン
(XV)をR−A−Z2で処理するが、このR−A−Z
2は、スキーム1に関して上に定義の通りである。A=
COに典型的な手順では、アミン(XV)およびRCO2
Hを、ジクロロメタンなどの適当な溶媒中において、N
−メチルモルホリン/1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル水和物/1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−
エチルカルボジイミド塩酸塩などのカップリング系を用
いて縮合して、アミド(XVI;A=CO)を形成する。
【0073】次に、そのように製造された(スルホン)
アミド(XVI)を、塩酸塩などの適当な酸を用いて適当
な溶媒、例えば、テトラヒドロフラン中においてほぼ室
温で処理して、アセタール保護基を除去する。その脱保
護は、アセトン/水などの適当な溶媒中においてアンバ
リイスト15(TM)を用いても行うことができる。アセ
タールに適当な他の脱保護は、TWグリーン(Greene)
およびPGMヴッツ(Wuts)による“Protective Group
s in Organic Synthesis”(第2版,ウィリー・インタ
ーサイエンス(Wiley Interscience))で見出されるは
ずである。
【0074】m=1である式(II)を有するアルデヒド
の更にもう一つ別の製造方法をスキーム3で図示する。
【0075】
【化16】
【0076】式中、R1、R3、Z、R、AおよびZ
2は、前に定義の通りである。
【0077】典型的な手順では、式(IV)を有するニト
リルを、水素化ナトリウムなどの適当な塩基で処理した
後、Zが前に定義の通りである式(XVII)を有する化合
物を用いて現場でアルキル化する。式(XVII)を有する
化合物は、慣用法によって製造することができる。Z
は、好ましくは、クロロ、ブロモ、ヨードまたはメタン
スルホニルオキシである。その反応は、典型的に、N,
N−ジメチルホルムアミドなどの適当な溶媒中で行われ
る。
【0078】次に、そのように製造されたニトリル(XV
III)は、カリウムt−ブトキシドなどの適当な塩基で
脱プロトン化された後、アクリル酸エチルなどの適当な
アクリル酸エステルと反応することができる。次に、そ
のように形成されたエステル中間体を、2N水酸化ナト
リウム水溶液などの適当な加水分解系を用い、室温で撹
拌するなどの適当な条件下において加水分解して、シア
ノ−酸(XIX)にすることができる。
【0079】次に、そのように形成されたニトリル(XI
X)は、テトラヒドロフランなどの適当な溶媒中におい
て水素化アルミニウムリチウムなどの適当な還元剤を用
いる還元によって、または水素化後のそのように形成さ
れたアミドのボランによる還元によって変換することが
できる。
【0080】次に、そのように形成されたピペリジン
(XX)を、変換(X)→(XI)(スキーム1)および
(XV)→(XVI)(スキーム2)について上で記載され
たのと同様に反応させる。
【0081】次に、そのように製造されたアミン誘導体
(XXI)を、例えば、オゾン分解などによってメタノー
ルなどの適当な溶媒中で酸化した後、硫化ジメチルなど
の適当な還元剤で処理して、mが1である式IIを有する
アルデヒドを与える。
【0082】式(III)を有する出発アゼチジンは、慣
用法によって製造することができる。 (2)X、A、
1、R1、R2およびmが式(I)の化合物について前
に定義の通りである式(I)の化合物は全て、式(XXI
I)
【0083】
【化17】
【0084】を有する化合物と、式 R−A−Z2 (式中、R、AおよびZ2は前に定義の通りである)を
有する化合物との反応によって製造することができ、そ
してその反応は、変換(X)→(XI)について、または
AがCOである場合、(XV)→(XVI)について前に記
載されたのと同様に行われる。
【0085】式(XXII)およびR−A−Z2の出発物質
は、J.マーチ(March)による“Advanced Organic Ch
emistry”(第3版,ウィリー・インターサイエンス)
およびその参考文献で記載された製造の応用などによる
慣用法によって製造することができる。
【0086】(3)X、X1、R、A、R1、R2および
mが式(I)の化合物について前に定義の通りである式
(I)の化合物は全て、式
【0087】
【化18】
【0088】(式中、X、R、A、R1およびmは、式
(I)の化合物について前に定義の通りであり、そして
3は適当な脱離基、例えば、クロロ、ブロモ、ヨー
ド、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスル
ホニルオキシまたはp−トルエンスルホニルオキシであ
る)を有する化合物と、式
【0089】
【化19】
【0090】(式中、R2およびX1は、式(I)の化合
物について前に定義の通りである)を有する化合物との
反応によって製造することができる。
【0091】典型的な手順において、好ましくはZ3
メタンスルホニルオキシである式(XXIII)を有する化
合物と式(III)を有する化合物とを、適当な酸受容
体、例えば、トリエチルアミン若しくは炭酸カリウムま
たはそれらの組合わせの存在下において適当な溶媒、例
えば、アセトニトリル中でおよびほぼその還流温度で反
応させる。
【0092】式(III)を有する化合物は、その酸付加
塩から、モル過剰の酸受容体を用いることによって現場
で製造することができる。
【0093】式(XXIII)を有する出発物質は、例え
ば、Z3がメタンスルホニルオキシである式(XII)を有
するアルコールと塩化メタンスルホニルとの、トリエチ
ルアミンなどの適当な酸受容体の存在下での反応による
式(XII)のアルコールのヒドロキシ官能基変換などに
よる慣用法によって製造することができる。
【0094】(4)R1がフェニルであり、そしてX、
1、R、A、R2およびmが式(I)の化合物について
前に定義の通りである式(I)の化合物は、R1が、ク
ロロ、ブロモまたはヨードで置換されたフェニルであ
り、そしてX、X1、R、R2およびmが式(I)の化合
物について前に定義の通りである式(I)の化合物の水
素化分解によって製造することができる。
【0095】典型的な手順において、水素化分解は、ア
ンモニア性エタノール中において適当な触媒、例えば、
ラニーニッケルまたは、好ましくは、炭素上パラジウム
を用いて約50℃でおよび約345kPa(50ps
i)の水素の雰囲気下で行われる。
【0096】(5)R2が式−NHR4、(C3−C7シク
ロアルキル−C1−C4アルキル)HN−、
【0097】
【化20】
【0098】を有する基であり、R9が−NHR5であ
り、WがNHまたはCHNHR5であり、W1がCHNH
5であり、W2が、W1、−CH21−、−CH2WCH
2−または−CH2CH2WCH2−であり、そしてX、X
1、X2、R、R1、R5、R6、R 7、mおよびnが式
(I)の化合物について前に定義の通りである式(I)
の化合物は、式
【0099】
【化21】
【0100】[式中、R10は、式−NZ44、(C3
7シクロアルキル−C1−C4アルキル)Z4N−、
【0101】
【化22】
【0102】を有する基であり、それぞれ、R9Aは−N
45であり、WAはNZ4またはCHNZ45であり、
1AはCHNZ45であり、W2Aは、W1A、−CH2
1A−、−CH2ACH2−または−CH2CH2ACH2
−であり、X、X1、X2、R、A、R1、R4、R5
6、R7、mおよびnは式(I)の化合物について前に
定義の通りであり、そしてZ4は適当な保護基、例え
ば、t−ブトキシカルボニル(例えば、WがNCO2
(CH33であるかまたはR9が−NR5CO2C(C
33である式(I)の化合物)またはベンジルオキシ
カルボニルである]を有する化合物の脱保護によって製
造することができる。
【0103】この方法において、脱保護の方法と一緒に
用いることができる適当な保護基は、当業者に周知であ
り、例えば、グリーンら,“Protective Groups in Org
anicSynthesis”,第2版,1991年,ウィリー・インタ
ーサイエンスを参照されたい。
【0104】Z4がt−ブトキシカルボニルである場合
の典型的な手順において、脱保護は、トリフルオロ酢酸
を用いて適当な溶媒、例えば、ジクロロメタン中におい
て室温で行うことができる。
【0105】式(XXIV)を有する出発物質は、式(I)
の化合物を製造するための本明細書中で記載された方法
の適切な応用などによる慣用法によって製造することが
できる。
【0106】(6)R2が式
【0107】
【化23】
【0108】を有する基であり、式中、pは1または2
であり、W2は−CH2S(O)pCH2−または−CH2
CH2S(O)pCH2−であり、そしてX、X1、X2
R、A、R1、R5、R6、R7、mおよびnが式(I)の
化合物について前に定義の通りである式(I)の化合物
は、R2が、式
【0109】
【化24】
【0110】を適宜有する基であり、式中、W2は−C
2(SまたはSO)CH2−または−CH2CH2(Sま
たはSO)CH2−であり、そしてX、X1、X2、R、
A、R1、R5、R6、R7、mおよびnは式(I)の化合
物について前に定義の通りである式(I)の化合物の酸
化によって製造することができる。その酸化反応は、ス
ルホキシドをスルホンに変換する場合は少なくとも1モ
ル当量の適当な酸化剤、スルフィドをスルホンに変換す
る場合は少なくとも2モル当量の適当な酸化剤、そして
スルフィドをスルホキシドに変換するのに実質的に1モ
ル当量の適当な酸化剤を用いて行われる。
【0111】この目的に適当な酸化剤および条件は、塩
基性条件下(例えば、炭酸カリウム、アセトニトリルの
存在下において溶媒としてメタノールを用いること)の
過酸化水素水溶液、または適当な溶媒、例えば、ジクロ
ロメタン中のm−クロロ過安息香酸である。
【0112】(7)R2が式
【0113】
【化25】
【0114】を有する基であり、そしてX、X1、R、
A、R1およびmが式(I)の化合物について前に定義
の通りである式(I)の化合物は、式
【0115】
【化26】
【0116】[式中、Z5は適当な保護基、例えば、ア
セチル(すなわち、R8がアセチルオキシである式
(I)の化合物)またはテトラヒドロピラン−2−イル
であり、そしてX、X1、R、A、R1およびmは、式
(I)の化合物について前に定義の通りである]を有す
る化合物の脱保護によって製造することができる。
【0117】この方法において、脱保護の方法と一緒に
用いることができる適当な保護基は、当業者に周知であ
り、例えば、グリーンら,“Protective Groups in Org
anicSynthesis”,第2版,1991年,ウィリー・インタ
ーサイエンスを参照されたい。
【0118】Z5がアセチルである場合の典型的な手順
において、脱保護は、適当な強塩基、例えば、水酸化ナ
トリウムの水性アルコール溶液を用いて行うことができ
る。反応は、典型的に、水性メタノール中においてほぼ
室温で行われる。
【0119】式(XXV)を有する出発物質は、式(I)
の化合物を製造するための本明細書中で記載された方法
の応用などによる慣用法によって製造することができ
る。
【0120】(8)X1が直接結合であり、そしてR
2が、−NR34、(C3−C7シクロアルキル−C1−C
4アルキル)R5N−、(C3−C7シクロアルキル−C1
−C4アルキル)2N−、または式
【0121】
【化27】
【0122】を有する基であり、そしてX、W、W1
R、A、R1、R3、R4、R5、R6、R 7、R8、R9、m
およびnが式(I)の化合物について前に定義の通りで
ある式(I)の化合物は、式
【0123】
【化28】
【0124】(式中、X、R、A、R1およびmは、式
(I)の化合物について前に定義の通りであり、そして
7は適当な脱離基、例えば、メタンスルホニルオキシ
またはp−トルエンスルホニルオキシである)を有する
化合物と、式HNR34、(C3−C7シクロアルキル−
1−C4アルキル)R5NH、(C3−C7シクロアルキ
ル−C1−C4アルキル)2NH、
【0125】
【化29】
【0126】(式中、W、W1、R3、R4、R5、R6
7、R8、R9およびnは、式(I)の化合物について
前に定義の通りである)をそれぞれ有する化合物との反
応によって製造することができる。
【0127】典型的な手順において、その反応は、過剰
のアミンを用い且つ適当な溶媒、例えば、アセトニトリ
ルまたはジクロロメタン中でおよび溶媒の還流温度で行
われる。或いは、更に別の適当な酸受容体、例えば、炭
酸カリウムを、その反応混合物に対して加えることがで
きる。
【0128】出発アミンは、慣用法によって製造するこ
とができる。
【0129】式(XXVI)を有する出発物質は、式(II)
を有する化合物およびアンモニアを出発物質として用い
る還元的アミノ化で対応する第一アミンを製造し、その
アミンとエピクロロヒドリンまたは1,3−ジクロロプ
ロパン−2−オールとの反応で対応するアゼチジン−3
−オール誘導体を製造した後、ヒドロキシ官能基相互変
換で式(XXVI)を有する化合物を与えることなどによる
慣用法によっても製造することができる。
【0130】(9)X、X1、R、A、R1、R2および
mが、方法(8)について前に定義の通りである式
(I)の化合物は、出発物質として、式
【0131】
【化30】
【0132】(式中、X、R、A、R1およびmは、式
(I)の化合物について前に定義の通りである)を有す
る化合物および式HNR34、(C3−C7シクロアルキ
ル−C1−C4アルキル)R5NH、(C3−C7シクロア
ルキル−C1−C4アルキル)2NH、
【0133】
【化31】
【0134】(式中、W、W1、R3、R4、R5、R6
7、R8、R9およびnは、式(I)の化合物について
前に定義の通りである)を有する化合物または適宜その
酸付加塩を用いる還元的アミノ化によって製造すること
ができる。その反応は、好ましくは、適当な酸、例え
ば、酢酸の存在下で行われる。
【0135】行うことができる典型的な手順は、方法
(1)で記載されている。
【0136】第一アミンを用いる場合、その反応は、イ
ミン中間体を経て進行する。第二アミンを用いる場合、
その反応は、中間体イミニウム塩(式(IIIA)を有す
る化合物を参照されたい)を経て進行する。イミンおよ
びイミニウム塩は両方とも、安定で且つ単離可能であり
うる。その反応は、好ましくは、イミンまたはイミニウ
ム塩中間体の単離を伴うことなく行われ、この場合、そ
れは現場で還元されて式(I)を有する化合物を与え
る。
【0137】式(XXVII)を有する出発物質は、慣用的
な条件下において、例えば、クロロギ酸ピリジニウムま
たは過ルテニウム酸テトラプロピルアンモニウムを酸化
剤として用いて、対応するアゼチジン−3−オールの酸
化(方法(8)の出発物質の製造で記載された製造)に
よって製造することができる。
【0138】(10)R2がモルホリノであり、そして
X、X1、R、A、R1およびmが式(I)の化合物につ
いて前に定義の通りである式(I)の化合物は、R2
−NH2であり、そしてX、X1、R、A、R1およびm
が式(I)の化合物について前に定義の通りである式
(I)の化合物とビス(2−クロロエチル)エーテルと
の反応によって製造することができる。
【0139】典型的な手順では、R2が−NH2である式
(I)の化合物を、適当な酸受容体、例えば、トリエチ
ルアミンの存在下においておよび適当な溶媒、例えば、
ジクロロメタン中でビス(2−クロロエチル)エーテル
と反応させる。
【0140】出発アミン誘導体、すなわち、3−アミノ
アゼチジン誘導体のいくつかは、Z 7が適当な脱離基、
例えば、メタンスルホニルオキシである式(XXVI)を有
する化合物と、適当なアジ化物、例えば、アジ化ナトリ
ウムまたはアジ化トリメチルシリルとを反応させて、対
応する3−アジドアゼチジン誘導体を与えた後、例え
ば、水素化ホウ素ナトリウムを用いるその還元で、必要
な3−アミノアゼチジン誘導体を与える(方法(8)も
参照されたい)。
【0141】(11)式(I)を有する若干の化合物
は、式(I)を有する若干のアミンの誘導体化によって
製造することができる。例えば、R2が、
【0142】
【化32】
【0143】であり、ここにおいて、WがNHまたはC
HNHR5であり、W1がCHNHR5であり、W2
1、−CH21−、−CH2WCH2−または−CH2
2WCH 2−であり、またはR9が−NHR5であり、そ
してX、X1、X2、R、A、R1、R5、R6、R7、mお
よびnが式(I)の化合物について前に定義の通りであ
る式(I)の化合物は、次の化合物に変換することがで
きる。
【0144】(a)式(C1−C3アルキル)CHOまた
は(C3−C7シクロアルキル−C1−C3アルキル)CH
Oを有し、該C1−C3アルキルおよびC3−C7シクロア
ルキル−C1−C3アルキルが場合によりフルオロで置換
されているアルデヒドを用いる還元的アミノ化による、
WがNR5またはCHNR56であり、W1がCHNR5
6であるかまたはR9が−NHR5であり、ここにおい
て、R5およびR6は、式(I)の化合物について前に定
義の通りであり、但し、R5はHではないし且つそれ
は、窒素原子に対して結合したメチレン基を有すること
を条件とする式(I)の化合物または適宜その酸付加
塩。この変換に適当な条件は、方法(1)で記載されて
いる; (b)式 R6NCO (式中、R6はこの方法について前に定義のとおりであ
る)を有するイソシアネートとの反応による、WがNC
ONHR6またはCHNR5CONHR6であり、W1がC
HNR5CONHR6であるかまたは適宜、R9が−NR5
CONHR6であり、ここにおいて、R5およびR6は、
式(I)の化合物について前に定義の通りであり、但
し、R6はHではないことを条件とする式(I)の化合
物。その反応は、典型的に、適当な溶媒、例えば、ジク
ロロメタンまたはテトラヒドロフランを用いて行われ
る; (c)塩化トリフルオロメタンスルホニルまたは無水ト
リフルオロメタンスルホン酸との、場合により適当な酸
受容体、例えば、トリエチルアミン、ピリジンまたは炭
酸カリウムの存在下の反応による、WがNSO2CF3
たはCHNR5SO2CF3であり、W1がCHNR5SO2
CF3であるかまたは適宜、R9が−NR5SO2CF3
あり、ここにおいて、R5は、式(I)の化合物につい
て前に定義の通りである式(I)の化合物。その反応
は、典型的に、適当な有機溶媒、例えば、ジクロロメタ
ンまたはアセトニトリル中で行われる; (d)塩化若しくは臭化C1−C4アルカンスルホニル、
無水C1−C4アルカンスルホン酸、または式R56NS
2(ClまたはBr)、(モルホリノ)SO2(Clま
たはBr)または(アリール)SO2(ClまたはB
r)を適宜有する化合物との、場合により適当な酸受容
体、例えば、トリエチルアミンの存在下の反応による、
WがNSO2(C1−C4アルキル)NSO2NR56、N
SO2(モルホリノ)、NSO2(アリール)CHNR5
(SO21−C4アルキル)またはCHNR5SO2NR5
6であり、W1がCHNR5(SO21−C4アルキル)
またはCHNR5SO2NR56であるか、または適宜、
9が−NR5(SO21−C4アルキル)または−NR5
SO2NR56であり、ここにおいて、R5およびR
6は、式(I)の化合物について前に定義の通りである
式(I)の化合物。その反応は、典型的に、適当な有機
溶媒、例えば、ジクロロメタン中において0℃〜室温で
行われる; (e)式 R6CO(ClまたはBr)または(R6CO)2 (式中、R6はこの方法について前に定義のとおりであ
る)を有する化合物との、場合により適当な酸受容体、
例えば、トリエチルアミンの存在下での反応による、W
がNCOR6またはCHNR5COR6であり、W1がCH
NR5COR6であるかまたは適宜、R9が−NR5COR
6であり、ここにおいて、R5およびR6は、式(I)の
化合物について前に定義の通りであり、但し、R6はH
ではないことを条件とする式(I)の化合物。その反応
は、典型的に、適当な有機溶媒、例えば、ジクロロメタ
ン中において0℃〜室温で行われる; (f)式 R6CO2H (式中、R6はこの方法について前に定義のとおりであ
る)を有する化合物との縮合による、W、W1またはR9
が方法12(e)について前に定義の通りである式
(I)の化合物。その反応は、慣用的な条件下におい
て、例えば、1,1′−カルボニルジイミダゾールまた
は1−ヒドロキシベンゾトリアゾール/1,3−ジシク
ロヘキシルカルボジイミドを用いて行われ、活性中間体
を生じることができる;または (g)式 R56NSO2NH2 を有する化合物との反応による、WがNSO2NR56
またはCHNR5SO2NR56であり、W1がCHNR5
SO2NR56であるかまたは適宜、R9が−NR 5SO2
NR56である式(I)の化合物。その反応は、典型的
に、適当な溶媒、例えば、1,4−ジオキサン中におい
て高温で行われる (12)R2が、
【0145】
【化33】
【0146】であり、ここにおいて、WおよびW1はC
HCO2Hであり、そしてW2はW1、−CH21−、−
CH2WCH2−または−CH2CH2WCH2−であり、
そしてX、X1、X2、A、R、R1、R2、R5、R6、R
7、mおよびnは式(I)の化合物について前に定義の
通りである式(I)の化合物は、WおよびW1がCHC
2(C1−C4アルキル)であり、W2がW1、−CH2
1−、−CH2WCH2−または−CH2CH2WCH2−で
あり、そしてX、X1、X2、A、R、R1、R2、R5
6、R7、mおよびnが式(I)の化合物について前に
定義の通りである式(I)の化合物の加水分解によって
製造することができる。好ましくは、WおよびW1はC
HCO2CH3またはCH2CO2CH2CH3である。その
加水分解は、典型的に、適当な酸または塩基、例えば、
塩酸若しくは硫酸などの鉱酸または水酸化ナトリウム若
しくはカリウムなどの塩基の水溶液を用いて、場合によ
り適当な有機補助溶媒、例えば、メタノールまたはエタ
ノールの存在下で行われる。
【0147】(13)R2が、
【0148】
【化34】
【0149】であり、ここにおいて、WおよびW1はC
HNR56であり、W2はW1、−CH21−、−CH2
WCH2−または−CH2CH2WCH2−であり、R9
−NR5 6であり、そしてX、X1、X2、A、R、
1、R2、R5、R6、R7、mおよびnは式(I)の化
合物について前に定義の通りである式(I)の化合物
は、式
【0150】
【化35】
【0151】(式中、R12は、
【0152】
【化36】
【0153】であり、ここにおいて、WBおよびW1B
CHZ8であり、W2BはW1B、−CH21B−、−CH2
BCH2−または−CH2CH2BCH2−であり、Z8
は適当な脱離基、例えば、ハロ(好ましくは、クロロま
たはブロモ)、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロ
メタンスルホニルオキシまたはp−トルエンスルホニル
オキシであり、そしてX、X1、X2、R、A、R1
5、R6、R7、mおよびnは式(I)の化合物につい
て前に定義の通りである)を有する化合物と、式 HNR56 (式中、R5およびR6は、式(I)の化合物について前
に定義の通りである)を有する化合物との、場合により
適当な追加の酸受容体、例えば、トリエチルアミンまた
は炭酸カリウムの存在下での反応によって製造すること
ができる。反応は、典型的に、アセトニトリルなどの適
当な溶媒中で行われる。
【0154】(14)R2が、
【0155】
【化37】
【0156】であり、WおよびW1がCHNR56であ
り、そしてX、X1、X2、R、A、R1、R5、R6
7、mおよびnが式(I)の化合物について前に定義
の通りである式(I)の化合物は、出発物質として、R
2が、
【0157】
【化38】
【0158】であり、そしてX、X1、X2、R、A、R
1、R5、R6、R7、mおよびnが式(I)の化合物につ
いて前に定義の通りである式(I)の化合物および式 HNR56 (式中、R5およびR6は、式(I)の化合物について前
に定義の通りである)を有する化合物を用いる還元的ア
ミノ化によって製造することができる。
【0159】方法(1)にいついて記載されたような慣
用的な条件を用いる。再度、形成された中間体イミンま
たはイミニウム塩は、安定でありうるしまたは単離可能
でありうる。反応は、好ましくは、この中間体の単離を
伴うことなく行われ、この場合、それは現場で還元され
て式(I)の化合物を与える。
【0160】(15)式(I)を有する化合物は全て、
【0161】
【化39】
【0162】(式中、X、X1、R、A、R1、R2およ
びmは式(I)の化合物について前に定義の通りであ
り、そしてZ9は適当な脱離基、例えば、ハロ(好まし
くは、クロロまたはブロモ)、メタンスルホニルオキシ
またはp−トルエンスルホニルオキシである)を有する
化合物の、場合により適当な酸受容体、例えば、トリエ
チルアミンの存在下での分子内環化によって製造するこ
とができる。
【0163】その反応は、典型的に、適当な溶媒、例え
ば、ジクロロメタン中で行われる。
【0164】(16)AがCOである式(I)を有する
化合物は、式(XXX)
【0165】
【化40】
【0166】(式中、X、X1、R、A、R1、R2およ
びmは式(I)の化合物について前に定義の通りであ
り、そしてZ9は方法15について上に定義の通りであ
る)を有する化合物の分子内環化によって製造すること
ができ、そしてその反応は、n−ブチルリチウムなどの
適当な塩基での処理によって行われる。
【0167】上の反応、および前の方法で用いられる新
規出発物質の製造はいずれも慣用的であり、そしてそれ
らの性能または製造に適切な試薬および反応条件並びに
所望の生成物を単離するための手順は、参考文献先例並
びに本明細書の実施例および製造例に関して当業者に周
知であろう。
【0168】式(I)を有する化合物の薬学的に許容し
うる酸付加塩または塩基塩は、式(I)の化合物および
適宜、所望の酸または塩基の溶液を一緒に混合すること
によって容易に製造することができる。その塩は、溶液
から沈澱し且つ濾過によって集めることができるしまた
は溶媒の蒸発によって回収することができる。
【0169】ヒトNK1受容体に対する式(I)の化合
物およびそれらの塩の親和性は、全細胞を用いたマクリ
ーン(McLean),S.ら,J.Pharm.Exp.Ther.,267,472-
9(1993)で記載された方法の変法を用いて、ヒトNK1
容体を発現するヒトIM9細胞系から製造された膜に対
する[3H]−サブスタンスP結合を阻害するそれらの
能力を調べることによって in vitro で検査できる。
【0170】ヒトNK2受容体に対する式(I)の化合
物およびそれらの塩の親和性は、クローン化ヒトNK2
受容体を発現するチャイニーズハムスター卵巣細胞から
製造された膜に対する結合について[3H]または[125
I]NKA(ニューロキニンA)と拮抗するそれらの能
力を調べることによって in vitro で検査できる。この
方法において、洗浄したチャイニーズハムスター卵巣細
胞膜は、IM9細胞を変わりに用いた前の方法について
記載のように製造される。その膜を、[125I]NKA
と一緒におよび一定範囲の濃度の試験化合物と一緒にイ
ンキュベートする(90分間,25℃)。非特異的結合
は、10μM NKAの存在下で測定された。
【0171】式(I)の化合物のNK2受容体アンタゴ
ニスト活性は、パタッキニ(Patacchini)およびマギ
(Maggi),Eur.J.Pharmacol.,236,31-37(1933)の方法
を用いて、ウサギ肺動脈における選択的NK2受容体ア
ゴニスト[βAla8]NKA(4-1 0)の収縮作用に拮抗
するそれらの能力を調べることによって in vitro で検
査できる。
【0172】式(I)の化合物およびそれらの塩は、ム
ライ(Murai)ら,J.Pharm.Exp.Ther.,262,403-408(199
2)またはメトカーフ(Metcalfe)ら,Br.J.Pharmacol.,
112,563頁(1994)によって記載の方法を用いて、麻酔さ
れたモルモットにおける[βAla8]NKA(4-10)
よって誘導された気管支収縮を阻害するそれらの能力を
調べることによって、NK2受容体アンタゴニスト活性
について in vitro で検査できる。
【0173】式(I)の化合物およびそれらの塩は、マ
ギ,Br.J.Pharmacol.,101,996-1000(1990)の方法を用い
て、モルモット回腸における選択的NK3受容体アゴニ
ストセンクチド(senktide)の収縮作用に拮抗するそれ
らの能力を調べることによって、NK3受容体アンタゴ
ニスト活性について in vitro で検査できる。
【0174】ヒト使用には、式(I)の化合物およびそ
れらの塩を単独で投与できるが、一般的には、予定の投
与経路および標準的な薬事慣例に関して選択された薬学
的に許容しうる希釈剤または担体との混合物で投与され
るであろう。例えば、それらは、デンプンまたはラクト
ースなどの賦形剤を含有する錠剤の形で、または単独で
かまたは賦形剤との混合物でのカプセル剤若しくは小卵
剤で、または着香剤または着色剤を含有するエリキシル
剤、水剤若しくは懸濁剤の形で、舌下を含めた経口で投
与できる。それらは、非経口によって、例えば、静脈
内、筋肉内または皮下に注射できる。非経口投与用に、
それらは、他の物質、例えば、血液と等張の溶液にする
のに充分な塩またはグルコースを含有してよい滅菌水溶
液の形で最もよく用いられる。
【0175】ヒト患者に対する経口および非経口投与用
に、式(I)の化合物およびそれらの塩の1日用量は、
(1回または分割用量で)0.001〜20mg/k
g、好ましくは、0.01〜20mg/kg、更に好ま
しくは、0.1〜10mg/kg、そして最も好ましく
は、0.5〜5mg/kgであろう。したがって、これ
ら化合物の錠剤またはカプセル剤は、適宜、1回のまた
は1度に2個若しくはそれ以上の投与用に、活性化合物
0.1〜500mg、好ましくは、50〜200mgを
含有するであろう。いずれにせよ、医師が、個々の患者
に最も適する実際用量を決定するであろうし、そしてそ
れは、特定の患者の年齢、体重および応答で変化するで
あろう。上の用量は、平均的な場合の例であり、当然、
より高いまたはより低い用量範囲に価値があるそれぞれ
の場合が存在しうるし、そしてそれらは本発明の範囲内
である。
【0176】或いは、式(I)の化合物は、吸入によっ
てまたは坐剤若しくは腟坐剤の形で投与できるし、また
はそれらは、ローション剤、水剤、クリーム剤、軟膏剤
または散布剤の形で局所投与してよい。別の経皮投与手
段は、皮膚パッチの使用による。例えば、それらを、ポ
リエチレングリコールまたは流動パラフィンの水性エマ
ルジョンから成るクリーム中に包含させることができる
し、またはそれらを、白色ろう若しくは白色ワセリン基
剤と一緒に、必要でありうる安定剤および保存剤とから
成る軟膏剤中に1〜10%の濃度で包含させることがで
きる。
【0177】治療の意味には、予防、更には、疾患の慢
性症状の緩和が含まれるということは理解されるはずで
ある。
【0178】したがって、本発明は、更に、 (i)式(I)を有する化合物またはその薬学的に許容
しうる塩と一緒に薬学的に許容しうる希釈剤または担体
を含む医薬組成物; (ii)薬剤として用いるための式(I)を有する化合物
またはその薬学的に許容しうる塩若しくは組成物; (iii)ヒトNK1、NK2若しくはNK3受容体またはそ
れらの2種類若しくはそれ以上の組合わせに作用するタ
キキニンに対してアンタゴニスト作用を生じることによ
る疾患の治療用薬剤の製造のための、式(I)を有する
化合物またはその薬学的に許容しうる塩若しくは組成物
の使用; (iv)疾患が、関節炎、乾癬、喘息または炎症性腸疾患
などの炎症性疾患;不安、うつ病、痴呆または精神病な
どの中枢神経系(CNS)障害;機能性腸疾患、過敏性
腸症候群、胃食道逆流、便失禁、大腸炎またはクローン
病などの胃腸(GI)障害;失禁、反射亢進または膀胱
炎などの尿性器管障害;慢性閉塞性気道疾患などの肺疾
患;湿疹、接触皮膚炎または鼻炎などのアレルギー;ツ
タウルシなどの過敏性障害;糖尿病性神経障害、神経
痛、カウザルギー、疼痛性神経障害、熱傷、疱疹性神経
痛または疱疹後神経痛などの末梢神経障害;咳または急
性若しくは慢性痛である(iii)の場合の使用; (v)ヒトNK1、NK2若しくはNK3受容体またはそ
れらの2種類若しくはそれ以上の組合わせに作用するタ
キキニンに対してアンタゴニスト作用を生じることによ
って疾患を治療するヒトの治療方法であって、該ヒト
を、有効量の式(I)を有する化合物でまたはその薬学
的に許容しうる塩若しくは組成物で治療することを含む
上記方法; (vi)疾患が、関節炎、乾癬、喘息または炎症性腸疾患
などの炎症性疾患;不安、うつ病、痴呆または精神病な
どの中枢神経系(CNS)障害;機能性腸疾患、過敏性
腸症候群、胃食道逆流、便失禁、大腸炎またはクローン
病などの胃腸(GI)障害;失禁、反射亢進または膀胱
炎などの尿性器管障害;慢性閉塞性気道疾患などの肺疾
患;湿疹、接触皮膚炎または鼻炎などのアレルギー;ツ
タウルシなどの過敏性障害;糖尿病性神経障害、神経
痛、カウザルギー、疼痛性神経障害、熱傷、疱疹性神経
痛または疱疹後神経痛などの末梢神経障害;咳または急
性若しくは慢性痛である(vi)の場合の方法; (vii)式(II)、(IIIA)、(XXII)、(XXIII)、
(XXIV)、(XXV)、(XXVI)、(XXVII)、(XXVII
I)、(XXIX)または(XXX)を有する化合物 を提供する。
【0179】次の実施例は、式(I)を有する化合物の
製造を例示する。
【0180】
【実施例】実施例1 1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフェニル)−
3−(3−[3−モルホリノアゼチジン−1−イル]プ
ロピル)ピペリジン
【0181】
【化41】
【0182】アルデヒド(製造例7を参照されたい)
(0.48g,1.23ミリモル)および3−モルホリ
ノアゼチジン二塩酸塩(製造例13を参照されたい)
(0.291g,1.1モル当量)のテトラヒドロフラ
ン(20ml)中窒素下溶液に対して、トリエチルアミ
ン(0.38ml,2.2モル当量)を加えた。30分
後、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム(0.39
1g,1.5モル当量)を加えた後、直ちに氷酢酸
(0.07ml)を加え、そしてその混合物を18時間
撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、そして残留物を10
%炭酸カリウム水溶液(20ml)および酢酸エチル
(20ml)とに分配した。次に、水性相を酢酸エチル
(2x20ml)で再度抽出し、そして合わせた有機層
を硫酸ナトリウム上で乾燥させた。次に、その溶液を濾
過し、そして溶媒を減圧下で除去した。次に、その残留
物を、シリカゲルを用いジクロロメタン:メタノール
(9:1容量)で溶離するクロマトグラフィーで分離し
て、標題化合物(166mg)を与えた。
【0183】TLC Rf=0.25(シリカ,ジクロ
ロメタン:メタノール,9:1容量)。LRMS m/
z=516(m+1)+。 元素分析実測値C,61.07;H,6.18;N,
8.04。 C283532Cl2.0.5CH2Cl2計算値C,6
1.23;H,4.49;N,7.52%。1 H−NMR(CDCl3):δ=0.95−1.1
(m),1.2−1.5(m),1.55−1.9
(m),2.0−2.1(m),2.25−2.3
(m),2.4−2.6(m),2.9−3.0
(m),3.25−3.4(m),3.6−3.7
(m),7.2−7.4(m)。
【0184】実施例2〜8 一般式
【0185】
【化42】
【0186】を有する次に表示された製造例の化合物
は、実施例1で用いられたのと同様の方法により、適当
なアルデヒド(製造例7、8、9、36および37を参
照されたい)および3−モルホリノアゼチジン二塩酸塩
(製造例13)かまたは3−(4−アミノスルホニルピ
ペラジン−1−イル)アゼチジンビストリフルオロ酢酸
塩(製造例16)を用いて製造された。
【0187】
【表1】
【0188】
【表2】
【0189】実施例9 1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフェニル)−
3−(2−[3−モルホリノアゼチジン−1−イル]エ
チル)ピペリジン
【0190】
【化43】
【0191】メシレート(製造例24を参照されたい)
(137mg,0.3ミリモル)、3−モルホリノアゼ
チジン二塩酸塩(製造例13)(160mg,3モル当
量)、トリエチルアミン(0.125ml,3モル当
量)および炭酸カリウム(83mg,2モル当量)のア
セトニトリル(5ml)中溶液に対して加え、そしてそ
の混合物を還流下で4時間加熱した。その反応を室温ま
で冷却し、水(2ml)を加え、そしてアセトニトリル
を減圧下で除去した。次に、飽和水性重炭酸ナトリウム
(20ml)および酢酸エチル(20ml)を加え、そ
してその水性相を酢酸エチル(3x20ml)で抽出し
た。次に、合わせた有機層を、無水硫酸マグネシウムを
用いて乾燥させ、濾過し、そして溶媒を減圧下で除去し
た。その残留物を、シリカゲルを用い、ジクロロメタ
ン:メタノール(9:1〜4:1容量)の溶媒勾配で溶
離するクロマトグラフィーで分離して、標題化合物(4
3mg)を与えた。
【0192】Rf=0.16(シリカ,ジクロロメタ
ン:メタノール,19:1容量)。 LRMS m/z=502(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.35−1.95
(m,6H),2.05−2.15(m,2H),2.
25−2.4(m,4H),2.7−2.95(m,3
H),3.3−3.6(m,5H),3.65−3.7
5(m,4H),4.35−4.5(M,1H),7.
2−7.5(m,8H)。
【0193】実施例10 3−(3,4−ジクロロフェニル)−1−(2−メトキ
シベンゾイル)−3−(2−[3−モルホリノアゼチジ
ン−1−イル]エチル)ピペリジン
【0194】
【化44】
【0195】この化合物は、実施例9で用いられたのと
同様の方法により、製造例25で製造されたメシレート
および3−モルホリノアゼチジン二塩酸塩(製造例1
3)を用いて製造された。
【0196】LRMS m/z=532(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.3−2.15
(m,8H),2.2−2.4(m,5H),2.7−
3.1(m,3H),3.15−4.0(m,11
H),4.65−4.7(m,1H),6.8−7.1
(m,3H),7.1−7.5(m,4H)。
【0197】実施例11 3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−(2−[3−
モルホリノアゼチジン−1−イル]エチル)−1−フェ
ニルスルホニルピペリジン
【0198】
【化45】
【0199】これは、実施例9で用いられたのと同様の
方法により、製造例45で製造のメシレートを用いて製
造された。
【0200】LRMS m/z=538(m+1)+。 元素分析実測値C,57.26;H,6.01;N,
7.97。 C2633Cl233S.0.1CH2Cl2計算値C,
57.31;H,6.11;N,7.68。1 H−NMR(CDCl3):δ=1.5−1.9(m,
6H),1.95−2.1(m,1H),2.15−
2.3(m,5H),2.7−3.0(m,5H),
3.1−3.2(m,1H),3.3−3.5(m,2
H),3.55−3.75(m,5H),7.2−7.
3(m,1H),7.35−7.45(m,2H),
7.5−7.65(m,3H),7.7−7.8(m,
2H)。
【0201】実施例12 3(S)−1−シクロプロピルアセチル−3−(3,4
−ジクロロフェニル)−3−(2−[3−モルホリノア
ゼチジン−1−イル]エチル)ピペリジン
【0202】
【化46】
【0203】製造例42の化合物(0.31g,0.8
8ミリモル)、3−モルホリノアゼチジン二塩酸塩
(0.187g,1モル当量)(製造例13)およびト
リエチルアミン(0.122ml,1モル当量)のテト
ラヒドロフラン(10ml)中溶液に対して、水素化ト
リアセトキシホウ素ナトリウム(251mg,1.35
モル当量)および氷酢酸(0.053ml,1モル当
量)を加えた。その混合物を室温で64時間撹拌した。
次に、その混合物を濃縮して約5mlとし、そして酢酸
エチル(30ml)と飽和重炭酸ナトリウム水溶液(2
0ml)とに分配した。有機層を無水硫酸マグネシウム
上で乾燥させ、濾過し、そして溶媒を減圧下で除去し
た。その残留物を、シリカゲルを用い、ジクロロメタ
ン:メタノール(92:8〜9:1容量)の溶媒勾配で
溶離するフラッシュカラムクロマトグラフィーによって
精製して、標題化合物(220mg)を与えた。
【0204】TLC Rf=0.2(シリカ,メタノー
ル:ジクロロメタン,8:92容量)。LRMS m/
z=480(m+1)+。 元素分析実測値C,60,78;H,7.13;N,
7.31。 C25353Cl22.0.25CH2Cl2計算値C,
60.45;H,7.3;N,8.38%。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.1−0.2(m,2
H),0.5−0.55(m,2H),0.85−0.
95(m,1H),1.35−2.3(m,14H),
2.65−2.8(m,2H),2.85−2.95
(m,1H),3.2−4.4(m,10H),7.2
−7.4(m,3H)。
【0205】実施例13 3(S)−1−シクロプロピルアセチル−3−(3,4
−ジクロロフェニル)−3−(2−[3−{4−メタン
スルホニルピペラジン−1−イル}アゼチジン−1−イ
ル]エチル)ピペリジン
【0206】
【化47】
【0207】製造例42の化合物(0.31g,0.8
8ミリモル)、3−(4−メタンスルホニルピペラジン
−1−イル)アゼチジンビス−トリフルオロ酢酸塩
(0.39g,1モル当量)(製造例46)およびトリ
エチルアミン(0.122ml,1モル当量)のテトラ
ヒドロフラン(10ml)中溶液に対して、水素化トリ
アセトキシホウ素ナトリウム(186mg,1モル当
量)および氷酢酸(0.053ml,1.05モル当
量)を加えた。その混合物を室温で16時間撹拌した。
次に、その反応混合物を濃縮して約3mlとし、そして
酢酸エチル(30ml)と飽和重炭酸ナトリウム水溶液
(30ml)とに分配した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥させ、そして濾過した。溶媒を減圧下で除
去して残留物を与え、これを、シリカゲルを用い、ジク
ロロメタン:メタノール,10:1容量)で溶離するフ
ラッシュカラムクロマトグラフィーによって精製して、
標題化合物(375mg)を与えた。
【0208】TLC Rf=0.35(シリカ,ジクロ
ロメタン:メタノール10:1容量)。LRMS m/
z=557(m+1)+。 元素分析実測値C,54.98;H,6.80;N,
9.40。 C2838Cl243S.0.25CH2Cl2計算値
C,54.63;H,6.72;N,9.70%。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.05−0.15
(m,2H),0.45−0.55(m,2H),0.
9−1.0(m,1H),1.4−2.4(m,14
H),2.7−3.0(m,6H),3.2−4.4
(m,10H),7.2−7.4(m,3H)。
【0209】実施例14 3(R)−3−(3−[3−(4−アミノスルホニルピ
ペラジン−1−イル)アゼチジン−1−イル]プロピ
ル)−1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフェニ
ル)ピペリジン
【0210】
【化48】
【0211】製造例54の化合物(190mg,0.4
04ミリモル)、1−アミノスルホニル−4−(アゼチ
ジン−3−イル)ピペラジンビストリフルオロ酢酸塩
(製造例16)(542mg,3モル当量)、炭酸カリ
ウム(334mg,6モル当量)およびトリエチルアミ
ン(0.335ml,6モル当量)のアセトニトリル
(15ml)中混合物を、還流下で8時間加熱した。
【0212】その反応を室温まで冷却し、ジクロロメタ
ン(50ml)を加え、そしてその混合物を水(100
ml)で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で
乾燥させ、そして濾過した。溶媒を減圧下で除去して残
留物を与え、これを、シリカゲルを用い、酢酸エチル:
メタノール(9:1〜3:2容量)の溶媒勾配で溶離す
るクロマトグラフィーで分離して、標題化合物(19m
g)を与えた。
【0213】LRMS(m/z)515(m−SO2
2+1 H−NMR(CDCl3)δ:1.6−1.9(m,5
H),2.1−2.2(m,1H),2.25−2.4
5(m,8H),2.7−2.8(m,2H),2.9
−3.0(m,1H),3.2−3.3(m,7H),
3.35−3.5(m,6H),4.3−4.4(m,
1H),7.25−7.5(m,5H)。 次の製造例は、前の実施例で用いられたいくつかの出発
物質の製造を例示する。
【0214】製造例1 2−(3,4−ジクロロフェニル)ヘクス−5−エンニ
トリル
【0215】
【化49】
【0216】水素化ナトリウム(14.8g,370.
4ミリモル,鉱油中60%分散液)のジメチルホルムア
ミド(150ml)中窒素下0℃溶液に対して、3,4
−ジクロロフェニルアセトニトリル(68.9g,1モ
ル当量)のジメチルホルムアミド(300ml)中溶液
を加え、そしてその混合物を3時間撹拌した。次に、4
−ブロモブト−1−エン(50g,1モル当量)のジメ
チルホルムアミド(100ml)中溶液を加え、そして
その混合物を室温で1時間撹拌した後、60℃まで5時
間加熱した。
【0217】次に、その反応混合物を冷却し、そして水
(1l)を加えた。次に、その混合物を酢酸エチル(2
x500ml)で抽出した。次に、合わせた有機層を水
(2x1l)で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥
させ、そして溶媒を減圧下で除去した。次に、その残留
物を、シリカゲルを用い、酢酸エチル:ヘキサン(1:
19〜1:6容量)の溶媒勾配で溶離するカラムクロマ
トグラフィーによって精製して、標題化合物(51.5
g)を与えた。
【0218】TLC Rf=0.47(シリカ,ヘキサ
ン:酢酸エチル,6:1容量);1 H−NMR(CDCl3):δ=1.85−2.1
(m,2H),2.2−2.3(m,2H),3.75
−3.8(m,1H),5.05−5.1(m,2
H),5.7−5.8(m,1H),7.15−7.2
(m,1H),7.4−7.45(m,2H)。
【0219】製造例2 4−シアノ−4−(3,4−ジクロロフェニル)−オク
ト−7−エン酸
【0220】
【化50】
【0221】製造例1の化合物(50.5g,210.
4ミリモル)のジオキサン(150ml)中窒素下0℃
溶液に対して、カリウムt−ブトキシド(1.5g,
0.06モル当量)およびアクリル酸エチル(25.4
ml,1.11モル当量)を加え、そしてその混合物を
1時間撹拌した。次に、水酸化ナトリウム水溶液(2
N,150ml)を加え、そしてその混合物を室温で7
0分間撹拌した。
【0222】次に、メチルt−ブチルエーテル(300
ml)を加え、そしてその混合物を、2N塩酸水溶液を
用いてpH1まで酸性にした。次に、その溶液をメチル
t−ブチルエーテル(2x300ml)で抽出した後、
合わせた有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、
そして濾過した。減圧下での溶媒の除去は、標題化合物
(68.12g)を与え、これを、次の工程において更
に精製することなく用いた。
【0223】1H−NMR(CDCl3):δ=1.8−
2.6(m,9H),4.9−5.0(m,2H),
5.65−5.75(m,1H),7.2−7.25
(m,1H),7.45−7.5(m,2H)。
【0224】製造例3 3−(ブト−1−エン−4−イル)−3−(3,4−ジ
クロロフェニル)−ピペリジン
【0225】
【化51】
【0226】水素化アルミニウムリチウム(16.6
g,2モル当量)のテトラヒドロフラン(300ml)
中窒素下0℃溶液に対して、製造例2の化合物(68.
12g)のテトラヒドロフラン(300ml)中溶液を
徐々に加え、そしてその反応を2時間撹拌した。
【0227】次に、水(60ml)を慎重に加えた後、
水酸化ナトリウム水溶液(2N,300ml)を加え
た。次に、その混合物を濾過し、そして固体残留物をメ
チルt−ブチルエーテル(300ml)で洗浄した。次
に、有機洗液を濾液と合わせ、無水硫酸マグネシウム上
で乾燥させ、濾過し、そして溶媒を減圧下で除去した。
次に、残留物を、シリカゲルを用い、メタノール:酢酸
エチル(1:19〜2:5容量)の溶媒勾配で溶離する
クロマトグラフィーで分離して、標題化合物を非環状ア
ミノアルコール(19.6g)との混合物として与え、
これを、次の工程において更に精製することなく用い
た。
【0228】製造例4 3−(ブト−1−エン−4−イル)−1−ベンゾイル−
3−(3,4−ジクロロフェニル)−ピペリジン
【0229】
【化52】
【0230】製造例3の生成物(6.02g)のジクロ
ロメタン(70ml)中窒素下0℃溶液に対して、塩化
ベンゾイル(9.37ml,4モル当量)およびトリエ
チルアミン(13.8ml,5モル当量)を加え、そし
てその混合物を45分間撹拌した。
【0231】次に、ジクロロメタン(50ml)を加
え、そしてその混合物を2N塩酸水溶液(2x100m
l)で洗浄した。次に、有機相を無水硫酸マグネシウム
上で乾燥させ、そして濾過した。溶媒を減圧下で除去し
た。次に、水酸化ナトリウムのメタノール(100m
l)中4%溶液を加え、そしてその混合物を室温で50
分間撹拌した。次に、ジクロロメタン(200ml)を
加え、その混合物を水(2x200ml)で洗浄した。
有機相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させた後、濾過
した。溶媒を減圧下で除去して残留物を与えた。シリカ
ゲルを用い、酢酸エチル:ヘキサン(1:4〜3:5容
量)の溶媒勾配で溶離するクロマトグラフィーは、標題
化合物(3.37g)を与えた。
【0232】TLC Rf=0.87(シリカ,ヘキサ
ン:酢酸エチル,3:5容量)。 LRMS m/z=388(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.3−2.2(m,
8H),3.1−3.6(m,3H),1.5−1.7
(m,1H),4.85−4.95(m,2H),5.
55−5.7(m,1H),7.2−7.55(m,8
H)。
【0233】製造例5 3−(ブト−1−エン−4−イル)−1−シクロヘキサ
ノイル−3−(3,4−ジクロロフェニル)−ピペリジ
【0234】
【化53】
【0235】この化合物は、製造例4で記載されたのと
同様の方法により、塩化ベンゾイルの代わりに塩化シク
ロヘキサノイルを用いて製造された。
【0236】1H−NMR(CDCl3):=1.1−
1.9(m,19H),2.05−2.15(m,1
H),2.35−2.5(m,1H),3.1−3.3
(m,2H),3.5−3.65(m,1H),4.4
5−4.5(m,1H),4.8−4.9(m,2
H),5.55−5.7(m,1H),7.1−7.1
5(m,1H),7.3−7.4(m,2H)。
【0237】製造例6 3−(ブト−1−エン−4−イル)−1−シクロプロパ
ノイル−3−(3,4−ジクロロフェニル)−ピペリジ
【0238】
【化54】
【0239】この化合物は、製造例4で記載されたのと
同様の方法により、塩化ベンゾイルの代わりに塩化シク
ロプロパノイルを用いて製造された。
【0240】LRMS m/z=352(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=0.65−1.1
(m,4H),1.4−2.15(m,8H),3.1
5−3.45(m,2H),3.7−3.9(m,2
H),4.35−4.45(m,1H),4.8−4.
95(m,2H),5.55−5.7(m,1H),
7.1−7.4(m,3H)。
【0241】製造例7 1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフェニル)−
3−(2−ホルミルエチル)ピペリジン
【0242】
【化55】
【0243】製造例4の化合物(3.37g,8.7ミ
リモル)のメタノール(110ml)中窒素下−78℃
溶液中に、オゾンを50ml/分の速度で(1.5Aの
電荷を用いて酸素からオゾンを生じさせる)10分間通
気した。この時間後、アンペア数を0まで減少させ、そ
して反応混合物中に酸素を5ml/分の速度で10分間
通気した。次に、酸素供給を除去し、そして窒素を反応
混合物中に20分間通気した。この時間後、ジメチルス
ルフィド(6.4ml,14モル当量)のメタノール
(15ml)中溶液を滴加し、そしてその反応を放置し
て室温まで18時間にわたって暖めた。次に、溶媒を減
圧下で除去し、そして反応混合物を酢酸エチル(20m
l)と水(15ml)とに分配した。有機層を分離し、
そして水性部分を酢酸エチル(2x20ml)で更に抽
出した。次に、有機層を合わせ、硫酸マグネシウムを用
いて乾燥させ、濾過し、そして溶媒を減圧下で除去して
標題化合物(3.18g)を与え、これを更に精製する
ことなく用いた。
【0244】1H−NMR(CDCl3):δ=1.3−
2.1(m,6H),3.15−3.25(m,4
H),3.35−3.55(m,2H),7.2−7.
45(m,8H),9.6(s.br.,1H)。
【0245】製造例8.9 一般式
【0246】
【化56】
【0247】を有する化合物は、製造例7で用いられた
のと同様の方法により、製造例5および6の化合物をそ
れぞれ用いて製造された。
【0248】
【表3】
【0249】製造例10 1−ジフェニルメチルアゼチジン−3−オール
【0250】
【化57】
【0251】ベンズヒドリルアミン(200ml,1.
16モル)およびエピクロロヒドリン(186ml,1
モル当量)のメタノール(600ml)中溶液を、室温
で5日間撹拌した後、40℃で2日間加熱した。次に、
その溶媒を減圧下で除去し、残留物をイソプロピルアル
コール(500ml)中に溶解させ、そしてその溶液を
還流下で6時間加熱した。その溶液を室温まで冷却し、
そして沈澱を濾去した。この固体をジクロロメタン(4
00ml)と飽和重炭酸ナトリウム水溶液(500m
l)とに分配した。水性相をジクロロメタン(2x40
0ml)で抽出し、そして合わせた有機相を硫酸マグネ
シウム上で乾燥させた。次に、溶液を濾過し、そして減
圧下で濾液から溶媒を除去して、標題化合物(86g)
を結晶性固体として与えた。
【0252】1H−NMR(CDCl3):δ=1.8−
2.3(s,br,1H),2.85−2.9(m,2
H),3.5−3.55(m,2H),4.35(s,
1H),4.4−4.5(m,1H),7.15−7.
4(m,10H)。
【0253】製造例11 1−ジフェニルメチル−3−メタンスルホニルオキシア
ゼチジン
【0254】
【化58】
【0255】1−ジフェニルメチルアゼチジン−3−オ
ール(製造例10を参照されたい)(65.9g,27
5.7ミリモル)の乾燥ジクロロメタン(700ml)
中窒素下0℃溶液に対して、トリエチルアミン(57m
l,1.2モル当量)を加えた。5分後、塩化メタンス
ルホニル(25.6ml,1.5モル当量)を加え、そ
してその混合物を1時間撹拌した。次に、水(300m
l)を加え、そしてその混合物をジクロロメタン(3x
300ml)で抽出した。合わせた有機層を硫酸マグネ
シウム上で乾燥させた。次に、その溶液を濾過し、そし
て減圧下で濾液から溶媒を除去した。残留物を、シリカ
ゲルを用い、メタノール:ジクロロメタン(1:49容
量)で溶離するクロマトグラフィーで分離して、標題化
合物(73.4g)を固体として与えた。
【0256】1H−NMR(CDCl3):δ=2.95
(s,3H),3.15−3.25(m,2H),3.
6−3.65(m,2H),4.4(s,1H),5.
05−5.15(m,1H),7.15−7.4(m,
10H)。
【0257】製造例12 1−ジフェニルメチル−3−モルホリノアゼチジン
【0258】
【化59】
【0259】1−ジフェニルメチル−3−メタンスルホ
ニルオキシアゼチジン(製造例11を参照されたい(2
4.46g,7.72ミリモル)、炭酸カリウム(32
g,3モル当量)およびモリホリン(7.34ml,
1.09モル当量)のアセトニトリル(200ml)中
溶液を、還流下で4時間加熱した。次に、その溶液を室
温まで冷却し、水(50ml)を加え、そしてその混合
物を減圧下で濃縮した。残留物を酢酸エチル(400m
l)と水(400ml)とに分配し、そして有機相を分
離し且つ水(2x400ml)で洗浄した。有機相を硫
酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、そして減圧下で
濾液から溶媒を除去した。次に、その残留物を、シリカ
ゲルを用い、ヘキサン:ジエチルエーテル(1:1容
量)で溶離するクロマトグラフィーで分離して、標題化
合物(16.5g)を与えた。
【0260】1H−NMR(CDCl3):δ=2.25
−2.3(m,4H),2.85−3.05(m,3
H),3.35−3.4(m,2H),3.7−3.7
5(m,4H),4.45(s,1H),7.15−
7.45(m,10H)。
【0261】製造例13 3−モルホリノアゼチジン二塩酸塩
【0262】
【化60】
【0263】1−ジフェニルメチル−3−モルホリノア
ゼチジン(製造例12を参照されたい)(18.6g,
60.4ミリモル)、水酸化パラジウム(2g)、エタ
ノール(200ml)および1N塩酸水溶液(52m
l)の混合物を、345kPa(50p.s.i.)の水素の
雰囲気下において3日間撹拌した。次に、触媒を濾過に
よって除去し、そして濾液を蒸発乾固させた。残留物に
対するジクロロメタン(100ml)の添加および研和
は固体を生じ、これをメタノールから再結晶させて、標
題化合物(10.2g)を結晶性固体として与えた。
【0264】LRMS m/z=179(m+1)+。 (注記 若干の反応において二塩酸塩の代わりに用いら
れた一塩酸塩は、1モル当量の塩化水素を用いて同様に
製造することができる)。
【0265】製造例14 1−(t−ブトキシカルボニル)−3−(ピペラジン−
1−イル)アゼチジン
【0266】
【化61】
【0267】ピペラジン(149.2g,8モル当量)
を加熱して溶融液とした後、1−(t−ブトキシカルボ
ニル)−3−メタンスルホニルオキシアゼチジン(国際
特許出願公開第WO93/19059号を参照されたい)(5
4.5g,217ミリモル)を加えた。その混合物を1
15℃で24時間加熱した。その反応を冷却し、そして
過剰のピペラジンを減圧下で除去した。残留物を、シリ
カゲル上においてメタノール:ジクロロメタン(5:9
5容量)を溶離剤として用いるフラッシュカラムクロマ
トグラフィーによって精製して、標題化合物(51g)
を与えた。
【0268】LRMS m/z=242(m+1)+1 H−NMR(CDCL3):δ=1.4(m,9H),
2.5−2.6(m,4H),3.1−3.25(m,
5H),3.7−3.8(m,2H),3.9−3.9
5(m,2H),4.6(br.s,1H)。
【0269】製造例15 3−(4−アミノスルホニルピペラジン−1−イル)−
1−(t−ブトキシカルボニル)アゼチジン
【0270】
【化62】
【0271】製造例14の化合物(50g,132.6
ミリモル)およびスルファミド(88g,6.9モル当
量)の1,4−ジオキサン(1300ml)中溶液を、
還流下で55時間加熱した。その溶液を冷却し、そして
溶媒を減圧下で除去した。残留物を、シリカゲル上にお
いてメタノール:ジクロロメタン(5:95容量)を溶
離剤として用いるフラッシュカラムクロマトグラフィー
によって精製して、標題化合物(50g)を与えた。
【0272】1H−NMR(CDCl3):δ=1.45
(s,9H),2.4−2.5(m,4H),3.1−
3.2(m,1H),3.25−3.3(m,4H),
3.75−3.8(m,2H),3.85−3.9
(m,2H),4.3(br.s,2H)。
【0273】製造例16 3−(4−アミノスルホニルピペラジン−1−イル)ア
ゼチジンビストリフルオロ酢酸塩
【0274】
【化63】
【0275】製造例15の化合物(364mg,1.1
4ミリモル)のジクロロメタン(6ml)中窒素雰囲気
下0℃溶液に対して、トリフルオロ酢酸(3ml,35
モル当量)を徐々に加え、そしてその反応混合物を室温
まで2時間にわたって暖めた。次に、溶媒を減圧下で除
去し、そして残留物をジクロロメタン(3x10ml)
と一緒に共沸させた。得られた油状物をジエチルエーテ
ルで研和して標題化合物(379mg)を与え、これを
更に精製することなく用いた。
【0276】1H−NMR(CDCl3):δ=2.4−
2.6(m,4H),2.95−3.15(m,4
H),3.35−3.5(m,1H),3.8−4.1
(m,4H),6.6−6.8(m,2H),8.6−
8.85(m,3H)。
【0277】製造例17 2−(3,4−ジクロロフェニル)−4−(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)ブタンニトリル
【0278】
【化64】
【0279】油中60%w/w水素化ナトリウム分散液
(19.24g,1.05モル当量)の乾燥テトラヒド
ロフラン(450ml)中窒素下0℃混合物に対して、
3,4−ジクロロフェニルアセトニトリル(89.5
g,1モル当量)の乾燥テトラヒドロフラン(450m
l)中溶液を40分間にわたって滴加した。更に30分
後、2−ブロモエトキシテトラヒドロピラン(100
g,1モル当量)のテトラヒドロフラン(100ml)
中溶液を加え、そしてその混合物を室温まで暖め且つ1
4時間撹拌した。30%塩化アンモニウム水溶液(50
0ml)を加え、そしてその混合物をジエチルエーテル
(2x400ml)で抽出した。有機層を合わせ且つ水
(2x400ml)で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥させ、そして溶媒を減圧下で除去した。次に、残留物
を、シリカゲルを用い、ジエチルエーテル:ヘキサン
(1:9〜1:1容量)の溶媒勾配で溶離するクロマト
グラフィーで分離して、標題化合物(51g)を与え
た。
【0280】TLC Rf=0.55(シリカ,メチル
t−ブチルエーテル:ヘキサン,1:1容量)。 LRMS m/z=333(m+NH4+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.5−1.9(m,
6H),2.05−2.3(m,2H),2.4−2.
65(m,2H),2.8−2.95(m,2H),
4.0−4.1(m,1H),4.5−4.6(m,1
H),7.2−7.25(m,1H),7.25−7.
5(m,2H)。
【0281】製造例18 4−シアノ−4−(3,4−ジクロロフェニル)−6−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)ヘキサン酸エ
チル
【0282】
【化65】
【0283】ジイソプロピルアミン(15ml,0.7
7モル当量)のテトラヒドロフラン(80ml)中窒素
下−78℃溶液に対して、n−ブチルリチウム(ヘキサ
ン中2.5M溶液77.3ml,1.4モル当量)を加
えた後、その溶液を室温まで2時間にわたって暖めた。
その溶液を−78℃まで冷却し、そして製造例17の化
合物(43.9g,138ミリモル)のテトラヒドロフ
ラン(180ml)中溶液を徐々に加えた。得られた溶
液を室温まで徐々に2時間にわたって暖めた。次に、そ
の溶液を−78℃まで冷却し、そして3−ブロモプロパ
ン酸エチル(22.36ml,1.3モル当量)のテト
ラヒドロフラン(70ml)中溶液を滴加した。次に、
ヨウ化テトラ−n−ブチルアンモニウム(50g,1モ
ル当量)を加え、その反応を室温まで暖め且つ14時間
撹拌した。次に、水(10ml)を加え、そしてその溶
液を減圧下で濃縮した。水(400ml)およびブライ
ン(400ml)を加え、そしてその混合物を酢酸エチ
ル(2x500ml)で抽出した。合わせた有機層を水
(2x300ml)で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥させ、そして溶媒を減圧下で除去した。シリカゲルを
用い、ジエチルエーテル:ヘキサン(1:1容量)で溶
離するクロマトグラフィーは、標題化合物(35g)を
与えた。
【0284】TLC Rf=0.30(シリカ,ジエチ
ルエーテル:ヘキサン,1:1容量)。1H−NMR
(CDCl3):δ=1.25(t,3H),1.35
−1.8(m,6H),2.0−2.55(m,6
H),3.3−3.45(m,2H),3.65−3.
8(m,2H),4.0−4.1(m,2H),4.4
−4.5(m,1H),7.2−7.55(m,3
H)。
【0285】製造例19 5−(3,4−ジクロロフェニル)−5−(2−[テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ]エチル)−2(1
H)−ピペリドン
【0286】
【化66】
【0287】製造例18の化合物(18.7g,45.
2ミリモル)を、ラニーニッケル(3.5g)を含有し
た飽和アンモニア性エタノール溶液(500ml)中に
溶解させた。その混合物を大気圧の水素下で7時間撹拌
した。次に、触媒を濾過によって除去し、エタノールを
減圧下で除去し、そして残留物を、シリカゲルを用い、
最初にジエチルエーテルで、そして次にメタノール:ジ
クロロメタン(1:9容量)で溶離するクロマトグラフ
ィーで分離して、標題化合物(10.4g)を与えた。
【0288】TLC Rf=0.45(シリカ,メタノ
ール:ジクロロメタン,1:9容量)。LRMS m/
z=372(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.4−1.8(m,
6H),1.9−2.1(m,5H),2.3−2.4
5(m,1H),3.0−3.2(m,1H),3.3
5−3.85(m,4H),4.35−4.4(m,1
H),6.05),(s,br.,1H),7.15−
7.45(m,3H)。
【0289】製造例20および21 3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−(2−ヒドロ
キシエチル)ピペリジン(製造例20)および3−
(3,4−ジクロロフェニル)−3−(2−[テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ]エチル)ピペリジン(製
造例21)
【0290】
【化67】
【0291】5−(3,4−ジクロロフェニル)−5−
(2−[テトラヒドロピラン−2−イルオキシ]エチ
ル)−2−(1H)−ピペリドン(製造例19)(1.
75g,4.7ミリモル)のテトラヒドロフラン中窒素
下0℃溶液に対して、ボラン−ジメチルスルフィド錯体
の溶液(2.36ml,5モル当量,10M溶液)を滴
加した。次に、その溶液を室温まで徐々に暖めた後、還
流下で2時間加熱した。その溶液を室温まで冷却した
後、溶媒を減圧下で除去した。次に、残留物をジクロロ
メタン(30ml)と飽和重炭酸ナトリウム水溶液(3
0ml)とに分配した。水性相を追加部分のジクロロメ
タン(30ml)で抽出し、そして合わせた有機層を、
無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。次に、溶液
を濾過し、そして溶媒を減圧下で除去した。残留物を、
シリカを用い、メタノール:ジクロロメタン(1:19
容量)で溶離するカラムクロマトグラフィーによって精
製して、最初にアルコール(20)をボラン−ジメチル
スルフィド錯体として、そして次に保護アルコール(2
1)(132mg)を与えた。(20)のボラン錯体を
含有する画分を減圧下で蒸発させ、その残留物をメタノ
ール(10ml)および2N水性塩酸(10ml)中に
溶解させ、そしてその混合物を還流下で1時間加熱し
た。次に、その溶液を室温まで冷却し、そして溶媒を減
圧下で除去して、標題アルコール(20)(424m
g)を与えた。
【0292】(20)のスペクトルデータ:LRMS
m/z 274(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.45−2.0
(m,6H),2.3(s,br.,2H),2.7−
2.8(m,1H),2.85−2.95(m,1
H),3.1(s,br.,2H),3.35−3.5
5(m,2H),7.1−7.2(m,1H),7.3
5−7.4(m,2H)。 (21)のスペクトルデータ:LRMS m/z 35
8(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.4−2.1(m,
12H),2.8−3.6(m,8H),3.65−
3.85(m,1H),4.35(s,br.,1
H),7.15−7.2(m,1H),7.35−7.
5(m,2H)。
【0293】製造例22 1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフェニル)−
3−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン
【0294】
【化68】
【0295】製造例20の化合物(150mg,0.5
5ミリモル)のジクロロメタン(5ml)中窒素下0℃
溶液に対して、トリエチルアミン(0.114ml,
1.5モル当量)および塩化ベンゾイル(0.076m
l,1.2モル当量)を加え、そしてその混合物を室温
で1時間撹拌した。水(30ml)および飽和重炭酸ナ
トリウム水溶液(30ml)を加え、そしてその混合物
をジクロロメタン(3x40ml)で抽出した。次に、
合わせた有機層を、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥
させ、濾過し、そして溶媒を減圧下で除去して標題化合
物(187mg)を与え、これを更に精製することなく
用いた。
【0296】TLC Rf=0.34(シリカ,ジクロ
ロメタン:メタノール,19:1容量)。LRMS 3
78 m/z(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.4−2.3(m,
7H),3.25−4.3(m,6H),7.15−
7.6(m,8H)。
【0297】製造例23 1−(2−メトキシベンゾイル)−3−(3,4−ジク
ロロフェニル)−3−(2−ヒドロキシエチル)ピペリ
ジン
【0298】
【化69】
【0299】この化合物は、製造例22で用いられたの
と同様の方法で、製造例20で製造された化合物および
塩化ベンゾイルの代わりの塩化2−メトキシベンゾイル
を用いて製造された。化合物は、カラムクロマトグラフ
ィー(シリカ,勾配溶離,ジクロロメタン:メタノール
(49:1〜24:1容量)によって精製された。
【0300】LRMS 410 m/z(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.35−2.2
(m,8H),3.1−4.5(m,8H),6.8−
7.1(m,2H),7.2−7.55(m,5H)。
【0301】製造例24 1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフェニル)−
3−(2−メタンスルホニルオキシエチル)ピペリジン
【0302】
【化70】
【0303】製造例22の化合物(170mg,0.4
5ミリモル)のジクロロメタン(4ml)中窒素下溶液
に対して、トリエチルアミン(0.094ml,1.5
モル当量)を加え、そしてその溶液を0℃まで冷却し
た。次に、塩化メタンスルホニル(0.042ml,
1.2モル当量)を加え、そしてその混合物を1時間撹
拌した。水(20ml)を加え、そして水性相をジクロ
ロメタン(20ml)で抽出した。次に、合わせた有機
層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、そし
て溶媒を減圧下で除去した。次に、その残留物を、シリ
カを用い、ジクロロメタンで溶離するクロマトグラフィ
ーで分離して、標題化合物(145mg)を与えた。
【0304】TLC Rf=0.39(シリカ,ジクロ
ロメタン:メタノール,19:1容量)。LRMS 4
56 m/z(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.65(s,b
r.,1H),1.9−2.0(m,2H),2.1
(s,br.,2H),2.9(s,br.,2H),
3.35(s,br.,2H),3.6−3.75
(m,1H),3.9−4.0(m,2H),4.1
(s,br.,1H),4.3(s,br.,1H),
7.3−7.5(m,8H)。
【0305】製造例25 1−(2−メトキシベンゾイル)−3−(3,4−ジク
ロロフェニル)−3−(2−メタンスルホニルオキシエ
チル)ピペリジン
【0306】
【化71】
【0307】これは、製造例24で用いられたのと同様
の方法で、製造例23で記載された化合物を用いて製造
された。
【0308】LRMS 486 m/z(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.4−2.4(m,
6H),2.9−4.6(m,12H),6.75−
7.6(7H)。
【0309】製造例27 1−(フェニルスルホニル)−3−(3,4−ジクロロ
フェニル)−3−([テトラヒドロピラン−2−イルオ
キシ]エチル)ピペリジン
【0310】
【化72】
【0311】製造例21の化合物(123mg,0.3
4ミリモル)のジクロロメタン(3ml)中窒素下0℃
溶液に対して、トリエチルアミン(0.06ml,1.
5モル当量)および塩化ベンゼンスルホニル(0.07
ml,1.2モル当量)を加えた。その反応を1時間撹
拌した。次に、水(10ml)および飽和水性重炭酸ナ
トリウム(10ml)を加え、そしてその混合物をジク
ロロメタン(3x10ml)で抽出した。次に、合わせ
た有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過
し、そして溶媒を減圧下で除去してガムを与え、これ
を、シリカゲルを用い、ジクロロメタンで溶離するクロ
マトグラフィーで分離して、標題化合物(131mg)
を与えた。
【0312】TLC Rf=0.92(シリカ,ジクロ
ロメタン:メタノール,19:1容量)。LRMS m
/z 515(m+NH4+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.45−2.05
(m,12H),2.55−2.65(m,2H),
2.95−3.1(m,1H),3.3−3.55
(m,3H),3.7−3.8(m,1H),3.9−
4.05(m,1H),4.3−4.4(m,1H),
7.3−7.8(m,8H)。
【0313】製造例28 1−(フェニルスルホニル)−3−(3,4−ジクロロ
フェニル)−3−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン
【0314】
【化73】
【0315】塩化水素のメタノール(5ml)中室温飽
和溶液に対して、製造例27の化合物(125mg)を
加え、そしてその混合物を室温で2時間撹拌した。次
に、その溶媒を減圧下で除去した。次に、飽和重炭酸ナ
トリウム水溶液(30ml)を加え、そして水性相を酢
酸エチル(3x30ml)で抽出した。次に、合わせた
有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、
そして溶媒を減圧下で除去して標題化合物(155m
g)を与え、これを更に精製することなく用いた。
【0316】TLC Rf=0.45(シリカ,ジクロ
ロメタン:メタノール,19:1容量)。LRMS m
/z 414(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.45−2.5
(m,12H),2.55−2.65(m,2H),
2.95−3.1(m,1H),3.3−3.55
(m,3H),3.7−3.8(m,1H),3.9−
4.05(m,1H),4.3−4.4(m,1H),
7.3−7.8(m,8H)。
【0317】製造例29 3−シアノ−3−(3,4−ジクロロフェニル)−5−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)ペンタン酸エ
チル
【0318】
【化74】
【0319】ジイソプロピルアミン(25.9ml,1
モル当量)のテトラヒドロフラン(200ml)中窒素
下−78℃溶液に対して、n−ブチルリチウム(2.5
M溶液73.9ml,1モル当量)を加えた。その溶液
を室温まで2時間にわたって暖めた。次に、2−(3,
4−ジクロロフェニル)−4−(テトラヒドロピラン−
2−イルオキシ)ブタンニトリル(製造例17)(58
g,158ミリモル)のテトラヒドロフラン(200m
l)中溶液を加え、そしてその溶液を1時間撹拌した。
次に、2−ブロモ酢酸エチル(20.5ml,1モル当
量)のテトラヒドロフラン(50ml)中溶液を加え、
そしてその反応を加熱して2時間還流させた。次に、水
(10ml)を加え、そしてその溶液を減圧下で濃縮し
た。水(300ml)およびブライン(300ml)を
加え、そしてその混合物を酢酸エチル(2x300m
l)で抽出した。合わせた有機層を水(2x300m
l)で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾
過し、そして溶媒を減圧下で除去した。シリカゲルを用
い、ジエチルエーテル:ヘキサンの勾配溶離(4:1〜
1:1容量)を用いて溶離するクロマトグラフィーは、
標題化合物を与えた。
【0320】LRMS m/z 417(m+N
4+1 H−NMR(CDCl3):δ=0.85−0.9
(m,1H),1.1−1.75(m,10H),2.
1−2.3(m,1H),2.35−2.45(m,1
H),2.95−3.3(m,2H),3.4−3.5
5(m,1H),3.7−3.8(m,1H),4.0
5−4.15(m,2H),4.45(s,br.,1
H),7.3−7.55(m,3H)。
【0321】製造例30 4−(3,4−ジクロロフェニル)−4−(2−[テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ]エチル)−2(1
H)−ピロリドン
【0322】
【化75】
【0323】製造例29の化合物(9.0g,22.5
ミリモル)を、ラニーニッケル(1.0g)を含有した
飽和アンモニア性エタノール溶液(100ml)中に溶
解させた。その混合物を、水素下において345kPa
(50p.s.i.)および50℃で2時間撹拌した後、水素
雰囲気下で14時間放置した。次に、追加部分のラニー
ニッケル(0.2g)を加え、そしてその反応混合物を
水素下において345kPa(50p.s.i.)および50
℃で更に3時間撹拌した。触媒を濾過によって除去し、
エタノールを減圧下で除去し、そして残留物を、シリカ
ゲルを用い、メタノール:ジクロロメタン(1:19〜
1:9容量)の溶媒勾配で溶離するクロマトグラフィー
で分離して、標題化合物(6.0g)を与えた。
【0324】LRMS m/z 358(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.4−1.8(m,
6H),2.05−2.2(m,2H),2.7−2.
75(m,2H),3.1−3.2(m,1H),3.
4−3.5(m,1H),3.55−3.7(m,4
H),4.4(s,br.,1H),5.9(s,b
r.,1H),7.0−7.05(m,1H),7.2
5−7.4(m,2H)。
【0325】製造例31 3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−(2−[テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ]エチル)ピロリジン
【0326】
【化76】
【0327】水素化アルミニウムリチウム(100m
g,2モル当量)の乾燥ジエチルエーテル(20ml)
中窒素下0℃溶液に対して、製造例30の化合物(0.
5g,1.4ミリモル)のジエチルエーテル(20m
l)中溶液を加え、そしてその混合物を24時間撹拌し
た。次に、追加部分の水素化アルミニウムリチウム(5
0mg,1モル当量)を加え、そしてその反応を更に2
時間撹拌した。水(0.1ml)に続いて15%水酸化
ナトリウム水溶液(0.1ml)および水(0.3m
l)を加えた。固体を濾過によって除去した。次に、濾
液を減圧下で濃縮して油状物を与えた。シリカゲルを用
い、ジクロロメタン:メタノール:アンモニア(94:
5:1容量)で溶離するクロマトグラフィーは、標題化
合物(200mg)を与えた。
【0328】TLC Rf=0.42(シリカ,ジクロ
ロメタン:メタノール:アンモニア,90:9:1容
量)。1 H−NMR(CDCl3):δ=1.45−1.85
(m,6H),1.9−2.25(m,6H),2.9
5−3.2(m,4H),3.2−3.65(m,2
H),3.7−3.8(m,1H),4.35−4.4
5(m,1H),7.1−7.4(m,3H)。
【0329】製造例32 1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフェニル)−
3−(2−[テトラヒドロピラン−2−イルオキシ]エ
チル)ピロリジン
【0330】
【化77】
【0331】製造例31の化合物(1.4g,4.06
ミリモル)のジクロロメタン(20ml)中溶液に対し
て、トリエチルアミン(0.57ml,1モル当量)を
加えた。次に、その溶液を0℃まで冷却した。塩化ベン
ゾイル(0.47ml,1モル当量)を滴加し、そして
その溶液を0℃で30分間、続いて室温で1時間撹拌し
た。粗製反応混合物を水(50ml)で、続いて飽和重
炭酸ナトリウム水溶液(50ml)で洗浄した。有機層
を、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させ、濾過し、
そして溶媒を減圧下で除去して油状物を与えた。シリカ
ゲルを用い、メタノール:ジクロロメタン(1:19〜
1:9容量)の溶媒勾配で溶離するクロマトグラフィー
は、標題化合物(1.5g)を与えた。
【0332】LRMS m/z 448(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.25−2.4
(m,10H),3.0−4.4(m,9H),6.9
−7.6(m,8H)。
【0333】製造例33 1−(2−メトキシベンゾイル)−3−(3,4−ジク
ロロフェニル)−3−(2−[テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ]エチル)ピロリジン
【0334】
【化78】
【0335】この化合物は、製造例32で用いられたの
と同様の方法により、製造例31で製造された化合物お
よび塩化ベンゾイルの代わりの塩化2−メトキシベンゾ
イルを用いて製造された。
【0336】1H−NMR(CDCl3):δ=1.2−
2.25(m,10H),3.05−4.45(m,1
1H),6.9−7.45(m,7H)。
【0337】製造例34 1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフェニル)−
3−(2−ヒドロキシエチル)ピロリジン
【0338】
【化79】
【0339】製造例32の化合物(1.5g,3.34
ミリモル)の、塩化水素で飽和したメタノール(50m
l)中溶液を、室温で1時間撹拌した。次に、その溶媒
を減圧下で除去して標題化合物を与え、これを更に精製
することなく用いた。
【0340】TLC Rf=0.61(シリカ,ジクロ
ロメタン:メタノール,9:1容量)。LRMS m/
z 364(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.9−2.4(m,
br.,4H),3.3−4.1(m,br.,6
H),5.5−5.9(m,br.,2H),7.0−
7.6(m,br.,2H)。
【0341】製造例35 1−(2−メトキシベンゾイル)−3−(3,4−ジク
ロロフェニル)−3−(2−ヒドロキシエチル)ピロリ
ジン
【0342】
【化80】
【0343】この化合物は、製造例34で用いられたの
と同様の方法により、製造例33で製造された化合物を
用いて製造された。
【0344】LRMS m/z 394(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.85−2.3
(m,4H),3.15−3.65(m,4H),3.
8−4.0(m,6H),6.9−7.45(m,7
H)。
【0345】製造例36 1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフェニル)−
3−(ホルミルメチル)ピロリジン
【0346】
【化81】
【0347】塩化オキサリル(0.13ml,1.1モ
ル当量)のジクロロメタン(10ml)中窒素下−78
℃溶液に対して、ジメチルスルホキシド(0.23m
l,2.4モル当量)を加え、そしてその溶液を−78
℃で45分間撹拌した。製造例34の化合物(0.5
g,1.37ミリモル)のジクロロメタン(10ml)
中溶液を加え、そしてその反応を−78℃で1.75時
間撹拌した。トリエチルアミン(0.95ml,5モル
当量)を加え、そしてその反応を室温まで暖め且つ1時
間撹拌した。その混合物を飽和炭酸ナトリウム水溶液
(50ml)で洗浄し、そして硫酸マグネシウム上で乾
燥させた。その溶液を濾過し、そして溶媒を減圧下で除
去した。その残留物を、シリカを用い、酢酸エチル:メ
タノール(19:1容量)で溶離するクロマトグラフィ
ーによって精製して、標題化合物(300mg)を与え
た。
【0348】LRMS 362 m/z(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=2.25−2.45
(m),2.65−2.9(m),3.4−4.1
(m),9.45−9.6(m)。
【0349】製造例37 1−(2−メトキシベンゾイル−3−(3,4−ジクロ
ロフェニル)−3−(ホルミルメチル)ピロリジン
【0350】
【化82】
【0351】この化合物は、製造例36で用いられたの
と同様の方法により、製造例35で製造された化合物を
用いて製造された。
【0352】LRMS m/z 392(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=2.15−2.35
(m,2H),2.7−2.95(m,2H),3.1
5−3.7(m,3H),3.75−3.9(m,3
H),3.95−4.1(m,1H),6.9−7.5
(m,7H),9.45−9.55(m,1H)。
【0353】製造例38 4(S)−4−シアノ−4−(3,4−ジクロロフェニ
ル)−5−(1,3−ジオキソラン−2−イル)ペンタ
ン−1−オン酸
【0354】
【化83】
【0355】ヘキサメチルジシリルアジ化リチウムのテ
トラヒドロフラン(4.69l)中1.0M窒素下5℃
溶液に対して、3,4−ジクロロフェニルアセトニトリ
ル(750g,4.28モル)のテトラヒドフラン(7
50ml)中溶液を45分間にわたって滴加した。その
反応を2時間撹拌した。その反応を5℃まで再度冷却
し、そして2−ブロモメチル−1,3−ジオキソラン
(782g)のテトラヒドロフラン(780ml)中溶
液を50分間にわたって滴加した。ヨウ化テトラ−n−
ブチルアンモニウム(75g)を少量ずつ加え、そして
その混合物を室温まで暖め且つ14時間撹拌した。次
に、その反応を5℃まで冷却し、そしてヘキサメチルジ
シリルアジ化リチウムのテトラヒドロフラン中溶液
(1.0M,4.69l)を滴加した。その混合物を室
温で5時間撹拌した。その溶液を5℃まで冷却し、そし
て3−ブロモプロパン酸エチル(840.5g)のテト
ラヒドロフラン(840ml)中溶液を50分間にわた
って滴加した。その反応を14時間撹拌した。反応混合
物を5℃まで冷却し、そして1.5M水酸化ナトリウム
水溶液(4.25l,水酸化ナトリウム255g含有)
を加え、そしてその混合物を酢酸エチル(2x3l)で
抽出した。合わせた有機層を水(2x5l)で洗浄し
た。水性相を合わせ且つ5N塩酸水溶液でpH1まで酸
性にした後、酢酸エチル(2x3l)で抽出した。
【0356】合わせた有機抽出物を減圧下で濃縮して、
生成物の理論収量に基づき約3ml/gの濃度にした。
次に、ジクロロメタン(50ml)を加え、そしてその
溶液を水(100ml)で洗浄した。有機相を無水硫酸
マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、そして溶媒を減圧
下で除去して標題化合物(390mg)を与え、これを
更に精製することなく用いた。
【0357】TLC Rf=0.28(シリカ,ヘキサ
ン:酢酸エチル,2:3容量)。1 H−NMR(CDCl3):δ=1.25−4.4
(m,17H),7.25−7.55(m,8H)。
【0358】次に、上の実験手順を同規模で繰返した。
【0359】両方の反応から一緒にした有機溶液に対し
て、(S)−(−)−α−メチルベンジルアミン(1.
13kg)を加え、そしてその混合物を14時間撹拌し
た。次に、その濃厚スラリーを氷浴中で冷却しながら2
時間撹拌し、濾過し、固体を酢酸エチル(2x1l)で
洗浄した後、減圧下において35℃で乾燥させて、1.
85kgの材料を与えた。この材料の一部分(1.34
kg)を、還流下で加熱されたブタノン(2l)および
水(503ml)の混合物中に溶解させた。追加部分の
ブタノン(4.7l)を加え、そしてその溶液を室温ま
で徐々に一晩中冷却させた。得られた固体を濾去し、ブ
タノン(2x1l)で洗浄し、そして減圧下において3
5℃で10時間乾燥させて563gの材料(93.8%
e.e.)を与えた。更に、ブタノン/水からの再結晶は、
標題化合物を(S)−(−)α−メチルベンジルアミン
塩として99.8%e.e.で与えた。この塩の酢酸エチル
および水中撹拌溶液に対して、5N塩酸水溶液をpH1
に達するまで加えた。その混合物を更に30分間撹拌
し、層を分離し、そして水性相を酢酸エチルで抽出し
た。合わせた有機層を水で洗浄し、そして溶媒を減圧下
で除去して、標題化合物を与えた。
【0360】1H−NMR(CDCl3):δ=2.05
−2.35(m,4H),2.4−2.65(m,2
H),3.7−4.0(m,4H),4.75−4.8
5(m,1H),7.25−7.55(m,3H),
9.9(s,br.,1H,酸)。
【0361】製造例39 5(S)−5−(3,4−ジクロロフェニル)−5−
(1,3−ジオキソラン−2−イルメチル)−2(1
H)−ピペリドン
【0362】
【化84】
【0363】製造例38の化合物(13.5g,39.
22ミリモル)の氷酢酸(130ml)中溶液に対し
て、酸化白金(1.21g)を加え、そしてその混合物
を水素の雰囲気下において414kPa(60psi)
および室温で17時間撹拌した。触媒を濾過によって除
去し、そして追加部分の酸化白金(1.21g)を加え
た。次に、その反応混合物を水素の雰囲気下において4
14kPa(60psi)および室温で48時間撹拌し
た。触媒を濾過によって除去し、そしてその溶液を減圧
下で濃縮した。残留物を酢酸エチル(80ml)中に溶
解させ、そして飽和重炭酸ナトリウム水溶液(2x75
ml)で洗浄した。次に、有機相を分離し、そして溶媒
を減圧下で除去した。得られた固体をヘキサン(20m
l)および酢酸エチル(20ml)の溶液中において0
℃で2時間撹拌した後、濾去して、標題化合物(8.1
5g)を与えた。
【0364】1H−NMR(CDCl3):δ=1.85
−1.95(m,1H),2.0−2.25(m,4
H),2.35−2.4(m,1H),3.45−3.
55(m,1H),3.65−3.75(m,2H),
3.8−3.9(m,3H),4.35−4.4(m,
1H),6.15(s,br.,1H),7.2−7.
45(m,3H)ppm。
【0365】製造例40 3(S)−3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−
(1,3−ジオキソラン−2−イルメチル)ピペリジン
【0366】
【化85】
【0367】水素化アルミニウムリチウム(12.7m
l,テトラヒドロフラン中1M溶液,2.1モル当量)
のテトラヒドロフラン(60ml)中窒素下撹拌溶液に
対して、5(S)−5−(3,4−ジクロロフェニル)
−5−(1,3−ジオキソラン−2−イルメチル)−2
(1H)ピペリドン(2g,6.06ミリモル)(製造
例39)を3回に分けて加え、そしてその混合物を還流
下で16時間加熱した。
【0368】水(0.48ml)を20分間にわたっ
て、続いて水酸化ナトリウム水溶液(0.48ml,1
5%溶液w/w)を滴加した。5分後、水(2x0.4
8ml)を加え、そしてその混合物を30分間撹拌し
た)。
【0369】その混合物を濾過し、そして濾液から減圧
下で溶媒を除去し、そして酢酸エチル(100ml)と
飽和重炭酸ナトリウム水溶液(100ml)とに分配し
た。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させて油状
物を与えた後、これに、シリカゲルを用い、ジクロロメ
タン:メタノール(9:1)で溶離するフラッシュカラ
ムクロマトグラフィーを行って、標題化合物(1.3
g)を与えた。
【0370】1H−NMR(CDCl3):δ=1.4−
1.5(m,1H),1.55−1.7(m,1H),
1.8−1.9(m,1H),1.95−2.0(m,
2H),2.05−2.1(m,1H),2.3(s,
br.,1H),2.8−2.9(m,2H),3.0
−3.1(m,1H),3.3−3.35(m,1
H),3.6−3.7(m,2H),3.8−3.9
(m,2H),4.3−4.4(m,1H),7.2−
7.3(m,1H),7.4−7.5(m,2H)。
【0371】製造例41 3(S)−1−シクロプロピルアセチル−3−(3,4
−ジクロロフェニル)−3−((1,3−ジオキソラン
−2−イル)メチル)ピペリジン
【0372】
【化86】
【0373】製造例40の化合物(0.65g,2.0
6ミリモル)のジクロロメタン(20ml)中窒素下室
温溶液に対して、シクロプロピル酢酸(206mg,1
モル当量)、N−メチルモルホリン(0.23ml,1
モル当量)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物
(0.316g,1モル当量)および1−(3−ジメチ
ルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩
(0.546g,1.4モル当量)を加えた。その混合
物を16時間撹拌した。次に、その混合物を酢酸エチル
(50ml)および飽和重炭酸ナトリウム水溶液中に注
ぎ、そして有機相を分離し、そして無水硫酸マグネシウ
ム上で乾燥させた。溶液を濾過し、溶媒を減圧下で除去
し、そして残留物を、シリカゲルを用い、酢酸エチル:
ヘキサン(1:1容量)で溶離するクロマトグラフィー
で分離して、標題化合物(0.7g)を与えた。
【0374】TLC Rf=0.25(シリカ,酢酸エ
チル:ヘキサン,1:1容量)。 LRMS m/z=398(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=0.05−0.2
(m,2H),0.4−0.5(m,2H),0.85
−0.95(m,1H),1.35−2.4(m,8
H),3.1−4.2(m,9H),4.7−4.75
(m,1H),7.2−7.5(m,3H)。
【0375】製造例42 3(S)−1−シクロプロピルアセチル−3−(3,4
−ジクロロフェニル)−3−ホルミルメチルピペリジン
【0376】
【化87】
【0377】製造例41の化合物(0.7g,1.76
ミリモル)のテトラヒドロフラン(10ml)中溶液に
対して、塩酸(10ml,5N溶液)を加え、そしてそ
の混合物を室温で5時間撹拌した。次に、その混合物を
酢酸エチル(30ml)と飽和重炭酸ナトリウム水溶液
(30ml)とに分配し、そして有機相を無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥させた。溶媒を減圧下で除去して標題
化合物(0.62g)を与え、これをそれ以上精製する
ことなく用いた。
【0378】1H−NMR(CDCl3):δ=0.1−
0.2(m,2H),0.5−0.6(m,2H),
0.9−1.0(m,1H),1.6−2.3(m,6
H),2.65−2.7(m,2H),3.4−3.5
(m,2H),3.8(d,1H),4.05(d,1
H),7.3−7.5(m,3H),9.5(s,1
H)。
【0379】製造例43 1−t−ブトキシカルボニル)−3−(1−ピペラジニ
ル)アゼチジン
【0380】
【化88】
【0381】ピペラジン(23.69g,8モル当量)
を溶融し、そして1−(t−ブトキシカルボニル)−3
−メタンスルホニルオキシアゼチジン(国際特許出願公
開第WO93/19059号を参照されたい)(8.64g,3
4.4ミリモル)を加えた。その混合物を窒素下におい
て120℃で15時間加熱した。その反応を室温まで冷
却し、そして過剰のピペラジンを減圧下で除去した。次
に、残留物を、シリカゲル上において勾配溶離(メタノ
ール:ジクロロメタン1:19〜1:4容量まで変化す
る)を用いるクロマトグラフィーで分離して、標題化合
物(6.32g)を与えた。
【0382】LRMS m/z=242(m+1)+1 H−NMR(d6−DMSO):δ=1.35(s,9
H),2.4−2.5(m,4H),3.0−3.1
(m,5H),3.2−4.2(m,br.,5H)。
【0383】製造例44 1−(t−ブトキシカルボニル)−3−(4−メチルス
ルホニルピペラジン−1−イル)アゼチジン
【0384】
【化89】
【0385】製造例43の化合物(8.06g,21.
3ミリモル)のジクロロメタン(160ml)中溶液に
対して、トリエチルアミン(13.4ml)を加えた。
その溶液を窒素雰囲気下で保持し且つ0℃まで冷却し
た。塩化メタンスルホニル(5.25ml,7.77
g,3モル当量)を30分間にわたって滴加した。その
反応を室温まで2.5時間にわたって暖めた後、更に1
8時間撹拌した。その反応を水(3x50ml)で、続
いてブライン(2x30ml)で洗浄した。有機層を、
無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。次に、その
混合物を濾過し、そして濾液から減圧下で溶媒を除去し
た。その残留物を、シリカゲル上において濃アンモニア
水:メタノール:ジクロロメタン(1:10:89容
量)で溶離するクロマトグラフィーで分離した。次に、
このクロマトグラフィー工程からの生成物を、シリカゲ
ル上においてメタノール:酢酸エチル(1:10容量)
で溶離するカラムクロマトグラフィーで分離して、標題
化合物(0.9g)を与えた。
【0386】TLC Rf=0.6(シリカ,濃アンモ
ニア水溶液:メタノール:ジクロロメタン,1:10:
89容量)。 LRMS m/z=320(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=1.4(s,9H),
2.45(t,4H),3.8(s,3H),3.1−
3.2(m,1H),3.2−3.3(m,4H),
3.75−3.8(m,2H),3.9−4.0(m,
2H)。
【0387】製造例45 3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−(2−メタン
スルホニルオキシエチル)−1−フェニルスルホニルピ
ペリジン
【0388】
【化90】
【0389】製造例28の化合物(109mg,0.2
9ミリモル)のジクロロメタン(4ml)中窒素下0℃
溶液に対して、塩化メタンスルホニル(0.026m
l,1.2モル当量)を加えた。その反応混合物を室温
で1時間撹拌した。水(30ml)および飽和重炭酸ナ
トリウム水溶液(30ml)を加え、そしてその混合物
をジクロロメタン(3x40ml)で抽出した。次に、
合わせた有機層を、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥
させ、濾過し、そして溶媒を減圧下で除去した。これ
は、標題化合物(106mg)をガムとして与え、これ
を更に精製することなく用いた。
【0390】TLC Rf=0.89(シリカ,メタノ
ール:ジクロロメタン1:19容量)。 製造例46 3−(4−メチルスルホニルピペラジン−1−イル)ア
ゼチジンビストリフルオロ酢酸塩
【0391】
【化91】
【0392】製造例44の化合物(1.4g,5.8ミ
リモル)のジクロロメタン(10ml)中窒素下0℃溶
液に対して、トリフルオロ酢酸(5ml)を滴加した。
次に、その混合物を室温まで暖め且つ1時間撹拌した。
その混合物を減圧下で濃縮し、得られたガムをジエチル
エーテルで洗浄した後、ジエチルエーテルで研和し、そ
して濾過して標題化合物を与えた。
【0393】LRMS m/z 220(m+1)+1 H−NMR(d6−DMSO):δ=2.4−2.5
(m,2H),2.9(s,3H),3.1−3.2
(m,4H),3.3−3.5(m,1H),3.8−
4.0(m,4H),8.7−8.9(m,3H)。
【0394】製造例47 2−(3,4−ジクロロフェニル)ペント−4−エンニ
トリル
【0395】
【化92】
【0396】3,4−ジクロロフェニルアセトニトリル
(800g,4.3モル)のシクロヘキサン(16L)
中室温撹拌溶液に対して、水酸化ナトリウム水溶液(水
8L中に水酸化ナトリウム1600g)を慎重に加え
た。この添加は、反応温度を50℃まで上昇させた。次
に、臭化アリル(572g,1.1モル当量)および塩
化テトラ−n−ブチルアンモニウム水和物(40g,
0.03モル当量)を加え、そしてその反応を50℃で
1時間撹拌した。水性相を除去し、そして有機層を水
(10L)で洗浄した。有機相を減圧下においてシリカ
ゲル(1kg)を介して濾過して黄色濾液を与えた。そ
の濾液から減圧下で溶媒を除去して、標題化合物を70
%純度の油状物(960g)として与え、これをそれ以
上精製することなく用いた。
【0397】TLC Rf=0.71(シリカ,ジエチ
ルエーテル:ヘキサン,1:1容量)。LRMS m/
z=226(m+1)+1 H−NMR(CDCl3):δ=2.6−2.75
(m,2H),3.85(t,1H),5.1−5.2
5(m,2H),5.7−5.9(m,1H),7.2
−7.25(m,1H),7.5−7.55(m,2
H)。
【0398】製造例48 4−シアノ−4−(3,4−ジクロロフェニル)ヘプト
−6−エン酸
【0399】
【化93】
【0400】60%w/w水素化ナトリウム油分散液
(231g)のテトラヒドロフラン(17L)中窒素下
−10℃撹拌懸濁液に対して、3−ブロモプロパン酸
(806.5g)のテトラヒドロフラン(6L)中溶液
を3時間にわたって滴加した。その反応を室温まで22
時間にわたって暖めた。次に、反応を−10℃まで冷却
した。同時に、製造例47の化合物(1633.5G)
のテトラヒドロフラン(2.5L)中溶液を、60%w
/w水素化ナトリウム油分散液(221g)のテトラヒ
ドロフラン(2.5L)中窒素下−10℃撹拌テトラヒ
ドロフラン懸濁液(2.5L)に対して2時間にわたっ
て滴加した。添加が完了した時点で、この第二反応を室
温まで18時間にわたって暖めた。次に、反応を−10
℃まで冷却し、そして上の3−ブロモプロパン酸ナトリ
ウム塩混合物中に3時間にわたってカニューレで注入し
た。その反応混合物を50℃で5時間加熱した。次に、
反応を冷却し、水(8L)中に注ぎ、そして重炭酸ナト
リウム水溶液を用いてpH9.3まで塩基性にした。こ
の混合物をジクロロメタン(5x2.5L)で洗浄し、
そしてその水性部分を、濃塩酸を用いてpH1.0まで
酸性にした。その水溶液をジクロロメタン(4x2.5
L)で抽出し、そして有機層を合わせ、無水硫酸マグネ
シウムを用いて乾燥させ、濾過し、そして濾液を減圧下
で濃縮して黄色油状物を与えた。次に、この油状物をヘ
キサン(1.5L)で研和して、標題化合物をクリーム
色固体(1153.3g)として与え、これをそれ以上
精製することなく用いた。
【0401】TLC Rf=0.42(シリカ,メタノ
ール:ジクロロメタン,1:9容量)。LRMS m/
z=316(m+NH4+1 H−NMR(CDCl3):δ=2.15−2.8
(m,6H),5.1−5.25(m,2H),5.5
5−5.7(m,1H),7.2−7.25(m,1
H),7.5−7.55(m,2H)ppm。
【0402】製造例49 4−(S)−4−シアノ−4−(3,4−ジクロロフェ
ニル)ヘプト−6−エン酸(R)−(+)−1−(1−
ナフチル)エチルアミン塩 製造例48の化合物(16g)の酢酸エチル(50m
l)中溶液に対して、R−(+)−1−(1−ナフチ
ル)エチルアミン(4.8g)を加えた。その溶液を室
温で30分間撹拌した後、溶媒を減圧下で除去してガム
を与えた。このガムを、ヘキサン:ジエチルエーテル
(4:1容量,150ml)中に部分溶解させ、そして
フラスコの側面をこすって結晶化を引き起こした。形成
された白色固体を濾去し、そして酢酸エチルから3回結
晶化させて、標題化合物(4.9g)を与えた。
【0403】m.p.153〜154℃ [α]25 589−7.1°(c=0.0012)。1 H−NMR(CDCl3):δ=1.6(d,3H),
2.0−2.2(m,2H),2.25−2.5(m,
2H),2.5−2.7(m,2H),3.8−4.1
(s,br,3H),5.0−5.2(m,3H),
5.5−5.7(m,1H),7.15−7.25
(m,1H),7.4−7.6(m,6H),7.75
(d,1H),7.9(d,1H),8.1(d,1
H)。
【0404】製造例50 4−(S)−4−シアノ−4−(3,4−ジクロロフェ
ニル)ヘプト−6−エン酸 製造例49の化合物(5.5g)のジクロロメタン(1
00ml)中撹拌溶液に対して、1N塩酸水溶液(10
0ml)を加えた。次に、水性層を除去し、そして有機
部分を1N塩酸水溶液(70ml)で洗浄した。有機層
を、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させ、濾過し、
そして濾液を減圧下で蒸発乾固させて、標題化合物
(3.6g)を与えた。
【0405】LRMS m/z=316(m+N
4+1 H−NMR(CDCl3):δ=2.15−2.8
(m,6H),5.1−5.25(m,2H),5.5
5−5.7(m,1H),7.2−7.25(m,1
H),7.5−7.55(m,2H)。
【0406】製造例51 3(S)−3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−ア
リルピペリジン
【0407】
【化94】
【0408】水素化アルミニウムリチウム(867m
g,2モル当量)のテトラヒドロフラン(30ml)中
窒素下0℃混合物に対して、4(S)−4−シアノ−4
−(3,4−ジクロロフェニル)ヘプト−6−エン酸
(3.4g,11.41モル)(製造例50)のテトラ
ヒドロフラン(30ml)中溶液を滴加した。その混合
物を2時間撹拌した。水(20ml)に続いて水酸化ナ
トリウム水溶液(2x20ml)を慎重に加えた。固体
を濾去し、そして濾過ケーキをt−ブチルメチルエーテ
ル(100ml)で洗浄した。次に、有機相を無水硫酸
マグネシウム上で乾燥させ、そして濾過した。溶媒を減
圧下で除去した。その残留物を、シリカゲルを用い、勾
配溶離(98:2,19:1,9:1容量の酢酸エチ
ル:メタノール)を用いるフラッシュカラムクロマトグ
ラフィーによって精製して、(a)標題化合物を与え、
これは(b)(S)−4−(アミノメチル)−4−
(3,4−ジクロロフェニル)−ヘプト−6−エン−1
−オール(2.55g)を混入していたが、これを更に
精製することなく用いた。
【0409】LRMS m/z 270(m+1)+
【0410】製造例52 3(S)−1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフ
ェニル)−3−アリルピペリジン
【0411】
【化95】
【0412】(製造例51)の生成物(2.55g)の
ジクロロメタン(70ml)中窒素下0℃溶液に対し
て、トリエチルアミン(3.9ml)および塩化ベンゾ
イル(1.43ml)を加えた。その混合物を15分間
撹拌した。
【0413】ジクロロメタン(50ml)を加え、その
溶液を塩酸(2N,2x200ml)で洗浄し、そして
有機相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させた。その溶
液を濾過し、そして溶媒を減圧下で除去して残留物を与
え、これを、シリカゲル上においてヘキサン:酢酸エチ
ル(9:1〜1:4容量)の溶媒勾配で溶離するクロマ
トグラフィーで分離した。
【0414】次に、この生成物(2.02g)を、メタ
ノール中2%水酸化ナトリウム(60ml)と一緒に1
時間撹拌した。ジクロロメタン(60ml)を加え、そ
の混合物を水(100ml)で洗浄し、そして有機相を
無水硫酸マグネシウム上で乾燥させた。その溶液を濾過
し、そして溶媒を減圧下で除去して残留物を与えた。こ
れを、シリカゲル上においてヘキサン:酢酸エチル
(4:1〜2:3容量)の溶媒勾配で溶離するクロマト
グラフィーで分離して、標題化合物(1.24g)を与
えた。
【0415】LRMS m/z 374(m+1)+。 TLC Rf=0.59(シリカ,ヘキサン:酢酸エチ
ル,1:1容量)。1 H−NMR(CDCl3)δ:1.35−1.7(m,
2H),1.8−1.9(m,2H),2.1−2.2
(m,1H),2.3−2.5(m,2H),3.2−
3.8(m,2H),4.5−4.6(m,1H),
4.9−5.1(m,2H),5.4−5.5(m,1
H),7.2−7.6(m,8H)。
【0416】製造例53 3(S)−1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフ
ェニル)−3−(3−ヒドロキシプロピル)ピペリジン
【0417】
【化96】
【0418】9−ボラシクロ[3.3.1]ノナン(2
2.06ml,テトラヒドロフラン中0.5M溶液)に
対して、製造例52の化合物(825mg,2.21ミ
リモル)のテトラヒドロフラン(15ml)中溶液を加
えた。その混合物を室温で90分間撹拌した。次に、水
性水酸化ナトリウム(3.7ml,3M溶液)およびエ
タノール(7ml)を加え、そしてその混合物を氷水浴
中で冷却した。次に、過酸化水素(3.7ml,30%
w/w水溶液)を滴加し、そしてその溶液を1時間撹拌
した。
【0419】酢酸エチル(50ml)を加え、その溶液
を水(2x50ml)で洗浄し、そして有機相を無水硫
酸マグネシウム上で乾燥させた。その溶液を濾過し、そ
して溶媒を減圧下で除去した。残留物をジクロロメタン
(20ml)中に溶解させ、そしてその溶液を氷浴中で
冷却した。トリエチルアミン(1.5ml,5モル当
量)および塩化ベンゾイル(0.65ml,2.5モル
当量)を加え、そしてその混合物を40分間撹拌した。
【0420】ジクロロメタン(50ml)を加え、そし
てその混合物を水性塩酸(2x50ml,2M溶液)で
洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥さ
せ、濾過し、そして溶媒を減圧下で除去した。
【0421】その残留物を、メタノール中4%水酸化ナ
トリウム溶液(50ml)と一緒に1時間撹拌した。ジ
クロロメタン(60ml)を加え、そしてその混合物を
水(100ml)で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥させた。その溶液を濾過し、そして溶媒
を減圧下で除去して残留物を与え、これを、シリカゲル
上においてヘキサン:酢酸エチル(4:1〜1:3容
量)の溶媒勾配で溶離するクロマトグラフィーで分離し
て、標題化合物(320mg)を与えた。
【0422】LRMS m/z=392(m+1)+。 TLC Rf−0.22(シリカ,ヘキサン:酢酸エチ
ル,2:3容量)。1 H−NMR(CDCl3)δ:1.1−1.3(m,1
H),1.4−1.55(m,2H),1.6−1.9
5(m,6H),2.1−2.2(m,1H),3.3
−3.85(m,4H),4.25−4.35(m,1
H),7.25−7.5(m,8H)。
【0423】製造例54 3(R)−1−ベンゾイル−3−(3,4−ジクロロフ
ェニル)−3−(3−メタンスルホニルオキシプロピ
ル)ピペリジン
【0424】
【化97】
【0425】製造例53の化合物(320mg,0.8
2モル)のジクロロメタン(10ml)中、氷浴中で冷
却された窒素下溶液に対して、トリエチルアミン(0.
34ml,3モル当量)および塩化メタンスルホニル
(0.096ml,1.5モル当量)を加えた。その混
合物を15分間撹拌した。
【0426】次に、ジクロロメタン(50ml)を加
え、そしてその溶液を水(100ml)で洗浄した。有
機相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、そ
して溶媒を減圧下で除去して、標題化合物(390m
g)を与え、これを更に精製することなく用いた。
【0427】TLC Rf=0.28(シリカ,ヘキサ
ン:酢酸エチル,2:3容量)。1 H−NMR(CDCl3)δ:1.25−4.4(m,
17H),7.25−7.55(m,8H)。
【0428】薬理データ 実施例2の化合物を、第43頁で記載された方法によっ
てNK3活性について検査し、そして8.4のpIC50
を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成12年5月19日(2000.5.1
9)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化1】 (式中、Rは、C3−C7シクロアルキル、アリールまたはC
1−C6アルキルであり、前記C1−C6アルキルは、場合に
より、フルオロ、−COOH、−COO(C1−C4)アルキル、C
3−C7シクロアルキル、アダマンチル、アリールまたはh
et1で置換されていて、そして前記C3−C7シクロアルキ
ルは、場合により、C1−C4アルキル、C3−C7シクロアル
キル、C1−C4アルコキシ、ヒドロキシ、フルオロ、フル
オロ(C1−C4)アルキルおよびフルオロ(C1−C4)アル
コキシからそれぞれ独立して選択される1個または2個
の置換基で置換されていて;Aは、COまたはSO2であり;
R1は、フェニル、ベンジル、ナフチル、チエニル、ベン
ゾチエニルまたはインドリルであり、それぞれ場合によ
り、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、ハロおよびト
リフルオロメチルからそれぞれ独立して選択される1個
または2個の置換基で置換されていて;そしてmは、
0、1または2である)を有する化合物。
【化2】 (式中、R、A、R1およびmは、請求項1で定義の通りで
あり、Xは、C1−C4アルキレンであり、そしてZ3はクロ
ロ、ブロモ、ヨード、メタンスルホニルオキシ、トリフ
ルオロメタンスルホニルオキシまたはp−トルエンスル
ホニルオキシから選択される脱離基である);を有する
化合物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07D 317/30 C07D 317/30 // A61K 31/496 A61K 31/496 31/5377 31/5377 A61P 1/00 A61P 1/00 9/00 9/00 11/00 11/00 13/00 13/00 17/00 17/00 21/00 21/00 25/00 101 25/00 101 29/00 29/00 35/00 35/00 37/00 37/00 43/00 111 43/00 111 (72)発明者 マーチントン,アラン・パトリック イギリス国 ケント シーティー13・9エ ヌジェイ,サンドウィッチ,ラムズゲー ト・ロード,ファイザー・セントラル・リ サーチ (72)発明者 ミドルトン,ドナルド・スチュアート イギリス国 ケント シーティー13・9エ ヌジェイ,サンドウィッチ,ラムズゲー ト・ロード,ファイザー・セントラル・リ サーチ (72)発明者 メドウズ,サンドラ・ドーラ イギリス国 ケント シーティー13・9エ ヌジェイ,サンドウィッチ,ラムズゲー ト・ロード,ファイザー・セントラル・リ サーチ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(a): 【化1】 (式中、R、A、R1およびmは、請求項1で定義の通りで
    ある);を有する化合物。
  2. 【請求項2】 式(d): 【化2】 (式中、X、R、A、R1およびmは、請求項1で定義の通り
    であり、そしてZ3はクロロ、ブロモ、ヨード、メタンス
    ルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ
    またはp−トルエンスルホニルオキシから選択される脱
    離基である);を有する化合物。
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